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感測式半導(dǎo)體裝置及其制法的制作方法

文檔序號:7229607閱讀:154來源:國知局
專利名稱:感測式半導(dǎo)體裝置及其制法的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種感測式半導(dǎo)體裝置及其制法,特別是涉及一種晶圓級芯片尺寸封裝(WLCSP)的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法。
技術(shù)背景傳統(tǒng)的影像感測式封裝件(Image sensor package)主要是將感測 式芯片(Sensor chip)接置于一芯片承載件上,并通過焊線加以電性連 接該感測式芯片及芯片承載件后,于該感測式芯片上方封蓋住一玻璃, 以供影像光線能為該感測式芯片所擷取。如此,該完成構(gòu)裝的影像感 測式封裝件即可供系統(tǒng)廠進行整合至如印刷電路板(PCB)等外部裝置 上,以供如數(shù)字相機(DSC)、數(shù)字?jǐn)z影機(DV)、光學(xué)鼠標(biāo)、及行動電話 等各式電子產(chǎn)品的應(yīng)用。同時隨著信息傳輸容量持續(xù)擴增,以及電子產(chǎn)品微小化與可攜式 的發(fā)展趨勢,導(dǎo)致一般集成電路的高輸入/輸出(1/0)、高散熱、及尺 寸縮小化的需求更加受到重視,亦促使集成電路的封裝型態(tài)朝向高電 性及小尺寸的方向演進,因此,業(yè)界逐發(fā)展出一種晶圓級芯片尺寸封 裝(Wafer-Level Chip Scale Package, WLCSP)的感測式半導(dǎo)體裝置, 藉以使完成封裝的半導(dǎo)體裝置僅微大于整合其中的感測式芯片尺寸, 進而有效應(yīng)用于小型化的電子產(chǎn)品中。請參閱圖1A至圖IE,美國專利US6, 646, 289所揭示的感測式半導(dǎo) 體裝置及其制法示意圖,其主要是提供一具多個感測芯片10的晶圓 10A,以于相鄰感測芯片10的焊墊101間形成延伸線路11 (如圖1A所 示);再將一玻璃12通過一黏著層13而黏置于該延伸線路11上(如第 IB圖所示);接著薄化該晶圓10A,并于該晶圓10A背面黏置一覆蓋層 14后,再對應(yīng)相鄰感測芯片10間以切割或蝕刻等方式形成一穿過該覆 蓋層14、晶圓10A、延伸線路11及黏著層13而內(nèi)凹至該玻璃12的傾 斜槽口 15(如圖1C所示);于該傾斜槽口 15表面及對應(yīng)該傾斜槽口附近的覆蓋層14表面形成金屬繞線16,并使該金屬繞線16電性連接至 該延伸線路11 (如圖ID所示);之后于該覆蓋層14表面的金屬繞線16 上植接焊球n,并沿各該感測芯片10間進行切割作業(yè),以制得晶圓級 芯片尺寸封裝的感測式半導(dǎo)體裝置(如圖IE所示)。另美國專利 US6, 777, 767亦揭示出相似的技術(shù)。但是在前述的感測式半導(dǎo)體裝置中,由于先前自該晶圓背面形成 傾斜槽口關(guān)系,因此在切割作業(yè)后該半導(dǎo)體裝置側(cè)面呈現(xiàn)傾斜切角形 態(tài),亦即其垂直剖面呈倒梯形(平面寬度由上逐漸向下縮短)結(jié)構(gòu),因 而形成于該半導(dǎo)體裝置側(cè)面的金屬繞線與芯片頂面焊墊的延伸線路連 接處呈銳角接觸,而易發(fā)生應(yīng)力集中造成連接處斷裂的問題,再者, 于制程中是從晶圓背部形成傾斜槽口,因不易對正至正確位置,易造 成傾斜槽口的設(shè)置位置偏移,導(dǎo)致金屬繞線與延伸線路無法連接,甚 至毀損到芯片。另外,因其金屬繞線外露于半導(dǎo)體裝置外,故易受外界污染而影 響產(chǎn)品信賴性,且易于在與外部裝置(如印刷電路板)作電性連接時, 于焊球回焊時造成短路問題。再者,其制程中需先后形成延伸線路及 金屬繞線,導(dǎo)致制程復(fù)雜及成本高等問題。