專利名稱：具有二維對準(zhǔn)測量裝置的光刻設(shè)備和二維對準(zhǔn)測量方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有二維對準(zhǔn)測量裝置的光刻設(shè)備和二維對準(zhǔn)測量方法。
背景技術(shù)：
光刻設(shè)備是將所需圖案加在襯底，通常是加在襯底的目標(biāo)部分上的設(shè)備。光刻設(shè)備可以用在例如集成電路(IC)的制造。在所述例子中，又稱作為掩模或掩模原版的圖案形成裝置可用于產(chǎn)生在IC的一個單層上的電路圖案。所述圖案可以傳遞到襯底(例如硅晶片)的目標(biāo)部分(例如包含一個或幾個管芯)。圖案的傳遞通常借助于在設(shè)置于襯底上的輻射敏感材料(光刻膠)層上成像。一般來說，襯底含有若干連續(xù)的圖案化的相鄰目標(biāo)部分。已知的光刻設(shè)備有稱之為步進型和掃描型的，在步進型中通過一次將整個圖案曝光在目標(biāo)部分，從而使各目標(biāo)部分受到照射；在掃描型中通過輻射束在給定方向(“掃描”方向)掃描圖案，同時與所述方向平行或反平行地同步掃描襯底，從而使各目標(biāo)部分受到照射。也能夠通過將圖案印刷在襯底上來把圖案從圖案形成裝置傳遞到襯底上。
K.Ota，e.a.，《用于晶片分步器的新的對準(zhǔn)傳感器》，SPIE，Vol.1463，Optical/Laser Microlithography IV(1991)，p.304-314，和N.R.Farrar，e.a.，《Nikon晶片分步器上通過透鏡/離軸的激光對準(zhǔn)系統(tǒng)和對準(zhǔn)算法的性能》，SPIE，Vol，1673，Integrated CircuitMetrology，Inspection，and Process Control，VI(1992)，P.369-380，公開了一種激光分步對準(zhǔn)(LSA)裝置。將參考圖2-5詳細(xì)討論這種先有技術(shù)的對準(zhǔn)測量裝置。在這樣一種激光分步對準(zhǔn)裝置中使用標(biāo)記，包括排列成行和列的多個方形結(jié)構(gòu)。激光器在一列中的各方形結(jié)構(gòu)上產(chǎn)生細(xì)長的對準(zhǔn)測量斑點。入射的對準(zhǔn)輻射束被標(biāo)記衍射，產(chǎn)生許多衍射級(diffraction orders)，并反向發(fā)送到檢測器。在到達(dá)檢測器前，第零個衍射級被阻擋。檢測器為處理器產(chǎn)生檢測器信號，確定被斑點照射的標(biāo)記列的位置。通過連續(xù)地把斑點射向所有列并用這種方法測量所有列的位置，就可以把測量的列的位置取平均，確定標(biāo)記的位置。
在這種先有技術(shù)的設(shè)計中，使用這種標(biāo)記測量第一方向上的標(biāo)記位置。為了測量第二方向，例如與第一方向垂直的方向上的標(biāo)記位置，還要提供在第二方向上被掃描的又一種標(biāo)記。一般地說，在襯底的劃線道(scribelanes)上將設(shè)置在X方向延伸的標(biāo)記，和在y方向上延伸的標(biāo)記。這樣，為了執(zhí)行在X方向和Y方向上的對準(zhǔn)測量，應(yīng)當(dāng)這樣移動X劃線道和Y劃線道上的標(biāo)記，以便可以通過使用的對準(zhǔn)測量裝置繼續(xù)地測量它們。這種移動要花費時間。而且，劃線道中的這些標(biāo)記要占用昂貴的空間，所述劃線道也用于各種電子測試電路。

發(fā)明內(nèi)容
需要提供設(shè)置成執(zhí)行改進的對準(zhǔn)測量的光刻設(shè)備。
為此目的，在第一實施例中本發(fā)明提供一種光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備包括對準(zhǔn)裝置，它包括光源、光學(xué)系統(tǒng)和檢測器，所述光源設(shè)置成產(chǎn)生光束；所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置成接收光束，產(chǎn)生帶有對準(zhǔn)輻射束斑點的對準(zhǔn)輻射束，所述輻射束斑點具有在第一方向延伸的第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分和在與所述第一方向垂直的第二方向延伸的第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分，并把所述對準(zhǔn)輻射束射向?qū)ο笊现辽僖粋€標(biāo)記，所述至少一個標(biāo)記具有多個排列成行和列的結(jié)構(gòu)，接收從所述至少一個標(biāo)記返回的對準(zhǔn)輻射并將所述對準(zhǔn)輻射發(fā)送給所述檢測器；所述檢測器設(shè)置成根據(jù)所述對準(zhǔn)輻射產(chǎn)生對準(zhǔn)信號；執(zhí)行器，用于在所述對準(zhǔn)輻射束和所述對象之間產(chǎn)生相對移動；處理器，它連接到所述執(zhí)行器和所述檢測器，并設(shè)置成控制所述執(zhí)行器使所述至少一個標(biāo)記的所述列結(jié)構(gòu)和所述至少一個標(biāo)記的所述行結(jié)構(gòu)分別接收所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分和所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分；從所述檢測器接收所述對準(zhǔn)信號；以及根據(jù)所述對準(zhǔn)信號計算所述至少一個標(biāo)記的二維位置。
在一個實施例中，本發(fā)明涉及光源。
在另一個實施例中，本發(fā)明涉及具有標(biāo)記圖案的掩模原版。
在再一個實施例中，本發(fā)明涉及具有對準(zhǔn)標(biāo)記的對象。
在再一個實施例中，本發(fā)明涉及阻擋裝置。
此外，本發(fā)明提供一種對準(zhǔn)測量方法。
在另一個實施例中，本發(fā)明涉及計算機程序產(chǎn)品。
在再一個實施例中，本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)載波。


