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用于填充水平雷達(dá)的具有圓錐形擴(kuò)散盤的拋物面天線的制作方法

文檔序號:7223727閱讀:145來源:國知局
專利名稱:用于填充水平雷達(dá)的具有圓錐形擴(kuò)散盤的拋物面天線的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及填充水平測量。特別地,本發(fā)明涉及用于填充水平雷達(dá)的 拋物面天線、包括這種拋物面天線的填充水平雷達(dá)、這種拋物面天線進(jìn)行 填充水平測量的用途,以及通過拋物面天線來測量填充水平的方法。
背景技術(shù)
公知的填充水平測量設(shè)備包括拋物面天線,該拋物面天線發(fā)送或接收 微波以確定給料物質(zhì)容器中的介質(zhì)的填充水平。在這種裝備中,這種填充 水平測量i殳備的拋物面天線例如被設(shè)置在容器中。到目前為止,公知的使用雷達(dá)波或微波操作以確定容器中介質(zhì)的填充 水平的拋物面天線和測量設(shè)備可能存在不期望的反射,所述不期望的反射 尤其可能由輸入耦合系統(tǒng)和天線反射鏡本身引起。在短距離的情況下,這 種不期望的反射常導(dǎo)致信噪比顯著的且不期望的降低,這在短距離的情況 下可能導(dǎo)致回波消失在噪聲中。特別是在l米以下的測量范圍內(nèi),該干擾 噪聲是相當(dāng)大的。發(fā)明內(nèi)容可能期望提供一種在填充水平雷達(dá)的短距離處改進(jìn)的填充水平測量。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例,敘述了 一種用于填充水平雷達(dá)的拋物面 天線,所述拋物面天線包括拋物面反射鏡、用于向所述拋物面^Jtt貌t送 電磁波的激勵器和用于橫向地去除經(jīng)過激勵器后的電磁波的干擾部分的擴(kuò)散(即,散射)盤。根據(jù)本發(fā)明的該實施例,由激勵器(還可用作輻射接收器)所發(fā)送的 電磁波可以僅部分地由拋物面反射鏡聚集(例如成束),并輻射到給料物質(zhì),所述電磁波例如可以發(fā)送脈沖的形式被發(fā)送。由激勵器所發(fā)送的電磁 波的其余部分可不被聚集,而是由散射盤橫向地去除。這樣可以避免天線 系統(tǒng)處,特別是在激勵器處不期望的反射。這樣可以提高短距離情況下的信噪比,同時可以提高測量的質(zhì)量和靈敏度。根據(jù)本發(fā)明的該實施例,擴(kuò)散盤可以設(shè)置在拋物面反射鏡的中心。這樣可以通過擴(kuò)散盤上的反射從拋物面天線的中心軸去除中心附近 的輻射,使得所述輻射不影響激勵器。根據(jù)本發(fā)明的該實施例,擴(kuò)散盤的形狀使得來自激勵器的沿著軸撞擊 擴(kuò)散盤的平行射線束可以通過擴(kuò)散盤處的反向散射過程而偏離該軸。例如,所述擴(kuò)散盤的形狀可以是金字塔或圓錐形狀。然而,也可以是 其它形狀,所述形狀例如包括可相對于所述軸傾斜的表面,該表面使得電 磁波的干擾部分(該部分撞擊擴(kuò)散盤)發(fā)生偏離。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例,所述擴(kuò)散盤呈圓錐形,并包括旋轉(zhuǎn) 軸,使得沿旋轉(zhuǎn)軸的方向撞擊擴(kuò)散盤的平行輻射束可以通過擴(kuò)散盤處的反 向散射過程而偏離該旋轉(zhuǎn)軸。圓錐形狀例如可^吏得撞擊在擴(kuò)散盤上的平行輻射相對于拋物面天線 的旋轉(zhuǎn)軸可以全部以相同角度偏離。這種圓錐形的擴(kuò)散盤易于制造。這樣 可以減少生產(chǎn)成本和制造成本。根據(jù)本發(fā)明的另 一示例性實施例,所述擴(kuò)散盤包括至少部分地吸收電 磁波的一部分的材料。這樣,可以減少^t射掉的輻射的部分,因為一部分不期望的輻射可以 在所述擴(kuò)M內(nèi)已經(jīng)被吸收。根據(jù)本發(fā)明的另 一示例性實施例,所述拋物面天線包括可以設(shè)置在所 述拋物面反射鏡上的環(huán).