因此,如何設(shè)計一種可避免線路發(fā)生斷裂及外露問題的晶圓級芯 片尺寸感測式半導(dǎo)體裝置及其制法,同時復(fù)可避免現(xiàn)有技術(shù)中從晶圓 背面切割的對位誤差而導(dǎo)致線路電性連接不良及芯片毀損問題,確為 相關(guān)領(lǐng)域上所需迫切面對的課題。發(fā)明內(nèi)容鑒于前述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,本發(fā)明的主要目的是提供一種感測式 半導(dǎo)體裝置及其制法,從而可避免線路連接處因夾角尖銳發(fā)生斷裂問 題。本發(fā)明的又一目的是提供一種感測式半導(dǎo)體裝置及其制法,從而 可避免線路外露而受外界污染影響產(chǎn)品信賴性,及后續(xù)與外界電性連 接的可靠性問題。本發(fā)明的再一目的是提供一種感測式半導(dǎo)體裝置及其制法,從而 可避免現(xiàn)有技術(shù)中從晶圓背面切割的對位誤差而導(dǎo)致線路電性連接不良及芯片毀損問題。為達前述及其它目的,本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置制法主要包括 提供一包含有多個感測芯片的晶圓,該感測芯片具有相對的主動面及 非主動面,該主動面上設(shè)有感測區(qū)及多個焊墊,以于相鄰感測芯片主 動面的焊墊間形成多個凹槽;于該凹槽中形成導(dǎo)電線路,以電性連接 相鄰芯片主動面的焊墊;于該感測芯片上接置透光體以遮蓋該芯片感 測區(qū);薄化該感測芯片非主動面至該凹槽,以使該導(dǎo)電線路相對外露 于該非主動面;沿各該感測芯片間進行切割,以形成多個側(cè)邊形成有 導(dǎo)電線路的感測芯片;將該些感測芯片接置于呈陣列排列有多個基板 的基板模塊片上,并使該感測芯片的導(dǎo)電線路電性連接至該基板;于 該基板模塊片上對應(yīng)各感測芯片間填充絕緣材料以包覆該感測芯片且 外露出該透光體;以及沿該基板間進行切割,以形成多個感測式半導(dǎo) 體裝置。通過前述的制法,本發(fā)明復(fù)揭示一種感測式半導(dǎo)體裝置,包括 基板;感測芯片,具有相對的主動面及非主動面,且于該主動面上形 成有一感測區(qū)與多個焊墊,及于該感測芯片側(cè)邊形成有延伸電性連接 至該焊墊的導(dǎo)電線路,以供該感測芯片的導(dǎo)電線路通過一導(dǎo)電材料而 電性連接至該基板;透光體,形成于該感測芯片的主動面上以遮蓋該 感測區(qū);以及絕緣材料,覆蓋該導(dǎo)電線路外露部分。因此,本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法主要于一包含有多個 感測芯片的晶圓上,對應(yīng)相鄰感測芯片主動面的焊墊間形成多個凹槽, 并于該凹槽中形成電性連接相鄰芯片主動面焊墊的導(dǎo)電線路,再薄化 該感測芯片非主動面至該凹槽,以使該導(dǎo)電線路相對外露于該非主動 面,而不同于現(xiàn)有技術(shù)從芯片非主動面(晶圓背部)形成穿過晶圓、電 性連接至芯片焊墊的延伸線路、黏著層而內(nèi)凹至該玻璃的傾斜槽口, 再于該傾斜槽口表面及對應(yīng)該傾斜槽口附近的覆蓋層表面形成電性連 接至延伸線路的金屬繞線,以避免現(xiàn)有技術(shù)半導(dǎo)體裝置側(cè)面呈現(xiàn)傾斜 切角形態(tài),因而形成于該半導(dǎo)體裝置側(cè)面的金屬繞線與芯片焊墊的延 伸線路連接處呈銳角接觸,而發(fā)生應(yīng)力集中造成連接處斷裂問題,以 及因現(xiàn)有技術(shù)制程中是從晶圓背部形成傾斜槽口,不易對正正確的位 置,造成槽口位置偏移,導(dǎo)致金屬繞線與延伸線路無法連接,甚至毀損到芯片等問題;接著,本發(fā)明即可沿各該感測芯片間進行切割,以 形成多個側(cè)邊具有導(dǎo)電線路的感測芯片,再將該些感測芯片接置于呈 陣列排列有多個基板的基板模塊片上,并使該感測芯片的導(dǎo)電線路電 性連接至該基板,且于該基板模塊片上對應(yīng)各感測芯片間填充絕緣材 料以覆蓋該導(dǎo)電線路,及沿該基板間進行切割,以形成多個感測式半 導(dǎo)體裝置,從而可避免線路外露而受外界污染影響產(chǎn)品信賴性,及后 續(xù)與外界電性連接的可靠性問題。