現(xiàn)在，將參考附圖用例子說明本發(fā)明的實施例，附圖中對應(yīng)的符號表示對應(yīng)的另件，附圖中圖1描繪本發(fā)明實施例的光刻設(shè)備；圖2描繪激光分步對準(zhǔn)裝置的原理圖；圖3示出可用于圖2所示的激光分步對準(zhǔn)裝置的標(biāo)記；圖4示出由圖2的對準(zhǔn)裝置中的標(biāo)記發(fā)送的對準(zhǔn)輻射和用于通過一部分輻射的薄板的例子；圖5示出接收圖4中所示的對準(zhǔn)輻射的檢測器的輸出信號；圖6示出對準(zhǔn)輻射測量斑點的原理性實例，所述對準(zhǔn)輻射測量斑點可用于在單一對準(zhǔn)標(biāo)記上執(zhí)行二維對準(zhǔn)測量；圖7示出阻擋裝置；圖8a和8b分別示出一維的粗略標(biāo)記和二維的粗略標(biāo)記的例子；圖9示出具有標(biāo)記圖案的掩模原版；圖10和11示出用于阻擋衍射圖案的衍射級的可供選擇的阻擋裝置。
具體實施例方式
圖1示意地描繪根據(jù)本發(fā)明一個實施例的光刻設(shè)備。所述設(shè)備包括-照射系統(tǒng)(照射器)IL，它設(shè)置成調(diào)整輻射束B(例如，紫外輻射)。
-支承結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT，它支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA，并且連接到設(shè)置成根據(jù)某些參數(shù)精確定位圖案形成裝置的第一定位器PM；-襯底臺(例如晶片臺)WT，它支撐襯底(例如，涂有光刻膠的晶片)W并連接到設(shè)置成根據(jù)某些參數(shù)精確定位襯底的第二定位器PW；以及-投射系統(tǒng)(例如折射式投射透鏡系統(tǒng))PS，它設(shè)置成通過圖案形成裝置MA把傳遞給輻射束B的圖案投射到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包括一個或多個管芯)。
照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學(xué)部件，例如用于定向、成形或控制輻射的折射的、反射的、磁的、電磁的、靜電的或其它類型的光學(xué)部件，或它們的任意組合。
所述支承結(jié)構(gòu)支撐，即承受圖案形成裝置的重量。它根據(jù)圖案形成裝置的取向、光刻設(shè)備的設(shè)計及其它條件(例如是否在真空環(huán)境中支撐圖案形成裝置)用一種方法支撐圖案形成裝置。所述支承結(jié)構(gòu)可以使用機械、真空、靜電或其它夾持技術(shù)支撐圖案形成裝置。所述支承結(jié)構(gòu)可以是框架或工作臺，例如框架和工作臺可以是固定的或按需要移動。所述支承結(jié)構(gòu)可保證圖案形成裝置處于所需位置，例如相對于投射系統(tǒng)的位置。本文中使用的術(shù)語”掩模原版”或”掩?！倍伎梢暈榕c更廣義的術(shù)語”圖案形成裝置”同義。
本說明書使用的術(shù)語”圖案形成裝置”應(yīng)廣義地理解為指能用于把圖案賦予輻射束的橫截面的任何裝置，例如在襯底的目標(biāo)部分產(chǎn)生圖案的裝置。應(yīng)該指出，賦予輻射束的圖案不能與襯底上的目標(biāo)部分所需圖案精確對應(yīng)，例如，如果圖案包括相移特征或所謂的輔助特征。一般地說，賦予輻射束的圖案將與目標(biāo)部分產(chǎn)生的裝置中的具體功能層對應(yīng)，例如集成電路。
圖案形成裝置可以是透射型的或反射型的。圖案裝置的實例包括掩模、可編程鏡片陣列和可編程工CD面板。掩模在光刻中是眾所周知的，它包括掩模類型(例如二進制的)、供選擇的相移和漸變相移以及各種混合式掩模類型。可編程鏡片陣列的例子使用小鏡片陣列結(jié)構(gòu)，陣列的每一個鏡片都可以單獨傾斜，以便在不同方向反射入射的輻射束。所述傾斜鏡片傳遞由鏡片矩陣反射的輻射束中的圖案。
文中所用術(shù)語”投射系統(tǒng)”應(yīng)該廣義地理解為涵蓋各種類型投射系統(tǒng)，包括折射的、反射的、折反射式的、磁的、電磁的和靜電光學(xué)系統(tǒng)，或者它們的任意組合，只要適合于所使用的曝光輻射或例如浸沒液體的使用或者真空的使用等其他條件。本文中使用的術(shù)語”投射透鏡”可以視為與更廣義的術(shù)語”投射系統(tǒng)”同義。
如上所述，光刻設(shè)備可以是透射型的(例如，使用透射掩模)。此外，光刻設(shè)備可以是反射型的(例如，使用上述可編程鏡片陣列或使用反射掩模)。
光刻設(shè)備可以是具有兩個(雙級)或兩個以上襯底臺(和/或兩個或兩個以上掩模臺)的類型。在這種”多級”機器中，增加的工作臺可以并行地使用，即，在一個或多個臺上進行準(zhǔn)備步驟，同時在一個或多個其他臺上進行曝光。
光刻設(shè)備也可以是這種類型其中至少襯底的一部分被浸入具有較高折射率的液體(例如水)，以便將液體注入投射系統(tǒng)和襯底之間的空間。浸沒液體也可以應(yīng)用于光刻設(shè)備的其他部分，例如掩模和投射系統(tǒng)之間。眾所周知，浸沒技術(shù)在先有技術(shù)中已用于增大投射系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這里使用的術(shù)語”浸沒”并不意味著結(jié)構(gòu)，例如襯底必須浸沒在液體中，而僅僅意味著在曝光期間液體置于投射系統(tǒng)和襯底之間。
參考圖1，照射器IL接收輻射源SO的輻射束。輻射源和光刻設(shè)備可以是分離的實體，例如當(dāng)輻射源為準(zhǔn)分子激光器時。這種情況下，沒有把輻射源看作為構(gòu)成光刻設(shè)備的一部分，輻射束借助于輻射束投送系統(tǒng)BD從輻射源SO傳送到照射器IL，所述輻射束投射系統(tǒng)包括合適的引導(dǎo)鏡片和/或輻射束擴張器。在另一種情況下，輻射源可以是光刻設(shè)備整體的一部分，例如當(dāng)輻射源為水銀燈時。如果需要，可以把輻射源SO和照射器IL與輻射束投送系統(tǒng)BD一起稱作為輻射系統(tǒng)。
照射器IL可以包括用于調(diào)節(jié)輻射束強度的角分布的調(diào)節(jié)器AD。一般地說，至少可以調(diào)節(jié)照射器的孔徑平面上的強度分布的外部和/或內(nèi)部徑向范圍(通常分別稱作為外部σ和內(nèi)部σ)。此外照射器IL可以包括各種其他部件，例如積分器IN和聚光器CO。所述照射器可以用于調(diào)節(jié)輻射束，使其截面上具有所需的均勻性和強度分布。
