專利名稱：電致發(fā)光顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電致發(fā)光顯示面板，其包括基板和多個(gè)顯示像素，該顯示像素包括在所述基板上或上方限定的電致發(fā)光材料。
背景技術(shù)：
使用在基板上或上方包括電致發(fā)光材料的顯示像素的顯示面板變得日益普遍。這些發(fā)光元件可以是發(fā)光二極管(LED)，其被結(jié)合入或者形成顯示像素，該顯示像素被配置成行和列的矩陣。在這種LED中使用的材料適合于在通過這些材料傳送電流通過時(shí)產(chǎn)生光，諸如特種聚合物(PLED)和小分子有機(jī)(SMOLED)材料。因此，LED須被配置為可以驅(qū)動(dòng)電流通過這些電致發(fā)光材料。典型地，區(qū)分為被動(dòng)驅(qū)動(dòng)和主動(dòng)驅(qū)動(dòng)矩陣顯示器。對(duì)于主動(dòng)矩陣顯示器，顯示像素自身包括有源電路，諸如一個(gè)或多個(gè)晶體管。
由于PLED材料的固有的熱穩(wěn)定性、柔性和可溶于水溶液或溶劑的特性，因此其提供了優(yōu)于SMOLED材料的優(yōu)點(diǎn)。結(jié)果，通過濕法化學(xué)技術(shù)，諸如旋涂或噴墨淀積，可以施加PLED材料。
EP-A-0 892 028公開了一種有機(jī)EL元件，其中在透明基板上形成透明像素電極。在像素電極之間形成光刻定義的光致抗蝕劑堤岸，以防止包括電致發(fā)光材料的液體墨滴非故意地流向相鄰的顯示像素。
關(guān)于該電致發(fā)光顯示面板的制造工藝涉及施加升高的溫度。需要這些升高的溫度使光致抗蝕劑材料交聯(lián)，和/或使光致抗蝕劑堤岸平滑，這是由于金屬層通常淀積在該結(jié)構(gòu)上以提供用于顯示像素的電極。典型地，該溫度被升高到高于所使用的光致抗蝕劑材料的玻璃溫度。而且，對(duì)于被動(dòng)矩陣顯示面板，通常施加額外的光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)用于金屬電極層的分離。對(duì)于這些被動(dòng)矩陣顯示面板，在淀積額外的光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)之前需要升高溫度，以使光致抗蝕劑交聯(lián)。
然而，在制造工藝中需要升高的溫度是不利的。例如，如果使用柔性基板，升高的溫度可能引起或?qū)е略摶宓南喈?dāng)大的尺寸變形。而且，由于光致抗蝕劑堤岸通常通過標(biāo)準(zhǔn)的逼近光刻施加，而逼近光刻受到光學(xué)衍射限制的困擾，因此這些堤岸典型地引起了顯示像素之間的相當(dāng)大的距離。而且，光刻是高成本的工藝步驟，其使該顯示面板更加昂貴。而且，光致抗蝕劑堤岸需要額外的非潤(rùn)濕等離子體處理步驟，以防止印刷的墨滴同相鄰的顯示像素混合。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種電致發(fā)光顯示面板，其中減少或消除至少一個(gè)上文提及的缺點(diǎn)。
該目的是通過提供一種電致發(fā)光顯示面板實(shí)現(xiàn)的，其中所述顯示面板進(jìn)一步包括在相鄰的像素電極之間的至少一個(gè)微接觸印刷的疏水層。施加微接觸印刷的疏水層，消除了對(duì)用于防止液體墨滴同電致發(fā)光材料混合的光致抗蝕劑堤岸的需要，并且因此消除了通過升高的溫度使堤岸平滑的需要，即引起光刻定義的堤岸的初始銳利邊緣彎曲的需要。微接觸印刷不需要溫度升高。而且，微接觸印刷層增加了對(duì)發(fā)光有貢獻(xiàn)的有效顯示像素面積，分辨率優(yōu)于通過標(biāo)準(zhǔn)的接近光刻定義的顯示像素。而且，微接觸印刷層避免了對(duì)光刻定義的光致抗蝕劑堤岸的需要，產(chǎn)生了較低成本的顯示面板。應(yīng)當(dāng)注意，微接觸印刷的疏水層包括這樣的微接觸印刷層，其在印刷之后通過印刷層的氟化獲得或改善了其疏水特性。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，疏水層是自組裝的單層。