圖1A至圖1E為現(xiàn)有技術(shù)美國專利US6, 646, 289所揭示的晶圓級 芯片尺寸封裝的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法示意圖;圖2A至圖21為本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法第一實施例 的示意圖;以及圖3A至圖3F為本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法第二實施例 的示意圖。 元件符號說明10 感測芯片 10A晶圓101 焊墊11 延伸線路12 玻璃13 黏著層14 覆蓋層15 傾斜槽口16 金屬繞線17 焊球20 感測芯片 20A晶圓201 焊墊202 感測區(qū) 203, 203A凹槽21導(dǎo)電線路22透光體23黏著層30基板30A基板模塊片31導(dǎo)電材料301電性接點32點著層33絕緣材料說明書第5/8頁具體實施方式
以下通過特定的具體實施例說明本發(fā)明的實施方式,本領(lǐng)域技術(shù) 人員可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其它優(yōu)點與功 效。請參閱圖2A至圖21,為本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法第一 實施例的示意圖。且以下將以采用批次方式大量制造生產(chǎn)本發(fā)明的感 測式半導(dǎo)體裝置作為說明。如圖2A所示,提供一包含有多個感測芯片20的晶圓20A,該感測 芯片20具有相對的主動面及非主動面,該主動面上設(shè)有感測區(qū)202及 多個焊墊201,以于相鄰感測芯片20主動面的焊墊201間形成多個凹 槽203,其中該凹槽203可呈V字形狀,當(dāng)然亦可呈現(xiàn)其它形狀,如U如圖2B及圖2C所示,其中圖2C為圖2B的俯視圖,利用如濺鍍 (sputtering)或蒸鍍(vaporing)等方式于該凹槽203中形成導(dǎo)電線路 21,以電性連接相鄰感測芯片20主動面的焊墊201,其中該導(dǎo)電線路 21的材料可為鈦/銅/鎳(Ti/Cu/Ni)、鈦化鉤/金(TiW/Au)、鋁/鎳化釩/ 銅(Al/NiV/Cu)、鈦/鎳化釩/銅(Ti/NiV/Cu)、鈦化鉤/鎳(TiW/Ni)、鈦 /銅/銅(Ti/Cu/Cu)、鈦/銅/銅/鎳(Ti/Cu/Cu/Ni)等。如圖2D所示,于該感測芯片20上接置透光體22以遮蓋該芯片感 測區(qū)202,其中該透光體22例如為玻璃,其通過一黏著層23而接置于 該感測芯片20主動面上,并覆蓋該芯片20表面上的導(dǎo)電線路21,藉以封閉并遮蓋該感測芯片20的感測區(qū)202。如圖2E所示,薄化該感測芯片20非主動面至該凹槽203,以使該 凹槽203內(nèi)的導(dǎo)電線路21相對外露于該感測芯片20的非主動面。如圖2F所示,沿各該感測芯片20間進行切割,以形成多個側(cè)邊 形成有導(dǎo)電線路21的感測芯片,且該導(dǎo)電線路21電性連接至該感測 芯片20主動面的焊墊201。該切割路徑通過該透光體22及感測芯片 20。如圖2G所示,將該些感測芯片20接置于呈陣列排列有多個基板 30的基板模塊片30A上,并使該感測芯片20的導(dǎo)電線21路通過一如 焊錫(solder)的導(dǎo)電材料31而電性連接至該基板30。該基板模塊片30A的基板30表面形成有多個電性接點301,且于 該電性接點301上設(shè)有如預(yù)悍錫(pre-solder)的導(dǎo)電材料31,以供該 感測芯片通過一黏著層32而接置于該基板30上,并經(jīng)回焊(reflow) 制程而使該預(yù)焊錫的導(dǎo)電材料31焊接至該感測芯片20側(cè)邊的導(dǎo)電線 路21,進而使該感測芯片20電性連接至該基板30。