輻射束B入射在安裝在支承結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺MT)上的圖案形成裝置(例如掩模MA)上并且由圖案形成裝置將其圖案化。穿過掩模MA后，輻射束B通過投射系統(tǒng)PS，后者將輻射束聚焦在襯底W的目標(biāo)部分C上。借助于第二定位器PW和位置傳感器IF(例如，干涉式裝置、線性編碼器和電容傳感器)，襯底臺WT可以精確移動，例如以便確定輻射束B的路徑中的各種目標(biāo)部分C的位置。類似地，第一定位器PM和其他定位傳感器(圖1中沒有顯式表示出來)可以用于精確地確定掩模MA相對于輻射束B的路徑的位置，例如從掩模庫機械檢索之后，或在掃描期間確定。一般地說，掩模臺MT的移動可以借助于長行程模塊(long-strok module)(粗略定位)和短行程模塊(精細(xì)定位)實現(xiàn)，所述長行程模塊和短行程模塊是構(gòu)成第一定位器PM的一部分。類似地，襯底臺WT的移動可以利用長行程模塊和短行程模塊實現(xiàn)，所述長行程模塊和短行程模塊是構(gòu)成第二定位器PW的一部分。在分步調(diào)節(jié)(例如與掃描相反)的情況下，掩模臺MT只可以連接到短行程執(zhí)機構(gòu)，或者可以是固定的。掩模MA和襯底W可以利用掩模對準(zhǔn)標(biāo)記M1、M2和襯底對準(zhǔn)標(biāo)記P1、P2對準(zhǔn)。如上所述，雖然襯底對準(zhǔn)標(biāo)記占據(jù)了專用的目標(biāo)部分，但是它們可以定位在目標(biāo)部分之間的區(qū)域(這可以看作為劃線道對準(zhǔn)標(biāo)記)。類似地，在掩模MA安裝有一個以上的管芯的情況下，掩模對準(zhǔn)標(biāo)記可以定位在這些管芯之間。
所描述的設(shè)備可以使用以下方式中的至少一種1.分步方式掩模臺MT和襯底臺WT都保持基本穩(wěn)定，這時把傳遞到輻射束的整個圖案一次投射到目標(biāo)部分C(即一次靜態(tài)曝光)。然后，襯底WT在X和/或Y方向移動，使不同的目標(biāo)部分C都能曝光。在分步方式中，曝光域的最大尺寸限制在一次靜態(tài)曝光成像的目標(biāo)部分C的尺寸。
2.掃描方式掩模臺MT和襯底臺WT同步掃描，同時把賦予輻射束的圖案投射到目標(biāo)部分C(即一次動態(tài)曝光)。襯底臺WT相對于掩模臺MT的速度和方向可以由投射系統(tǒng)PS的(縮小)放大和圖像反轉(zhuǎn)特性確定。在掃描方式中，曝光域的最大尺寸限制在一次動態(tài)曝光中目標(biāo)部分的寬度(在非掃描方向)，而掃描移動的長度確定目標(biāo)部分的高度(在掃描方向)。
3.其它方式支撐可編程圖案形成裝置的掩模臺MT保持基本穩(wěn)定，并在把賦予輻射束的圖案投射到目標(biāo)部分C時移動襯底臺WT或?qū)λ鼟呙?。在所述方式下，通常是使用脈沖輻射源，在每一次襯底臺WT移動后或在掃描期間連續(xù)的輻射脈沖之間可編程圖案形成裝置按需要更新。所述方式的操作能方便地應(yīng)用到使用可編程圖案形成裝置(例如上述類型的可編程鏡面陣列)的無掩模光刻技術(shù)中。
也可以使用上述方式的組合和/或變型或者完全不同的方式。
圖2示出激光分步對準(zhǔn)裝置的例子。圖2所示的裝置包括激光源2、鏡片10、半透明鏡片12、鏡片14、檢測器4和處理器6。圖2還示出投射系統(tǒng)PS、襯底W和襯底臺WT以及執(zhí)行器8。
使用時，激光源2產(chǎn)生射向鏡片10的激光束16。鏡片10將激光束16反射到第二鏡片12上。被鏡片12反射的激光束16射向鏡片14。被鏡片14反射的激光束16作為對準(zhǔn)光束18射向襯底W上的標(biāo)記M3(參見圖3)。由標(biāo)記M3接收的對準(zhǔn)光束18被標(biāo)記M3衍射為衍射輻射16’返回鏡片14。鏡片14將衍射輻射16’反射給鏡片12。鏡片12是半透明的，因而讓部分衍射輻射16’通過到達(dá)檢測器4。檢測器4接收一部分衍射輻射16’并產(chǎn)生用于處理器6的輸出信號。
圖2所示的執(zhí)行器8用來說明襯底臺WT可以移動到這樣的位置，使得標(biāo)記M3能夠與對準(zhǔn)光束18對準(zhǔn)。而且正如本專業(yè)的技術(shù)人員所知的，執(zhí)行器8設(shè)置成將襯底臺WT移動到可以由通過投射系統(tǒng)PS的曝光對襯底W曝光的位置。執(zhí)行器8由處理器8控制。自然，實際上將有多個執(zhí)行器將襯底臺WT在多個方向移動。應(yīng)當(dāng)指出，以連接到檢測器4和執(zhí)行器8的單一處理單元的形式示出處理器6。但是，如果需要，可以用不同處理器實現(xiàn)多個不同功能的處理器6。這些處理器不需要置于光刻設(shè)備中，而可以位于光刻設(shè)備外。
圖3示出標(biāo)記M3的例子，標(biāo)記M3可以位于襯底W上，用于對準(zhǔn)的目的。但是標(biāo)記M3也可以位于襯底臺WT上或被對準(zhǔn)的任何其它對象上。
圖3是標(biāo)記M3的頂視圖。所述標(biāo)記包括排列成行和列的多個方形結(jié)構(gòu)19。方形結(jié)構(gòu)19是由能與其周圍環(huán)境區(qū)別的材料或結(jié)構(gòu)組成的。方形結(jié)構(gòu)19可以例如是比標(biāo)記M3的其余表面較高或較低的部分?？梢允褂闷渌螤畲娣叫谓Y(jié)構(gòu)19。方形結(jié)構(gòu)19具有長度L1和寬度W1。列中相鄰的方形結(jié)構(gòu)具有間距P1，而一列中相鄰的方形結(jié)構(gòu)之間的中間距離用S1表示。行中相鄰的方形結(jié)構(gòu)19的間距為P2。
對準(zhǔn)光束18的寬度為Ws、長度為Ls的矩形斑點17。在所示的實施例中，對準(zhǔn)光束的斑點17的位置是固定的。標(biāo)記M3可以在圖3所示的掃描方向中與標(biāo)記M3的列垂直的方向上移動。通過在掃描方向上移動標(biāo)記M3，對準(zhǔn)光束的斑點17可以位于一列中的方形結(jié)構(gòu)19的上面。移動由執(zhí)行器8實現(xiàn)。