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)這種單層具有關(guān)于包括電致發(fā)光材料的噴墨印刷液滴的差潤(rùn)濕特性，即液體或流體具有與該單層的高的前進(jìn)接觸角。應(yīng)當(dāng)注意，該液體可以包括傳導(dǎo)聚合物，例如聚苯胺(PANI)或聚-3，4-二氧乙基噻吩(PEDOT)，或者發(fā)光物質(zhì)，其包括電致發(fā)光材料或其前體材料。該流體可以是例如溶液、懸濁液或乳濁液。其可以包括例如呈現(xiàn)出電致發(fā)光特性的可溶解的聚合物。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，基板是柔性基板。該柔性基板可以是透明塑料或非透明金屬箔。該基板是有利的，因?yàn)槠涮峁┝诵问阶杂啥群洼^薄的顯示面板。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，顯示面板進(jìn)一步包括用于所述顯示像素的第一和第二電極，以及在所述顯示像素之間隔離或分離了所述第一和第二電極的保護(hù)層。該保護(hù)層可以是無(wú)機(jī)層，諸如二氧化硅，或者是有機(jī)層。該保護(hù)層足夠厚以隔離像素區(qū)域外部的第一和第二電極。微接觸印刷的疏水層可以定義在該保護(hù)層上或者上方。優(yōu)選地，該微接觸印刷的疏水層使一部分所述保護(hù)層暴露于所述電致發(fā)光材料。由于保護(hù)層優(yōu)選地是親水的，因此該配置改善了顯示像素中的液體的均勻散布，避免了顯示像素的邊界附近的電致發(fā)光材料層的減小的厚度。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種電氣設(shè)備，其包括如上文所述的顯示面板。該電氣設(shè)備可以涉及手持設(shè)備，諸如蜂窩電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)或便攜式計(jì)算機(jī)，并且涉及諸如個(gè)人電腦的監(jiān)視器、電視機(jī)或者例如汽車儀表板上的顯示器的設(shè)備。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種用于制造電致發(fā)光顯示面板的方法，包括步驟-提供基板；-在所述基板上或上方通過微接觸印刷提供疏水層。
這些步驟產(chǎn)生了低成本的制造方法，其中不再需要用于使淀積的液體同電致發(fā)光材料分離的光致抗蝕劑隔柵。該方法可以包括用于制造顯示面板的另外的步驟。這些步驟中的一個(gè)可以是微印刷材料的氟化步驟，其引起或改善了層的疏水特性。
在該方法的實(shí)施例中，將疏水層印刷在聚合物層上，該聚合物層可以是聚合物基板或者聚合物基板或其他材料的基板上面的聚合物層。該聚合物層可以例如用作保護(hù)層，用于隔離顯示面板上的電極。在次權(quán)利要求中描述了用于在聚合物界面上進(jìn)行微印刷的數(shù)個(gè)系統(tǒng)。
應(yīng)當(dāng)注意，顯示器中的微接觸印刷從US 2002/0051893中獲知。然而，在本公開內(nèi)容中，將傳導(dǎo)材料印刷在無(wú)機(jī)或有機(jī)薄膜上，以用作陰極接觸。而且，從US 6,380,101中了解到，在氧化銦錫上提供微接觸印刷的自組裝單層，作為抵抗?jié)穹ɑ瘜W(xué)刻蝕的保護(hù)。
通過參考附圖，將進(jìn)一步說明本發(fā)明，附圖示出了根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不以任何方式限于這些具體的和優(yōu)選的實(shí)施例。