才艮據(jù)本發(fā)明的另 一示例性實施例,所述拋物面>^射鏡和環(huán)形成由天線 罩所覆蓋的內(nèi)部空間。例如,激勵器可以設(shè)置在這樣形成的所述內(nèi)部空間中。這樣可以進(jìn)一步防止不期望的反射。例如,所述環(huán)至少在其內(nèi)側(cè)包括吸收所述激勵器的輻射的材料。根據(jù)本發(fā)明的另 一示例性實施例,所述拋物面天線的內(nèi)部空間可以用 介電材料來填充。此外,可以提餘使用沖洗劑來沖洗激勵器的沖洗設(shè)備。這樣可以去除或防止在激勵器上累積的污垢,該污垢的累積可以例如 由給料物質(zhì)灰塵或通過液體沉淀而引起。因而可以以兩種方式來改進(jìn)測量的質(zhì)量。首先,可以保證激勵器總是 干凈的,而沒有任何污垢累積。第二,可以保證將干擾輻射從激勵器散射 掉,因此不會再被饋送到測量和評估電子裝置中。在這種設(shè)置中,例如可以提供空氣或惰性氣體或水作為沖洗劑,其可 以通過沖洗管和沖洗出口從沖洗設(shè)備注射到或吹到激勵器。根據(jù)要求也可以加入清潔劑。此外,沖洗劑可以是熱的以便提高清潔 效果。如果需要,還可以將沖洗劑以高壓噴射到所述激勵器上。當(dāng)然,附加的沖洗劑的使用也是可以的,例如可以進(jìn)一步提高清潔效果的^L混合 物。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例,所述沖洗出口可以位于所述擴(kuò)散盤中; 其可以設(shè)計為擴(kuò)散盤中的多個鉆孔的形狀,其中所述鉆孔可以連接到所述 沖洗管。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例,沖洗^殳備包括沖洗連接,其中所述 沖洗連接設(shè)計成將沖洗設(shè)備連接到?jīng)_洗劑儲存器。這可以保證總是有足夠的沖洗劑用于清潔或防止在天線饋送(激勵 器)處沉積',垢。根據(jù)本發(fā)明的另 一示例性實施例,所述拋物面天線包括天線輸入耦合 件,其中所述沖洗連接包括用于旋到天線輸入耦合件中的螺紋。這樣,所述沖洗連接可以以簡單的方式附著到天線輸入耦*。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例,所述沖洗i殳備包括止回閥,其中止 回閥設(shè)計成防止任何材料的回流。這樣,可以防止給料物質(zhì)容器內(nèi)的材料通過沖洗設(shè)備向外流出。為此,例如,上述止回閥包括彈簧元件和球,該球只有在例如0. 5bar限定的操作壓力(前向)以上才打開沖洗管。如果沖洗劑的壓力降到設(shè)定閾值(例如0.5bar)以下,則彈簧推動g住沖洗管,使得所述沖洗管 被堵塞。當(dāng)然,也可以設(shè)置其它閾值壓力。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例,所述沖洗設(shè)備被設(shè)計成防爆的。該止回閥可以例如防止容器內(nèi)部與外部之間的任何物質(zhì)交換。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例,所述激勵器包括特氟綸(Teflon) 錐體。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例,敘述了包括上述拋物面天線的填充 水平雷達(dá)。根據(jù)本發(fā)明的另 一示例性實施例,敘述了將這種拋物面天線用于填充 水平測量。此外,敘述了使用這種拋物面天線測量填充水平的方法,其中該方法 包括通過激勵器將電磁波發(fā)送到拋物面反射鏡,通過所述拋物面反射鏡 將電磁波聚集,和通過擴(kuò)散盤橫向去除經(jīng)過激勵器后的電磁波的一部分。這樣,可以提供一種方法,借助于該方法可確定容器中的填充水平, 其中通過橫向去除干擾電磁波使得在短距離的情況下信噪比減小。從屬權(quán)利要求中進(jìn)一步公開了本發(fā)明的示例性實施例。下面參考附圖對本發(fā)明的示例性實施例進(jìn)行說明。


