專利名稱：圖案的形成方法及其裝置、器件的制造方法、電光學(xué)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在基板上設(shè)置功能液滴形成圖案的圖案形成方法和圖案形成裝置、器件及其制造方法、電光學(xué)裝置及電子儀器、以及有源矩陣基板的制造方法。
背景技術(shù)：
作為過(guò)去半導(dǎo)體集成電路等具有微細(xì)配線圖案(膜圖案)的器件的制造方法雖然大多采用光刻法，但是采用液滴噴出法的區(qū)間制造方法卻備受注目。這種液滴噴出法具有在功能液的消耗上浪費(fèi)少、容易控制在基板上設(shè)置的功能液的量或位置等優(yōu)點(diǎn)。在以下專利文獻(xiàn)中公開了有關(guān)液滴噴出法的技術(shù)。
專利文獻(xiàn)1特開平11-274671號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開2000-216330號(hào)公報(bào)然而近年來(lái)，構(gòu)成器件的電路逐漸推進(jìn)高密度化，關(guān)于配線圖案進(jìn)一步要求微細(xì)化和細(xì)線化，但是要形成微細(xì)配線圖案的情況下，特別是要保證配線線寬的精度極為困難。因此有人提出，在基板上設(shè)置作隔離部件用的貯存格，在此貯存格間的溝槽部配置功能液的方案。然而據(jù)查明，在貯存格間的溝槽部配置液滴時(shí)，在溝槽部，特別是在端部液滴往往不能充分濕潤(rùn)擴(kuò)展。
另一方面，采用光刻法形成上述貯存格成本雖高但卻是可能。所以也有人提出事先將在基板上形成的疏液區(qū)域和親液區(qū)域圖案化，將液滴選擇性地配置在親液區(qū)域的方法。采用這種方法，有可能使液滴順利地配置在親液區(qū)域，在不形成貯存格的情況下以高位置精度將液滴配置在基板上。然而據(jù)查明，事先在基板上使疏液區(qū)域和親液區(qū)域圖案化，將液滴選擇性配置在親液區(qū)域的方法中，所形成膜圖案的圖案形狀和外觀被液滴的配置順序所左右。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是鑒于上述情況而提出的，目的在于提供一種在采用液滴噴出法形成配線圖案等膜圖案時(shí)，還能將液滴順利地配置在貯存格的端部，形成具有所需圖案形狀的膜圖案的圖案形成方法和圖案形成裝置、以及器件的制造方法。本發(fā)明目的還在于提供一種具有以所需圖案形狀形成的膜圖案的電光學(xué)裝置和電子儀器。
此外，本發(fā)明目的也在于提供一種在用液滴噴出法形成配線圖案等膜圖案時(shí)，能形成具有所需圖案形狀的膜圖案的圖案形成方法和圖案形成裝置、以及器件的制造方法。本發(fā)明目的還在于提供一種具有以所需圖案形狀形成的膜圖案的電光學(xué)裝置和電子儀器。
為了解決上述課題，本發(fā)明的圖案形成方法，是通過(guò)在基板上配置功能液的液滴形成膜圖案的圖案形成方法，其特征在于，具有在所述的基板上以所定圖案形狀形成貯存格的工序，在所述的貯存格間的溝槽部端部配置液滴的工序，在所述的端部配置液滴后在所述的溝槽部中所述的端部以外的位置上配置液滴的工序。
根據(jù)本發(fā)明，在貯存格間的溝槽部配置液滴時(shí)，由于使液滴最初配置在溝槽部的端部，所以液滴穿過(guò)貯存格的側(cè)面流下，可以將其順利地配置在貯存格側(cè)面與溝槽部底部之間的角落部分。因而能夠?qū)⒛D案形成所需的形狀。而且一旦最初將液滴配置在溝槽部中央后再將這種液滴對(duì)著端部連續(xù)配置，被配置在端部的液滴就會(huì)受在先配置液滴的影響，有可能從貯存格間(溝槽部)溢出，而最初將液滴配置在端部的情況下，即使將此液滴連續(xù)配置在端部以外的位置上，也可以抑制液滴從貯存格間(溝槽部)溢出。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，具有對(duì)所述的貯存格賦予疏液性的疏液化處理工序。根據(jù)本發(fā)明，將功能液液滴配置在貯存格間溝槽部時(shí)，即使一部分被噴出的功能液液滴落在貯存格上，因貯存格被賦予疏液性而從貯存格離開(不沾)，就會(huì)經(jīng)過(guò)貯存格落入溝槽部的底部。因而能將被噴出的功能液良好地配置在貯存格間的底部。這里作為疏液化處理工序，可以采用使用含有四氟化碳(CF4)的處理氣體的等離子體處理。這樣能夠在貯存格導(dǎo)入含氟基團(tuán)，使貯存格變成具有不依賴于功能液溶劑的疏液性。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，具有對(duì)所述的溝槽部的底部賦予親液性的親液化處理工序。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)對(duì)溝槽的底部賦予親液性，將使液滴在底部能良好地濕潤(rùn)擴(kuò)展。這里作為親液化工序，可以采用使用含氧(O2)處理氣體的等離子體處理，或者采用紫外線(UV)照射處理。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，在所述的端部配置液滴后，依次向所述的溝槽部的中央部分配置多個(gè)液滴。這樣液滴能夠沿著溝槽部依次配置，能夠很好地形成配線圖案等線狀膜圖案。
而且本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，雖然連續(xù)配置液滴也能形成貯存格，但是由于有可能產(chǎn)生隆起(bulge)，所以優(yōu)選在第一配置工序中以液滴間的間隔在基板上配置后，在第二配置工序中將液滴配置得將此液滴之間填埋。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，在所述的功能液中含有導(dǎo)電性材料。而且其特征在于，所述的功能液通過(guò)熱處理或光處理而呈現(xiàn)導(dǎo)電性。根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)⒈∧D案制成配線圖案，能夠應(yīng)用于各種器件中。而且除導(dǎo)電性材料之外，使用有機(jī)EL等發(fā)光元件形成材料和RGB油墨材料的情況下，還能用于帶有有機(jī)EL裝置或彩色濾光片的液晶顯示裝置等的制造之中。
本發(fā)明的圖案形成裝置，是備有在基板上配置功能液液滴的液滴噴出裝置，用所述的液滴形成膜圖案的圖案形成裝置，其特征在于，所述的液滴噴出裝置在所述的基板上根據(jù)所定圖案事先形成的貯存格間溝槽部上依次配置多個(gè)液滴，依次配置所述的液滴時(shí)，在所述溝槽部端部配置液滴后，在所述的端部中所述的端部以外位置上配置液滴。
根據(jù)本發(fā)明，能將液滴順利地配置在貯存格間溝槽部的端部，形成具有所需圖案形狀的膜圖案。
本發(fā)明的器件的制造方法，其特征在于，在具有在基板上形成膜圖案工序的器件的制造方法中，利用上述的圖案形成方法在所述的基板上形成膜圖案。
根據(jù)本發(fā)明，能夠制造直至端部都具有良好地形成的膜圖案的器件。
本發(fā)明的電光學(xué)裝置，其特征在于，備有用上述器件制造方法制造的器件。而且本發(fā)明的電子儀器，其特征在于，備有上述的電光學(xué)裝置。根據(jù)本發(fā)明，由于備有直至端部都具有良好地形成的膜圖案的、有利于電傳導(dǎo)的膜圖案，可以提供發(fā)揮良好性能的電光學(xué)裝置和電子儀器。