在附圖中圖1示出了包括顯示面板的電氣設(shè)備；圖2以頂視圖的形式，并且沿剖面A-A和B-B示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的被動(dòng)矩陣顯示面板的一部分；圖3示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的主動(dòng)矩陣顯示面板的一部分；圖4以頂視圖的形式，并且沿剖面A-A示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的被動(dòng)矩陣顯示面板的一部分；圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板上包括電致發(fā)光材料的液滴的說明；圖6A-6D示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的制造工藝的數(shù)個(gè)步驟；圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的“負(fù)版印刷”實(shí)施例的顯示面板上包括電致發(fā)光材料的液滴的說明。
具體實(shí)施例方式
圖1示出了電氣設(shè)備1，其包括主動(dòng)顯示面板2，具有排列成行4和列5的矩陣的多個(gè)顯示像素3。顯示面板2可以是主動(dòng)矩陣顯示器或被動(dòng)矩陣顯示器，其包括顯示像素3，顯示像素3包含有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)。顯示面板2可以是全色或單色顯示面板。
圖2以頂視圖的形式，并且沿剖面A-A和B-B示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的被動(dòng)矩陣顯示面板2的一部分。通過在基板7上施加的保護(hù)層6使行4中的獨(dú)立像素3分離。保護(hù)層6隔離了陽(yáng)極8和陰極(未示出)。保護(hù)層6進(jìn)一步由光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)9覆蓋。光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)9是這樣獲得的，即使用標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝，隨后使溫度升高到高于所施加的光致抗蝕劑材料的玻璃溫度(glasst emperature)，以使結(jié)構(gòu)9平滑。需要使抗蝕劑結(jié)構(gòu)9平滑以避免陰極層(未示出)沿行4的中斷。該抗蝕劑結(jié)構(gòu)9形成為以便包含電致發(fā)光材料的液滴(未示出)，并且防止這些液滴在相鄰的顯示像素3之間混合。典型地，抗蝕劑結(jié)構(gòu)9的高度是1～10微米。例如，可以通過噴墨印刷施加該液體。
該解決方案的缺點(diǎn)在于，光刻步驟是必要的以用于形成抗蝕劑結(jié)構(gòu)9。溫度典型地增加到例如200℃，以使一些抗蝕劑材料開始流動(dòng)，以便于使抗蝕劑結(jié)構(gòu)9平滑，即，使光刻定義的結(jié)構(gòu)的銳利邊緣彎曲。如果基板7例如是塑料的，則可能引起基板7上的結(jié)構(gòu)的相當(dāng)大的尺寸變形，例如數(shù)十微米。
在被動(dòng)矩陣顯示面板2中，通常提供了具有負(fù)邊緣的另一抗蝕劑結(jié)構(gòu)10，以獲得相鄰的行4的陰極線(未示出)的分離。抗蝕劑結(jié)構(gòu)10的負(fù)邊緣在具有電致發(fā)光材料的液滴上施加毛細(xì)力，將液體輸送到相鄰的顯示像素3。應(yīng)當(dāng)注意，另一抗蝕劑結(jié)構(gòu)10自身不需要施加高溫。
圖3說明了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的主動(dòng)矩陣顯示面板的一部分，其中也呈現(xiàn)了光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)9，用于防止包括電致發(fā)光材料的液體同相鄰的顯示像素3混合。應(yīng)當(dāng)注意，對(duì)于主動(dòng)矩陣顯示面板2而言不需要具有負(fù)邊緣的抗蝕劑材料10，這是由于這種面板典型地使用公共陰極(未示出)操作。