如圖2H所示,于該基板模塊片30A上對應(yīng)各感測芯片20間填充 絕緣材料33以包覆該感測芯片20且外露出該透光體22。如圖21所示,沿該基板30間進行切割,以形成多個感測式半導(dǎo) 體裝置;其中如對應(yīng)該基板30為球柵陣列基板時,可于該基板30表 面未供接置感測芯片20的一側(cè)植設(shè)多個焊球(未圖示),以供后續(xù)該感 測式半導(dǎo)體裝置得以電性連接至外部裝置。通過前述的制法,本發(fā)明復(fù)揭示一種感測式半導(dǎo)體裝置,包括 基板30;感測芯片20,具有相對的主動面及非主動面,于該主動面上 形成有一感測區(qū)202與多個焊墊201,且于該感測芯片20側(cè)邊形成有 延伸電性連接至該焊墊201的導(dǎo)電線路21,以供該感測芯片20的導(dǎo)電 線路21通過一導(dǎo)電材料31而電性連接至該基板30;透光體22,形成 于該感測芯片20的主動面上以遮蓋該感測區(qū)202;以及絕緣材料33, 包覆該感測芯片20且外露出該透光體22。本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置中,該感測芯片的側(cè)邊為由其主動面 朝非主動面外擴的傾斜側(cè)邊,以形成剖面如正梯形的結(jié)構(gòu)(平面寬度由 上逐漸向下增加),因此該感測芯片形成于側(cè)邊且延伸電性連接至其主動面焊墊的導(dǎo)電線路,于彎折處呈鈍角狀,不易發(fā)生應(yīng)力集中造成連 接處斷裂問題,如此即可解決現(xiàn)有技術(shù)所揭示的半導(dǎo)體裝置先自晶圓 背面形成傾斜槽口,使其垂直剖面呈倒梯形結(jié)構(gòu)(平面寬度由上逐漸向 下縮短)所造成該半導(dǎo)體裝置側(cè)面的金屬繞線與芯片頂面焊墊的延伸線路連接處呈銳角接觸,而易發(fā)生應(yīng)力集中造成連接處斷裂問題。因此,本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法主要是于一包含有多 個感測芯片的晶圓上,對應(yīng)相鄰感測芯片主動面的焊墊間形成多個凹 槽,并于該凹槽中形成電性連接相鄰芯片主動面悍墊的導(dǎo)電線路,再 薄化該感測芯片非主動面至該凹槽,以使該導(dǎo)電線路相對外露于該非 主動面,而不同于現(xiàn)有技術(shù)從芯片非主動面(晶圓背部)形成穿過晶圓、 電性連接至芯片焊墊的延伸線路、黏著層而內(nèi)凹至該玻璃的傾斜槽口, 再于該傾斜槽口表面及對應(yīng)該傾斜槽口附近的覆蓋層表面形成電性連 接至延伸線路的金屬繞線,以避免現(xiàn)有半導(dǎo)體裝置側(cè)面呈現(xiàn)傾斜切角 形態(tài),因而形成于該半導(dǎo)體裝置側(cè)面的金屬繞線與芯片焊墊的延伸線 路連接處呈銳角接觸,而易發(fā)生應(yīng)力集中造成連接處斷裂問題,以及 因現(xiàn)有制程中從晶圓背部形成傾斜槽口,不易對正至正確的位置,造 成槽口位置偏移,導(dǎo)致金屬繞線與延伸線路無法連接,甚至毀損到芯片等問題;接著,本發(fā)明即可沿各該感測芯片間進行切割,以形成多 個側(cè)邊具有導(dǎo)電線路的感測芯片,再將該些感測芯片接置于呈陣列排 列有多個基板的基板模塊片上,并使該感測芯片的導(dǎo)電線路電性連接 至該基板,且于該基板模塊片上對應(yīng)各感測芯片間填充絕緣材料以覆 蓋該導(dǎo)電線路,及沿該基板間進行切割,以形成多個感測式半導(dǎo)體裝 置,從而可避免線路外露而受外界污染影響產(chǎn)品信賴性,及后續(xù)與外 界電性連接的可靠性問題。復(fù)請參閱圖3A至圖3F,為本發(fā)明的感測式半導(dǎo)體裝置及其制法另 一實施例示意圖。本實施例中對應(yīng)前述實施例中相同或相似元件以相 同符號表示,以簡化說明。