專利名稱：用于光學臨近修正的方法和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及光刻工藝，并且更特別地涉及為光刻工藝效果而修正集成電路掩模布局的方法。
背景技術(shù)：
在集成電路制造中，照相平版印刷術(shù)或平版印刷術(shù)通常用來將與集成電路的布局相關(guān)的圖案轉(zhuǎn)移到晶片襯底上。該晶片襯底包括，但不局限于，例如硅、硅鍺(SiGe)、絕緣體硅(SOI)以及其各種組合物等材料。改進超大規(guī)模集成(VLSI)電路性能的努力，導致了對減小圖形尺寸和增加布局密度的需求的增長。這又更加需要使用分辨率增強技術(shù)(RET)以擴展光刻工藝的能力。RET包括例如使用光學臨近修正(OPC)、次分辨率輔助圖形增強光刻(SRAF)和相位移增強掩模光刻(PSM)的技術(shù)。
盡管分辨率增強技術(shù)(RET)的幾種形式有驚人的進步，但是迭代的基于模型的光學臨近修正(MBOPC)已將其自身確認為為光刻工藝效果而補償掩模形狀的可選擇的方法。常規(guī)的MBOPC工具類似于下列方式進行操作并包括下列步驟。掩模設(shè)計(下面稱為掩模)上的形狀通常定義為多邊形。執(zhí)行預處理步驟將每個掩模形狀的邊分為較小的線段。MBOPC工具的核心是在特定點模擬圖像強度的模擬器，該點通常是在每個線段的中心。然后將這些線段在MBOPC的每個迭代步驟中從它們在掩模形狀上的原始位置來回移動，也就是從圖形內(nèi)部向外或向內(nèi)移動。當(作為掩模形狀的修正結(jié)果)在這些預先選擇的點處的圖像強度匹配于在公差范圍內(nèi)的閾值強度水平時，就停止迭代。
雖然OPC的質(zhì)量可以隨著線段數(shù)量的增加而改善，但是MBOPC工具的效率可能會隨著它在每個迭代步驟中所模擬和迭代的線段數(shù)量的增加而降低。線段數(shù)又依賴于每個掩模形狀的邊數(shù)，因此，希望被修正的線段只是為獲得期望的光刻質(zhì)量所必需的線段。
分割通常是以兩種方式執(zhí)行的。第一種分割依賴于特定的掩模形狀本身。這種類型的分割試圖捕獲例如拐角、凹凸等的形狀的變化。圖1A中說明了這種分割的示例，此圖示出了兩個掩模形狀100和110。在此示例中，通過在描繪形狀100的輪廓的多邊形的拐角a、d、g、j、m、p、s和v處放置定義線段的邊的節(jié)點a、b、c...x來分割掩模形狀100，并且該掩模形狀包括在拐角之間的一些中間點。線段的長度和中間點的間隔通常由例如掩模制作能力限制和MBOPC在晶片上精確再現(xiàn)掩模形狀的能力的標準所確定。為說明的目的，只說明了掩模形狀100的分割，但鄰近形狀110可以以同樣的方式進行分割。
第二種分割由其鄰近形狀作用到掩模形狀。這種類型的分割方案使用了局部間隔和寬度的依賴。圖1B說明了這種分割的示例。例如，掩模形狀200通過鄰近掩膜形狀210的臨近得以分割，其中該鄰近形狀210的部分被放置的距離D小于預定的閾值間隔距離。該閾值間隔規(guī)則導致了在受影響的掩模形狀200上創(chuàng)建了節(jié)點aa、bb、cc、dd、ee和ff，其定義連接這些節(jié)點的線段。圖1A和圖1B中說明的兩種類型分段此后將稱為主分段或分段，并且相關(guān)的節(jié)點稱為分段點。
除了上面圖1A和圖1B兩者中所示的分段點外，一些MBOPC方法提倡在每個主分段周圍附加次分段。次分段為OPC較平滑收斂作準備。參考圖2A，掩模邊集220被主節(jié)點A、B、C、D、E、F、G所分段。得到的模擬的晶片形狀或圖像221是重疊在掩模形狀220上的彎曲的線。可以看出，例如拐角C以及邊AB和EDC的期望的晶片形狀的圖形沒有很好地由模擬的圖像221再現(xiàn)。在圖2B中，再次示出了有同樣的A到G的主節(jié)點的掩模邊220。此外，在主節(jié)點A、B、C、D、E和F周圍分別插入了次節(jié)點集B′、B"、C′、C"、D′、D"、E′、E"、F′和F"，創(chuàng)建了由主節(jié)點和次節(jié)點所定義的較細的分段。