專利名稱：具有包括對(duì)準(zhǔn)光學(xué)裝置和目標(biāo)的設(shè)備的光學(xué)儀器的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分的設(shè)備。 本發(fā)明還涉及光學(xué)儀器和半導(dǎo)體加工系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
第一段所指的裝置眾所周知。支撐單元通常容納諸如攝像機(jī)攝像 機(jī)之類的透鏡組合。此設(shè)備通常通過(guò)其框架安裝到某種類型的顯微儀 器上，該儀器容納要檢查或要觀察的目標(biāo)。通常，目標(biāo)也能借助相對(duì) 于設(shè)備平移或旋轉(zhuǎn)的某種類型載物臺(tái)的方式移動(dòng)。
圖1為根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的顯微或光學(xué)儀器的示意圖。首先示出了要
檢查的目標(biāo)1。將用于光學(xué)地對(duì)準(zhǔn)光學(xué)裝置和目標(biāo)的已知設(shè)備2放置 在目標(biāo)之上，所述設(shè)備包括支撐單元3。將攝像機(jī)4安裝在支撐單元3 上，如圖1示意性表示。其中使用術(shù)語(yǔ)"攝像機(jī)"表示任何類型的光 學(xué)裝置。通常，目標(biāo)1相對(duì)于攝像機(jī)4沿至少兩個(gè)方向X和Y上(Y 方向垂直圖表面)平移，例如通過(guò)在執(zhí)行線性移動(dòng)的某種類型的載物 臺(tái)(未示出)中容納目標(biāo)。使用這些移動(dòng)以將目標(biāo)的特定點(diǎn)與攝像機(jī) 4對(duì)準(zhǔn)。通常也將設(shè)備2配置用于沿與z方向相對(duì)應(yīng)的第三方向上平 移攝像機(jī)4。使用這種平移移動(dòng)以相對(duì)于攝像機(jī)聚焦目標(biāo)。焦點(diǎn)位于 攝像機(jī)4的光軸0上，并且通過(guò)目標(biāo)1的表面上的點(diǎn)X表示。
除了沿z方向的平移移動(dòng)之外，設(shè)備2還適用于圍繞旋轉(zhuǎn)軸傾斜 攝像機(jī)4。這種傾斜移動(dòng)是必要的，例如，在不同的角度下觀察目標(biāo)1， 或者每當(dāng)這種其它裝置或工具與目標(biāo)之間需要無(wú)障礙路徑時(shí)，為另外 的裝置或工具讓路。而且，需要傾斜以用于優(yōu)化圖像的質(zhì)量或補(bǔ)償機(jī) 械偏差。在圖1的光學(xué)儀器中，通過(guò)圍繞具有旋轉(zhuǎn)角度a的某一旋轉(zhuǎn) 軸A來(lái)傾斜攝像機(jī)而獲得這種傾斜移動(dòng)。傾斜后的攝像機(jī)的位置已經(jīng) 示意性地以虛線示出。如圖1中的新的焦點(diǎn)X'所示，這種傾斜移動(dòng)導(dǎo)
致沿y方向的偏移Ay和沿z方向上的偏移Az。這意味著在傾斜后， 攝像機(jī)4將在焦點(diǎn)之外，并且在著眼于目標(biāo)的不同點(diǎn)或者甚至不再能
達(dá)到目標(biāo)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種對(duì)準(zhǔn)設(shè)備，所述對(duì)準(zhǔn)設(shè)備允許在光 學(xué)裝置和目標(biāo)之間的傾斜移動(dòng)，其中這些移動(dòng)不會(huì)導(dǎo)致焦點(diǎn)的偏移。
為了實(shí)現(xiàn)這一目的，根據(jù)本發(fā)明的用于對(duì)準(zhǔn)光學(xué)裝置和目標(biāo)的設(shè) 備的特征在于，配置球體部分，其中所述部分限定球面，并且支撐單 元的傾斜移動(dòng)由所述球面控制。
