專利名稱：顯示面板及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種顯示面4反及其方法，更特別地，涉及一種具有 阻障層之顯示面纟反及其方法。
背景技術(shù)：
顯示面板的多視域(multiple views)可通過阻障層而得到。傳統(tǒng) 而言，阻障層、像素元件(例如彩色濾光片或發(fā)光二極管)、及陣列 電3各(例如薄膜晶體管)分別實現(xiàn)在不同的基才反上，然后4皮此相互組 裝。其制造過程是復(fù)雜的，且涉及大量的元件。
然而，存在于像素元件與阻障層間的傳統(tǒng)基板可能會影響一見角 (viewing angle)?；宓暮穸葲Q定像素元件和阻障層間的距離。參考 圖1,像素元件610a和阻障層604系通過基板620而分隔開來，且 -波此間具有一距離d!?；环?20可以是^f象素元件形成于其上或阻障 層形成于其上的基才反。圖1中，當介于^f象素元件610a和阻障層604 間的距離山較大時(例如500pm)，禍L域(view)l和2具有狹窄的^L角。 換言之，厚的基板可能造成窄的視角。在組裝之前，基板可以是薄 的，以降低所產(chǎn)生的距離。然而，此作法將使得制造過程更為復(fù)雜。
因此，需要用于多視域及簡單制造的具有廣視角的顯示面板及 其方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的 一 目的為提供一種用于多視域及簡單制造的具有廣 一見角的顯示面4反及其方法。
本發(fā)明的 一方面系提供一種形成一顯示面板的方法。該方法包
含提供一基板。于基板上形成多個圖案化阻障層；于多個圖案化阻 障層上方形成一平面結(jié)構(gòu)；以及于平面結(jié)構(gòu)上方形成多個像素元件 及/或多個陣列金屬。平面結(jié)構(gòu)具有介于lO[im和200pm間的厚度。
形成上述的平面結(jié)構(gòu)的步驟可包括施加一黏著材料于多個圖 案化阻障層周圍，以及;^文置平面結(jié)構(gòu)于多個圖案化阻障層上方。平 面結(jié)構(gòu)系通過黏著材料而黏附于基板。放置平面結(jié)構(gòu)于多個圖案化 阻障層上方的步驟可于低壓力或真空下進行，以使平面結(jié)構(gòu)接觸多 個圖案化阻障層。在》文置平面結(jié)構(gòu)于多個圖案化阻障層上方的步驟 之前，可先配置多個間隙材料(spacer)于基板上。平面結(jié)構(gòu)可包括塑 料、玻璃、或其組合。
形成上述的平面結(jié)構(gòu)的步驟可包括施加一黏著材料于多個圖 案化阻障層上，以及于黏著材料上^:置平面結(jié)構(gòu)。平面結(jié)構(gòu)可包括 塑料、玻璃、或其組合。黏著材料可包含光學膠(opticalglue)、光硬 4匕月交(light curable glue)、熱石更4b月交(heat curable glue)、或其纟且合。平 面結(jié)構(gòu)可為塑料，且于黏著材料上放置平面結(jié)構(gòu)的步驟可包括朝多 個圖案化阻障層的方向，熱壓(hot pressing)平面結(jié)構(gòu)。
形成上述的平面結(jié)構(gòu)的步驟可包括于多個圖案化阻障層上方 沉積平面結(jié)構(gòu)，且可進一步包括研磨平面結(jié)構(gòu)。平面結(jié)構(gòu)可包括有 才幾透明材料。沉積平面結(jié)構(gòu)于多個圖案化阻障層上方的步驟可包括 網(wǎng)X反印屆'J (screen-printing)、 力走壽爭》'余布(spin coating)、 蒸鍍 (evaporation)、';賤鍍(sputtering)、或其纟且合。
本發(fā)明的另一方面為提供一顯示面板。顯示面板包括一基板； 于基板上的多個圖案化阻障層；于多個圖案化阻障層上方的一平面 結(jié)構(gòu)；以及于平面結(jié)構(gòu)上方的多個像素元件及/或多個陣列金屬。平 面結(jié)構(gòu)具有介于lOjim和200pm間的厚度。
上述的顯示面4反可進一步包括一黏著材^牛于多個圖案化阻障 層周圍。平面結(jié)構(gòu)可通過翻著材^h而黏附于基^1。上述的平面結(jié)構(gòu) 可與多個圖案化阻障層接觸。顯示面板可進一步包括于基板上的多 個間隙材料配置。平面結(jié)構(gòu)可包括塑料、玻璃、或其組合。
