專利名稱：一種永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸模。 技術(shù)背景
永磁鐵氧體干壓磁瓦的成型過程，就是將巳制備好的磁性料粉充填入模具 型腔，在合模的同時開啟磁場取向， 一邊使型腔內(nèi)的粉料按外加磁場的走向有 序排列， 一邊施加壓力將松散的粉體擠壓成結(jié)實毛坯的過程。目前，公知的模 具多采用簡單的弓形結(jié)構(gòu)，在該模具結(jié)構(gòu)下，成型磁場的磁力線是呈鉛直狀穿 過模具型腔。由此結(jié)構(gòu)生產(chǎn)出的磁瓦存在著隨該結(jié)構(gòu)磁瓦在裝配使用中存在磁 扭矩力大，中心場強損耗大的缺陷。
本
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是針對現(xiàn)存的問題，給人們提供一種可有效降低干壓磁 瓦在裝配使用中的磁扭矩力，提高中心場磁性能的永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸 模。
本實用新型包括上凸?；w、強導磁塊和弱導磁塊，其特征在于上凸模 基體工作面的中心部位內(nèi)側(cè)鑲嵌有強導磁塊，上凸?；w工作面的兩軸高部的 內(nèi)側(cè)分別鑲嵌有弱導磁塊，在上凸?；w的工作表面鑲嵌有一薄膜層。強導磁塊呈長方形，其長為上凸?；w工作面軸高的0.55 0.65倍，寬 為上凸?；w工作面弦長長度的0. 35 0. 45倍，深度為25 30mra，強導磁塊 朝向工作面的一面與上凸?；w弧面平行。
弱導磁塊的長度與上凸?；w軸高等長，寬度為上凸?；w弦長的0. 2 0. 25倍，深度為強導磁塊深度的0. 45 0. 5倍,弱導磁塊的末端為1/4的圓面， 其半徑與弱導磁塊寬度等長。
薄膜層采用高光潔度、耐磨、耐腐蝕的薄膜，薄膜層厚度為3 6mm。
本實用新型的效果本實用新型由于在上凸?；w工作面的中心部位內(nèi)側(cè)鑲嵌有強導磁塊，上 凸?；w工作面的兩軸高部的內(nèi)側(cè)分別鑲嵌有弱導磁塊，在上凸?；w的工作 表面鑲嵌有一薄膜層，從而改善成型磁場分布的合理性，有效降低干壓磁瓦在 裝配使用中的磁扭矩力，提高中心場磁性能，較老式弓形結(jié)構(gòu)模具生產(chǎn)的磁瓦， 磁扭矩力降低50-60%，中心場磁性能Br值提升5-15n/。。本實用新型尤其適用 于成型型腔對角線長度小于10cm的干壓磁瓦的生產(chǎn)。


圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2為A-A剖視圖。
具體實施方式
實施例1:參見圖(1 2，)本實用新型包括上凸?；wl、強導磁塊2和弱導磁塊上凸?；w1工作面的中心部位內(nèi)側(cè)鑲嵌有呈長方形，其長為上凸?；w工作面軸高的0. 55 0. 65倍，寬為上凸?；w工作面弦長長度的0. 35 0. 45倍， 深度為25 30mm的強導磁塊，強導磁塊朝向工作面的一面與上凸模基體弧面 平行。上凸?；w工作面的兩軸高部的內(nèi)側(cè)分別鑲嵌有長度與上凸模基體軸高 等長，寬度為上凸?；w弦長的0. 2 0. 25倍，深度為強導磁塊深度的0. 45 0.5倍，弱導磁塊的末端為1/4的圓面，其半徑與弱導磁塊寬度等長的弱導磁 塊3，在上凸?；w的工作表面鑲嵌有一高光潔度、耐磨、耐腐蝕、厚度為3 6mm的薄膜層4。在成型過程中，先由中模、下凸模形成半封閉，此時將預先制備好的鐵氧 體粉料注入。之后，上凸模開始下降，當上凸模、中模、下凸模合模成封閉空 間時，導通充磁線圈產(chǎn)生強磁場。在本新結(jié)構(gòu)的導磁材質(zhì)的作用下，聚攏在強 導磁塊豎直方向穿越的磁力線在朝向工作面的一端發(fā)散開來，以近似垂直與上 凸模工作弧面的角度穿越型腔。促使型腔中磁化后的磁性粉料沿朝向或反向工 作弧面圓心的方向有序排列。最后將上、下模具繼續(xù)施加的作用力依照此結(jié)構(gòu) 排列的磁性粉料壓制成致密的生坯。
權(quán)利要求1、一種水磁鐵氧體十壓礠瓦的上凸模，包括上凸?；w、強導磁塊和弱導磁塊，其特征在于上凸?；w工作面的中心部位內(nèi)側(cè)鑲嵌有強導磁塊，上凸?；w工作面的兩軸高部的內(nèi)側(cè)分別鑲嵌有弱導磁塊，在上凸?；w的工作表面鑲嵌有一薄膜層。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸模，其特征在于強導磁塊呈長方形，其長為上凸?；w工作面軸高的0.55 0.65倍，寬為上 凸?；w工作面弦長長度的0.35 0.45倍，深度為25 30mm，強導磁塊朝向工作面的一面與上凸?；w弧面平行。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸模，其特征在于弱導磁塊的長度與上凸?；w軸高等長，寬度為上凸模基體弦長的0. 2 0. 25 倍，深度為強導磁塊深度的0.45 0.5倍，弱導磁塊的末端為1/4的圓面，其 半徑與弱導磁塊寬度等長。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸模，其特征在于 薄膜層采用高光潔度、耐磨、耐腐蝕的薄膜，薄膜層厚度為3 6mm。
專利摘要本實用新型涉及一種永磁鐵氧體干壓磁瓦的上凸模，本實用新型包括上凸?；w、強導磁塊和弱導磁塊，其特征在于上凸?；w工作面的中心部位內(nèi)側(cè)鑲嵌有強導磁塊，上凸模基體工作面的兩軸高部的內(nèi)側(cè)分別鑲嵌有弱導磁塊，在上凸模基體的工作表面鑲嵌有一薄膜層。本實用新型了改善成型磁場分布的合理性，有效降低干壓磁瓦在裝配使用中的磁扭矩力，提高中心場磁性能，較老式弓形結(jié)構(gòu)模具生產(chǎn)的磁瓦，磁扭矩力降低50-60％，中心場磁性能Br值提升5-15％。本實用新型尤其適用于成型型腔對角線長度小于10cm的干壓磁瓦的生產(chǎn)。
文檔編號H01F41/02GK201211562SQ20082003794
公開日2009年3月25日 申請日期2008年6月6日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月6日
發(fā)明者姚志勝, 胡治中 申請人:安徽龍磁科技股份有限公司