本發(fā)明能參考圖1和2最佳地說(shuō)明。應(yīng)指出，在所有圖中類似的 參考數(shù)字表示類似的部分。圖1為根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)儀器的示意圖， 已在上面描述。圖2為示出了本發(fā)明的原理的光學(xué)儀器的示意圖。在 此圖中，顯示出了攝像機(jī)4相對(duì)于目標(biāo)1以旋轉(zhuǎn)角度a傾斜。所述設(shè) 備包括球體部分5，其中所述部分限定球面6。攝像機(jī)4和支撐單元3 的傾斜移動(dòng)由這種球面6控制，因?yàn)榇藢?shí)施例中的支撐單元3沿球面 6移動(dòng)。通過(guò)確保其表面部分地與球面6重疊的假想球體的中心與攝 像機(jī)X的焦點(diǎn)重合，這種傾斜移動(dòng)將不會(huì)導(dǎo)致相對(duì)目標(biāo)1的焦點(diǎn)X的 任何偏移。由于這種方法，根據(jù)定義，同時(shí)傾斜支撐單元3和攝像機(jī) 4將不會(huì)導(dǎo)致相應(yīng)的焦點(diǎn)的任何偏移。因此，通過(guò)圖2的對(duì)準(zhǔn)設(shè)備， 傾斜前的焦點(diǎn)X和傾斜后的焦點(diǎn)X'重合。本領(lǐng)域的技術(shù)人員清楚，此 處的原理是與傾斜移動(dòng)相對(duì)應(yīng)的旋轉(zhuǎn)軸A實(shí)際上與光學(xué)軸O和O，在 焦點(diǎn)X、 X，處交叉。在圖2的示意性示例中，旋轉(zhuǎn)軸與圖的表面垂直。 然而，應(yīng)當(dāng)清楚，當(dāng)球體部分具有合適尺寸時(shí)，可以傾斜任何其它的 旋轉(zhuǎn)軸而不會(huì)帶來(lái)任何不想要的偏移，只要這個(gè)旋轉(zhuǎn)軸延伸穿過(guò)焦點(diǎn) X，并且與光學(xué)軸垂直。此處"合適尺寸"意味著表面6應(yīng)具有足夠 的尺寸以允許大的傾斜移動(dòng)。應(yīng)當(dāng)清楚，通過(guò)球體部分5和支撐單元 3的適當(dāng)結(jié)構(gòu)，可以圍繞各種旋轉(zhuǎn)軸傾斜攝像機(jī)，而不會(huì)引起焦點(diǎn)的 任何不需要的偏移。
應(yīng)當(dāng)清楚，攝像機(jī)和目標(biāo)的相互位置的交換不會(huì)影響本發(fā)明的設(shè)
備和原理的正確功能。
因此，本發(fā)明提供一種簡(jiǎn)單的設(shè)備，所述設(shè)備使得能夠圍繞旋轉(zhuǎn) 軸互相傾斜光學(xué)裝置和目標(biāo)，同時(shí)避免它們之間的焦點(diǎn)的任何偏移。
在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，配置球體的第一部分和球體的第二部分， 球體的第一部分限定第一球面，而球體的第二部分限定第二球面，與 第一球面相對(duì)應(yīng)的球體的中心實(shí)質(zhì)上與和第二球面相對(duì)應(yīng)的球體的中 心相重合，并且第一和第二球面相對(duì)彼此可移動(dòng)。此實(shí)施例使支撐單 元相對(duì)于球體部分的移動(dòng)變得容易。當(dāng)?shù)谝缓偷诙糠窒鄬?duì)彼此移動(dòng) 時(shí)，當(dāng)?shù)谝磺蛎婧偷诙蛎骜詈蠒r(shí)是尤其有利的。以此方式，可以避 免復(fù)雜支架的使用。此外，當(dāng)框架包括球體的第一部分并且運(yùn)輸裝置 包括球體的第二部分時(shí)，并且第二球面可沿第一球面移動(dòng)時(shí)，這是有 益的。較優(yōu)的實(shí)施例都提供了根據(jù)本發(fā)明設(shè)備的簡(jiǎn)單而有效的設(shè)計(jì)。
根據(jù)另一優(yōu)選實(shí)施例，提供一種鎖定裝置，所述鎖定裝置配置用 于分別在鎖定狀態(tài)和釋放狀態(tài)之間改變所述設(shè)備，其中，在鎖定狀態(tài) 中，支撐單元相對(duì)于框架是鎖定的，在釋放狀態(tài)中，支撐單元相對(duì)于 框架是可移動(dòng)的。此實(shí)施例通過(guò)將所述設(shè)備改變到鎖定狀態(tài)，使得能 夠防止支撐單元的任何不需要或過(guò)早的移動(dòng)。此處，鎖定裝置包括鎖 定板是有益的，，其中當(dāng)分別變化到鎖定狀態(tài)和釋放狀態(tài)時(shí)，所述板將 球體的第二部分鎖定和釋放到球體的第一部分。這提供了可手工操作 的鎖定裝置的簡(jiǎn)單而有效的設(shè)計(jì)。