上述的顯示面^反可進一 步包括一黏著材:扦于多個圖案化阻障 層上。平面結(jié)構(gòu)可力文置于黏著材料上。平面結(jié)構(gòu)可包括塑料、玻璃、 或其組合。勦著材料可包含光學膠、光硬化力交、熱-更化膠、或其組 合。平面結(jié)構(gòu)可為塑料，且可朝多個圖案化阻障層方向，熱壓平面 結(jié)構(gòu)。
上述的平面結(jié)構(gòu)可沉積于多個圖案化阻障層上方，且可進一步 研磨平面結(jié)構(gòu)。平面結(jié)構(gòu)可包括有機透明材料。平面結(jié)構(gòu)可通過網(wǎng) 版印刷、旋轉(zhuǎn)涂布、蒸鍍、濺鍍、或其組合而沉積于多個圖案化阻 障層上方。


現(xiàn)將參照范例及附圖進一步"i兌明本發(fā)明，其中
圖1說明介于像素元件和阻障層間的大距離所造成的多視域顯 示面板的狹窄一見角；
圖2A-2E說明依據(jù)本發(fā)明的第一具體實施例的形成一顯示面 壽反的方j(luò)^r;
圖3A-3E說明依據(jù)本發(fā)明的第二具體實施例的形成一顯示面 才反的方、法；
圖4A-4D "i兌明依據(jù)本發(fā)明的第三具體實施例的形成一顯示面 斗反的方'^";
圖5A-5D說明依據(jù)本發(fā)明的第四具體實施例的形成一顯示面 板的方法；
圖6說明依據(jù)本發(fā)明的一具體實施例的一顯示面板；以及
圖7說明根據(jù)本發(fā)明的介于像素元件和圖案化阻障層間的較小 距離所造成的多視域顯示面板的廣視角。
具體實施例方式
為獲得多一見域廣—見角而不具復(fù)雜制造過程，本發(fā)明提供一種將 像素元件(例如彩色濾光板)，或陣列電路模塊(例如陣列板(array plate)),與阻障層整合的i殳計。隨著介于〗象素元件與阻障層間的3巨 離縮小，視角可隨之變廣。為了降低這個距離，將阻障層整合至像 素元件或陣列電路模塊。換言之，首先于基板上形成圖案化阻障層， 接著于圖案化阻障層上方形成薄平面結(jié)構(gòu)，然后于平面結(jié)構(gòu)上方形 成像素元件及/或陣列金屬。于是，本發(fā)明以存在于像素元件和阻障 層之間，且厚度介于10(am和200(am間的薄平面結(jié)構(gòu)，取代厚度約 500pm的傳統(tǒng)基板。因此，可以獲得廣視角、簡單制造過程、甚至 是可降低所使用的元件的數(shù)目。
圖2A-2E i兌明依據(jù)本發(fā)明的第一具體實施例所形成一顯示面 板的方法。參考圖2A,提供一基板102。形成多個圖案化阻障層 104于基々反102上。基才反102可由iE皮璃制造。圖案^匕阻障層104可
由黑樹脂(black resin)、鉻、氧化鉻、氮化鉻、或其組合所制造。參 考圖2B，施加黏著材沖牛106于多個圖案化阻障層104周圍。圖2E 顯示多顯示面板單元(multiple display plane cells)的多組圖案化阻障 層104的頂視圖。于此實施例中，黏著材料106施加于每一組圖案 化阻障層104的外側(cè)，然而其亦可以其它的方式施加。勦著材料106 可以是顯示技術(shù)的傳統(tǒng)密封物、光學膠、光硬化膠、熱硬化膠、或 其組合。
參考圖2C，平面結(jié)構(gòu)108放置于多個圖案化阻障層104的上 方。平面結(jié)構(gòu)108系通過黏著材并牛106而黏附于基才反102。平面結(jié) 構(gòu)108具有介于10(am至200pm的厚度。放置平面結(jié)構(gòu)108的步驟 可于低壓力或真空下進行，以4吏平面結(jié)構(gòu)108^妄觸多個圖案化阻障 層104。平面結(jié)構(gòu)108可包括塑料、玻璃、或其組合。接著參考圖 2D,形成多個〗象素元件110a和110b于平面結(jié)構(gòu)108上方。 <象素元 件110a可包括彩色濾光片或發(fā)光二極管。像素元件110b可包括黑 色矩陣結(jié)構(gòu)。雖然于本實施例中，4象素元4牛110a和110b形成于圖 案4匕阻障層104的上方，然而亦可用陣列金屬或l象素元件110a和 110b和陣列金屬兩者加以取代。像素元件110a和110b與圖案化阻 障層104間的距離為平面結(jié)構(gòu)108的厚度，例如介于10-20(Him之 間，因為取代了傳統(tǒng)基板的厚度(例如500|am),視角變得較廣。此 外，亦簡化了制造過程。
圖3A-3E說明依據(jù)本發(fā)明的第二具體實施例所形成一顯示面 板的方法。顯示于圖3A-3B中的提供基板102、形成多個圖案化阻 障層104及施加黏著材料106等步驟系相似于圖2A-2B所示。然而， 如圖3C中所示，在》文置平面結(jié)構(gòu)208于多個圖案化阻障層104之 前，可配置多個間隙才才神+(spacer)或光間隙才才泮+(photospacer) 212于 基一反102上方。間隙材坤牛或光間隙材沖牛212可在基才反102與平面結(jié) 構(gòu)208間建立均一的距離，以有助于后續(xù)的制程進行。參考圖3D，