可以使用的測量例子有W1＝L1＝4μmP1＝8μmS1＝4μmP2＝20μmWs＝2μmLs＝70μm但是，如需要可以使用其它數(shù)值。
如圖3所示，當(dāng)對準(zhǔn)光束的斑點17射到方形結(jié)構(gòu)的一列上時，如本專業(yè)的技術(shù)人員所知，將得到具有多級的衍射圖案。
圖4示出通過這樣一個衍射圖案的橫截面。圖4示出由標(biāo)記M3衍射的對準(zhǔn)輻射的衍射圖案的以下各級16’(i)(i＝3，-2，-1，0，1，2，3，其中i＝衍射級)。衍射級16’(0)用虛線表示。其原因在于圖4還示出具有兩個孔20、22的薄板21。這樣設(shè)置薄板21，使得只有階16’(i)，i＝-3，-2，-1，1，2，3能夠通過孔20、22。衍射級16’(0)被薄板21阻擋。衍射級16’(i)，i＝-3，-2，-1，1，2，3射向檢測器4。
圖5示出當(dāng)接收衍射級16’(i)，i＝-3，-2，-1，1，2，3時檢測器4的輸出信號。接收到的衍射級的光強由檢測器4累計。當(dāng)孔20、22盡可能多地通過衍射級16’(i)，i＝-3，-2，-1，1，2，3時，檢測器4的輸出信號將具有最大值Imax。當(dāng)襯底臺WT在掃描方向上移動時，檢測器4的輸出信號強度被降低到最小值Imin，這時對準(zhǔn)光束斑點17主要照射限制衍射強度的方形結(jié)構(gòu)19之間的區(qū)域。當(dāng)襯底臺WT還在掃描方向移動時，檢測器4的輸出信號的強度將再次增加，一直到由檢測器4接收到方形結(jié)構(gòu)19的下一列的衍射級16’(i)，i＝-3，-2，-1，1，2，3為止。所述圖案將重復(fù)一直到由檢測器4檢測到方形結(jié)構(gòu)19的所有列為止?？梢钥闯觯?dāng)薄板21阻擋零級16’(0)時，圖5所示信號的周期特性具有最佳信噪比。
處理器6可以使用由它接收的圖5的信號來對準(zhǔn)標(biāo)記M3位于其上的目標(biāo)。為此，正如本專業(yè)的技術(shù)人員所知的，可以使用各種算法，例如可以對由圖5所示信號導(dǎo)出的圖3所示方形結(jié)構(gòu)19的列的位置求平均，以便實現(xiàn)標(biāo)記M3位置的最佳估算。
將參考激光分步對準(zhǔn)系統(tǒng)說明本發(fā)明，其中將參考圖2-5說明一個例子。但是，本發(fā)明也適用其他類型的對準(zhǔn)設(shè)置，例如用所謂的“Athena”傳感器的配置。所述對準(zhǔn)傳感器測量對準(zhǔn)掩模的位置。在對準(zhǔn)期間，對準(zhǔn)標(biāo)記用對準(zhǔn)輻射束照射。對準(zhǔn)輻射束被對準(zhǔn)標(biāo)記衍射成若干個不同級，例如+1、-1、+2和-2。利用光學(xué)元件，每一集對應(yīng)的衍射級(所說的+1和-1)用來把對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像形成在基準(zhǔn)薄板上?；鶞?zhǔn)薄板包括用于被測量的每一集對應(yīng)的衍射級的基準(zhǔn)光柵。在每一個基準(zhǔn)光柵之后，分離檢測器設(shè)置成測量通過基準(zhǔn)光柵的圖像上的輻射強度。通過相對于基準(zhǔn)薄板移動對準(zhǔn)標(biāo)記，可以發(fā)現(xiàn)一個或多個圖像的最大強度的位置，所述位置給出了對準(zhǔn)的位置。
為了提高性能，可以測量幾個圖像的強度，對準(zhǔn)輻射束可以由多個色彩組成。
不排除使用其他類型的傳感器，例如基于電容的或聲學(xué)測量原理的傳感器。
圖6示出根據(jù)本發(fā)明實施例的標(biāo)記M3和對準(zhǔn)輻射束斑點24的原理性視圖。對準(zhǔn)輻射束斑點24具有兩部分在y方向延伸的用來測量x方向上標(biāo)記M3的連續(xù)列的第一斑點部分24x和在x方向延伸的用來測量在y方向上標(biāo)記M3的連續(xù)行的第二斑點部分24y。
使用時，在第一實施例中，標(biāo)記M3被處理器6控制的執(zhí)行器8移動，使得對準(zhǔn)輻射束斑點24相對于標(biāo)記M3作對角移動，如圖6中箭頭所示。在圖6中，如圖所示，對準(zhǔn)輻射束斑點24相對于標(biāo)記M3從左邊最下的方形結(jié)構(gòu)19ll移動到右邊最上的方形結(jié)構(gòu)19ru。而且所示的斑點部分24x、24y包括細(xì)長的條帶狀截面，其中斑點部分24x具有約兩倍于y方向的標(biāo)記M3的長度Ly的長度，而斑點24y具有約兩倍于x方向的標(biāo)記M3的長度Lx的長度。而且，在所示實施例中，斑點24x、24y在它們各自的中心基本上是相互交叉。長度Lx和Ly分別與各行和列的長度對應(yīng)。
當(dāng)斑點24和標(biāo)記M3按照箭頭A表示的彼此相對地移動時，在連續(xù)的測量操作期間標(biāo)記M3的所有方形結(jié)構(gòu)19將被斑點24照射，即，在每一列中的所有方形結(jié)構(gòu)19將由對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x照射一次，而在每一行中的所有方形結(jié)構(gòu)19將由對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y照射一次。
雖然是優(yōu)選的，但是對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x和24y的長度不需要分別是標(biāo)記長度Ly和Lx的兩倍大(或更大)。較短的長度就足夠。唯一的條件是在高于零衍射級的各衍射級中存在足夠大的輻射強度，使得檢測器4接收到足夠的光強以便為處理器6產(chǎn)生有效信號。
顯然，對于本專業(yè)的技術(shù)人員來說，通過孔20和22的衍射級取決于方形結(jié)構(gòu)的大小和間距。本發(fā)明不限于衍射級16’(i)，i＝-3，-2，-1，1，2，3射向檢測器4的情況。射向檢測器4的多少衍射級都處于本發(fā)明的范圍內(nèi)。
阻擋由對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x和24y引起的零衍射級而僅僅讓一個或多個較高衍射級傳送給檢測器4有幾種任選的方案。