本發(fā)明也涉及包括根據(jù)上述實(shí)施例之一的設(shè)備和安裝到所述設(shè)備 的支撐單元的透鏡組合。較優(yōu)地，所述設(shè)備安裝到具有框架的顯微儀 器上，所述儀器包括用于容納目標(biāo)的載物臺(tái)，所述載物臺(tái)在相對(duì)于透 鏡組合沿至少一個(gè)方向上是可移動(dòng)的。當(dāng)需要相對(duì)于目標(biāo)傾斜透鏡組 合時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備可以有益地應(yīng)用到這些類型的光學(xué)儀器中。
此外，本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括
機(jī)器框架；
載體，用于容納半導(dǎo)體部件； 工具，用于處理所述半導(dǎo)體部件；
根據(jù)上述實(shí)施例之一的設(shè)備，所述設(shè)備通過(guò)其框架安裝到所述加工系統(tǒng)；
透鏡組合，安裝到所述設(shè)備的支撐單元。
較優(yōu)地，半導(dǎo)體加工系統(tǒng)的載體容納晶片，所述晶片被放置在箔
片上并且保持多個(gè)半導(dǎo)體部件，并且所述工具為拾取放置(pick and place)單元，用于從晶片拾取單獨(dú)的半導(dǎo)體部件，并且將它們放置在 用于封裝所述半導(dǎo)體部件的外部構(gòu)件上。
這種加工系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體部件的正確位置的控制，其中通常應(yīng) 用與透鏡組合呈直線設(shè)置的數(shù)字?jǐn)z像機(jī)。使用數(shù)字?jǐn)z像機(jī)產(chǎn)生的圖片 用于控制處理所述半導(dǎo)體部件的工具。攝像機(jī)的光學(xué)軸與相應(yīng)的半導(dǎo) 體部件垂直對(duì)準(zhǔn)是非常重要的。為此目的，能夠?qū)z像機(jī)相對(duì)于所觀 察的部件傾斜以校正不清楚的圖片或例如其中左邊部分比右邊部分清 楚的圖片是重要的。后者在應(yīng)用圖片識(shí)別軟件以識(shí)別郵編部件時(shí)存在 困難。由于通常半導(dǎo)體加工系統(tǒng)不會(huì)留出很多空間來(lái)布置用于這種傾 斜移動(dòng)，而且處理所述部件的生產(chǎn)時(shí)間是非常重要的，所以根據(jù)本發(fā) 明的設(shè)備可以有益地應(yīng)用到半導(dǎo)體加工組件。所述設(shè)備不需要很多空 間，并且允許安裝到所述設(shè)備的攝像機(jī)傾斜而不偏移其焦點(diǎn)。
具體地，本發(fā)明適用于如WO2004/64124中說(shuō)明的芯片轉(zhuǎn)移設(shè)備 和WO2004/55870中說(shuō)明的引線鍵合設(shè)備。將所述國(guó)際專利申請(qǐng) WO2004/06424和WO2004/55870結(jié)合在此作為參考。
此處使用的'與第一/第二球面相對(duì)應(yīng)的球體，，意味著假想的球 體，其中'球面，與所述假想球體的表面的各個(gè)部分重疊。


下面參考附圖進(jìn)一步解釋本發(fā)明，其中
圖1為根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)儀器的示意圖2為示出本發(fā)明原理的光學(xué)儀器的示意圖3為根據(jù)第一實(shí)施例的設(shè)備的透視圖4為根據(jù)第一實(shí)施例的設(shè)備的透視分解圖5為光學(xué)儀器的透視圖6為半導(dǎo)體加工系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式
如前所述，圖中類似的參考數(shù)字表示類似的部分。