圖l示出才艮據(jù)本發(fā)明示例性實施例的拋物面天線的剖面圖。圖2示出^HL據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例的另一拋物面天線的剖面圖。圖3示出圖2中的拋物面天線的頂部透視圖。圖4示出才艮據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例的拋物面天線的示意性剖 面圖。圖5示出^IL據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例的拋物面天線的示意性剖 面圖。圖6示出根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例的用于連接到擴(kuò)M的沖洗設(shè)備的止回閥的示意性剖面圖。圖7示出根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實施例的擴(kuò)itit的示意圖。
具體實施方式
在下面的附圖描述中,相同的附圖標(biāo)記用于相同或類似的元件。 圖i示出#^本發(fā)明的一個實施例的拋物面天線的示意性剖面圖。如圖1所示,拋物面天線100基本上包括具有擴(kuò)散盤1的拋物面反射鏡2 和激勵器/接收器3。在該設(shè)置中,拋物面反射鏡2包括拋物面反射鏡2 的環(huán)形的緣20。拋物面反射鏡的緣20構(gòu)成到附加環(huán)9的過渡,在附加環(huán) 9的外側(cè)具有環(huán)緣90。在這種設(shè)置中,環(huán)9的壁延伸,使得大致沿軸向平 行于拋物面反射鏡2的中心拋物面反射鏡軸X。此外,拋物面天線100包括激勵器和/或接收器3,設(shè)置在拋物面反 射鏡軸X上,并通過波導(dǎo)元件(例如天線管或空心導(dǎo)體4 )設(shè)置在距離拋 物面反射鏡2的后壁一定距離處。在后面,空心導(dǎo)體4構(gòu)成到包括至少一 個波導(dǎo)5的波導(dǎo)裝置的過渡,在波導(dǎo)5的后端部分處設(shè)置用于發(fā)送/接收 設(shè)備的連接部6。該發(fā)送/接收設(shè)備包括用于產(chǎn)生電磁波,特別是雷達(dá)波 或微波的電子裝置和組件。連接部6通過波導(dǎo)5和空心導(dǎo)體4將這樣產(chǎn)生的電磁波傳遞到激勵器 3。從激勵器3,該波沿拋物面反射鏡的方向被輻射,并被該拋物面反射 鏡沿軸平行方向反射到拋物面反射鏡軸X。這樣發(fā)送的電磁波被給料物質(zhì)反射,且通常至少部分地被拋物面反射 鏡2接收。拋物面反射鏡2的壁將波^L^射回的部分反射到激勵器/接收 器裝置3的接收器3。所吸收的波通過空心導(dǎo)體4和波導(dǎo)5從接收器3經(jīng) 由連接部6發(fā)送到發(fā)送/接收設(shè)備的接收設(shè)備,并被所述接收設(shè)備接收。 發(fā)送/接收設(shè)備或某些其它下游評估設(shè)備的電子裝置確定發(fā)送電磁波和接 收由給料物質(zhì)或表面所反射的電磁波之間的時間差。由此可以確定容器中 的給料物質(zhì)的填充水平。為了在容器壁上,特別是在容器法蘭8上附裝拋物面天線100,后部 部件的波導(dǎo)5的區(qū)域包括附裝設(shè)備7,例如包括法蘭。激勵器/接收元件3 (可以是同一個元件)被設(shè)置在包含拋物面反射鏡2和環(huán)9的裝置內(nèi)部, 使得激勵器/接M件3部分地設(shè)置在拋物面反射鏡的緣20內(nèi),部分地設(shè) 置在拋物面反射鏡的緣20夕卜。激勵器/接il^件3的一部分突出到拋物面反射鏡2的區(qū)域中,而另一部分從拋物面反射鏡2的區(qū)域突出并ii^到環(huán) 9的區(qū)域。在圖1所示的實施例中,激勵器/接收元件3設(shè)置成完全在由 環(huán)緣9和拋物面Jl射鏡2所限定的內(nèi)部空間中。這樣可以;Wfe地保護(hù)激勵器/接收元件3。此外,在完全照明的情況 下,能盡可能避免側(cè)面波瓣和反向波瓣,所述波瓣是源自例如拋物面反射 鏡2的輻射的不期望的波瓣。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例,拋物面天線的焦距f與直徑D的比是 0.27。