平面結(jié)構(gòu)208系通過l占著材料106而黏附于基板102。平面結(jié)構(gòu)208 具有一厚度，介于iojam和200pm之間。平面結(jié)構(gòu)208可包括塑料、 玻璃、或其組合。其次，顯示于圖3E中的形成多個^f象素元件110a 和110b于平面結(jié)構(gòu)208上方的步-驟，相似于圖2D所示，于此不再 詳述。像素元件110a和110b與圖案化阻障層104間的距離，為平 面結(jié)構(gòu)208的厚度(例如介于10-200^im之間)與間隙材料或光間隙材 料212的直徑高度(例如0.5-5jam)的組合，因為取代了傳統(tǒng)基板的厚 度(例如500^im),視角變得較廣。此夕卜，亦簡化了制造過程。
圖4A-4D說明依據(jù)本發(fā)明的第三具體實施例所形成一顯示面 板的方法。顯示于圖4A中的提供基板102與形成多個圖案化阻障 層104等步驟系相似于圖2A所示，于此不再詳述?，F(xiàn)在參考圖4B, 黏著材津牛314施加于多個圖案化阻障層104上。黏著材并牛314可包 括光學膠、光硬化膠、熱硬化膠、或其組合，或其它可經(jīng)得起后續(xù) 制程所使用的溫度的黏著材料。接著參考圖4C，平面結(jié)構(gòu)308系 放置于黏著材料314上。平面結(jié)構(gòu)308具有一厚度，介于10pm至 200(im之間。平面結(jié)構(gòu)308可包括塑料、玻璃、或其組合。當平面 結(jié)構(gòu)308為塑料時，放置平面結(jié)構(gòu)308于黏著材料314上的步驟可 包^"朝多個圖案^f匕阻障層104方向，熱壓平面結(jié)構(gòu)308。
接著，如圖4D所示，多個陣列金屬316形成于平面結(jié)構(gòu)308 之上。雖然于本實施例中，陣列金屬316系形成于圖案化阻障層104 上方，然而亦可用像素元件或他們兩者加以取代。于此實施例中， 減少介于陣列金屬316與圖案化阻障層104間的距離，4吏得后續(xù)形 成的l象素元件和圖案化阻障層104間的距離可以縮減，且-見角變得 較廣。此外，亦簡化了制造過程。
圖5A-5D說明依據(jù)本發(fā)明的第四具體實施例所形成一顯示面 ^^的方法。顯示于圖5A中的才是供基4反102與形成多個圖案化阻障 層104等步驟相似于圖2A所示，于此不再詳述。其次，參考圖5B，
平面結(jié)構(gòu)418i殳置于多個圖案化阻障層104上方。平面結(jié)構(gòu)418可 包括環(huán)氧樹脂(epoxy)、紫外光或熱石更化丙烯酸酯(UV or thermal curable acrylates)、用于彩色濾光層平坦化(leveling)的保護層 (overcoat layer)、適合的保護材料、任何其它有機透明材料、或其組 合。沉積平面結(jié)構(gòu)418于多個圖案化阻障層104上方的步驟可包括 網(wǎng)版印刷、旋轉(zhuǎn)涂布、蒸鍍、濺鍍、或其組合。參考圖5C,可研 磨平面結(jié)構(gòu)418以有利于后續(xù)的制程。平面結(jié)構(gòu)418具有一厚度， 介于10lam和200jim之間。顯示于圖5D中的形成多個陣列金屬316 于平面結(jié)構(gòu)418上方的步驟，相似于圖4D所示，于此不再詳述。 于此實施例中，減少介于陣列金屬316與圖案化阻障層104間的距 離，使得后續(xù)形成的^f象素元件和圖案化阻障層104間的距離可以縮 減，且視角變得較廣。此外，亦簡化了制造過程。
圖6說明依據(jù)本發(fā)明的一具體實施例的一顯示面板。提供基板 102、形成多個圖案4匕阻障層104、施加黏著初^+106、；改置平面結(jié) 構(gòu)108、及形成多個像素元件110a和110b等步驟相似于圖2A-2D 所示，于此不再詳述。層狀結(jié)構(gòu)522形成于^象素元件110a和110b 上，層狀結(jié)構(gòu)522可包括用于像素元件110a和110b的共通電極 (common electrode)及/或平坦化材料。由此所形成的結(jié)構(gòu)可與具有多 個陣列金屬516的陣列板組合。陣列金屬516可形成于基々反524上。 當于圖案化阻障層104的下方或陣列金屬516的上方安裝背光單元 時，可以實現(xiàn)具有后阻障層或前阻障層的顯示面才反。圖7i兌明才艮據(jù) 本發(fā)明的像素元件110a和110b與圖案化阻障層104間的較小距離， 所產(chǎn)生的廣視角多視域顯示面板。像素元件110a和110b與圖案化 阻障層104間的距離為平面結(jié)構(gòu)108的厚度，例如介于10-200|am 之間，因為取代了傳統(tǒng)基板的厚度(例如500pm)，視角變得較廣。 此外，亦簡化了制造過程。