圖1和2已在此說(shuō)明書(shū)的引言部分討論。這些圖用來(lái)分別說(shuō)明根 據(jù)現(xiàn)有技術(shù)和本發(fā)明對(duì)準(zhǔn)光學(xué)裝置和目標(biāo)的原理?，F(xiàn)在參考圖3和圖 4，分別示出在組合和分解情況下根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的設(shè)備10。 所述設(shè)備包括框架12、傳輸裝置14和支撐單元16。支撐單元適用于 支撐光學(xué)裝置或要檢查的目標(biāo)，并且如下所述將支撐單元安裝到傳輸 裝置14。為了使這種裝置或目標(biāo)具有自由光學(xué)路徑，所述支撐單元配 置有孔17，同時(shí)將螺釘28配置用于允許安裝所述裝置或目標(biāo)。
傳輸裝置14設(shè)置有柱狀部分30，所述部分包括外表面上設(shè)置有 螺紋(未示出)的柱狀套管31。柱狀部分30可以相對(duì)于傳輸裝置14 的本體15旋轉(zhuǎn)。通過(guò)設(shè)置在柱狀孔33內(nèi)表面上的螺紋實(shí)現(xiàn)這種旋轉(zhuǎn) 移動(dòng)，所述螺紋與柱狀套管31的外表面上的螺紋耦合。通過(guò)旋轉(zhuǎn)柱狀 部分30，所述支撐單元將相對(duì)于傳輸裝置M沿z方向上平移，這根 據(jù)圖4將很清楚。此實(shí)施例中的支撐單元16借助螺釘29或其它類型 的固定裝置安裝到本體15的側(cè)表面21。三個(gè)平行的槽縫25、 27實(shí)現(xiàn) 下述的支撐單元16沿著z方向上的平移移動(dòng)。當(dāng)螺釘分離時(shí)，可手工 旋轉(zhuǎn)柱狀部分30，所述旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致沿z方向上的平移移動(dòng)。在此移動(dòng)期 間，從傳輸裝置14的側(cè)表面17延伸的銷19與槽縫25耦合，并且引 導(dǎo)支撐單元16的平移。
雖然在此實(shí)施例中，支撐單元和傳輸裝置為兩個(gè)分離的部分，這 對(duì)于沿z方向上平移支撐單元是必要的，也可以具有既作為支撐單元 又作為傳輸裝置的一個(gè)集成單一部分。當(dāng)不需要傳輸裝置和支撐單元 之間的相對(duì)移動(dòng)時(shí)，這是可能的。
框架12包括用以接收螺釘26的孔(未示出)，以便將所述框架安
裝到顯微儀器或任意其它類型的光學(xué)儀器中。雖然未示出，但通過(guò)釋 放螺釘26可以沿垂直于z方向的方向上相對(duì)于這種儀器移動(dòng)所述設(shè)備 10。此外，框架12包括限定了第一球面20的球體部分18。
傳輸裝置14包括限定了第二球面24的球體的第二部分22。表面24設(shè)置于部分22的底側(cè)，因此在圖4不可見(jiàn)。傳輸裝置14的第二球 面24與框架12的第一球面20耦合。鎖定裝置32配置用于分別相對(duì) 于第一球面20鎖定和釋放所述第二球面24，而它們之間的移動(dòng)僅可 能出現(xiàn)在釋放狀態(tài)下。下面詳細(xì)說(shuō)明鎖定裝置32的功能。
當(dāng)鎖定裝置32處于其釋放狀態(tài)時(shí)，可以相對(duì)于框架12移動(dòng)傳輸 裝置14和支撐單元16。在此移動(dòng)期間，第二球面24沿著第一球面20 移動(dòng)。較優(yōu)地，兩個(gè)球形表面都涂有特殊的涂層以使相互移動(dòng)變得容 易，例如，可以是諸如聚四氟乙烯(Teflon)涂層或鎳-聚四氟乙烯涂 層之類的涂層，用以減少兩個(gè)表面之間的摩擦和磨損。
當(dāng)沿著第一球面20移動(dòng)第二球面24時(shí)將導(dǎo)致支撐單元執(zhí)行相對(duì) 于框架的傾斜移動(dòng)。如下所述，相應(yīng)的移動(dòng)可以手動(dòng)操縱。結(jié)合圖2 示出的原理和相應(yīng)的上述描述，應(yīng)當(dāng)清楚，圖3和4中所示的設(shè)備使 得能夠?qū)崿F(xiàn)安裝到支撐單元16上的光學(xué)裝置相對(duì)于設(shè)置在儀器上的 目標(biāo)的傾斜，將所述儀器與所述設(shè)備的框架12連接，而不會(huì)帶來(lái)光學(xué) 裝置和目標(biāo)之間的任何焦點(diǎn)偏移。例如，所述儀器包括載物臺(tái)或其它 類型的x，y-工作臺(tái)。應(yīng)當(dāng)清楚，當(dāng)目標(biāo)的位置和裝置的位置交換時(shí)， 也可實(shí)現(xiàn)此目的。也就是，目標(biāo)安裝在支撐單元上，而光學(xué)裝置為儀 器的一部分。