然而,也可以是區(qū)別很大的值,或更大或更小。此外,也可以是包括拋物面2和環(huán)9的g設(shè)計??蛇x地,環(huán)9可以 由與拋物面反射鏡2相同的材料制成,或者環(huán)9可以由不同的材料制成。 特別地,可以采用吸收撞擊環(huán)9內(nèi)壁的電磁波的內(nèi)部涂層或全環(huán)材料。為了進(jìn)一步減少干4^^射和最小化或減少短距離情況下的衰減特性, 擴(kuò)散盤1可以設(shè)置在拋物面反射鏡2的中心,該擴(kuò)散盤1可以橫向去除由 激勵器3所發(fā)送的電磁波,使得反射的波可以不再撞擊激勵器3。如圖1 所示,擴(kuò)散盤1的形狀使得從激勵器3發(fā)出并撞擊到擴(kuò)散盤1上的輻射被 反射而遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸X。這樣,在短距離情況下的衰減特性可以顯著減少。 擴(kuò)散盤1的形狀不必是圓錐形的;重要的僅在于它相對于垂直于旋轉(zhuǎn)軸X 的平面傾斜,使得軸平行輻射也被散射掉。作為替選,或另外,擴(kuò)散盤l 可以包括吸收輻射的材料,使得可以至少部分地吸收撞擊的輻射。根據(jù)本發(fā)明,因為通過擴(kuò)散盤1,在從激勵器/接收器3發(fā)送之后和 從拋物面反射鏡2反射之后本來會被激勵器/接收器3再次直接吸收的電 磁波現(xiàn)在都被散射掉,因此可以減少接收電子裝置過驅(qū)動的危險。因為擴(kuò) 散盤1將不期望的干擾輻射反射掉或吸收(而不是檢測),所以例如可以 增加輻射輸出而不會有接收電子裝置過驅(qū)動的任何危險。總之,可以在短測量距離的情況下減少干擾信號,從而導(dǎo)致改進(jìn)的測 量結(jié)果。此外,擴(kuò)散盤l包括沖洗出口 (圖l中未示出),通過該沖洗出口可 以沿激勵器/接收器3的方向噴灑、滴、吹或輸送用于清潔激勵器/接收器 3的沖洗劑。如果需要,可以用簡單的平面保護(hù)罩,所謂的天線革(見圖4中的附 圖標(biāo)記24 )來包封整個天線系統(tǒng)100。用于此罩的材料可以是例如聚四氟 乙烯(PTFE)。類似地,可以提供PTFE盤,或如果需要可以提供用于覆蓋拋物面天線的曲面罩。此外,可以用介電材料10來填充拋物面天線的內(nèi)部。介電材料的介 電常數(shù)的值例如小于3。例如,可以使用泡沫化〗^員耗材料,如Emerson & cuming制造的介電常數(shù)為1. 7的Eccostock-Lok。圖2示出根據(jù)本發(fā)明另一實施例的拋物面天線的示意性的剖面圖。圖 2所示的拋物面天線基本上對應(yīng)于圖1所示的拋物面天線。擴(kuò)散盤1的形 狀是圓錐形的;因而其包括非曲面表面,該表面面對撞擊的電磁輻射。此 外,提供附裝元件22、 23以便保持天線裝置100或者將天線裝置100附 裝到給料物質(zhì)容器蓋。沖洗設(shè)備11包括沖洗連接部14,該沖洗連接部14包括螺紋以便附裝 在天線輸入耦^ff 21中。沖洗連接部14通過沖洗管13連接到幾個沖洗 出口 12、 25、 26、 27 (見圖5和圖7)。圖3示出圖2中所示的拋物面天線的頂部透恥現(xiàn)圖。具體地,示出附 裝元件22、 23和附裝元件301至304的設(shè)置。圖4示出根據(jù)本發(fā)明另一實施例的天線裝置的示意性的橫截面圖。如 圖4所示,激勵器/接收器3和空心導(dǎo)體4被天線軍24包封。這是用于保 護(hù)天線系統(tǒng)的簡單的平面保護(hù)罩。圖5示出本發(fā)明另一實施例的另一示意圖。如圖5所示,天線輸A^耦 合件21已置于天線體29上.在天線體29和天線輸入耦合件21的內(nèi)部, 有沖洗管13,所述沖洗管13從沖洗連接部14將沖洗劑輸送到出口 12。 ^L計成鉆孔形狀的出口 12位于用于嘲:射不期望的輻射的擴(kuò)散盤1中。沖 洗連接部12用于通過噴射沖洗劑來清潔激勵器/接收器3,換句話說,用 于保持激勵器/接收器3清潔。圖6示出防止任何物質(zhì)反向流動的止回閥15的示意性橫截面圖。如 圖6所示,止回閥15包括容納在外殼20中的球17和彈簧16。