次節(jié)點的出現(xiàn)與只使用主節(jié)點相比可以改進模擬的精確度。得到的模擬的晶片形狀222比基于圖2A主節(jié)點分段的模擬的晶片形狀221更精密地匹配于掩模形狀220。圖3說明根據(jù)常規(guī)OPC分段方案的分段過程流程圖。首先，例如通過提供形狀列表來提供掩模布局(方框301)。然后對列表中每個形狀(方框302)執(zhí)行如下的步驟根據(jù)預定的間隔和寬度規(guī)則，為給定的形狀i確定有效的相互作用區(qū)域(以下簡稱為ROI)(方框303)。該有效的ROI是由在一定距離上的邊界圍繞的區(qū)域，在此距離之外的、布局中的邊界之外的圖形對成像特定圖形的光學過程沒有實質(zhì)性的影響。另一種表述方式是，事實上，ROI邊界外的圖形對成像在其周圍形成了ROI的特定圖形的光學過程的影響無關(guān)緊要。用來定義光學工藝條件的光學因素可以包括，但不局限于，照明光波長、數(shù)值孔徑、光刻膠特性等。對于給定的形狀i，根據(jù)形狀自身的多邊形拐角來對形狀進行分段(方框304)。
接著，根據(jù)ROI內(nèi)的其它形狀的邊緣的臨近來對形狀i進行分段(方框305)。根據(jù)方框304、305形成的分段稱為主分段。
然后，在所有的圖形被分段后，根據(jù)另一組規(guī)則整理分段(方框306)。整理分段的規(guī)則通常由掩模制造的能力和工藝的限制來確定。這樣的規(guī)則的示例包括，但不局限于，最小圖形尺寸、最小線寬、最小間隔等。
邊印制的位置受到其它鄰近掩模多邊形的影響。大干擾的圖形比小的圖形有更強的影響，但該相互作用一般會隨分離的增加而減弱。部分連貫圖像的形成是非線性過程，因此相互作用的減弱不是距離的固定函數(shù)。然而，一般的縮放行為是所謂的透鏡脈沖響應(yīng)函數(shù)，該函數(shù)也稱為艾里(Airy)函數(shù)。數(shù)學上，艾里函數(shù)是[J1(2π·s)/(π·s)]2，其中J1是一階貝塞爾函數(shù)。s是在圖像平面內(nèi)的無量綱的位置坐標，被定義為s＝x·NA/λ，其中x是以常規(guī)長度單位測量的位置，NA是光刻系統(tǒng)的有效數(shù)值孔徑，λ是照明光波長。
盡管圖形之間的相互作用是非線性的，但可以說圖形之間的相互作用將會，如圖4所示的繪圖所說明的，以艾里函數(shù)包絡(luò)與該包絡(luò)的平方根之間的速率隨分離而減小，其中該包絡(luò)以分離距離d的立方下降，而該包絡(luò)的平方根約以d3/2下降。前者情況對應(yīng)于完全不連貫的相互作用12，而后者情況對應(yīng)于完全連貫的相互作用14。圖4中的曲線假定了理想透鏡，較長距離尺度上附加的微弱相互作用也可能存在，例如由于透鏡的閃耀。繪制的曲線是標準化的使得圖形相互作用和干擾的面積是不考慮的。然而，由于相互作用隨著圖形間分離的增加而下降，所以忽略與被分段的形狀或圖形距離稍遠的、在相互作用和干擾的形狀中的細微細節(jié)的影響變得可以接受。
掩模圖形中的任何細節(jié)將在分段過程期間相互作用以在鄰近掩模形狀上創(chuàng)建相應(yīng)的分割，這在圖1B中是清楚的。那些分段中的某一些可以是由與主形狀相當遠的鄰近形狀的變化所創(chuàng)建的。在圖4中可見，那些遠處的分段中的某一些可以對所得的晶片圖像模擬有非常小的影響。這樣的分割將最終對MBOPC的無效性作貢獻。如圖4所示，鄰近形狀的位置越遠，對特定掩模形狀的臨近效應(yīng)就越小，這一事實加劇了無效性。然而在常規(guī)的OPC方法中，不存在利用上述事實的任何過程。
隨著技術(shù)的發(fā)展由于鄰近形狀的許多分段的影響變得更為惡劣，這是因為諸如下述因素1.隨著光刻工藝正深入次波長技術(shù)以及同樣的波長用于越來越小的技術(shù)，在受因子λ/NA控制的相互作用區(qū)域(ROI)內(nèi)鄰近形狀的數(shù)量變得越來越大。