對(duì)于圖2所示的被動(dòng)矩陣顯示面板和圖3所示的主動(dòng)矩陣顯示面板，可執(zhí)行表面處理以改變面板上不同部分的潤(rùn)濕特性。O2等離子體處理和隨后的CF4等離子體處理確保了噴墨印刷的液體，例如聚二氧乙基噻吩(PEDOT)和發(fā)光聚合物(LEP)，使可以是氧化銦錫(ITO)的陽(yáng)極8和可以是SiO2的保護(hù)層6潤(rùn)濕，但是受到有機(jī)光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)9的排斥。
圖4以頂視圖的形式，并且沿剖面A-A示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的被動(dòng)矩陣顯示面板的一部分?；?再次包括保護(hù)層6和陽(yáng)極8，定義了顯示像素3，用于在施加電流時(shí)發(fā)射紅(R)、綠(G)和藍(lán)(B)光。然而，顯示面板2不再具有如圖2和3所示的顯示像素3之間的抗蝕劑結(jié)構(gòu)9。作為替換，在顯示像素3之間提供了微接觸印刷層11。該微接觸印刷層11可以具有或提供有疏水特性，其將在下文中更加詳細(xì)的討論。相似地，對(duì)于圖3所示的主動(dòng)矩陣顯示面板2，抗蝕劑結(jié)構(gòu)9可由微接觸印刷層11替換。優(yōu)選地，微接觸印刷層11是在顯示像素2周圍施加的。應(yīng)當(dāng)注意，顯示像素2的形狀不限于圖中的形狀。其他的像素形狀，諸如圓形、正方形或矩形也是可行的。
在微接觸印刷技術(shù)中，具有被構(gòu)圖的引戳表面的引戳被涂墨有包括擴(kuò)散到引戳中的用于印刷層11的分子的溶液。該引戳可以例如是聚二甲基硅氧烷(PDMS)。可以隨后使該引戳干燥。然后使被構(gòu)圖的引戳接近顯示面板2，由此引戳的凸起部分接觸顯示面板的適當(dāng)部分。結(jié)果，在接觸部分處，引戳上呈現(xiàn)的材料被轉(zhuǎn)印到顯示面板的表面，導(dǎo)致了微接觸印刷層11。由于通過微接觸印刷實(shí)現(xiàn)的增加的分辨率，微接觸印刷提供了優(yōu)于傳統(tǒng)光刻技術(shù)的顯著優(yōu)點(diǎn)。微接觸印刷的特征在于，非常高的分辨率使得能夠?qū)單⒚壮叽绲膱D案?jìng)鬟f到表面上。由于微接觸印刷在程序上較不復(fù)雜，并且可以在環(huán)境條件下執(zhí)行，因此其比光刻系統(tǒng)更加經(jīng)濟(jì)。此外，相比于其他技術(shù)，諸如電子束光刻(在需要較高分辨率的情況中使用的傳統(tǒng)技術(shù))，微接觸印刷允許更高的生產(chǎn)產(chǎn)量。而且，微接觸印刷可以應(yīng)用于大的顯示面板2，同時(shí)仍維持良好的印刷精確度。
圖5說明了提供具有電致發(fā)光材料的液滴12的效果。微接觸印刷層11具有或被賦予了排斥液體的疏水特性?？梢匀菀椎孬@得例如25～60°的高的前進(jìn)接觸角Φ，例如50°。該角度可比于使用現(xiàn)有技術(shù)的光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)9實(shí)現(xiàn)的角度。因此，由于將微接觸層11印刷在與現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)9基本上相同的位置，該微接觸層11適于執(zhí)行防止液滴12同后來的顯示像素3混合的功能，同時(shí)產(chǎn)生了上文提及的優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)。
圖6A～6D示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的制造工藝的數(shù)個(gè)步驟。