這里作為電光學(xué)裝置，例如可以舉出等離子體型顯示裝置、液晶顯示裝置和有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置等。
本發(fā)明的圖案形成方法，是通過(guò)在基板上配置功能液的液滴形成膜圖案的圖案形成方法，其特征在于，具有在所述的基板上設(shè)定的將形成所定圖案的圖案形成區(qū)域包圍的區(qū)域設(shè)置疏液膜性的工序；在所述的圖案形成區(qū)域的端部配置液滴的工序；以及在所述的端部配置液滴后，在所述的圖案形成區(qū)域的所述的端部以外位置上配置液滴的工序。
根據(jù)本發(fā)明，由于設(shè)置疏液性膜將形成膜圖案的圖案形成區(qū)域包圍，所以可以將被噴出的液滴順利地配置在圖案形成區(qū)域。于是在圖案形成區(qū)域配置液滴時(shí)，由于最初將液滴配置在圖案形成區(qū)域的端部，而且由于將液滴順利地配置在圖案形成區(qū)域的端部，所以能夠使膜圖案形成所需的圖案形狀。而且一旦最初將液滴配置在圖案形成區(qū)域的中央后再連續(xù)于此液滴地配置在端部，被配置在端部的液滴就會(huì)受在先配置液滴的影響而有可能從圖案形成區(qū)域溢出，但是最初將液滴配置在端部的情況下，即使將此液滴連續(xù)配置在端部以外的位置上，也能抑制液滴從圖案形成區(qū)域溢出。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，所述的疏液性膜是在所述的基板表面上形成的單分子膜。而且這種單分子膜，其特征在于是由有機(jī)分子組成的自組織化膜。這樣能夠容易形成疏液性膜。作為自組織化膜，可以舉出由氟代烷基甲硅烷基組成的自組織化膜。
而且所述的疏液性膜也可以是氟化聚合膜。氟化聚合膜，例如，能夠通過(guò)以氟代烴類化合物作為反應(yīng)氣體的等離子體處理容易形成。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，具有對(duì)所述的圖案形成區(qū)域賦予親液性的親液化處理工序。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)對(duì)圖案形成區(qū)域賦予親液性，能使液滴在圖案形成區(qū)域良好地濕潤(rùn)和擴(kuò)展。其中可以采用紫外線(UV)照射處理作為親液化處理工序。這樣能夠使疏液性膜遭到破壞、僅僅照射紫外線的這一簡(jiǎn)單方式賦予親液性。而且能夠在僅僅調(diào)整紫外線照射時(shí)間和照射紫外線功率的簡(jiǎn)單構(gòu)成下調(diào)整到所需的親液性。
或者還可以通過(guò)將基板暴露在臭氧氣氛中的方式賦予親液性。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，在所述的端部配置液滴后，向所述的圖案形成區(qū)域的中央部分依次配置多個(gè)液滴。這樣液滴沿著圖案形成區(qū)域被依次配置，因而能順利地形成配線圖案等線狀膜圖案。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，包括用多個(gè)液滴形成在所述的膜圖案時(shí)，將多個(gè)液滴配置得在所述的基板上液滴之間互相不重疊的第一配置工序；和在所述的第一工序中于所述的基板上配置的多個(gè)液滴之間配置液滴的第二配置工序。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)配置多個(gè)液滴形成膜圖案時(shí)，由于在第一配置工序中以液滴之間間隔在基板上配置后，在第二配置工序中將液滴配置得將此液滴之間填埋，所以不但能抑制隆起的產(chǎn)生，而且還能用多個(gè)液滴使膜圖案連續(xù)。也就是說(shuō)，一旦連續(xù)噴出液滴使多個(gè)液滴配置得在液滴之間不間斷就容易產(chǎn)生隆起，但是將配置動(dòng)作(噴出動(dòng)作)分成數(shù)次，第一配置動(dòng)作中間隔配置液滴，在第二配置動(dòng)作中補(bǔ)足基板上液滴之間的間隙，這種情況下不但能夠抑制隆起的產(chǎn)生，而且還能利用多個(gè)液滴確實(shí)使膜圖案連續(xù)。
本發(fā)明的圖案形成方法中，其特征在于，在所述的功能液中含有導(dǎo)電性材料。此外其特征在于，所述的功能液經(jīng)過(guò)熱處理或光處理而呈現(xiàn)導(dǎo)電性。根據(jù)本發(fā)明能將薄膜圖案制成配線圖案，應(yīng)用于各種器件中。而且除導(dǎo)電性材料之外，使用有機(jī)EL等發(fā)光元件形成材料和RGB的油墨材料的情況下，還能適用于制造具有有機(jī)EL裝置和彩色濾光片的液晶顯示裝置等。
本發(fā)明的圖案形成裝置，是備有在基板上配置功能液液滴的液滴噴出裝置，用所述的液滴形成膜圖案的圖案形成裝置，其特征在于，事先在所述的基板上將形成所定圖案的圖案形成區(qū)域包圍的區(qū)域上設(shè)置疏液性膜，所述的液滴噴出裝置在所述的圖案形成區(qū)域依次配置多個(gè)液滴，依次配置所述的液滴時(shí)，在所述的圖案形成區(qū)域的端部配置液滴后，在該圖案形成區(qū)域中所述的端部以外的位置上配置液滴。
根據(jù)本發(fā)明能夠?qū)⒁旱雾樌嘏渲迷趫D案形成區(qū)域直至端部，形成具有所需圖案形狀的膜圖案。
本發(fā)明器件的制造方法，其特征在于，在具有在基板上形成膜圖案工序的器件制造方法中，用上述的圖案形成方法在所述的基板上形成膜圖案。
根據(jù)本發(fā)明，能夠制造其中具有直至端部良好地形成的膜圖案的器件。
本發(fā)明的電光學(xué)裝置，其特征在于，備有用上述的器件制造方法制造的器件。而且本發(fā)明的電子儀器，其特征在于，備有上述的電光學(xué)裝置。根據(jù)本發(fā)明，由于備有直至端部良好地形成的、有利于導(dǎo)電的膜圖案，所以能夠提供一種可以發(fā)揮良好性能的電光學(xué)裝置和電子儀器。
這里所述的電光學(xué)裝置，例如可以舉出等離子體型顯示裝置、液晶顯示裝置和有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置。
本發(fā)明的有源矩陣基板的制造方法，其特征在于，具有在基板形成柵極配線的第一工序；在所述的柵極配線上形成柵極絕緣膜的第二工序；介于所述的柵極絕緣膜層疊半導(dǎo)體層的第三工序；在所述的柵極絕緣層上形成源電極和漏電極的第四工序；在所述的源電極和所述的漏電極上配置絕緣材料的第五工序；和形成與所述的漏電極電連接的像素電極的第六工序，其中在所述的第一工序、所述的第四工序和所述的第六工序中至少一個(gè)工序具有在所述的基板上形成與所定圖案對(duì)應(yīng)的貯存格的工序；在所述的貯存格間溝槽部的端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的溝槽部中所述的端部以外的位置上配置液滴的工序。
根據(jù)本發(fā)明由于還能將液滴順利地配置在貯存格間溝槽部的端部形成具有所需形狀的膜圖案，所以能夠制造具有所需性能的有源矩陣基板。