2.對于例如以臨界水平交替PSM掩模的兩次曝光掩模技術(shù)的應(yīng)用，光閃耀的影響可以充當重要的角色。這就意味著MBOPC軟件工具將需要考慮比以前的技術(shù)中更大的ROI。因此，現(xiàn)在將在ROI內(nèi)放置比以前更多的鄰近形狀。
3.許多RET需要更連貫的照明，這就擴展了ROI。結(jié)果是更多的形狀與給定的感興趣的形狀有光刻相互作用，這就導致了對給定形狀的分段的增加。
因此，希望提供得一種用于以能改善MBOPC效率的方式分割掩模形狀的方法，同時不降低OPC的質(zhì)量或效力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種方法，一種能夠執(zhí)行該方法的程序產(chǎn)品以及計算機系統(tǒng)，其中執(zhí)行的OPC能有效地利用內(nèi)存以及計算性能，同時還能提供精確的OPC。
因此，提供執(zhí)行光學臨近修正(OPC)的方法，包括步驟識別具有需要分段的邊的感興趣的圖形；識別一個或多個不同于所述感興趣的圖形的有影響的圖形；平滑所述一個或多個有影響的圖形，以形成有平滑的邊的平滑的有影響的圖形，其中所述一個或多個有影響的圖形的平滑的量，根據(jù)所述有影響的圖形對所述感興趣的圖形的成像過程的影響而變化；根據(jù)所述平滑的有影響的圖形的平滑的邊，定義所述感興趣的圖形的邊的分段；以及執(zhí)行所述感興趣的圖形的OPC，其中所述OPC包括調(diào)整所述感興趣的圖形的邊的所述分段。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，在所述需要分段的感興趣的圖形周圍識別多個相互作用區(qū)域(ROI)，使得每個所述多個ROI至少包含所述一個或多個有影響的圖形的一部分；以及根據(jù)所述一個或多個有影響的圖形的所述至少一部分對所述感興趣的圖形的所述成像過程的影響的量，提供對應(yīng)于所述多個ROI的每一個的平滑參數(shù)；以及其中所述平滑是根據(jù)所述相應(yīng)的平滑參數(shù)，在所述多個ROI的每一個內(nèi)的所述一個或多個有影響的圖形的所述至少一部分的每一個上執(zhí)行的。
可以使用任何其它適當?shù)钠交椒▉磉M行平滑，例如曼哈頓平滑或在空間頻域內(nèi)的，例如使用低通濾波的平滑。
在曼哈頓濾波的情況下，為ROI的每一個分配的平滑參數(shù)優(yōu)選地包括用于平滑的正交對象的尺寸，其中每個所述平滑參數(shù)的值根據(jù)在相應(yīng)的ROI的每一個內(nèi)的圖形或圖形的部分的影響的減小而增加。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，可以在感興趣的圖形的周圍識別原ROI，然后，可以將原ROI分成圍繞感興趣的圖形的更小的子ROI。這些子ROI可以相對于彼此基本上是同心的。


參考下列附圖，從以下對本發(fā)明的詳細描述中，可以更容易地明了和更好地理解這些以及其它的特征、方面和優(yōu)勢，在附圖中相同的標示表示相同的元件，而元件不一定是按照比例繪制的。
圖1A說明需要分段的感興趣的形狀。
圖1B說明需要分段的感興趣的形狀以及鄰近形狀對感興趣的形狀的分段的影響。
圖2A和圖2B說明次分段的使用。
圖3說明根據(jù)本發(fā)明的方法的實施方式的流程圖。
圖4說明作為形狀分離的函數(shù)的相對光學影響曲線。
圖5A說明包含需要分段的形狀和鄰近形狀的常規(guī)的相互作用區(qū)域(ROI)。
圖5B說明基于鄰近形狀影響的常規(guī)的形狀分段。
圖6說明根據(jù)本發(fā)明的多個ROI。
圖7說明基于根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的平滑鄰近形狀的形狀分段。
圖8說明基于鄰近形狀影響的常規(guī)的形狀分段。
圖9說明基于根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的平滑鄰近形狀的形狀分段。
圖10說明根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的方法的流程圖。