如圖3A及圖3B所示,提供一包含有多個感測芯片20的晶圓20A, 該芯片具有相對的主動面及非主動面,該主動面上設(shè)有感測區(qū)202及 多個焊墊201,以于相鄰感測芯片20主動面的焊墊201間形成多個凹 槽203A,其中該凹槽203A可先以V型刀形成V字形狀,再利用直角型刀切割先前所形成V形凹槽底部,以形成如Y型的凹槽203A。如圖3C所示,于該凹槽203A中形成導(dǎo)電線路21,以電性連接相 鄰感測芯片20主動面的焊墊201 。如圖3D所示,于該感測芯片上接置透光體22以使該透光體22封 閉且遮蓋該芯片感測區(qū)202。復(fù)薄化該感測芯片20非主動面至該凹槽203A,以使該凹槽203A 內(nèi)的導(dǎo)電線路21相對外露于該感測芯片20的非主動面。如圖3E所示,沿芯片20間進行切割,以形成多個側(cè)邊形成有導(dǎo) 電線路21的感測芯片20,且該導(dǎo)電線路21電性連接至該感測芯片20 主動面的焊墊201,從而將該些感測芯片20接置于呈陣列排列有多個 基板30的基板模塊片30A上,并使該感測芯片20的導(dǎo)電線路21通過 一如焊錫的導(dǎo)電材料31而電性連接至該基板。另外應(yīng)特別注意的,由于先前形成該感測芯片20側(cè)邊的導(dǎo)電線路 21時,該導(dǎo)電線路21位于Y型凹槽203A表面,因此相較第一實施例 的V型凹槽203而言,本實施例中該感測芯片20的側(cè)邊包括一由主動 面朝非主動面外擴的傾斜側(cè)邊部分及一垂直部分,故具有較佳的接觸 面而得供與導(dǎo)電材料31有效結(jié)合而電性連接至基板30。如圖3F所示,接著于該基板模塊片30A上對應(yīng)各感測芯片20間 填充絕緣材料33,以包覆該感測芯片20且外露出透光體22,并沿該 基板30間進行切割,以形成多個感測式半導(dǎo)體裝置。上述實施例僅例示性說明本發(fā)明的原理及其功效,而非用于限制 本發(fā)明,任何本領(lǐng)域技術(shù)人員均可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下, 對上述實施例進行修飾與改變。因此,本發(fā)明的權(quán)利保護范圍,應(yīng)以 本發(fā)明權(quán)利要求書的范圍為依據(jù)。
權(quán)利要求
1. 一種感測式半導(dǎo)體裝置的制法,包括提供一包含有多個感測芯片的晶圓,該感測芯片具有相對的主動面及非主動面,該主動面上設(shè)有感測區(qū)及多個焊墊,以于相鄰感測芯片主動面的焊墊間形成多個凹槽;于該凹槽中形成導(dǎo)電線路,以電性連接相鄰芯片主動面的焊墊;于該感測芯片上接置透光體以遮蓋該芯片感測區(qū);薄化該感測芯片非主動面至該凹槽,以使該導(dǎo)電線路相對外露于該非主動面;沿各該感測芯片間進行切割,以形成多個側(cè)邊形成有導(dǎo)電線路的感測芯片;將該些感測芯片接置于呈陣列排列有多個基板的基板模塊片上,并使該感測芯片的導(dǎo)電線路電性連接至該基板;于該基板模塊片上對應(yīng)各感測芯片間填充絕緣材料以包覆該感測芯片且外露出該透光體;以及沿該基板間進行切割,以形成多個感測式半導(dǎo)體裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的感測式半導(dǎo)體裝置制法,其中,該凹槽 呈V形、U形及Y形的其中一者。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的感測式半導(dǎo)體裝置制法,其中,該導(dǎo)電 線路為鈦/銅/鎳、鈦化鉤/金、鋁/鎳化釩/銅、鈦/鎳化釩/銅、鈦化鎢 /鎳、鈦/銅/銅、鈦/銅/銅/鎳的其中一者。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的感測式半導(dǎo)體裝置制法,其中,該透光 體為玻璃,并通過一黏著層而接置于該芯片主動面上,藉以封閉并遮 蓋該芯片感測區(qū)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的感測式半導(dǎo)體裝置制法,其中,該基板 表面形成有多個電性接點,且于該電性接點上設(shè)有導(dǎo)電材料,以供該 感測芯片通過一黏著層而接置于該基板上,并使該該感測芯片通過該 導(dǎo)電材料電性連接至該基板。