本發(fā)明的有源矩陣基板的制造方法，其特征在于，在有源矩陣基板的制造方法中具有在基板形成柵極配線的第一工序；在所述的柵極配線上形成柵極絕緣膜的第二工序；介于所述的柵極絕緣膜層疊半導(dǎo)體層的第三工序；在所述的柵極絕緣層上形成源電極和漏電極的第四工序；在所述的源電極和所述的漏電極上配置絕緣材料的第五工序；和形成與所述的漏電極電連接的像素電極的第六工序，其中在所述的第一工序、所述的第四工序和所述的第六工序中的至少一個(gè)工序具有在所述的基板上設(shè)定的將形成所定圖案的圖案形成區(qū)域包圍的區(qū)域上設(shè)置疏液性膜的工序；在所述的圖案形成區(qū)域的端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的圖案形成區(qū)域的所述的端部以外位置上配置液滴的工序。
根據(jù)本發(fā)明由于能夠形成具有所需形狀的膜圖案，所以能夠制造具有所需性能的有源矩陣基板。
上述液滴噴出裝置(噴墨裝置)的噴出方式，可以舉出帶電控制方式、加壓振動(dòng)方式、電機(jī)轉(zhuǎn)換方式、電熱轉(zhuǎn)換方式、靜電吸引方式等。帶電控制方式是指用帶電電極對(duì)材料賦予電荷，用偏轉(zhuǎn)電極控制材料的飛翔方向使之從噴嘴中噴出的方式。加壓振動(dòng)方式是指對(duì)材料施加30千克/平方厘米左右的超高壓，使材料向噴嘴尖端側(cè)噴出的方式，在不加控制電壓的情況下，材料可以直接進(jìn)入噴嘴噴出，施加控制電壓后在材料之間就會(huì)產(chǎn)生靜電排斥作用，使材料飛散而不能從噴嘴噴出。此外，電機(jī)轉(zhuǎn)換方式是指利用壓電元件(壓電元件)接受脈沖電信號(hào)后變形的性質(zhì)，借助于壓電元件變形通過(guò)柔性物質(zhì)向儲(chǔ)存材料的空間內(nèi)施壓，擠壓材料使之從此空間中噴嘴噴出的方式。而且電熱轉(zhuǎn)換方式是指利用在儲(chǔ)存材料空間內(nèi)設(shè)置的加熱器使材料急劇氣化而產(chǎn)生氣泡，借助于氣泡的壓力使空間內(nèi)的材料噴出的方式。靜電吸引方式是指對(duì)儲(chǔ)存材料的空間施加微小壓力，使噴嘴中形成材料彎月面，在這種狀態(tài)下施加靜電引力后將材料吸引出來(lái)的方式。此外還可以采用利用電場(chǎng)使流體粘性變化的方式，以及利用放電火花飛翔的方式等技術(shù)。液滴噴出法具有材料使用浪費(fèi)少，而且能在所需位置準(zhǔn)確配置所需量材料的優(yōu)點(diǎn)。另外，利用液滴噴出法噴出一滴功能液(液體材料)的量，例如為1～300納克。
所謂含有功能液的液體材料是指，備有從液滴噴頭(油墨噴頭)的噴嘴能夠噴出的粘度的介質(zhì)。無(wú)論是水性的還是油性的均可。只要是備有能從噴嘴中噴出的足夠的流動(dòng)性(粘度)的，也可以是混入了固體但總體上是流體的。而且液體材料中所含的材料，除以微粒形式分散在溶劑中的之外，還可以是被加熱到熔點(diǎn)以上熔化的材料，或者是除溶劑以外還添加了染料或顏料等其他功能性材料的。此外，基板除平板之外，也可以是曲面狀基板。不僅如此，圖案形成面的硬度不必很硬，除玻璃和塑料、金屬以外，也可以是薄膜、紙張、橡膠等具有柔性的表面。


圖1是表示本發(fā)明的圖案形成方法的一種實(shí)施方式的流程圖。
圖2是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖3是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖4是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖5是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖6是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖7是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖8是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖9是表示本發(fā)明的圖案形成方法的一種實(shí)施方式的流程圖。
圖10是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖11是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖12是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖13是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖14是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖15是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖16是表示本發(fā)明的圖案形成順序的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
圖17是表示本發(fā)明的圖案形成方法的一種實(shí)施方式的流程圖。
圖18是表示圖一種等離子體處理裝置的示意圖。
圖19是表示本發(fā)明電光學(xué)裝置的一個(gè)實(shí)例的圖，是表示等離子體型顯示裝置的示意圖。
圖20是表示本發(fā)明電光學(xué)裝置的一個(gè)實(shí)例的圖，是液晶顯示裝置的示意圖。
圖21是表示用本發(fā)明的器件制造方法制造的一個(gè)器件實(shí)例的視圖，是表示薄膜晶體管的示意圖。
圖22是表示有機(jī)EL裝置的局部放大剖面圖。
圖23是制造薄膜晶體管用制造工序的說(shuō)明圖。
圖24是制造薄膜晶體管用制造工序的說(shuō)明圖。
圖25是制造薄膜晶體管用制造工序的說(shuō)明圖。
圖26是制造薄膜晶體管用制造工序的說(shuō)明圖。
圖27是表示液晶顯示裝置的另一實(shí)施方式的視圖。
圖28是表示本發(fā)明的電子儀器的具體實(shí)例的視圖。
圖中，10…液滴噴頭(液滴噴出裝置)、30…液滴、33…配線圖案(膜圖案)、34…溝槽部、35…底部、36，38…端部、73…配線圖案(膜圖案)、74…圖案形成區(qū)域、76，78…端部、100…圖案形成裝置(液滴噴出裝置)、B…貯存格、F…疏液區(qū)域(疏液膜區(qū)域)、P…基板具體實(shí)施方式
第一種實(shí)施方式(圖案的形成方法)下面參照

本發(fā)明的圖案的形成方法。圖1是表示本發(fā)明的一種圖案形成方法實(shí)施方式的流程圖。
其中在本實(shí)施方式中，以在玻璃基板上形成導(dǎo)電膜配線圖案的情況為例加以說(shuō)明。而且形成導(dǎo)電膜配線圖案用的功能液，使用以二甘醇二乙基醚作為溶劑(分散劑)的有機(jī)銀化合物。
圖1中，本實(shí)施方式涉及的圖案形成方法具有在配置功能液液滴的基板上形成與配線圖案對(duì)應(yīng)的貯存格的貯存格形成工序(步驟SA1)；對(duì)貯存格間溝槽部的底部賦予親液性的親液化處理工序(步驟SA2)；對(duì)貯存格賦予疏液性的疏液化處理工序(步驟SA3)；基于液滴噴出法在貯存格間的溝槽部配置多個(gè)功能液液滴形成(描繪)膜圖案的材料配置工序(步驟SA4)；將基板上配置的功能液的至少一部分液體成分除去的包括熱和光處理的中間干燥處理工序(步驟SA5)；和對(duì)形成了所定膜圖案的基板進(jìn)行燒成的燒成工序(步驟SA7)。而且，在中間干燥處理工序后，判斷所定圖案描繪是否終止(步驟SA6)，若圖案描繪終止則進(jìn)行燒成工序，若圖案描繪尚未終止則進(jìn)行材料配置工序。
以下說(shuō)明各工序。