圖11說明曼哈頓增長操作。
圖12說明曼哈頓收縮操作。
圖13說明收縮操作之后的增長操作。
圖14說明增長操作之后的收縮操作。
圖15說明執(zhí)行平滑的增長操作和收縮操作的順序。
圖16說明根據(jù)本發(fā)明一個實施方式的程序產(chǎn)品和計算機系統(tǒng)。
具體實施例方式
這里描述的本發(fā)明的實施方式的目的是提供一種方法和系統(tǒng)，通過這種方法和系統(tǒng)確定掩模形狀的分段或分割，使得有足夠的分段以允許可靠的光學臨近修正(OPC)，但是限制分段以使存貯器或計算需求最小化。因此，根據(jù)本發(fā)明的實施方式，從影響掩模形狀的給定邊的分段的鄰近掩模形狀中去掉不必要的變化。影響鄰近形狀離需要分段的邊越遠，需要考慮的將影響掩模形狀的有影響的形狀的變化的影響就越小。
本發(fā)明的優(yōu)勢是它能夠減小掩模形狀的不必要的分割數(shù)量，這將會比現(xiàn)有技術(shù)提高MBOPC迭代的效率。減少的線段數(shù)量也將會改進MBOPC的內(nèi)存利用以及也導致對OPC的分級處理的改善。
根據(jù)本發(fā)明，對于需要分段的掩模形狀的給定邊，通過鄰近形狀與目標邊的臨近程度，也就是說，根據(jù)它的相互作用區(qū)域(ROI)，來識別和分類將影響分段的每個鄰近形狀。鄰近形狀距離越遠，其形狀的細節(jié)對主形狀的成像處理的影響就越小。因此，取消較遠的形狀的不必要的細節(jié)是有意義的。這樣，根據(jù)本發(fā)明，在需要分段的邊的周圍定義多個ROI，并且當鄰近形狀位于給定的ROI外時，對有影響的鄰近形狀進行平滑以進一步取消細節(jié)。因此，根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，平滑鄰近形狀的量依賴于它與主形狀的臨近程度。
常規(guī)地，模擬要考慮保留在單一相互作用區(qū)域(ROI)內(nèi)的鄰近形狀。圖5A中示出了單一ROI 410的示例。在ROI 410內(nèi)的所有鄰近形狀401、402、403、404被用于計算主形狀400的分段，這個主形狀400就是需要分段的感興趣的形狀。
圖5B中示出了在現(xiàn)有技術(shù)情況下主形狀400的分段。鄰近形狀401、402、403和404的每個拐角或頂點都影響主形狀400的邊的分段，如箭頭501所示。在這個示例中，由鄰近形狀401、402、403和404的主形狀400的主分段數(shù)是32個。為了提高精度，如果每個主分段伴有至少5個次分段，那么線段或分段總數(shù)將為160個。根據(jù)本發(fā)明，沒有像原先那樣考慮鄰近形狀，而是在考慮鄰近形狀對主形狀分段的影響之前對某些鄰近形狀進行平滑。為了進一步實施平滑，用于模擬的單個相互作用區(qū)(ROI)被分割成幾個不連續(xù)的子ROI。子ROI的使用僅僅是為了說明的目的，普通技術(shù)人員將理解可以在感興趣的形狀周圍定義多個ROI，而不必先定義主ROI或者不必在單個ROI之外形成子ROI。因此，ROI可以被定義為毗鄰的或非毗鄰的，并且該實施方式不試圖作為限制性示例。參考圖6，由外邊界616包圍的單個模擬ROI 610被分成4個子區(qū)域或子ROI，即R1、R2、R3和R4。在此實施方式中，分隔子ROI區(qū)域使得原ROI 610，例如由包圍主形狀600的正方形邊界，分成對等的部分，并且這些子ROI區(qū)域與其它的子ROI近似為同心。例如，子ROI區(qū)域R1由內(nèi)部邊界線610所界定，而子ROI R2由內(nèi)部邊界線610和下一邊界線612所界定。類似地，子ROI R3由子ROI R2的外邊界612和下一個遠處的邊界線614所界定，而子ROI R4由邊界線614和最初的ROI 610的外邊界616所界定。然而，只要適合于接近光學影響的有效區(qū)域，就可以利用其它的例如圓形或八邊形的形狀來形成ROI，并且，利用某些合理的標準，可以通過把最初的ROI分成不相等的部分來形成圍繞主形狀的子ROI。