如圖4所示最清楚可見(jiàn)，鎖定裝置32包括具有通孔40的鎖定板 34和至少在末端部分配置有螺紋(未示出)的延長(zhǎng)構(gòu)件36。球體22 的第二部分包括通孔42，并且球體18的第一部分包括配置有螺紋(未 示出)的孔44。延長(zhǎng)構(gòu)件36通過(guò)鎖定板34的孔40、球體22的第二 部分的孔42延伸，并且沿球體18的第一部分的孔44中延伸。延長(zhǎng)構(gòu) 架相對(duì)于其它部件旋轉(zhuǎn)。當(dāng)旋轉(zhuǎn)構(gòu)件36時(shí)，其末端部分的螺紋與球體 18的第一部分的孔44中的螺紋耦合。為使其旋轉(zhuǎn)移動(dòng)容易，構(gòu)件36 包括把手38。從圖4清楚可知，球體22的第二部分中的孔42的直徑 比球體18的第一部分中的孔44大得多。
根據(jù)第一實(shí)施例的設(shè)備的功能如下。當(dāng)從鎖定裝置32的鎖定狀態(tài) 開(kāi)始逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)延長(zhǎng)構(gòu)件36時(shí)，這將導(dǎo)致鎖定板從球體18的第一部 分釋放球體的第二部分22。這允許沿著第一球面20移動(dòng)第二表面24。
此移動(dòng)的范圍分別由球體的第一和第二部分中的孔42、44之間的相互 直徑差限定。因此球體22的第一部分中的孔42的直徑比球體18的第 一部分中的孔44的直徑大得多，較優(yōu)地，至少大三倍。通過(guò)一只手抓 握把手38以操作鎖定裝置32，而通過(guò)另一只手抓握傳輸裝置的本體 15和支撐單元以沿著第一球面18移動(dòng)它們，可以最佳地操作所述設(shè) 備。
圖5為光學(xué)儀器50的透視圖，所述光學(xué)儀器50包括上述設(shè)備和 借助螺釘28安裝到所述設(shè)備的支撐單元16上的透鏡組合52。在組合 52的頂部上安裝攝像機(jī)54，較優(yōu)地，安裝數(shù)字?jǐn)z像機(jī)。在支撐單元 16的另一側(cè)，在設(shè)備10上安裝第二透鏡組合56。在此第二組合的一 端分別設(shè)置光源58和反射鏡單元60。聯(lián)合地設(shè)置兩個(gè)透鏡組合52、 56、光源58和反射鏡單元60用于通過(guò)攝像機(jī)54根據(jù)面向反射鏡的目 標(biāo)產(chǎn)生的合適圖片。
圖6為半導(dǎo)體加工系統(tǒng)70的示意圖，其中所述半導(dǎo)體加工系統(tǒng)包 括機(jī)器框架72和晶片載體74，其容納放置在箔片上的晶片，并且保 持多個(gè)半導(dǎo)體部件。此外，設(shè)置用于從晶片拾取單獨(dú)的半導(dǎo)體部件并
且將它們放置在外部構(gòu)件78上的拾取放置單元76。外部構(gòu)件為所謂 的錐體(taper),其包括配置有沿條帶的縱向延伸的多個(gè)凹槽的延長(zhǎng) 條帶。使用此錐體以產(chǎn)生用于單個(gè)半導(dǎo)體部件的封裝，并且根據(jù)所謂 的'巻軸-巻軸原理'(reel-to-reel-principle)的系統(tǒng)而應(yīng)用。為了清楚 起見(jiàn)，拾取放置單元76以虛線示出。
加工系統(tǒng)70的特征在于存在三個(gè)光學(xué)儀器81、 83、 85，所述儀 器其或多或少類似于前面段落中描述的儀器50。每個(gè)儀器分別借助安 裝部分73、 75、 77安裝到機(jī)器框架72。安裝部分73、 75、 77連接到
各個(gè)儀器的框架。每個(gè)儀器具有特定的功能，它們也通過(guò)觀測(cè)由相應(yīng) 的光學(xué)儀器的反射鏡單元限定的各個(gè)光學(xué)路徑80、 82、 84 (見(jiàn)圖5)
在圖6中得到。
與光學(xué)路徑80相對(duì)應(yīng)的光學(xué)儀器81觀測(cè)晶片載體74上的晶片。 與光學(xué)路徑82相對(duì)應(yīng)的光學(xué)儀器83觀測(cè)已經(jīng)通過(guò)拾取放置單元76 從晶片拾取的單個(gè)半導(dǎo)體部件，同時(shí)該部件由真空裝置所保持。最終，