圖7示出用于本發(fā)明一個實施例的薄板29。薄板29包括四個孔31、33、35、37。當(dāng)這些斑點部分24x和24y分別射向方形結(jié)構(gòu)19的列和行時，斑點部分24x和24y分別產(chǎn)生各自的衍射圖案級16x’(i)和16y’(i)。應(yīng)當(dāng)指出，同一時間里在列和行方向上這些衍射圖案級的強度不需要是同等強的。很可能是斑點部分24x到達(dá)方形結(jié)構(gòu)19的一列，而同時斑點部分24y到達(dá)與方形結(jié)構(gòu)19的行相鄰的區(qū)域，或者反之亦然。
檢測器4應(yīng)當(dāng)設(shè)置成接收分離的衍射級16x’(i)和16y’(i)，并將與衍射級16x’(i)有關(guān)的第一檢測信號傳送給處理器6，與衍射級16y’(i)有關(guān)的第二檢測信號傳送給處理器6。第一和第二檢測信號都具有圖5所示的形式。
或者，可以利用由處理器6控制的執(zhí)行器26把薄板21來回地旋轉(zhuǎn)90°，如圖10所示。執(zhí)行器26通過合適的連接裝置(未示出)連接到薄板21。當(dāng)對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x照射在一列上，同時對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y照射在一行上時，就可執(zhí)行旋轉(zhuǎn)。但是，按照另一種可供選擇的方案，可以彼此相對地移動斑點24和標(biāo)記M3，使得任何時候?qū)?zhǔn)輻射束斑點部分24x照射在一列上，然后對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y照射在與一行相鄰或兩行之間的標(biāo)記部分，反之亦然。于是，在移動期間，衍射級可以交替地來源于對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x和對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y。
通過利用執(zhí)行器26連續(xù)地把薄板21旋轉(zhuǎn)約90°，檢測器4象圖5所示的那樣將檢測器信號發(fā)送給處理器6，而連續(xù)的各最大值Imax將連續(xù)地與標(biāo)記M3的行和列有關(guān)。薄板21可以象被處理器6控制那樣旋轉(zhuǎn)約90°，任何時候處理器6都能檢測到最大值Imax。由處理器6產(chǎn)生控制信號，并發(fā)送給設(shè)置成旋轉(zhuǎn)薄板21的執(zhí)行器26。
在圖11中所示的可供選擇的配置中，薄板21沒有被旋轉(zhuǎn)，但是測量裝置包括兩個薄板21和21’，兩個的形狀都象薄板21，但是一個薄板21的孔20、22在y方向上相互鄰接，如圖4所示，而另一個薄板21’的孔20’和22’在x方向上相互鄰接。然后，這些薄板21、21’由執(zhí)行器26’驅(qū)動去連續(xù)地中斷分別由對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x和24y引起的各衍射級中的零衍射級。執(zhí)行器26’用合適的連接裝置(未示出)連接到薄板21、21’，并由處理器6控制。
在可供選擇的實施例中，不是同時地而是在時間上交替地產(chǎn)生對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x和24y。這可以通過兩個被交替地驅(qū)動的激光源來實現(xiàn)，其中一個產(chǎn)生對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x，而另一個產(chǎn)生對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y。但是，在另一個可供選擇的實施例中，這可以通過使用具有不同形狀快門的單一激光源來實現(xiàn)，一個快門具有在一個方向上的狹縫，而另一個快門具有在另一個垂直方向上的狹縫，并且這樣驅(qū)動所述快門，使得它們交替地讓激光源的激光束流過。在再一個實施例中，分束器與兩個束成形物體(object)及頻率調(diào)制器組合。本發(fā)明不限于它的技術(shù)等價實施例。
對于本專業(yè)的技術(shù)人員來說，很顯然，斑點24和標(biāo)記M3之間的相對移動不需要跟隨由箭頭A表示的直線。所述相對移動可以分別在x方向和y方向都是階梯式的，分別具有一個或多個列和行的步長。首先，在其最簡單的形式中，這樣的階梯式移動的結(jié)果是通過x方向的相對移動而利用對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x測量所有列，如圖中所示和參考圖3的說明，然后通過y方向的相對移動而利用對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y測量所有行，反之亦然。在后一種情況下，對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x可能具有與Ly相等的長度，而對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y可能具有與Lx相等的長度。此外，當(dāng)應(yīng)用這種階梯式移動時，不能交替地從對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x和24y產(chǎn)生由標(biāo)記M3輻射的整組衍射級?？赡艽嬖谄渌麃碓吹募?，例如，可能存在來源于對準(zhǔn)輻射束斑點部分24x前面兩組衍射級，可能存在來源于對準(zhǔn)輻射束斑點部分24y的后面兩組衍射級，等等。
在所示的實施例中，標(biāo)記M3包括許多y方向和x方向一樣的方形結(jié)構(gòu)。但是，其數(shù)目可以改變并在x和y方向上可以不同。而且，方形結(jié)構(gòu)19的大小及間距對于x和y方向都可以是不同的。如果需要，所述結(jié)構(gòu)可以是其他形狀。