上述的討論系僅用以說明優(yōu)選具體實施例，并非用以限定本發(fā) 明的范圍。任何依據(jù)本發(fā)明的精神而作的等效改變或修改皆應(yīng)包含 于權(quán)利要求之內(nèi)。
主要元件符號說明
1、 2 視域 102、 524 基板
104 圖案化阻障層 106、 314 黏著材料
108、 208、 308、 418 平面結(jié)構(gòu) U0a、 110b 像素元件
212 間隙材并+或光間隙材并牛 316、 516 陣列金屬
522 層狀結(jié)構(gòu) 604 阻障層
610a 像素元件 620 基板 dl 3巨離。
權(quán)利要求
1.一種顯示面板，包含一基板；多個圖案化阻障層，形成于所述基板上；一平面結(jié)構(gòu)，形成于所述多個圖案化阻障層上方；以及多個像素元件和/或多個陣列金屬，形成于所述平面結(jié)構(gòu)上方；其中所述平面結(jié)構(gòu)具有一厚度，介于10μm和200μm之間。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，還包含一黏著材料，位于所述多個圖案化阻障層周圍； 其中所述平面結(jié)構(gòu)通過所述黏著材料而黏附于所述基板。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其中所述平面結(jié)構(gòu)與所述多 個圖案化阻障層接觸。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，還包含多個間隙材料或光間隙材料，配置于所述基板上。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其中所述平面結(jié)構(gòu)包含塑 料、玻璃、或其組合。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，還包含一黏著材料，位于所述多個圖案化阻障層上； 其中所述平面結(jié)構(gòu);故置于所述黏著材并+上。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其中所述黏著材料包含光學 膠、光硬化膠、熱硬化膠、或其組合。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其中所述平面結(jié)構(gòu)為塑料， 且朝所述多個圖案化阻障層的方向，熱壓所述平面結(jié)構(gòu)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其中所述平面結(jié)構(gòu)沉積于所 述多個圖案化阻障層上方。
10. —種形成才艮據(jù)纟又利要求1-9中任一項所述的顯示面^反的方法， 包含以下步艱《提供一基板；于所述基板上形成多個圖案化阻障層； 于所述多個圖案化阻障層上方形成一平面結(jié)構(gòu)；以及 于所述平面結(jié)構(gòu)上方形成多個像素元件和/或多個陣列金屬；其中所述平面結(jié)構(gòu)具有一厚度，介于10pm和200jmi之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種顯示面板及形成顯示面板的方法，該方法包含提供一基板；形成多個圖案化阻障層在基板上；形成平面結(jié)構(gòu)在多個圖案化阻障層上方；及形成多個像素元件及/或多個陣列金屬在平面結(jié)構(gòu)上方。平面結(jié)構(gòu)具有一厚度，介于10μm和200μm之間。
文檔編號H01L21/84GK101355088SQ20081013222
公開日2009年1月28日 申請日期2008年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月19日
發(fā)明者查爾斯·斯克明高爾, 漢德瑞克·羅斯瑪 申請人:統(tǒng)寶光電股份有限公司