在圖6A中提供了基板7。該基板可以例如是玻璃基板或聚合物基板?？上蛟摶逄峁┚酆衔飳?未示出)。在圖6A中，施加了另外的保護(hù)層6和ITO陽(yáng)極8并對(duì)其構(gòu)圖。保護(hù)層6的厚度可以非常小。例如20nm的厚度足夠用于使陽(yáng)極8同陰極(在圖6D中示出)隔離。保護(hù)層6可以是無(wú)機(jī)層，諸如SiO2，或者是具有低的交聯(lián)溫度的光致抗蝕劑層。對(duì)于主動(dòng)矩陣顯示面板2，典型地，在圖6A～6D所示的層下方呈現(xiàn)了用于獨(dú)立顯示像素3(未示出)的電路。ITO層8具有范圍為例如100～200nm的厚度。可對(duì)保護(hù)層6和ITO陽(yáng)極8進(jìn)行O2等離子體或UV臭氧處理，以改善這些層的潤(rùn)濕特性。
在圖6B中，層11被微接觸印刷，或者如上文所述被定義。微接觸印刷層11優(yōu)選地是自組裝單層(SAM)，其例如1～3nm厚?？商鎿Q地，可以施加較厚的層11，其是通過例如使用非干燥引戳獲得的。對(duì)于SiO2保護(hù)層6，適當(dāng)?shù)暮蜻x單層是十八烷基三氯硅烷(OTS)，但是優(yōu)選地該單層其中具有氟成分。對(duì)此適當(dāng)?shù)暮蜻x者是來自Aldrich的三甲基(3，3，3-三氟丙基)硅烷。
可替換地，保護(hù)層6是薄的聚合物層。許多聚合物具有其自己適當(dāng)?shù)木哂兴璧牟顫?rùn)濕特性的單層11。下文將描述某些材料系統(tǒng)，但是應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，本發(fā)明不以任何方式限制于這些示例。應(yīng)當(dāng)注意，層11還可以被微接觸印刷在聚合物層7上。
在濕法化學(xué)處理之后，羧酸酐改性聚乙烯(PE)可以壓印有聚丙烯酸叔丁酯(PTBA)以產(chǎn)生聚丙烯酸(PAA)超分枝膜。PAA膜可以通過氟化改性，以獲得疏水層11。該氟化也可以通過浸漬技術(shù)完成。引起注意的方面在于ITO將不被氟化，并因此仍具有良好的潤(rùn)濕特性。
另一示例是，通過將聚苯乙烯-block-聚丙烯酸(PS-b-PAA)微接觸印刷在聚電解質(zhì)疊層的暴露的聚胺層上，對(duì)親水聚苯乙烯(hPS)上的聚電解質(zhì)疊層逐層地構(gòu)圖?？蓮募?shelf)上向基板7提供這種疊層。氟化處理可以改善微接觸印刷層11的疏水特性。
另一示例是，在聚苯乙烯(PS)上印刷聚(乳酸)-聚(乙二醇)(PLA-PEG)。PS自身不具有非常好的潤(rùn)濕特性。通過微接觸印刷，可以定義具有良好潤(rùn)濕特性的PLA-PEG區(qū)域，留下了具有差潤(rùn)濕特性的非印刷PS區(qū)域13。這樣，采用如圖7所示的“負(fù)版”印刷方法。
如所說明的，層11被定義為使得在淀積具有電致發(fā)光材料的液體之前使保護(hù)層的部分6A暴露。由于親水部分6A將液體吸引到顯示像素3的邊緣，這些部分6A使電致發(fā)光材料能夠在顯示像素區(qū)域上均勻地散布。可以對(duì)層11進(jìn)行氟化處理，以獲得或改善該層的疏水特性。
在圖6C中，在已通過圖5描述的微接觸印刷層11之間施加并包含含有電致發(fā)光材料12的液體。
在圖6D中，施加金屬層13作為陰極，其具有100～200nm的厚度。應(yīng)當(dāng)注意，該陰極13還可以是透明的，如頂發(fā)射顯示面板2所需要的。本發(fā)明適用于底發(fā)射和頂發(fā)射顯示面板。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的“負(fù)版印刷”實(shí)施例，顯示面板上包括電致發(fā)光材料的液滴的示例。聚苯乙烯層13以聚(乳酸)-聚(乙二醇)(PLA-PEG)進(jìn)行微接觸印刷。PS自身不具有非常好的潤(rùn)濕特性。通過微接觸印刷，可以定義具有良好的潤(rùn)濕特性的PLA-PEG區(qū)域14，留下了具有差潤(rùn)濕特性的非印刷PS區(qū)域13。這樣，實(shí)現(xiàn)了“負(fù)版印刷”方法。
權(quán)利要求
1.電致發(fā)光顯示面板(2)，包括基板(7)和多個(gè)顯示像素(3)，所述顯示像素包括在所述基板上或上方限定的電致發(fā)光材料，其中所述顯示面板進(jìn)一步包括在至少一些相鄰顯示像素(3)之間的至少一個(gè)微接觸印刷的疏水層(11)。
2.權(quán)利要求1的電致發(fā)光顯示面板(2)，其中所述疏水層(11)是自組裝單層。