圖8a示出先有技術(shù)的原始標(biāo)記M4，而圖8b示出本發(fā)明的原始標(biāo)記M5。標(biāo)記M4和M5包括排列成行和列的多個方形結(jié)構(gòu)。標(biāo)記M4在y方向上的間距為Py，對于所有行所述間距都相等，但是在兩相鄰的列之間具有間距Px2，它與其他相鄰列之間的其他間距Px1不同。如本專業(yè)的技術(shù)人員所知的，由于標(biāo)記M4產(chǎn)生一種對準(zhǔn)輻射，所述對準(zhǔn)輻射產(chǎn)生檢測器4的與圖5所示的類似的信號但是在另一個相互距離而不是信號的相互距離上具有兩個相鄰的最大值，因此標(biāo)記M4可以用于實現(xiàn)粗略的對準(zhǔn)。這提供具有選擇方案的處理器6，以便進行以較大間距Px2在空間相鄰的兩列的粗略識別。
圖8b示出標(biāo)記M5，它不僅在x方向上具有一個(或一個以上)不同的間距Px2，而且在y方向上具有與y方向上的其他間距Py1不同的間距Py2。因此，標(biāo)記M5提供圖2的具有選擇方案的對準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，以便在x方向和y方向上實現(xiàn)粗略的對準(zhǔn)。
如關(guān)于標(biāo)記M3所觀察到的，標(biāo)記M5可以具有矩形結(jié)構(gòu)，所述矩形結(jié)構(gòu)在x方向和y方向具有不同大小和間距。而且列數(shù)目不需要與行數(shù)目相同。如果需要，也可以使用除方形或矩形結(jié)構(gòu)外的其他結(jié)構(gòu)。
如本專業(yè)的技術(shù)人員將明白的，可以通過在光刻設(shè)備中的曝光過程而在所述對象(例如襯底和襯底臺)上制作標(biāo)記M3和M5。為此，在這樣的光刻設(shè)備中使用具有合適標(biāo)記圖案的掩模原版。圖9示出這樣一個具有一個或多個標(biāo)記圖案MP的掩模原版MA1的示意圖。一個或多個標(biāo)記圖案MP位于掩模原版的劃線道30上，它與襯底W上的x方向和y方向的劃線道對應(yīng)，并用圖1所示的設(shè)備、用本專業(yè)的技術(shù)人員所知的方法投射到襯底W上。如本專業(yè)的技術(shù)人員所知的，圖8示出的掩模原版MA1也具有掩模原版區(qū)域32，所述掩模原版區(qū)域與成像在襯底W上的管芯區(qū)域的結(jié)構(gòu)對應(yīng)。
雖然圖2所示結(jié)構(gòu)表明執(zhí)行器8移動襯底臺WT，以便形成對準(zhǔn)輻射束18橫過襯底W移動，但是應(yīng)該理解，可以通過合適的裝置來使對準(zhǔn)輻射束18移動，例如通過被驅(qū)動而掃描對準(zhǔn)輻射束18的鏡片來使對準(zhǔn)輻射束18移動，這樣，斑點部分24x和24y橫過襯底W移動，而襯底臺WT(因而襯底W)仍保留在固定位置。
雖然本說明書具體引用的是光刻設(shè)備在IC制造中的應(yīng)用，但是應(yīng)該理解，這里說明的光刻設(shè)備可以應(yīng)用到其他方面，例如集成光學(xué)系統(tǒng)的制造、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等。本專業(yè)的技術(shù)人員將理解，在這些可供選擇的應(yīng)用環(huán)境中，本文中使用的術(shù)語”晶片”或”管芯”都可以視為分別與更廣義的術(shù)語”襯底”或”目標(biāo)部分”同義。這里說的襯底可以在曝光前后處理，例如跟蹤(track)(通常給襯底設(shè)置一層光刻膠并對曝光的光刻膠顯影的工具)、計量學(xué)工具和/或檢驗工具。這里公開的應(yīng)用可以適用這樣的和其他襯底的處理工具。而且襯底可以處理多次，例如為了制造多層IC，使得這里使用的術(shù)語襯底也可以指已經(jīng)包含多個處理層的襯底。
雖然上面具體引用的是本發(fā)明在光學(xué)的光刻技術(shù)環(huán)境中應(yīng)用的實施例，但是應(yīng)該理解，本發(fā)明可以適用其他應(yīng)用，例如印刷光刻技術(shù)或浸入式光刻技術(shù)，其中允許的范圍不限于光學(xué)光刻技術(shù)。在印刷光刻技術(shù)中，圖案形成裝置的圖形確定了在襯底上生成的圖案。圖案形成裝置的圖形可以壓制在設(shè)置于襯底上的一層光刻膠中，通過使用電磁輻射、加熱、加壓或它們的組合可以固化在光刻膠上。在光刻膠被固化后移去圖案形成裝置，圖案就留在光刻膠上。
雖然上面具體引用的是本發(fā)明在頂面對準(zhǔn)環(huán)境中應(yīng)用的實施例，但是應(yīng)該理解，本發(fā)明可以適用對準(zhǔn)標(biāo)記置于晶片底面的應(yīng)用。
雖然上面具體引用的是帶有具體對準(zhǔn)標(biāo)記大小的應(yīng)用實施例，但是應(yīng)該理解，標(biāo)記大小的調(diào)整會降低對準(zhǔn)標(biāo)記對某些過程，例如CMP(化學(xué)拋光)、PVD(物理汽相沉淀)或蝕刻的靈敏度，標(biāo)記大小的調(diào)整可以在不脫離本發(fā)明范圍的情況下進行。
這里所用的術(shù)語”輻射”和”輻射束”涵蓋各種類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如波長約為365、355、248、193、157或126nm)和遠(yuǎn)紫外(EUV)輻射(例如波長范圍約為5-20nm)以及粒子輻射束，例如離子束或電子束。
術(shù)語”透鏡”，在允許的環(huán)境中可以指各種類型的光學(xué)部件中的一個或它們的組合，包括折射的、反射的、磁的、電磁的和靜電的光學(xué)部件。
盡管上面說明了本發(fā)明的具體實施例，但是將會理解，除上述應(yīng)用外，本發(fā)明也適用其他應(yīng)用。例如，本發(fā)明可以采取包含一個或多個描述上述公開的方法的機器可讀指令序列的計算機程序的形式或存儲這種計算機程序的數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)(例如半導(dǎo)體存儲器、磁盤或光盤)的形式。
以上的描述是說明性而不是限制。因此本專業(yè)的技術(shù)人員將明白，在不脫離后面的權(quán)利要求范圍的情況下，可對上面說明的本發(fā)明作修改，例如各圖可以示出信號從一個裝置傳送到另一個裝置的物理連接。但是，所有的通信連接都可以是無線的。