(貯存格形成工序)首先如圖2(a)所示，對(duì)基板P實(shí)施HMDS處理作為表面改質(zhì)處理。HMDS處理是將六甲基二硅氮烷((CH3)3SiNHSi(CH3)3)制成蒸氣狀后涂布的一種方法。利用這種方法能夠在基板P上形成HMDS層作為提高貯存格與基板P之間密接性的密接層。貯存格是具有隔離部件功能的一種部件，貯存格的形成可以采用光刻法和印刷法等任意方法進(jìn)行。例如采用光刻法的情況下，利用旋涂法、噴涂法、輥涂法、模涂法、蘸涂法等所定方法，如圖2(b)所示，根據(jù)基板P的HMDS層32上貯存格的高度，涂布本身是貯存格形成材料的有機(jī)材料31，在其上涂布抗蝕劑層。然后根據(jù)貯存格的形狀(配線圖案)，施加掩模使抗蝕劑曝光和顯影，殘留下與貯存格一致的抗蝕劑。最后腐蝕除去抗蝕劑以外部分的有機(jī)材料31。而且還可以形成下層是無(wú)機(jī)物而上層是有機(jī)物結(jié)構(gòu)的兩層以上結(jié)構(gòu)的貯存格。利用這種方法，如圖2(c)所示，能夠突出設(shè)置貯存格B、B，以將形成配線圖案的所定區(qū)域的周邊包圍。作為形成貯存格用的有機(jī)材料，既可以是對(duì)功能液(液體材料)顯示疏液性的材料，也可以像后述那樣經(jīng)等離子體處理而疏液化，與基底基板的密接性良好、容易用光刻法圖案化的有機(jī)絕緣材料。例如可以使用丙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂、烯烴樹脂、苯酚樹脂、蜜胺樹脂等高分子材料。
在基板P上一旦形成貯存格B、B后就可以進(jìn)行氫氟酸處理。氫氟酸處理，例如是用2.5％的氫氟酸水溶液進(jìn)行腐蝕，除去為貯存格B、B之間HMDS層32的一種處理方法。氫氟酸處理方法使貯存格B、B作為掩模發(fā)揮作用，可以除去為在貯存格B、B之間形成的溝槽部34的底部35的、有機(jī)物的HMDS層32。這種方法，如圖2(d)所示，能夠除去作為殘?jiān)腍MDS。
(親液化處理工序)然后對(duì)溝槽部34的底部35進(jìn)行賦予親液性的親液化處理工序。親液化處理工序，可以選擇通過(guò)照射紫外線賦予親液性的紫外線(UV)照射處理和在大氣氣氛中以氧作處理氣體的O2等離子體處理等。這里實(shí)施的是O2等離子體處理。
O2等離子體處理是用等離子體放電電極對(duì)基板照射等離子體狀態(tài)的氧。O2等離子體處理的條件是，例如等離子體功率為50～1000W、氧氣流量為50～100毫升/分鐘、基板與等離子體放電電極的相對(duì)移動(dòng)速度為0.5～10毫米/秒鐘、基板溫度為70～90℃。而且當(dāng)基板是玻璃基板的情況下，其表面對(duì)功能液雖然有親液性，但是像本實(shí)施方式那樣，在實(shí)施O2等離子體處理和紫外線照射處理的情況下，能夠提高貯存格B，B之間露出的基板P表面(底部35)的親液性。其中優(yōu)選進(jìn)行O2等離子體處理和紫外線照射處理，使相對(duì)于貯存格間底部35的功能液的接觸角為15度或其以下。
另外，O2等離子體處理和紫外線照射處理，具有除去存在于底部35、構(gòu)成一部分殘?jiān)腍MDS的功能。因此經(jīng)過(guò)上述氫氟酸處理，即使不能完全除去貯存格B、B間底部35的有機(jī)殘?jiān)?HMDS)，通過(guò)進(jìn)行O2等離子體處理或紫外線照射處理也能除去這些殘?jiān)?。這里雖然是作為部分殘?jiān)幚矶M(jìn)行氫氟酸處理，但是通過(guò)O2等離子體處理或紫外線照射處理能夠?qū)①A存格間底部35殘?jiān)浞殖?，所以也可以不進(jìn)行氫氟酸處理。而且這里雖然說(shuō)明了作為殘?jiān)幚聿捎肙2等離子體處理或紫外線照射處理中任何一種方法進(jìn)行，但是當(dāng)然也可以將O2等離子體處理和紫外線照射處理加以組合。
(疏液化處理工序)接著對(duì)貯存格B進(jìn)行疏液化處理，對(duì)其表面賦予疏液性。作為疏液化處理，可以采用在大氣中以四氟化碳(四氟甲烷)作處理氣體的等離子體處理法(CF4等離子體處理法)。CF4等離子體處理?xiàng)l件可以設(shè)定為例如等離子體功率為50～1000W、四氟化碳?xì)怏w流量為50～100毫升/分鐘、基板與等離子體放電電極的相對(duì)移動(dòng)速度為0.5～1020毫米/秒鐘、基板溫度為70～90℃。其中作為處理氣體并不限于四氟化碳，也可以采用其他氟代烴類。通過(guò)進(jìn)行這種疏液化處理，能夠?qū)A存格B、B將構(gòu)成其的樹脂中導(dǎo)入氟原子，從而賦予很高的疏液性。其中作為上述的親液化處理的O2等離子體處理，雖然也可以在貯存格B形成之前進(jìn)行，但是由于丙烯樹脂和聚酰亞胺樹脂等具有經(jīng)O2等離子體處理等前處理而更容易疏液化(氟化)的性質(zhì)，所以優(yōu)選在形成貯存格B后再進(jìn)行O2等離子體處理。
另外，經(jīng)過(guò)對(duì)貯存格B、B進(jìn)行疏液化處理，雖然對(duì)為在先親液化處理的貯存格間的基板P露出部分多少有些影響，但是特別當(dāng)基板P是由玻璃等組成的情況下，由于疏液化處理不會(huì)導(dǎo)入氟原子，所以對(duì)基板P的親液性，即濕潤(rùn)性沒(méi)有實(shí)質(zhì)上的損害。而且關(guān)于貯存格B、B，如果用具有疏液性的材料(例如含氟原子的樹脂材料)形成，則也可以省略這種疏液化處理。
(材料配置工序)下面參照?qǐng)D3和圖4說(shuō)明本實(shí)施方式的材料配置工序。材料配置工序，是用液滴噴出裝置的液滴噴頭10，噴出含有配線圖案形成材料用功能液的液滴，將其配置在貯存格B、B間的溝槽部34上，在基板P上形成線狀膜圖案(配線圖案)的工序，其中具有在貯存格B、B間的溝槽部34的端部配置液滴的第一工序，和在溝槽部34中端部以外的位置上配置液滴的第二工序。本實(shí)施方式中，功能液是將含有作配線圖案形成材料用的銀的有機(jī)銀化合物在二甘醇二乙基醚中分散而成的液體。
在材料配置工序中的第一工序中，如圖4(a)所示的俯視圖那樣，從液滴噴頭10噴出的液滴30，最初被配置在貯存格B、B間溝槽部34的縱向端部36。其中，將溝槽部34制成在圖中呈以Y軸方向?yàn)榭v向的俯視矩形形狀，在端部36中底部35與貯存格B壁面之間形成了直角部分37。向端部36噴出的液滴30經(jīng)過(guò)貯存格B的壁面流下，被順利地配置在貯存格B與溝槽部34的底部35之間的直角部分37。而且由于貯存格B被賦予疏液性，所以一部分被噴出的液滴即使落在貯存格B上也會(huì)從貯存格B離開，經(jīng)過(guò)貯存格B的壁面流入溝槽部34的底部35上。于是由于底部已被親液化，所以落入底部35的液滴將能良好地濕潤(rùn)擴(kuò)展。
在溝槽34中沿著縱向端部36配置液滴后，如圖4(b)所示，一邊使液滴噴頭10相對(duì)于基板P在Y軸方向作相對(duì)移動(dòng)，一邊依次噴出多個(gè)液滴。經(jīng)液滴噴頭10噴出的液滴，被配置在溝槽部34中端部36以外位置處。圖4(b)中表示在端部36配置液滴后，依次將多個(gè)液滴朝著溝槽部34縱向中央部分依次配置的實(shí)例。這樣能夠良好地形成一部分配線圖案。
此時(shí)，被噴出液滴的配線圖案所定形成區(qū)域(即溝槽部34)由于被貯存格B、B包圍，所以能夠阻止液滴向所定位置以外擴(kuò)展。而且由于貯存格B、B被賦予疏液性，所以即使一部分被噴出的液滴落在貯存格B上，因貯存格表面已經(jīng)具有疏液性而離開貯存格，流入為貯存格間的溝槽部34中。此外，由于基板P露出的溝槽部34的底部35被賦予了親液性，所以被噴出的液滴容易在接近底部35擴(kuò)展，這樣能將功能液均勻配置在所定位置上。