3.權(quán)利要求1的電致發(fā)光顯示面板(2)，其中所述基板(7)是柔性基板。
4.權(quán)利要求1的電致發(fā)光顯示面板(2)，其中所述顯示面板(2)進(jìn)一步包括用于所述顯示像素(3)的第一和第二電極(8、13)，以及在所述顯示像素(3)之間隔離了所述第一和所述第二電極(6、13)的保護(hù)層(6)。
5.權(quán)利要求4的電致發(fā)光顯示面板，其中所述微接觸印刷的疏水層(11)定義在所述保護(hù)層(11)的至少一部分上或者上方。
6.權(quán)利要求5的電致發(fā)光顯示面板，其中所述微接觸印刷的疏水層(11)使一部分(6A)所述保護(hù)層(6)暴露于所述電致發(fā)光材料(12)。
7.電氣設(shè)備(1)，包括根據(jù)前面權(quán)利要求中的任何一個(gè)的電致發(fā)光顯示面板(2)。
8.用于制造電致發(fā)光顯示面板(2)的方法，包括步驟-提供基板(7)；-在所述基板上或上方通過微接觸印刷提供疏水層(11)。
9.權(quán)利要求8的方法，其中所述方法進(jìn)一步包括步驟-在所述基板(7)上或上方提供第一電極(8)；-在所述第一基板(7)上或上方提供保護(hù)層(6)；-對(duì)所述保護(hù)層(6)構(gòu)圖以確定顯示像素區(qū)域(3)；-在所述顯示像素區(qū)域(3)之間通過微接觸印刷提供所述疏水層(11)。
10.權(quán)利要求8或9的方法，其中所述方法進(jìn)一步包括步驟將至少一個(gè)電致發(fā)光材料(12)淀積在所述基板上；在至少所述電致發(fā)光材料(12)上或上方提供金屬層(13)。
11.權(quán)利要求8的方法，其中所述疏水層是通過使微接觸印刷層(11)氟化而獲得的。
12.權(quán)利要求8～11中的任何一個(gè)的方法，其中所述疏水層(11)被微接觸印刷在無(wú)機(jī)層上，諸如SiO2或ITO。
13.權(quán)利要求12的方法，其中所述疏水層(11)是三甲氧基(3，3，3-三氟丙基)硅烷。
14.權(quán)利要求8～11中的任何一個(gè)的方法，其中所述疏水層被微接觸印刷在聚合物層上。
15.權(quán)利要求14的方法，其中所述疏水層通過下列步驟獲得-在聚乙烯層上微接觸印刷聚丙烯酸叔丁酯；-對(duì)所述聚丙烯酸叔丁酯進(jìn)行濕法化學(xué)處理，以產(chǎn)生聚丙烯酸超分枝膜；-使至少一部分所述聚丙烯酸超分枝膜氟化。
16.權(quán)利要求14的方法，其中所述疏水層通過下列步驟獲得-在親水聚苯乙烯層上提供聚胺層的聚電解質(zhì)疊層；-在所述聚電解質(zhì)疊層的暴露的聚胺層上微接觸印刷聚苯乙烯-blcok-聚丙烯酸；-使所述聚苯乙烯-block-聚丙烯酸氟化。
17.權(quán)利要求14的方法，其中所述疏水層通過下列步驟獲得-提供親水聚苯乙烯層；-在所述聚苯乙烯層上微接觸印刷聚(乳酸)-聚(乙二醇)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種電致發(fā)光顯示面板(2)，其包括基板和多個(gè)顯示像素(3)，該顯示像素包括在所述基板上或上方限定的電致發(fā)光材料。顯示面板(2)進(jìn)一步包括相鄰顯示像素(3)之間的至少一個(gè)微接觸印刷的疏水層(11)。本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種用于制造電致發(fā)光顯示面板的方法。該方法避免了對(duì)施加用于包含液體電致發(fā)光材料的光致抗蝕劑隔柵的需要。
文檔編號(hào)H01L27/32GK1868073SQ200480029916
公開日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2004年10月6日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月13日
發(fā)明者P·C·多納弗爾德, M·M·J·德克里, G·尼薩托 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司