在該設(shè)置 中,彈簧16推動球17抵住連接到?jīng)_洗劑儲存器的引入管線18。只要從 儲存器流到引入管線18并推壓球17的清洗劑的壓力足夠(通常超過 0. 5bar ),則彈簧16被壓縮,球17提供到外殼20的通路,使得沖洗劑可 以通過夕卜殼流到引出管線19。在該設(shè)置中,引出管線19連接到出口 12。 然而,當(dāng)沖洗劑的正壓降到預(yù)先設(shè)置的閾值以下時,彈簧16壓i^1 17 抵住引入管線18的進(jìn)口,使得引入管線18被阻塞,從而提供密封。因而 停止進(jìn)一步的材料輸送。另外,例如,沒有電火花可以越過止回閥這樣可以提供防爆。圖7示出擴(kuò)散盤1的示意性的頂視圖。在該設(shè)置中,擴(kuò)散盤1包括幾 個沖洗出口 12、 25、 26和27,通過所述沖洗出口可以散布沖洗劑以^便沖 洗激勵器/接收器3。此外,擴(kuò)散盤l包括用于空心導(dǎo)體的引入部28,以 便饋送到激勵器/接收器3。在該設(shè)置中,擴(kuò)散盤1是圓錐形的,使得相 對于附圖平面垂直撞擊擴(kuò)散盤1的電磁波以不同于撞擊軸的方向散射。當(dāng) 然,還可以提供大于4個或小于4個的沖洗出口。例如,可以將擴(kuò)散盤1制作成單獨的組件,并在安裝過程中附裝到拋 物面>^射鏡2,或者例如還可以附裝到空心導(dǎo)體4。附裝可以通過例如粘 附、焊接、鉚接、螺紋連接或壓配合來進(jìn)行。當(dāng)然,拋物面反射鏡2和擴(kuò) 散盤l也可以制成一體。此外,擴(kuò)散盤1和空心導(dǎo)體4也可以制成一體。另外,應(yīng)該指出"包括"不排除其它元件或步驟,并且"一個"不排 除復(fù)數(shù)。此外,應(yīng)該指出參考以上實施例之一所描述的特征或步驟還可以 結(jié)合以上描述的其它實施例的其它特征或步驟來使用。權(quán)利要求中的附圖 標(biāo)記不解釋為限制.
權(quán)利要求
1. 一種用于填充水平雷達(dá)的拋物面天線,其中所述拋物面天線包括拋物面反射鏡(2);激勵器(3),用于將電磁波發(fā)送到所述拋物面反射鏡(2);以及擴(kuò)散盤(1),用于橫向地去除經(jīng)過所述激勵器(3)后的電磁波的干擾部分;其中所述拋物面反射鏡(2)設(shè)計成聚集所述電磁波;其中所述擴(kuò)散盤(1)設(shè)置在所述拋物面反射鏡(2)的中心;并且其中所述擴(kuò)散盤(1)的形狀使得從所述激勵器沿著軸線撞擊所述擴(kuò)散盤(1)的平行輻射束在所述擴(kuò)散盤(1)處通過反向散射過程而偏離所述軸。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的拋物面天線,其中所述擴(kuò)散盤(1)是圓錐形的,并包括旋轉(zhuǎn)軸,使得沿該旋轉(zhuǎn)軸 的方向撞擊所述擴(kuò)散盤(1)的平行輻射束在所述擴(kuò)散盤(1)處通過反向 散射過程而偏離所述旋轉(zhuǎn)軸。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的拋物面天線, 其中所述擴(kuò)散盤(1)包括至少部分地吸收所述電磁波的材料。
4. 根據(jù)在前權(quán)利要求中的任一項所述的拋物面天線, 還包括設(shè)置在所述拋物面反射鏡(2)上的環(huán)(9 )。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋物面天線。其中所述拋物面反射鏡(2 )和環(huán)(9 )構(gòu)成由天線革所覆蓋的內(nèi)部空間。
6. 根據(jù)在前權(quán)利要求中的任一項所述的拋物面天線, 其中所述拋物面天線的內(nèi)部空間用介電材料填充。