在區(qū)域R1內(nèi)的鄰近形狀601是與主形狀600離的最近的一個。因此，根據(jù)本實施方式，在最近的子ROI R1內(nèi)沒有或者最小限度地對形狀實施平滑。在當前的實施方式中假設(shè)所有變化對于與主形狀最近的形狀都是重要的。然而，在某些設(shè)計中，掩模形狀可以包括在任何距離處對光刻都是無關(guān)緊要的次分辨率圖形，這些次分辨率圖形在應(yīng)用基于模型的OPC之前在設(shè)計中可以已被預先平滑?？梢酝ㄟ^任何合適的方法來進行平滑，例如以類似于閔可夫斯基和差(Minkowski′s Sum andDifference)的方式進行連續(xù)的增長操作和收縮操作，下面作進一步的描述，在共同未決和共同轉(zhuǎn)讓的美國專利申請中有所討論，該專利申請于2004年1月12日提交，序列號為10/707,778，在此通過參考引入其內(nèi)容。可以使用其它適當?shù)钠交椒?，例如在空間頻域內(nèi)的低通濾波，并且可以包括目前對本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的或在將來開發(fā)的任何平滑方法。
通過沿對象的外部邊界滾動半徑為r的球，并取原始對象以及由滾動的球掃過的面積的點集的并集(union)，定義在二維歐幾里得定義域中的對象的閔可夫斯基和。通過沿對象的內(nèi)部邊界滾動半徑為r的球，并取原始對象與由滾動的球掃過的面積的點集的差，定義在二維歐幾里得定義域中的對象的閔可夫斯基差。在此實施方式中，由于制造的目的，掩模形狀具有一般基本上在特性上正交的邊，優(yōu)選地利用類似于閔可夫斯基和與差平滑的連續(xù)的收縮操作和增長操作執(zhí)行平滑，其中利用正交平滑對象進行收縮和增長平滑操作，該正交平滑的對象具有與對象的基本為正交的邊平行的邊。
例如，參考圖11，說明具有外部邊界1101的掩模形狀1100正在經(jīng)歷增長操作，其中正方形對象900具有預先定義長度為α的邊，這個長度α可以認為是具有長度尺寸的預先確定的收縮或增長參數(shù)α。類似地，在圖12中，具有外部邊界1201的掩模形狀1200正在利用對象900經(jīng)歷收縮操作，在此示例中，對象900是正方形并且具有收縮參數(shù)α。通過滑動具有平滑尺寸α的正交對象900并且取原始對象1100以及由正交對象900掃過的面積的點集的并集，并從閔可夫斯基和操作類推，執(zhí)行在圖11中說明的增長操作，以形成具有外部邊界1102的點集的并集。這在下文中稱為曼哈頓和1102。以相似的方式，也是通過滑動具有平滑參數(shù)α的正交對象900并且取原始對象1200以及由正交對象900掃過的面積的點集的差，來執(zhí)行在圖12中說明的收縮操作，以形成具有外部邊界1202的點集的并集。這在下文中稱為曼哈頓差1202。在正交平滑對象是正方形的情況下，在這種平滑操作之后的輸出圖形將不會再有任何長度小于α的邊。更一般地，可以使用任何平滑算法，只要平滑后的形狀沒有任何小于增長參數(shù)或收縮參數(shù)α的圖形。優(yōu)選地基于光刻參數(shù)值確定α的值，這些參數(shù)是例如數(shù)值孔徑NA，照明光波長λ和有影響的形狀與需要分段的主形狀的距離。
增長操作之后進行收縮操作可以消除形狀中小的凹口，如圖13所示。形狀260中最初存在凹口261，在增長操作265后形成得到的形狀260′，而凹口261不再存在，但形狀260′比原形狀260要大。執(zhí)行收縮操作267，得到了平滑過的形狀260"，形狀260"大體上與原形狀260有相同的大小，但已消除了凹口261。
參考圖14，收縮操作之后進行增長操作可以消除形狀中小的突起。形狀270最初包含突起272，在收縮操作275之后，得到了比原形狀270要小的形狀270′，但突起272已不存在。在接下來的增長操作277之后，得到的形狀270"大體上與原形狀270有相同的大小，但突起272已被消除。
