專利名稱：可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置。
背景技術(shù)：
砷化鋁在濕潤(rùn)氮?dú)馇闆r下會(huì)發(fā)生氧化，氧化產(chǎn)物以氧化鋁為主，具有良好的電絕緣性和低折射率。采用此技術(shù)可形成電流限制和光限制孔徑，可大大降低垂直腔面發(fā)射激光器的閾值電流，是制備垂直腔面發(fā)射激光器的關(guān)鍵技術(shù)之一。氧化處理過(guò)程如圖1所示，傳統(tǒng)外延片承載裝置為一開(kāi)口長(zhǎng)方盒，氧化時(shí)將含有砷化鋁層的外延片腐蝕而側(cè)向露出砷化鋁層，平放于盒內(nèi)。承載裝置放置于恒溫、通有高純氮?dú)夂退难趸癄t腔內(nèi)。高純氮?dú)夂退麖耐庋悠?01上表面流過(guò)，一段時(shí)間后就會(huì)在外延片內(nèi)形成外部已氧化，而中間未氧化的孔，氧化孔徑尺寸由氧化溫度、氣流和時(shí)間決定。對(duì)于氧化爐，其恒溫區(qū)沿氣流方向呈軸對(duì)稱分布。通有恒定高純氮?dú)夂退螅貧饬鞣较驕囟忍荻葘⒉豢杀苊獾脑龃?。如果外延片較長(zhǎng)，兩端溫度就會(huì)有幾度的差別，氧化速率對(duì)溫度很敏感，即使1攝氏度的溫度差別，在一定氧化時(shí)間后也會(huì)引起幾微米甚至十幾微米的氧化孔徑差別，這將嚴(yán)重影響器件性能的均勻性和制備的可重復(fù)性，是垂直腔面發(fā)射激光器量產(chǎn)的一大難題。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于，提供一種可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，此裝置適用于砷化鋁高精度氧化處理，可用于氧化限制型垂直腔面發(fā)射激光器的大規(guī)模生產(chǎn)。
本實(shí)用新型一種可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其組成包括一承載舟，該承載舟為矩形槽體，在內(nèi)部底面上刻有多個(gè)窄槽；一石英柄，該石英柄與承載舟的一窄側(cè)端連接。
其中承載舟內(nèi)部底面上的多個(gè)窄槽的寬度及厚度均大于外延片的寬度和厚度，深度為5mm。
其中承載舟和石英柄的材料采用耐高溫石英。
其中承載舟內(nèi)部底面上的多個(gè)窄槽的槽底為一平面結(jié)構(gòu)。
其中承載舟內(nèi)部底面上的多個(gè)窄槽的槽底為一弧面結(jié)構(gòu)。
本實(shí)用新型提供的一種可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，此裝置適用于砷化鋁高精度氧化處理，可用于氧化限制型垂直腔面發(fā)射激光器的大規(guī)模生產(chǎn)。


為進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容，以下結(jié)合實(shí)施例及附圖詳細(xì)說(shuō)明如后，其中圖1是現(xiàn)有技術(shù)的砷化鋁氧化示意圖；圖2是本實(shí)用新型外延片承載裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明外延片承載裝置如圖2所示，它由承載舟201和石英柄202構(gòu)成，二者均采用耐600攝氏度高溫石英材料，通過(guò)高溫熔接連在一起，熔接時(shí)要保持石英柄202和承載舟201底面在同一水平面，并使石英柄2020位于中心軸處。石英柄2020長(zhǎng)度可根據(jù)氧化爐恒溫區(qū)到氧化爐中用于放置氧化外延片的開(kāi)口處的距離來(lái)決定。該承載舟201為一矩形槽體，在內(nèi)部底面上刻有多個(gè)窄槽203，該承載舟201的寬(垂直于石英柄202和氣流方向的邊)由氧化爐腔體內(nèi)徑確定，長(zhǎng)(平行于石英柄202和氣流方向的邊)可根據(jù)放置外延片的數(shù)量來(lái)確定。邊沿的高度不宜太高，以不超過(guò)5毫米為宜，主要用于防止外延片異外滑落，太高會(huì)嚴(yán)重影響氧化氣流流過(guò)外延片101。承載舟201內(nèi)部上底面刻有窄槽203，這是本裝置的關(guān)鍵。窄槽203長(zhǎng)的方向垂直于石英柄202，長(zhǎng)度要小于承載舟201的寬(垂直于石英柄202和氣流方向的邊)，窄槽203寬為2毫米，深5毫米這是根據(jù)現(xiàn)有外延片厚度以及能否直立放置來(lái)確定的。因此承載舟201的底面應(yīng)該采用較厚的石英材料，厚度要大于5毫米，一般可采用8毫米的石英板。當(dāng)承載舟201上的窄槽203置放的外延片101為矩形時(shí)，該窄槽203的槽底為平面結(jié)構(gòu)；如果承載舟201上的窄槽203置放的外延片101為圓片時(shí)，該窄槽203的槽底可設(shè)計(jì)成弧面結(jié)構(gòu)。
本實(shí)用新型外延片承載裝置主要是根據(jù)氧化爐溫度場(chǎng)分布特點(diǎn)而設(shè)計(jì)。它由承載舟201和石英柄202組成，承載舟201底面刻有窄槽，外延片101可直立放于窄槽203內(nèi)，從而使外延片101垂直于氣流方向放置，大大降低了外延片101上沿氣流方向上的溫度差別，而又不破壞氧化環(huán)境，可大大提高砷化鋁氧化的均勻性和重復(fù)性。
權(quán)利要求1.一種可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其組成包括一承載舟，該承載舟為矩形槽體，在內(nèi)部底面上刻有多個(gè)窄槽；一石英柄，該石英柄與承載舟的一窄側(cè)端連接。
2.按權(quán)利要求1所述的可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其中承載舟內(nèi)部底面上的多個(gè)窄槽的寬度及厚度均大于外延片的寬度和厚度，深度為5mm。
3.按權(quán)利要求1所述的可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其中承載舟和石英柄的材料采用耐高溫石英。
4.按權(quán)利要求1所述的可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其中承載舟內(nèi)部底面上的多個(gè)窄槽的槽底為一平面結(jié)構(gòu)。
5.按權(quán)利要求1所述的可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其中承載舟內(nèi)部底面上的多個(gè)窄槽的槽底為一弧面結(jié)構(gòu)。
專利摘要本實(shí)用新型一種可提高砷化鋁氧化均勻性的外延片承載裝置，其特征在于，其組成包括一承載舟，該承載舟為矩形槽體，在內(nèi)部底面上刻有多個(gè)窄槽；一石英柄，該石英柄與承載舟的一窄側(cè)端連接。本實(shí)用新型適用于砷化鋁高精度氧化處理，可用于氧化限制型垂直腔面發(fā)射激光器的大規(guī)模生產(chǎn)。
文檔編號(hào)H01L21/68GK2777751SQ20042000992
公開(kāi)日2006年5月3日 申請(qǐng)日期2004年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月2日
發(fā)明者佟存柱, 牛智川, 韓勤, 杜云, 吳榮漢 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所