另外，在圖4(b)所示的實(shí)例中，將一滴液滴在基板P上配置后噴出下一液滴時(shí)，其噴出構(gòu)成雖然是使下一液滴與在先配置在基板上的部分液滴重合，但是在前一液滴配置在基板P上后噴出下一液滴之間，根據(jù)需要除去基板上液滴中的液體成分(分散劑)的情況下進(jìn)行中間干燥處理(步驟5)。中間干燥處理，例如除使用電熱板、電爐和熱風(fēng)機(jī)等加熱裝置進(jìn)行一般熱處理之外，也可以采用燈退火的光處理。
然后如圖4(c)所示，可以使液滴噴頭10向溝槽部34縱向的另一端部38移動(dòng)。而且從液滴噴頭10向端部38噴出液滴。向端部38噴出的液滴，流經(jīng)貯存格B的壁面流下，可以順利地配置在貯存格B與溝槽部34底部35之間的直角部分39上。其中由于貯存格B被賦予了疏液性，所以液滴流經(jīng)貯存格B的壁面落入溝槽部34的底部35上。而且由于底部35被親液化，所以落入底部35的液滴能良好地濕潤(rùn)擴(kuò)展。
將液滴配置在溝槽部34的縱向端部38后，如圖4(d)所示，一邊使液滴噴頭10相對(duì)于基板P沿著Y軸方向相對(duì)移動(dòng)，一邊依次噴出多個(gè)液滴。多個(gè)液滴依次被配置在溝槽部34的縱向中央部分上，與在先形成的一部分配線圖案連接，這樣可以形成配線圖案(膜圖案)33A。
其中作為液滴噴出條件，例如可以在油墨重量4納克/滴、油墨速度(噴出速度)5～7米/秒鐘下進(jìn)行。而且噴出液滴的氣氛優(yōu)選設(shè)定在60℃溫度或其以下和80％相對(duì)濕度或其以下。這樣，能夠在液滴噴頭10的噴嘴不堵塞的情況下進(jìn)行穩(wěn)定的液滴噴出。
(中間干燥工序)將液滴在基板P上噴出后，為了確保除去分散劑和膜厚，必要時(shí)進(jìn)行干燥處理。干燥處理，例如除采用加熱基板P用的通常電熱板、電爐等處理之外，還可以采用燈退火方式進(jìn)行。作為燈退火使用光的光源并無(wú)特別限制，可以使用紅外燈、氙燈、YAG激光器、氬激光器、二氧化碳激光器、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArCl等激元激光器等作為光源。這些光源一般可以使用功率為10W或其以上和5000W或其以下范圍內(nèi)的，但是在本實(shí)施方式中功率為100W或其以上和1000W或其以下就足夠了。而且，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行這種中間干燥工序和上述材料配置工序，如圖3(g)所示，可以使功能液液滴多層層疊，形成膜厚厚的配線圖案(膜圖案)33A。
(燒成工序)噴出工序后的干燥膜，為了能在粒子間實(shí)現(xiàn)良好的電接觸，需要完全除去分散劑。而且為了提高導(dǎo)電性微粒在表面上的分散性，涂布有機(jī)物等涂料的情況下，還需要除去這種涂料。此外當(dāng)功能液含有有機(jī)銀化合物的情況下，為了獲得導(dǎo)電性需要進(jìn)行熱處理，除去有機(jī)銀化合物中的有機(jī)成分，使銀粒子殘存下來(lái)。為此可以對(duì)噴出工序后的基板進(jìn)行熱處理和/或光處理。熱處理和/或光處理通常在大氣中進(jìn)行，但是必要時(shí)也可以在氮?dú)?、氬氣、氦氣等惰性氣體氣氛中進(jìn)行。熱處理和/或光處理的處理溫度，可以根據(jù)分散劑的沸點(diǎn)(蒸氣壓)、氣氛氣體的種類或壓力、微粒的分散性或氧化性等熱行為、涂料的有無(wú)和數(shù)量、以及基體材料的耐熱溫度等適當(dāng)確定。例如，為了除去有機(jī)物組成的涂料，需要在大約300℃下燒成。而且例如為了除去有機(jī)銀化合物中的有機(jī)成分，需要在大約200℃下燒成。此外在使用塑料等基板的情況下，優(yōu)選在室溫或其以上至100℃或其以下溫度下進(jìn)行。通過(guò)以上工序，噴出工序后的導(dǎo)電性材料(有機(jī)銀化合物)，可以確保微粒間的電接觸，如圖3(h)所示，可以轉(zhuǎn)變成導(dǎo)電性膜(配線圖案)33。
而且，在燒成工序后，利用灰化(ashing)剝離處理能夠除去基板p上存在的貯存格B、B?；一幚砜梢圆捎玫入x子體灰化處理和臭氧灰化處理等方法。等離子體灰化處理是使等離子體化的氧氣等氣體與貯存格反應(yīng)，使貯存格氣化除去的方法。貯存格是由碳、氧、氫等構(gòu)成的固體物質(zhì)，當(dāng)其與氧等離子體反應(yīng)時(shí)將會(huì)變成CO2、H2O和O2，能夠全部以氣體形式剝離。另一方面，臭氧灰化的基本原理與等離子體灰化相同，使O3(臭氧)分解變成活性氣體O+(氧游離基)，使這種O+與貯存格反應(yīng)。與O+反應(yīng)后的貯存格，變成CO2、H2O和O2，全部以氣體形式剝離。通過(guò)對(duì)基板進(jìn)行灰化剝離處理，可以從基板P上除去貯存格。
下面參照?qǐng)D5(a)說(shuō)明形成配線圖案33時(shí)液滴配置順序的另一實(shí)例。
如圖5(a)所示，首先將從液滴噴頭10噴出的液滴L1以所定間隔依次配置在基板P上。也就是說(shuō)，液滴噴頭10在基板P上配置液滴L1互相不重疊(第一配置工序)。本例中，液滴L1的配置間距P1被設(shè)定得比在基板P上配置后液滴L1的直徑大。這樣就能使在基板P上配置后的液滴L1互相不重疊(互相不接觸)，可以防止因液滴L1互相合并而在基板P上濕潤(rùn)擴(kuò)展。而且液滴L1的配置間距P1，可以設(shè)定得為配置后液滴L1直徑的2倍以下。這里在基板P上配置液滴后，為了除去分散劑必要時(shí)可以進(jìn)行中間干燥處理(步驟SA5)。
然后如圖5(b)所示，重復(fù)上述的液滴配置動(dòng)作。也就是說(shuō)，與圖5(a)所示的上次那樣，從液滴噴頭10噴出液滴L2，每隔一定距離在基板P上配置該液滴L2。此時(shí)液滴L2的體積(一滴液滴相當(dāng)?shù)墓δ芤毫?及其配置間距P2與上次的液滴L1相同。而且使液滴L2的配置位置移到距離上次液滴L1具有1/2間距距離，將本次液滴L2配置在基板P上配置的上次液滴L1間的中間位置上(第二配置工序)。如上所述，基板P上液滴L1的配置間距P1，比基板P上配置后液滴L1的直徑大，而且為其直徑的二倍或其以下。因此，通過(guò)將液滴L2配置在液滴L1的中間位置，液滴L2與液滴L1部分重疊，能將液滴L1之間的空隙填埋。此時(shí)，本次液滴L2與上次液滴L1雖然接觸，但是由于上次液滴L1中的分散劑已經(jīng)被全部或以某種程度除去，所以二者合并在基板P上擴(kuò)展少。將液滴L2配置在基板P上后，為了除去分散劑與上次同樣，必要時(shí)可以進(jìn)行中間干燥工序。
通過(guò)多次反復(fù)進(jìn)行這樣的一系列液滴配置動(dòng)作，可以將基板P上配置的液滴之間的空隙填埋，如圖5(c)所示，在基板P上形成線狀連續(xù)的配線圖案33。這種情況下，通過(guò)增加液滴配置動(dòng)作反復(fù)的次數(shù)，使液滴在基板P上依次重疊，增加配線圖案33的膜厚。
其中在圖5(b)中，雖然使開始配置液滴L2的位置為上次的同側(cè)(圖5(a)所示的左側(cè))，但是也可以使之為反向一側(cè)(右側(cè))。通過(guò)在往復(fù)動(dòng)作的各方向移動(dòng)時(shí)噴出液滴，能夠減少噴頭10與基板P之間相對(duì)移動(dòng)的距離。
