專利名稱：斷路器產(chǎn)氣滅弧室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于低壓電氣設(shè)備，涉及低壓斷路器的滅弧室結(jié)構(gòu)，具體是一種斷路器產(chǎn)氣滅弧室。
背景技術(shù)：
普通的低壓斷路器中，其滅弧室一般由殼體、滅弧柵片和引弧板組成，殼體為一般包括有底部的底板、兩側(cè)的側(cè)板，引弧板由殼體的頂部延伸至殼體前上部，在殼體與引弧板圍成的空腔中由上至下排布多層滅弧柵片。工作過程中，斷路器觸點(diǎn)產(chǎn)生的電弧由殼體前端的入口進(jìn)入殼體內(nèi)腔，經(jīng)過滅弧柵片的多層隔斷，使其能量衰減，達(dá)到滅弧的目的。這種結(jié)構(gòu)僅僅依靠滅弧柵片的物理隔斷作用進(jìn)行降溫和滅弧，其滅弧效果較差，影響了設(shè)備運(yùn)行的可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡單、滅弧效果好的斷路器產(chǎn)氣滅弧室。
本實(shí)用新型的斷路器產(chǎn)氣滅弧室包括有殼體、引弧板和滅弧柵片，殼體包括有底部的底板和兩側(cè)的側(cè)板，引弧板由殼體的頂部延伸至殼體前上部，在殼體與引弧板圍成的空腔中由上至下排布多層滅弧柵片，殼體前端為電弧入口，在殼體前段靠近電弧入口處的滅弧柵片與兩側(cè)板之間分別設(shè)置有由薄片狀產(chǎn)氣材料制成的產(chǎn)氣片，產(chǎn)氣片的縱向?qū)挾葹闅んw內(nèi)空腔縱向深度的30％～40％。
本實(shí)用新型由于在滅弧室中設(shè)置了產(chǎn)氣片，其在電弧作用下可釋放氣體，可以對電弧進(jìn)行輔助的吹熄和降溫，因而提高了整個(gè)滅弧室的滅弧效果。


圖1是本實(shí)用新型的正面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的側(cè)面剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖所示，該斷路器產(chǎn)氣滅弧室的殼體1包括有一個(gè)底板11和兩個(gè)側(cè)板12，殼體頂部至前上部設(shè)置有引弧板2，殼體內(nèi)腔中有多層滅弧柵片3。在靠近殼體前端的入口13處，滅弧柵片的前段與兩側(cè)板的前段之間設(shè)置了寬度為殼體縱向深度的30％～40％的產(chǎn)氣片4。上述結(jié)構(gòu)中殼體為塑料絕緣材料，引弧板和滅弧柵片為金屬材料，產(chǎn)氣片可采用尼龍6/6、POM或三聚氫胺等產(chǎn)氣材料。
權(quán)利要求1.一種斷路器產(chǎn)氣滅弧室，包括有殼體(1)、引弧板(2)和滅弧柵片(3)，殼體(1)包括有底部的底板(11)和兩側(cè)的側(cè)板(12)，引弧板(2)由殼體的頂部延伸至殼體前上部，在殼體與引弧板圍成的空腔中由上至下排布多層滅弧柵片(3)，殼體前端為電弧入口(13)，其特征是在殼體前段靠近電弧入口(13)處的滅弧柵片(3)與兩個(gè)側(cè)板(12)之間分別設(shè)置有由薄片狀產(chǎn)氣材料制成的產(chǎn)氣片(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的斷路器產(chǎn)氣滅弧室，其特征是產(chǎn)氣片(4)縱向的寬度為殼體內(nèi)空腔縱向深度的30％～40％。
專利摘要本實(shí)用新型屬于低壓電氣設(shè)備，涉及低壓斷路器的滅弧室結(jié)構(gòu)，具體是一種斷路器產(chǎn)氣滅弧室。它包括有殼體、引弧板和滅弧柵片，殼體包括有底部的底板和兩側(cè)的側(cè)板，引弧板由殼體的頂部延伸至殼體前上部，在殼體與引弧板圍成的空腔中由上至下排布多層滅弧柵片，殼體前端為電弧入口，在殼體前段靠近電弧入口處的滅弧柵片與兩側(cè)板之間分別設(shè)置有由薄片狀產(chǎn)氣材料制成的產(chǎn)氣片。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、滅弧效果好。
文檔編號H01H9/30GK2886795SQ20062006884
公開日2007年4月4日 申請日期2006年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月25日
發(fā)明者王靖, 王立強(qiáng), 胡義琴, 劉建軍 申請人:大全集團(tuán)有限公司