因此，為了消除凹口和突起兩者，優(yōu)選地應(yīng)用增長操作和收縮操作兩者的序列，例如圖15所示?？梢詰?yīng)用增長操作和收縮操作的各種組合來達到想要的平滑，這對本領(lǐng)域技術(shù)人員是可以理解的。任何這類曼哈頓增長操作和收縮操作的組合此后稱為曼哈頓平滑。
在本發(fā)明的實施方式中，每個子ROI被指定了不同的平滑參數(shù)。例如，子ROI區(qū)R1、R2、R3和R4被指定的平滑參數(shù)分別為α1、α2、α3和α4，其中0≤α1＜α2＜α3＜α4。
關(guān)于圖6中的子ROI區(qū)域，子ROI R1內(nèi)的形狀既可以完全不做任何平滑，也可以用小的平滑參數(shù)α1來進行平滑。子ROI R2內(nèi)的鄰近形狀602與主形狀600離得稍遠，并因此在子ROI R2內(nèi)的形狀用于對主形狀600進行分段之前，該子ROI R2內(nèi)的形狀要利用平滑參數(shù)α2進行平滑。在形狀603和604被用于主形狀600的分段之前，子ROI R3內(nèi)的形狀603利用平滑參數(shù)α3進行了平滑，子ROI R4內(nèi)的形狀604利用平滑參數(shù)α4進行了平滑。
圖7中說明了得到的形狀和分段。在這個示例中，最近的子ROIR1外側(cè)的鄰近形狀602、603和604具有某種程度的平滑，這分別導致了平滑過的形狀602′、603′和604′。平滑減少了有影響的細節(jié)或相互作用的邊的數(shù)量，于是如虛線箭頭501所指的那樣，在此情況下，僅有20個主分段導致僅有100個次分段。應(yīng)該注意平滑過的鄰近形狀602′、603′和604′沒有代替原形狀602、603和604。相反，形成平滑過的形狀602′、603′和604′是為了改進分段，并且除了原形狀602、603和604之外，這些鄰近形狀可以存儲在例如計算機內(nèi)存或磁盤存儲器中。
盡管本發(fā)明的以上實施方式已示范了小的鄰近形狀，但是發(fā)明的方法可以應(yīng)用于橫跨主ROI的幾個子區(qū)域或子ROI的鄰近形狀。參考圖8，具有外部邊界819的主ROI 810包含主形狀810和鄰近形狀801、802和803。圖9說明主ROI 810分成子ROI R1 811(具有外邊界816)、R2 812(具有內(nèi)邊界816和外邊界817)、R3 813(具有內(nèi)邊界817和外邊界818)以及R4 814(具有內(nèi)邊界818和外邊界819)。在這種情況下，一個鄰近形狀802橫跨了子ROI R2(812)和R3(813)。在本發(fā)明的該實施方式中，根據(jù)橫過子ROI邊界的形狀802的部分來分隔鄰近形狀802。在此情況下，鄰近形狀802有在子ROI R3(813)內(nèi)的部分802a以及在子ROI R2(812)內(nèi)的部分802b，并且這兩部分802a、802b由與子ROI R3(813)和R2(812)之間的邊界對應(yīng)的、在形狀802上的線805分隔。然后鄰近形狀802的每個子部分根據(jù)其所屬的子區(qū)域而被平滑，在此示例中，在子ROI R3(813)內(nèi)的802a部分根據(jù)適用于子ROI R3的平滑而被平滑，而在子ROI R2(812)內(nèi)的802b部分根據(jù)適用于子ROI R2的平滑而被平滑。
圖10說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式的流程圖。首先提供具有M個形狀的列表的掩模布局(方框1001)。然后考慮每個子ROI的平滑的量和程度，例如將平滑程度n＝1，2，...，N應(yīng)用于這些M個形狀中的每一個，其中N是圍繞每個需要分段的形狀的子ROI的總數(shù)(方框1002)。平滑的第n個程度是指隨著n的增加或隨著子ROI內(nèi)的圖形對感興趣的形狀m的光學處理的有效影響的減小而增加的任何的平滑量，例如隨著鄰近形狀與主形狀的距離增加而增加。作為與主形狀距離的函數(shù)的鄰近形狀的平滑的增加量可以是任何適當?shù)牧浚恍枰抻诠潭ǖ囊蜃踊蚱交膯握{(diào)增加。N的優(yōu)選值是4，但依賴于形狀影響與計算時間之間的折衷，其它值也可以是適合的。例如，當曼哈頓收縮操作和增長操作用于平滑時，子ROI區(qū)域R1、R2、R3和R4被指派的平滑參數(shù)分別為α1、α2、α3和α4，其中0≤α1＜α2＜α3＜α4。優(yōu)選地，對于程度n＝1沒有應(yīng)用平滑量。那么優(yōu)選地存儲根據(jù)與子ROI對應(yīng)的平滑“程度”平滑的形狀?？蛇x擇地，平滑的形狀可以在必需的分段過程中被確定。