以下參照?qǐng)D6和圖7說(shuō)明功能液配置順序的其他實(shí)例。其中在用圖6和圖7的說(shuō)明中，對(duì)于第一次在基板P上(溝槽部34)配置的液滴附以符號(hào)“1”，對(duì)于第二次、第三次、…第n次配置的液滴附以符號(hào)“2”、“3”…“n”。
如圖6所示，可以采用這樣一種方式，即對(duì)著溝槽部34中縱向一個(gè)端部36配置第一滴液滴，然后對(duì)著縱向另一端部38配置第二滴液滴，接著向中央部依次配置液滴。
而且也可以另一種方式，即如圖7所示，在將多個(gè)(這里是三條)線狀圖案合并形成寬幅配線圖案33的情況下，分別交替將液滴配置在一端部36和另一端部38上。
而且還可以采用這樣一種方式，即如圖8所示，使用以Y軸方向?yàn)榭v向，在Y軸方向上并列排列的多個(gè)噴嘴的液滴噴頭10在基板P上配置液滴時(shí)，在溝槽部34縱向與液滴噴頭10縱向一致的狀態(tài)下，如圖8(a)所示，一邊使液滴噴頭10沿著X方向掃描，一邊從液滴噴頭10的多個(gè)噴嘴中與端部36、38對(duì)應(yīng)的噴嘴選擇性噴出液滴30，然后如圖8(b)和圖8(c)所示，依次向溝槽部34的縱向中央部分配置液滴30。
另外，在上述實(shí)施方式中，可以使用玻璃、石英玻璃、硅晶片、塑料薄膜、金屬板等各種材料作為導(dǎo)電膜配線用基板。而且也包括在這些各種材料基板表面上形成了半導(dǎo)體膜、金屬膜、電介質(zhì)膜、有機(jī)膜等作為基底層的。
作為導(dǎo)電膜配線用功能液，本例中使用的是將含有有機(jī)銀化合物的導(dǎo)電性微粒分散在分散劑中的分散液(液體材料)，水溶性和油溶性均可。
這里使用的導(dǎo)電性微粒，除含有金、銀、銅、鈀和鎳中的任何金屬的金屬微粒以外，還可以使用導(dǎo)電性聚合物和超導(dǎo)體微粒等。
為了提高分散性，這些導(dǎo)電性微粒也可以使用表面上涂有有機(jī)物等的。作為在導(dǎo)電性微粒表面涂布的涂料，可以舉出碳原子數(shù)為5個(gè)或其以上的烴類、醇類、醚類、酯類、酮類、有機(jī)氮化合物、有機(jī)硅化合物、有機(jī)硫化合物或其混合物。
導(dǎo)電性微粒的粒徑優(yōu)選為1納米或其以上和0.1微米或其以下。若大于0.1微米，則有使上述液滴噴頭的噴嘴堵塞之虞。而一旦小于1納米，涂料相對(duì)于導(dǎo)電性微粒的容積比就會(huì)增大，使得到的膜中有機(jī)物比例過(guò)高。
作為含有導(dǎo)電性微粒的液體的分散劑，優(yōu)選在室溫下蒸氣壓為0.001mmHg或其以上和200mmHg或其以下(大約0.133Pa或其以上和26600Pa或其以下)的。在蒸氣壓高于200mmHg的情況下，噴出后分散劑會(huì)急劇蒸發(fā)，很難形成良好的膜。而且更優(yōu)選分散劑的蒸氣壓為0.001mmHg或其以上和50mmHg或其以下(大約0.133Pa或其以上和6650Pa或其以下)的。蒸氣壓高于50mmHg的情況下，用噴墨法噴出液滴時(shí)容易因干燥引起噴嘴堵塞。另一方面，當(dāng)分散劑在室溫下蒸氣壓低于0.001mmHg的情況下，因干燥減慢而容易在膜中殘留分散劑，后續(xù)工序的熱和光處理后很難得到質(zhì)地優(yōu)良的膜。
作為上述分散劑，只要是能將上述導(dǎo)電性微粒分散而不引起凝聚的就無(wú)特別限制。本實(shí)施方式中雖然使用了二甘醇二乙基醚，但是還可以舉出例如水、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇類，正庚烷、正辛烷、癸烷、甲苯、二甲苯、對(duì)異丙基甲苯、杜烯、茚、二戊烯、四氫萘、十氫萘、環(huán)己基苯等烴類化合物，和乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲基乙基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙基醚、1，2-二甲氧基乙烷、雙(2-甲氧基乙基)醚、對(duì)二噁烷等醚類化合物，以及亞丙基碳酸酯、γ-丁內(nèi)酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、環(huán)己酮等極性化合物。從微粒的分散性和分散液的穩(wěn)定性以及采用液滴噴出法的容易性觀點(diǎn)來(lái)看，這些分散劑中，優(yōu)選水、醇類、烴類化合物類和醚類化合物，更優(yōu)選的分散劑可以舉出水和烴類化合物。這些分散劑可以單獨(dú)使用或者兩種或其以上組合使用。
將上述導(dǎo)電性微粒分散在分散劑中時(shí)分散體濃度為1重量％或其以上和80重量％或其以下，可以根據(jù)所需導(dǎo)電膜的膜厚進(jìn)行調(diào)整。其中一旦超過(guò)80重量％就容易產(chǎn)生凝聚，很難得到均勻的膜。
上述導(dǎo)電性微粒分散液的表面張力，優(yōu)選為0.02N/m或其以上和0.07N/m或其以下范圍內(nèi)。采用液滴噴出法噴出液體材料時(shí)，表面張力一旦低于0.02N/m，因液體材料對(duì)噴嘴面的濕潤(rùn)性增大而容易使飛行路線產(chǎn)生彎曲，反之若超過(guò)0.07N/m因噴嘴端部的彎月面形狀不穩(wěn)定而使噴出量和噴出定時(shí)的控制變得困難。
為了調(diào)整表面張力，可以在使與基板的接觸角不產(chǎn)生顯著降低的范圍內(nèi)，向上述分散液中添加微量含氟類、硅酮類、非離子類等表面張力調(diào)節(jié)劑。
非離子類表面張力調(diào)節(jié)劑能提高液體對(duì)基板的濕潤(rùn)性，改善膜的流平性，具有防止產(chǎn)生膜的微小凹凸的作用。上述分散液，必要時(shí)還可以含有醇、醚、酯、酮等有機(jī)化合物。
上述分散液的粘度優(yōu)選為1mPa·s或其以上和50mPa·s或其以下。用液滴噴出法以液滴形式噴出液體材料時(shí)，在粘度小于1mPa·s的情況下，噴嘴周邊部分容易因液體材料的流出污染，而且在粘度大于50mPa·s的情況下，噴嘴孔被堵塞的頻度增高，很難順利的噴出液滴。
第二種實(shí)施方式(圖案的形成方法)以下參照

本發(fā)明的圖案的形成方法。圖9是表示本發(fā)明的一種圖案形成方法實(shí)施方式的流程圖。
其中，在本實(shí)施方式中，以在玻璃基板上形成導(dǎo)電膜配線圖案的情況為例加以說(shuō)明。而且形成導(dǎo)電膜配線圖案用的功能液，使用以二甘醇二乙基醚作為溶劑(分散劑)的有機(jī)銀化合物。
圖9中，本實(shí)施方式涉及的圖案形成方法具有基板洗滌工序(步驟SB1)，其用所定溶劑等洗滌配置了功能液液滴的基板；疏液化處理工序(SB2)，其通過(guò)在基板表面上設(shè)置疏液性膜對(duì)基板賦予疏液性；親液化處理工序(步驟SB3)，以對(duì)于經(jīng)過(guò)疏液化處理的基板表面中形成配線圖案的圖案形成區(qū)域賦予親液性；材料配置工序(步驟SB4)，其采用液滴噴出法在基板上的圖案形成區(qū)域配置功能液的液滴形成(描繪)膜圖案；包括熱和光處理的中間干燥處理工序(步驟SB5)，以將基板上配置的功能液的至少一部分液體成分除去；和燒成工序(步驟SB7)，以對(duì)描繪了所定膜圖案的基板進(jìn)行燒成。而且在中間干燥處理工序后，判斷所定圖案描繪是否終止(步驟SB6)，若圖案描繪終止則進(jìn)行燒成工序，若圖案描繪尚未終止則進(jìn)行材料配置工序。