權(quán)利要求
1.一種光刻設(shè)備，它包括●對準(zhǔn)裝置，它包括光源、光學(xué)系統(tǒng)和檢測器，所述光源設(shè)置成產(chǎn)生光束；所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置成接收光束，產(chǎn)生具有對準(zhǔn)輻射束斑點的對準(zhǔn)輻射束，所述輻射束斑點具有在第一方向延伸的第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分和在與所述第一方向垂直的第二方向延伸的第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分，并把所述對準(zhǔn)輻射束射向?qū)ο笊现辽僖粋€標(biāo)記，所述至少一個標(biāo)記具有多個排列成行和列的結(jié)構(gòu)，接收從所述至少一個標(biāo)記返回的對準(zhǔn)輻射并將所述對準(zhǔn)輻射發(fā)送給所述檢測器；所述檢測器設(shè)置成根據(jù)所述對準(zhǔn)輻射產(chǎn)生對準(zhǔn)信號；●執(zhí)行器，用于在所述對準(zhǔn)輻射束和所述對象之間產(chǎn)生相對移動；●處理器，它連接到所述執(zhí)行器和所述檢測器，并設(shè)置成○控制所述執(zhí)行器，使得所述至少一個標(biāo)記的所述列結(jié)構(gòu)和所述至少一個標(biāo)記的所述行結(jié)構(gòu)分別接收所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分和所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分；○接收來自所述檢測器的所述對準(zhǔn)信號；○根據(jù)所述對準(zhǔn)信號計算所述至少一個標(biāo)記的二維位置。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述列具有列長度而所述行具有行長度，所述光源和所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置成這樣產(chǎn)生所述對準(zhǔn)輻射束斑點，使得所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分具有大于所述列長度但小于或等于所述列長度的兩倍的第一長度，并且所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分具有大于所述行長度但小于或等于所述行長度的兩倍的第二長度。
3.如權(quán)利要求2所述的光刻設(shè)備，其中所述第一和第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分相互交叉。
4.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中這樣設(shè)置所述執(zhí)行器，使得所述對準(zhǔn)輻射束斑點基本上對角地橫過所述至少一個標(biāo)記按移動。
5.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述列具有列長度而所述行具有行長度，所述光源和所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置成這樣產(chǎn)生所述對準(zhǔn)輻射束斑點，使得所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分具有基本上等于所述列長度的第一長度，而所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分具有基本上等于所述行長度的第二長度。
6.如權(quán)利要求5所述的光刻設(shè)備，其中所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分具有第一端部而所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分具有第二端部，所述第一和第二端部相互接觸。
7.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述對準(zhǔn)輻射包括由所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分產(chǎn)生的第一衍射圖案的第一零衍射級，和由所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分產(chǎn)生的第二衍射圖案的第二零衍射級，所述光刻設(shè)備包括設(shè)置成阻擋所述第一和所述第二零衍射級的阻擋裝置。
8.如權(quán)利要求7所述的光刻設(shè)備，其中所述阻擋裝置包括具有多個孔的薄板，所述多個孔設(shè)置成傳遞所述第一衍射圖案的一個或多個第一較高衍射級和所述第二衍射圖案的一個或多個第二較高衍射級。
9.如權(quán)利要求7所述的光刻設(shè)備，其中所述阻擋裝置包括具有薄板部分的薄板；以及執(zhí)行器，所述執(zhí)行器設(shè)置成這樣旋轉(zhuǎn)所述阻擋裝置，使得所述薄板部分連續(xù)地阻擋所述第一和第二零衍射級。
10.如權(quán)利要求7所述的光刻設(shè)備，其中所述阻擋裝置包括具有第一薄板部分的第一薄板和具有第二薄板部分的第二薄板；以及執(zhí)行器，所述執(zhí)行器設(shè)置成這樣移動所述第一和第二薄板，使得所述第一和第二零衍射級被連續(xù)阻擋。
11.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述執(zhí)行器設(shè)置成這樣移動所述對象，使得所述對準(zhǔn)輻射束斑點橫過所述至少一個標(biāo)記，在所述第一方向和所述第二方向階梯式移動。
12.如權(quán)利要求2所述的光刻設(shè)備，其中所述對準(zhǔn)輻射束斑點首先在所述第一方向移動以便照射所有列，然后在所述第二方向移動以便照射所有行。