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的感測式半導(dǎo)體裝置制法,其中,該導(dǎo)電 材料為設(shè)于基板上的預(yù)焊錫材料,并經(jīng)回焊制程而使該預(yù)焊錫材料焊接至該感測芯片的導(dǎo)電線路,進而使該感測芯片電性連接至該基板。
7. —種慼測式半導(dǎo)體裝置,包括基板;感測芯片,具有相對的主動面及非主動面,于該主動面上形成有 一感測區(qū)與多個焊墊,且于該感測芯片側(cè)邊形成有延伸電性連接至該 焊墊的導(dǎo)電線路,以供該感測芯片的導(dǎo)電線路通過一導(dǎo)電材料而電性 連接至該基板;透光體,形成于該感測芯片的主動面上以遮蓋該感測區(qū);以及 絕緣材料,包覆該感測芯片且外露出該透光體。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的感測式半導(dǎo)體裝置,其中,該導(dǎo)電線路為鈦/銅/鎳、鈦化鎢/金、鋁/鎳化釩/銅、鈦/鎳化釩/銅、鈦化鎢/鎳、 鈦/銅/銅、鈦/銅/銅/鎳的其中一者。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的感測式半導(dǎo)體裝置,其中,該透光體為 玻璃,并通過一黏著層而接置于該芯片主動面上,藉以封閉并遮蓋該 芯片感測區(qū)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的感測式半導(dǎo)體裝置,其中,該基板表面 形成有多個電性接點,且于該電性接點上設(shè)有導(dǎo)電材料,以供該感測 芯片通過一黏著層而接置于該基板上,并使該該感測芯片通過該導(dǎo)電 材料電性連接至該基板。
11. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的感測式半導(dǎo)體裝置,其中,該感測芯片的側(cè)邊為由其主動面朝非主動面外擴的傾斜側(cè)邊。
12. 根搌權(quán)利要求7所述的感測式半導(dǎo)體裝置,其中,該感測芯片 側(cè)邊包括一由主動面朝非主動面外擴的傾斜側(cè)邊部分及一垂直部分。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種感測式半導(dǎo)體裝置及其制法,主要是于一具多個感測芯片的晶圓上,對應(yīng)相鄰感測芯片主動面的焊墊間形成多個凹槽,并于該凹槽中形成電性連接相鄰感測芯片焊墊的導(dǎo)電線路,再于該晶圓上接置透光體以封蓋該感測芯片的感測區(qū),接著薄化該晶圓非主動面至該導(dǎo)電線路而外露出該導(dǎo)電線路,再沿各該感測芯片間進行切割,以形成多個側(cè)邊具有導(dǎo)電線路的感測芯片,之后將該些感測芯片接置于呈陣列排列有多個基板的基板模塊片上,并使該感測芯片的導(dǎo)電線路電性連接至該基板,再于該基板模塊片上對應(yīng)各感測芯片間填充絕緣材料以包覆該感測芯片及沿該基板間進行切割,以形成多個感測式半導(dǎo)體裝置,從而可避免現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。
文檔編號H01L21/50GK101261942SQ20071008601
公開日2008年9月10日 申請日期2007年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月7日
發(fā)明者張澤文, 蕭承旭, 詹長岳, 黃建屏, 黃致明 申請人:矽品精密工業(yè)股份有限公司
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