與光學(xué)路徑84相對(duì)應(yīng)的光學(xué)儀器85觀測(cè)容納由拾取放置單元76放置 在其中的半導(dǎo)體部件的構(gòu)件78。
考慮光學(xué)路徑80、 82、 84的差異，反射鏡的平移移動(dòng)和確切結(jié)構(gòu) 可以針對(duì)各個(gè)光學(xué)儀器81、 83、 85而不同。
如之前指出，通常，半導(dǎo)體加工系統(tǒng)不會(huì)留出很大空間以布置用 于數(shù)字?jǐn)z像機(jī)相對(duì)于半導(dǎo)體部件的移動(dòng)。此外，在光學(xué)儀器82的情況 下，使用產(chǎn)生的數(shù)字圖片以找到合適的半導(dǎo)體部件。為此目的，使用 特定的軟件以分析所述圖片，并且找到正常的部件。如果光學(xué)路徑80 不完全垂直于晶片，軟件將不能找到正確的部件。因此，需要相對(duì)于 晶片傾斜相應(yīng)的數(shù)字?jǐn)z像機(jī)，以校正任何未對(duì)準(zhǔn)。這種未對(duì)準(zhǔn)能容易 地發(fā)生，例如，由于通常應(yīng)用一些類型的針狀裝置，所述針狀裝置推 動(dòng)需要從其背面拾取的半導(dǎo)體部件，以促使將所述部件從晶片載體的 箔片上釋放。上述考慮使得根據(jù)本發(fā)明設(shè)備的應(yīng)用于此特定目的非常 有益。所述設(shè)備不需要很多的空間，并且允許安裝到所述設(shè)備的攝像 機(jī)的傾斜，同時(shí)避免焦點(diǎn)的偏移。此外，在觀測(cè)數(shù)字?jǐn)z像機(jī)圖片的同 時(shí)，可以容易地和準(zhǔn)確地通過(guò)相對(duì)于框架手動(dòng)傾斜支撐單元而實(shí)現(xiàn)調(diào) 節(jié)。
由于如上述段落說(shuō)明的需要(缺少空間和垂直對(duì)準(zhǔn))對(duì)于多種類 型的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)很重要，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備也能有益地使用到引 線鍵合器、管芯鍵合器、錐體、管芯分類器和探針。
應(yīng)該注意的是，上述實(shí)施例示出而非限定本發(fā)明，而不脫離權(quán)利 要求限定的本發(fā)明的范圍的情況下，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠設(shè)計(jì) 多個(gè)替代實(shí)施例。在權(quán)利要求中，任何放置在括號(hào)中的參考標(biāo)記不應(yīng) 被認(rèn)為限定權(quán)利要求。動(dòng)詞"包括"與其變形不排除與任何權(quán)利要求 或整個(gè)說(shuō)明書(shū)中列出的不同的元件或步驟的存在。單個(gè)元件不排除多 個(gè)這種元件存在，反之亦然。
權(quán)利要求
1、一種設(shè)備(10)，用于對(duì)準(zhǔn)光學(xué)裝置和目標(biāo)，所述設(shè)備包括框架(12)；支撐單元(16)，用于支撐光學(xué)裝置或目標(biāo)；傳輸裝置(14)，配置用于至少相對(duì)于框架傾斜支撐單元；其特征在于，配置球體部分(18，22)，所述部分限定球面(20，24)，并且支撐單元的傾斜移動(dòng)由所述球面控制。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的設(shè)備(10)，其特征在于，配置球體的 第一部分(18)和球體的第二部分(22)，球體的第一部分限定第一球 面(20)，并且球體的第二部分限定第二球面(24)，與第一球面相對(duì) 應(yīng)的球體中心實(shí)質(zhì)上和與第二球面相對(duì)應(yīng)的球體中心重合，并且第一 和第二球面相對(duì)彼此是可移動(dòng)的。