13.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述標(biāo)記是二維粗標(biāo)記，所述處理器設(shè)置成根據(jù)所述對準(zhǔn)信號計算粗略的二維位置。
14.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述光刻設(shè)備包括●照射系統(tǒng)，它設(shè)置成調(diào)節(jié)輻射束；●支承結(jié)構(gòu)，它構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠把圖案賦予所述輻射束的截面，以便形成具有圖案的輻射束；以及●投射系統(tǒng)，它設(shè)置成把具有圖案的輻射束投射到襯底的目標(biāo)部分。
15.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述光刻設(shè)備設(shè)置成實現(xiàn)浸沒式光刻技術(shù)。
16.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述對象是具有頂面和底面的襯底，所述頂面由所述光刻設(shè)備曝光，所述至少一個標(biāo)記位于所述底面上。
17.一種光源和光學(xué)系統(tǒng)，所述光源和光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置成產(chǎn)生對準(zhǔn)輻射束斑點，所述對準(zhǔn)輻射束斑點具有在第一方向延伸的第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分和在與所述第一方向垂直的第二方向延伸的第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分。
18.一種配備有至少一個標(biāo)記圖案的掩模原版，所述標(biāo)記圖案包括多個排列成行和列的結(jié)構(gòu)，所述行以預(yù)定的行間距排列，至少一行的間距與其他行的間距不同，并且所述列以預(yù)定的列間距排列，至少一列的間距與其他列的間距不同。
19.如權(quán)利要求18所述的掩模原版，其中所述結(jié)構(gòu)或者是矩形的或者是方形的。
20.一種配備有對準(zhǔn)標(biāo)記的對象，所述對準(zhǔn)標(biāo)記包括多個排列成行和列的結(jié)構(gòu)，所述行以預(yù)定的行間距排列，至少一行的間距與其他行的間距不同，并且所述列以預(yù)定的列間距排列，至少一列的間距與其他列的間距不同。
21.如權(quán)利要求20所述的對象，其中所述結(jié)構(gòu)或是矩形的或是方形的。
22.如權(quán)利要求20所述的對象，其中所述對象是具有由光刻設(shè)備曝光的頂面和底面的襯底。
23.如權(quán)利要求22所述的對象，其中所述對準(zhǔn)標(biāo)記位于所述底面上。
24.一種包括具有多個孔的薄板的阻擋裝置，所述孔被排列成第一組和第二組，在所述第一組中孔排列成第一行，在所述第二組中的孔排列成第二行，所述第一和第二行相互垂直，所述薄板在所述第一和第二行的交叉點上具有用于阻擋輻射的薄板部分。
25.一種光刻設(shè)備中的對準(zhǔn)測量方法，所述方法包括●產(chǎn)生具有對準(zhǔn)輻射束斑點的對準(zhǔn)輻射束，所述對準(zhǔn)輻射束斑點具有在第一方向延伸的第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分和在與所述第一方向垂直的第二方向延伸的第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分，把所述對準(zhǔn)輻射束射向?qū)ο笊系闹辽僖粋€標(biāo)記上，所述至少一個標(biāo)記具有排列成行和列的多個結(jié)構(gòu)；●使所述第一對準(zhǔn)輻射束斑點部分橫過所述至少一個標(biāo)記的所述結(jié)構(gòu)的列掃描并且使所述第二對準(zhǔn)輻射束斑點部分橫過所述至少一個標(biāo)記的所述結(jié)構(gòu)的行掃描；●接收從所述至少一個斑點返回的對準(zhǔn)輻射；●根據(jù)所述對準(zhǔn)輻射產(chǎn)生對準(zhǔn)信號；●根據(jù)所述對準(zhǔn)信號計算所述至少一個標(biāo)記的二維位置。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其中所述對象是襯底并且所述方法包括在根據(jù)所述對準(zhǔn)信號計算所述至少一個標(biāo)記的二維位置的所述操作之后的以下操作●將具有圖案的輻射束提供給對象的目標(biāo)部分；●利用所述對象制造器件。
27.一種計算機程序產(chǎn)品，所述計算機程序產(chǎn)品包括由光刻設(shè)備的處理器加載的數(shù)據(jù)和指令并設(shè)置成使所述光刻設(shè)備可以執(zhí)行如權(quán)利要求25所述的對準(zhǔn)測量方法。
28.一種數(shù)據(jù)載體，它包括如權(quán)利要求27所述的計算機程序產(chǎn)品。
全文摘要
光刻設(shè)備具有用來移動帶有標(biāo)記(M3)的對象的執(zhí)行器，所述標(biāo)記具有多個排列成行和列的結(jié)構(gòu)(19)。對準(zhǔn)裝置包括光源、光學(xué)系統(tǒng)和檢測器。光源和光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生在與列平行的第一方向延伸的第一斑點部分(24x)和在與行平行的第二方向延伸的第二斑點部分(24y)。光學(xué)系統(tǒng)把對準(zhǔn)輻射束射向標(biāo)記(M3)，接收從標(biāo)記(M3)返回的對準(zhǔn)輻射，并把對準(zhǔn)輻射傳送給檢測器。檢測器把對準(zhǔn)信號傳送給處理器，處理器根據(jù)對準(zhǔn)信號計算標(biāo)記(M3)的二維位置。
文檔編號H01L21/027GK1794089SQ200510003559
公開日2006年6月28日 申請日期2005年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月23日
發(fā)明者F·B·M·范比森 申請人:Asml荷蘭有限公司