對所有的形狀，m＝1，...，M(方框1003)，圍繞第m個形狀的主ROI被分成N個子ROI(方框1004)。N的優(yōu)選值是4。然后，根據(jù)主形狀自身的幾何形狀執(zhí)行主形狀的最初分段(方框1005)。接著在每一第n個子ROI內(nèi)確定哪個鄰近形狀或鄰近形狀部分在第n個子ROI內(nèi)。然后，如果所存儲的平滑過的形狀是可利用或被確定是需要的，其中該形狀是使用已經(jīng)由與第n個子ROI對應(yīng)的第n個平滑量平滑過的，則根據(jù)第n個平滑過的形狀，對主形狀進行分段(方框1006)。然后，對下一第m個主形狀重復方框1004到方框1006的步驟，直到所有形狀都被分段(方框1007)。
最后，根據(jù)掩模制造能力和處理規(guī)則，對分段做必要的整理(方框1008)。
本發(fā)明可能有許多可選擇的實施方式。首先，不必僅僅應(yīng)用幾何技術(shù)例如收縮操作和增長操作消除主掩模形狀的小的圖形。相反，數(shù)學技術(shù)可以被用來消除例如凹口和突起的小的圖形。這樣的技術(shù)可以是基于規(guī)則的，例如使得形狀平滑工具在當沿著掩模形狀的邊進行時，該工具辨認并消除這種小的圖形?？蛇x擇地，平滑可以在空間頻域內(nèi)例如，通過應(yīng)用低通濾波來執(zhí)行。
參考圖16，根據(jù)本發(fā)明的方法可以適應(yīng)于在程序產(chǎn)品1603中執(zhí)行，該程序產(chǎn)品可以存在于計算機可讀介質(zhì)1603上，該介質(zhì)包含用于使計算機或計算機系統(tǒng)1600執(zhí)行該方法的指令，或者用于匯編使計算機1600執(zhí)行該方法的指令的指令。這些指令可以包含目前已知的或?qū)黹_發(fā)的、計算機可以響應(yīng)的任何形式，該形式包括但不局限于，數(shù)字和/或模擬機器語言、匯編語言或解釋語言、操作系統(tǒng)指令等。用于在程序產(chǎn)品1603中執(zhí)行該方法的指令可以被用來匯編來自于其它介質(zhì)中的其它可利用的指令，這些介質(zhì)是例如存儲器1602，內(nèi)存1604或在通信連接1609上可利用的其它計算機系統(tǒng)1610。圖16說明計算機系統(tǒng)1600，當這個系統(tǒng)配備了用于執(zhí)行本方法的計算機可讀的指令時，就可以適應(yīng)于執(zhí)行本發(fā)明的方法。計算機系統(tǒng)1600包含CPU(中央處理單元)1601、存儲設(shè)備或介質(zhì)1602、內(nèi)存1604，并且可以包括其它的輸入/輸出(I/O)設(shè)備1605或顯示設(shè)備1606，并且可以額外地包括其它的計算機系統(tǒng)1610或設(shè)備1603，這種額外的系統(tǒng)或設(shè)備可以通過通信鏈接(包括但不局限于無線連接)1609，1607來連接，這些鏈接可以提供部分的指令和/或可以協(xié)作執(zhí)行指令。
雖然在此根據(jù)某些優(yōu)選的實施方式對本發(fā)明進行了描述，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解可以做出許多修改和提高，而并不背離本發(fā)明的真正的范圍和實質(zhì)，該范圍和實質(zhì)只是由下面所附的權(quán)利要求來限定的。
權(quán)利要求