以下說(shuō)明各工序。
(基板洗滌工序)首先用所定溶劑洗滌基板。這樣能除去基板上的有機(jī)物殘?jiān)?。另外，?duì)基板表面照射紫外線也能除去有機(jī)物殘?jiān)?br> (疏液化處理工序)接著在要形成配線圖案的基板表面進(jìn)行對(duì)功能液的疏液性加工。具體講，應(yīng)當(dāng)對(duì)基板表面實(shí)施表面處理，使相對(duì)于功能液的所定功能角為60度或其以上，優(yōu)選為90度或其以上和110度或其以下。作為賦予疏液性(濕潤(rùn)性)的方法，可以采用在基板表面上設(shè)置疏液膜的方法。這里將會(huì)形成具有疏液性的自組織化膜。
采用自組織化膜形成法，將在應(yīng)當(dāng)形成導(dǎo)電膜配線的基板表面上形成由有機(jī)分子膜等組成的自組織化膜。處理基板表面用的有機(jī)分子膜備有能與基板結(jié)合的官能團(tuán)、為其對(duì)側(cè)的親液基團(tuán)或疏液基團(tuán)這一能將基板的表面性質(zhì)改質(zhì)(控制表面能量)的官能團(tuán)、和與這些官能團(tuán)結(jié)合的直鏈碳鏈或部分支鏈碳鏈，并與基板結(jié)合而自組織化，形成分子膜，例如單分子膜。
這里所述的自組織化膜(自組織化膜化單分子膜SAM(Self AssembledMonolayer)，是指使由能與基板基底層等的構(gòu)成原子反應(yīng)的結(jié)合性的官能團(tuán)及其以外的直鏈分子所組成、由直鏈分子的相互作用而具有極高的取向性的化合物取向而形成的膜。這種自組織化膜，由于是使單分子取向而形成的，所以能夠使膜厚變得極薄，而且將形成分子水平上均勻的膜。也就是說(shuō)，由于相同分子位置為膜的表面上，所以膜的表面均勻而且能賦予優(yōu)良的疏液性和親液性。
作為具有上述高取向性的化合物，例如通過(guò)采用氟代烷基甲硅烷(以下適當(dāng)稱為“FAS”)，可以使各化合物取向得氟代烷基位于膜的表面上而形成自組織化膜，對(duì)膜的表面賦予均勻的疏液性。作為能形成自組織化膜的化合物的FAS，可以舉出十七氟代-1，1，2，2-四氫癸基三乙氧基硅烷、十七氟代-1，1，2，2-四氫癸基三甲氧基硅烷、十七氟代-1，1，2，2-四氫癸基三氯代甲硅烷、十三氟代-1，1，2，2-四氫辛基三乙氧基硅烷、十三氟代-1，1，2，2-四氫辛基三甲氧基硅烷、十三氟代-1，1，2，2-四氫辛基三氯代硅烷、三氟代丙基三甲氧基硅烷等氟代烷基硅烷。這些化合物可以單獨(dú)使用或者兩種或其以上組合使用。其中通過(guò)使用FAS能夠獲得與基板的密接性和良好的疏液性。
FAS一般可以用結(jié)構(gòu)式Rn-Si-X(4-n)表示。式中，n表示1或其以上3或其以下的整數(shù)，X表示甲氧基、乙氧基、鹵原子等水解性基團(tuán)。而且R是氟代烷基，當(dāng)具有(CF3)(CF2)x(CH2)y(式中x、y分別表示0或其以上和10或其以下的整數(shù)和0或其以上4或其以下的整數(shù))的結(jié)構(gòu)，而且多個(gè)R或X與Si結(jié)合的情況下，R或X可以分別都相同或不同。由X表示的水解基團(tuán)因水解而形成硅烷醇，與基板P(玻璃或硅)基底的羥基反應(yīng)以硅氧烷鍵與基板結(jié)合。另一方面，R由于表面上具有(CF3)等氟代基團(tuán)，所以將基板的基底表面改質(zhì)為不濕潤(rùn)的(表面能量低的)表面。
圖10是在基板P上形成由FAS組成的自組織化膜(FAS膜)的FAS處理裝置20的示意結(jié)構(gòu)圖。FAS處理裝置20在基板P上形成由FAS組成的自組織化膜，賦予疏液性。如圖10所示，F(xiàn)AS處理裝置20備有腔室21、設(shè)置在腔室21內(nèi)保持基板P用的基板支架22和容納液相狀態(tài)FAS(液體FAS)的容器23。而且在室溫環(huán)境下，通過(guò)事先將基板P和容納液體FAS的容器23放置在腔室21內(nèi)，液體容器23內(nèi)的液體FAS會(huì)變成氣相從容器23的開口部23a向腔室21內(nèi)放出，例如經(jīng)過(guò)2～3日左右可以在基板P上形成由FAS組成的自組織化膜。此外，通過(guò)將腔室21全體維持在100℃左右，大約經(jīng)過(guò)3小時(shí)就可以在基板P上形成自組織化膜。
而且這里雖然說(shuō)明了氣相形成法，但是也能從液相形成自組織化膜。
例如，將基板浸漬在含有原料化合物的溶液中，經(jīng)過(guò)洗滌和干燥，可以在基板上形成自組織化膜。
另外，疏液性膜也可以是通過(guò)等離子體處理法形成的含氟聚合膜。在等離子體處理方法中，在常壓或者真空中對(duì)基板進(jìn)行等離子體照射。等離子體處理用的氣體種類，可以根據(jù)應(yīng)當(dāng)形成配線圖案的基板P表面材質(zhì)等作各種選擇。作為處理氣體，例如可以舉出四氟化甲烷、全氟己烷、全氟癸烷等。
另外，將基板P的表面加工成疏液性的處理，也可采用在基板P的表面上粘貼具有所需疏液性的膜，例如經(jīng)四氟乙烯加工的聚酰亞胺膜等的方法進(jìn)行。而且還可以直接將疏液性強(qiáng)的聚酰亞胺膜作為基板P使用。
(親液化處理工序)對(duì)基板P實(shí)施FAS處理后，對(duì)基板表面中形成配線圖案的圖案形成區(qū)域進(jìn)行賦予親液性的親液化處理。作為賦予親液性的處理，可以舉出照射波長(zhǎng)170～400nm左右紫外線(UV)的方法。僅在所定時(shí)間內(nèi)對(duì)基板P的圖案形成區(qū)域照射所定功率的紫外線時(shí)，經(jīng)過(guò)FAS處理的基板的圖案形成區(qū)域的疏液性降低，圖案形成區(qū)域?qū)?huì)變成具有親液性。
圖11是表示對(duì)實(shí)施了FAS處理的基板P照射紫外線的紫外線照射裝置24的示意圖。如圖11所示，紫外線照射裝置24備有能夠射出具有所定波長(zhǎng)紫外線(UV)的紫外線射出部分25、支持基板P用的臺(tái)架26、和沿著所定方向使支持基板P的臺(tái)架26掃描的臺(tái)架驅(qū)動(dòng)部分27。
紫外線照射裝置24一邊沿著所定方向掃描基板P，一邊從紫外線射出部25射出紫外線，以此方式對(duì)基板P照射紫外線。當(dāng)基板P小的情況下，也可以不對(duì)基板P掃描而照射紫外線。當(dāng)然，也可以邊移動(dòng)紫外線射出部25邊對(duì)基板P照射紫外光。通過(guò)照射紫外線基板P上的FAS膜將被破壞，可以使基板P中經(jīng)過(guò)紫外線照射的區(qū)域親液化(疏液性降低化)。
其中，紫外線照射裝置24，隔著具有與基板上的圖案形成區(qū)域?qū)?yīng)圖案的掩模M照射紫外線。紫外線照射裝置24隔著掩模M對(duì)基板P照射紫外線能選擇性破壞FAS膜，這樣可以使基板P的圖案形成區(qū)域親液化。因此決定在包圍圖案形成區(qū)域的區(qū)域設(shè)置FAS膜。本實(shí)施方式中事先在掩模M的下面設(shè)置氧化鈦層28，在這種氧化鈦層28與基板P表面接觸的狀態(tài)下照射紫外線。通過(guò)在使氧化鈦與FAS膜接觸狀態(tài)下照射紫外線，利用氧化鈦的光催化劑作用能夠在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)親液化(FAS破壞)。而且，即使不在掩模M的下面設(shè)置氧化鈦層28，也能使基板的圖案形成區(qū)域親液化，而且還可以在使掩模M與基板P間隔開的狀態(tài)下，將基板的圖案形成區(qū)域親液化。