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10)，其特征在于，當(dāng)?shù)谝缓偷?二部分相對(duì)彼此移動(dòng)時(shí)，第一球面(20)與第二球面(24)相耦合。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10)，其特征在于，框架(12) 包括球體的第一部分(18)，并且傳輸裝置(14)包括球體的第二部分(22)，而且第二球面沿著第一球面是可移動(dòng)的。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的設(shè)備(10)，其特征在于，配置鎖定裝 置(32)，所述鎖定裝置配置用于分別在鎖定狀態(tài)和釋放狀態(tài)之間改變 所述設(shè)備，在所述鎖定狀態(tài)中，支撐單元(16)相對(duì)于框架(12)是 鎖定的，在所述釋放狀態(tài)中，支撐單元相對(duì)框架是可移動(dòng)的。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5和權(quán)利要求4所述的設(shè)備(10)，其特征在于， 鎖定裝置(32)包括鎖定板(34)，當(dāng)分別改變到鎖定狀態(tài)和釋放狀態(tài) 時(shí)，所述板將球體的第二部分(22)鎖定和釋放到球體的第一部分(18)。
7、 一種光學(xué)儀器(50， 81， 83， 85)，包括根據(jù)權(quán)利要求1至6 中任一項(xiàng)所述的設(shè)備(10)和安裝到所述設(shè)備的支撐單元(16)的透 鏡組合。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)儀器(50， 81， 83， 85)，其特征在于，利用框架將所述設(shè)備安裝到顯微儀器上，所述儀器包括用于保 持目標(biāo)的載物臺(tái)，所述載物臺(tái)相對(duì)于透鏡組合沿至少一個(gè)方向上是可 移動(dòng)的。
9、 一種半導(dǎo)體加工系統(tǒng)(70)，包括機(jī)器框架(72);載體，用于容納半導(dǎo)體部件；工具，用于加工半導(dǎo)體部件；根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，所述設(shè)備通過(guò)它的框 架安裝到所述加工系統(tǒng)；透鏡組合，安裝到所述設(shè)備的支撐單元。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，其特征在于，載體 (74)容納晶片，所述晶片放置在箔片上并且保持多個(gè)半導(dǎo)體部件，所述工具是拾取放置單元(76)，用于從晶片拾取單獨(dú)的半導(dǎo)體部件， 并且將所述半導(dǎo)體部件放置在用于封裝半導(dǎo)體部件的外部構(gòu)件上。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于將光學(xué)裝置與目標(biāo)相對(duì)準(zhǔn)的設(shè)備(10)。所述設(shè)備包括框架(12)，用于支撐所述光學(xué)裝置或所述目標(biāo)的支撐單元(16)；以及傳輸裝置，配置用于至少相對(duì)于框架傾斜支撐單元的，其中配置有球體部分(18，22)，所述部分限定球面(20)，所述支撐單元的傾斜移動(dòng)由所述球面控制。根據(jù)本發(fā)明的裝置允許在所述光學(xué)裝置和所述目標(biāo)之間的傾斜移動(dòng)，而所述移動(dòng)不導(dǎo)致焦點(diǎn)的偏移。此外，本發(fā)明涉及光學(xué)儀器和半導(dǎo)體加工系統(tǒng)。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101379605SQ200780005005
公開(kāi)日2009年3月4日 申請(qǐng)日期2007年2月1日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月10日
發(fā)明者喬布·維安恩, 約澤夫·P·W·斯托克爾曼斯 申請(qǐng)人:Nxp股份有限公司