7. 根據(jù)在前權(quán)利要求中的任一項所述的拋物面天線,其中所述拋物 面天線還包括沖洗設(shè)備(11 ),用于使用沖洗劑沖洗所述激勵器(3 )。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的拋物面天線,其中所述沖洗i更備(11)包括沖洗管(13 )和沖洗出口 ( 12 ); 其中所述沖洗管(13 )i殳計成將所述沖洗劑輸送到所述沖洗出口( 12 );以及其中所述沖洗出口 (12)設(shè)計成使所述沖洗劑沿所述激勵器(3)的 方向放出。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的拋物面天線, 其中所述沖洗出口 (12)位于所述擴(kuò)散盤(1)中。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7至9中的任一項所述的拋物面天線,其中所述沖洗出口 (12)設(shè)計成在所述擴(kuò)散盤(1)中的多個鉆孔的 形狀,所述鉆孔連接到所述沖洗管(13)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求7至10中的任一項所述的拋物面天線,其中所述沖洗設(shè)備(11)包括沖洗連接部(14 );以及其中所述沖洗連接部(14 )設(shè)計成將所述沖洗設(shè)備(11)連接到?jīng)_洗 劑儲存器。
12. 根據(jù)權(quán)利要求7至11中的任一項所述的拋物面天線, 其中所述拋物面天線包括輸入耦合件(21);以及 其中所述沖洗連接部包括用于^A所述天線輸入耦合件(21)中的螺紋。
13. 根據(jù)權(quán)利要求7至12中的任一項所述的拋物面天線, 其中所述沖洗設(shè)備(ll)包括止回閥(15);以及 其中所述止回閥(15)設(shè)計成防止任何物質(zhì)的回流。
14. 根據(jù)權(quán)利要求7至13中的任一項所述的拋物面天線, 其中所述沖洗設(shè)備(11)設(shè)計成防爆的。
15. 根據(jù)權(quán)利要求7至14中的任一項所述的拋物面天線, 其中所5^jh回閥包括彈簧元件(16)和球(n)。
16. 根據(jù)在前權(quán)利要求中的任一項所述的拋物面天線, 其中所述激勵器(3)包括特氟^體。
17. —種填充水平雷達(dá),包括根據(jù)權(quán)利要求1至16中的任一項所述的拋物面天線。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1至16中的任一項所述的用于填充水平測量的拋 物面天線的用途。
19. 一種使用拋物面天線來測量填充水平的方法,其中所述方法包括 以下步驟通過激勵器(3)將電磁波發(fā)送到拋物面反射鏡(2 );通過所述拋物面^Jt鏡(2 )聚集所述電磁波;以及通過擴(kuò)散盤(1)橫向地去除經(jīng)過所述激勵器(3)后的電磁波的千擾 部分。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法,其中所述擴(kuò)M (1)設(shè)置在所述拋物面反射鏡(2)的中心;其中所述擴(kuò)散盤(1)是圓錐形的,并包括旋轉(zhuǎn)軸,使得沿該旋轉(zhuǎn)軸 的方向撞擊在所述擴(kuò)散盤(1)上的平行輻射束通過在所述擴(kuò)散盤(1)處 的反向散射過程而偏離該旋轉(zhuǎn)軸。
全文摘要
填充水平雷達(dá)的天線系統(tǒng)上的反射導(dǎo)致短距離情況下測量質(zhì)量的降低。因此,在短距離情況下小的回波信號可能消失在噪聲中。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例,敘述了一種用于填充水平雷達(dá)的拋物面天線,所述拋物面天線包括拋物面反射鏡、激勵器和擴(kuò)散盤。擴(kuò)散盤用于橫向地去除本來會被激勵器所吸收的干擾電磁波。這樣可以降低短距離情況下的衰減特性。
文檔編號H01Q1/22GK101283477SQ200680037678
公開日2008年10月8日 申請日期2006年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月14日
發(fā)明者克勞斯·金茨勒, 弗里茨·倫克, 約瑟夫·費倫巴赫 申請人:Vega格里沙貝兩合公司
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