1.一種用于執(zhí)行光學臨近修正(OPC)的方法，包括以下步驟識別具有需要分段的邊的感興趣的圖形；識別一個或多個不同于所述感興趣的圖形的有影響的圖形；平滑所述一個或多個有影響的圖形，以形成有平滑的邊的平滑的有影響的圖形，其中所述一個或多個有影響的圖形的平滑的量，根據(jù)所述有影響的圖形對所述感興趣的圖形的成像過程的影響而變化；根據(jù)所述平滑的有影響的圖形的平滑的邊，限定所述感興趣的圖形的邊的分段；以及執(zhí)行所述感興趣的圖形的OPC，其中所述OPC包括調(diào)整所述感興趣的圖形的邊的所述分段。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述識別所述一個或多個有影響的圖形進一步包括在所述感興趣的圖形周圍識別多個相互作用區(qū)域(ROI)，使得每個所述多個ROI至少包含所述一個或多個有影響的圖形的一部分；以及根據(jù)所述一個或多個有影響的圖形的所述至少一部分對所述感興趣的圖形的所述成像過程的影響的量，提供對應(yīng)于所述多個ROI的每一個的平滑參數(shù)；以及其中所述平滑是根據(jù)所述相應(yīng)的平滑參數(shù)，在所述多個ROI的每一個內(nèi)的所述一個或多個有影響的圖形的所述至少一部分的每一個上執(zhí)行的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中利用曼哈頓平滑執(zhí)行所述平滑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中利用在空間頻域內(nèi)的低通濾波執(zhí)行所述平滑。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中利用曼哈頓平滑執(zhí)行所述平滑，該曼哈頓平滑包括使用具有與所述ROI的每一個對應(yīng)的平滑尺寸的正交對象，其中所述平滑參數(shù)的每一個的值根據(jù)所述一個或多個有影響的圖形的所述至少一部分在所述相應(yīng)的ROI內(nèi)的影響的減小而增加。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述識別多個ROI進一步包括識別圍繞所述感興趣的圖形的主區(qū)域的邊界，使得位于所述主區(qū)域邊界之外的圖形對該感興趣的圖形的該成像過程的影響基本上微乎其微；以及將所述主區(qū)域分成圍繞所述感興趣的圖形的子ROI。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述子ROI相對于彼此基本上是同心的。
8.一種包括了計算機可讀介質(zhì)的程序產(chǎn)品，該介質(zhì)包含的指令能夠使計算機執(zhí)行權(quán)利要求1-7中的任何一個的方法步驟。
9.一種包括了計算機可讀介質(zhì)的計算機系統(tǒng)，該介質(zhì)包含的指令能夠使所述計算機系統(tǒng)執(zhí)行權(quán)利要求1-7中的任何一個的方法步驟。
全文摘要
本發(fā)明公開了用于執(zhí)行光學臨近修正(OPC)的方法、程序產(chǎn)品和系統(tǒng)，其中基于鄰近形狀對需要分段的形狀的成像過程的有效影響，對掩模形狀進行分段。在確定鄰近形狀對感興趣的形狀的分段的影響之前，對鄰近形狀進行平滑，其中鄰近形狀的平滑量隨著鄰近形狀對感興趣的形狀的成像過程影響的減小而增加。優(yōu)選的實施方式包括在感興趣的形狀周圍使用多個相互作用區(qū)域(ROI)，并為給定的相互作用區(qū)域分配平滑參數(shù)，該參數(shù)隨著相互作用區(qū)域內(nèi)的形狀對需要分段的形狀的影響的減小而增加。本發(fā)明提供了精確而有效的光學臨近修正。
文檔編號H01L21/027GK1869819SQ20061007302
公開日2006年11月29日 申請日期2006年4月10日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月26日
發(fā)明者馬哈拉·馬克赫吉, 斯科特·M·曼斯菲爾德, 艾倫·E·羅森布拉特, 卡費·萊 申請人:國際商業(yè)機器公司