紫外線照射裝置24的照射動(dòng)作，由圖中未示出的控制裝置加以控制?？刂蒲b置設(shè)定紫外線照射條件，根據(jù)此設(shè)定條件控制紫外線照射裝置24的照射動(dòng)作。這里可以設(shè)定的紫外線照射條件包括紫外線對(duì)基板P的照射時(shí)間、與單位面積基板P相當(dāng)?shù)恼丈淞?光量)和照射紫外線的波長(zhǎng)的至少其中之一，控制裝置基于這些條件至少其中之一來(lái)控制照射動(dòng)作。
這樣能使基板P的圖案形成區(qū)域變成具有所需親液性(相對(duì)于功能液的接觸角)的。
這里作為親液化處理雖然進(jìn)行的是紫外線照射處理，但是采用將基板暴露在臭氧氣體氣氛中的方法也能降低基板的疏液性。
(材料配置工序)
接著參照附圖12說(shuō)明本實(shí)施方式的材料配置工序。材料配置工序，是用液滴噴出裝置的液滴噴頭10噴出含有配線圖案形成材料的功能液液滴，在圖案形成區(qū)域74配置的方式，在基板P上形成線狀膜圖案(配線圖案)的工序，其中包括在圖案形成區(qū)域74的端部配置液滴的第一工序，和在端部配置后，在圖案形成區(qū)域74中的端部以外位置上配置液滴的第二工序。本實(shí)施方式中，功能液是將含有作配線圖案形成材料用銀的有機(jī)銀化合物分散在二甘醇二乙基醚中的分散液。
在材料配置工序的第一工序中，如圖12(a)所示的平面圖那樣，從液滴噴頭10噴出的液滴30，最初被配置在圖案形成區(qū)域74的縱向端部76。在這里可以形成將圖案形成區(qū)域74包圍、本身是疏液區(qū)域的FAS膜區(qū)域(疏液膜區(qū)域)F。圖案形成區(qū)域74沿著圖中以Y軸作為縱向俯視呈矩形形狀。對(duì)著端部76噴出的液滴30被順利地配置在端部76。這里由于疏液區(qū)域F是疏液性的，所以即使一部分被噴出的液滴落在疏液區(qū)域F上也能從疏液區(qū)域F離開，被順利地配置在圖案形成區(qū)域74上。而且由于圖案形成區(qū)域已被親液化，所以被配置在圖案形成區(qū)域74的液滴可以良好地濕潤(rùn)擴(kuò)展。
在圖案形成區(qū)域74中沿著縱向在端部36配置液滴后，如圖12(b)所示，一邊使液滴噴頭10相對(duì)于基板P在Y軸方向作相對(duì)移動(dòng)，一邊依次噴出多個(gè)液滴。經(jīng)液滴噴頭10噴出的液滴，被配置在圖案形成區(qū)域74中端部76以外位置處。圖12(b)是表示在端部76配置液滴后，依次將多個(gè)液滴朝著圖案形成區(qū)域74縱向中央部分依次配置的實(shí)例。這樣能夠良好地形成一部分配線圖案。
此時(shí)，被噴出液滴的圖案所定形成區(qū)域74由于被疏液區(qū)域F包圍，所以能夠阻止液滴向所定位置以外處擴(kuò)展。而且即使一部分被噴出的液滴落在疏液區(qū)域F上，因變成疏液性的而會(huì)從疏液區(qū)域F離開，被配置在圖案形成區(qū)域74上。此外，基板P的圖案形成區(qū)域74由于被賦予了親液性，所以被噴出的液滴容易在圖案形成區(qū)域74濕潤(rùn)擴(kuò)展，這樣能將功能液均勻配置在所定位置上。
另外，在圖12(b)所示的實(shí)例中，將一滴液滴在基板P上配置后噴出下一液滴時(shí)，其噴出方式雖然是使下一液滴與在先配置在基板上的部分液滴重合，但是在前一液滴配置在基板P上后噴出下一液滴之前的期間，當(dāng)需要除去基板上液滴中的液體成分(分散劑)時(shí)可以進(jìn)行中間干燥處理(步驟SB5)。中間干燥處理，例如除使用電熱板、電爐和熱風(fēng)機(jī)等加熱裝置進(jìn)行一般熱處理之外，也可以采用燈退火的光處理。
然后如圖12(c)所示，可以使液滴噴頭10向圖案形成區(qū)域74的縱向上的另一端部78移動(dòng)。于是從液滴噴頭10對(duì)著端部78噴出液滴30。對(duì)著端部78噴出的液滴，可以順利地被配置在圖案形成區(qū)域74的端部78上。而且由于圖案形成區(qū)域74被親液化，所以液滴能良好地濕潤(rùn)擴(kuò)展。
將液滴配置在圖案形成區(qū)域74縱向的端部78內(nèi)后，如圖12(d)所示，一邊使液滴噴頭10相對(duì)于基板P沿著Y軸方向相對(duì)移動(dòng)，一邊依次噴出多個(gè)液滴。多個(gè)液滴依次被配置在圖案形成區(qū)域74縱向的中央部分上，與在先形成的一部分配線圖案連接，這樣可以形成配線圖案(膜圖案)73。
其中作為液滴噴出條件，例如可以在油墨重量4納克/滴、油墨速度(噴出速度)5～7米/秒鐘條件下進(jìn)行。而且噴出液滴的氣氛優(yōu)選設(shè)定在60℃溫度或其以下和80％相對(duì)濕度或其以下。這樣，能夠在液滴噴頭10的噴嘴不堵塞的情況下進(jìn)行穩(wěn)定的液滴噴出。
(中間干燥工序)將液滴在基板P上噴出后，為了確保除去分散劑和膜厚，必要時(shí)進(jìn)行干燥處理。干燥處理，例如除采用加熱基板P用的通常電熱板、電爐等處理之外，還可以采用燈退火方式進(jìn)行。作為燈退火使用光的光源并無(wú)特別限制，可以使用紅外燈、氙燈、YAG激光器、氬激光器、二氧化碳激光器、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArCl等激元激光器等作為光源。這些光源一般可以使用功率為10W或其以上和5000W或其以下范圍內(nèi)的，但是在本實(shí)施方式中功率為100W或其以上和1000W或其以下就足夠了。而且，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行這種中間干燥工序和上述材料配置工序，可以將功能液液滴數(shù)層層疊，形成膜厚厚的配線圖案(膜圖案)。
(燒成工序)噴出工序后的干燥膜，為了在粒子間實(shí)現(xiàn)良好電接觸，需要完全除去分散劑。而且為了提高導(dǎo)電性微粒在表面上的分散性，涂布有機(jī)物等涂料的情況下，還需要除去這種涂料。此外當(dāng)功能液含有有機(jī)銀化合物的情況下，為了獲得導(dǎo)電性需要進(jìn)行熱處理，需要除去有機(jī)銀化合物中的有機(jī)成分，使銀粒子殘存下來(lái)。為此可以對(duì)噴出工序后的基板進(jìn)行熱處理和/或光處理。熱處理和/或光處理通常在大氣中進(jìn)行，但是必要時(shí)也可以在氮?dú)?、氬氣、氦氣等惰性氣體氣氛中進(jìn)行。熱處理和/或光處理的處理溫度，可以根據(jù)分散劑的沸點(diǎn)(蒸氣壓)、氣氛氣體的種類和壓力、微粒的分散性和氧化性等熱行為、涂料的有無(wú)或量、以及基體材料的耐熱溫度等適當(dāng)確定。例如，為了除去有機(jī)物組成的涂料，需要在大約300℃下燒成。而且例如為了除去有機(jī)銀化合物中的有機(jī)成分，需要在大約200℃下燒成。此外使用塑料等基板的情況下，優(yōu)選在室溫或其以上至100℃或其以下溫度下進(jìn)行。通過(guò)以上工序，噴出工序后的干燥膜可以確保微粒間的電接觸，將其轉(zhuǎn)變成導(dǎo)電性膜(配線圖案)73。
以下參照?qǐng)D13說(shuō)明形成配線圖案73時(shí)液滴配置順序的其他實(shí)例。
如圖13(a)所示，首先將從液滴噴頭10噴出的液滴L1以所定間隔依次配置在基板P上。也就是說(shuō)，液滴噴頭10將液滴L1在基板P上配置得互不重疊(第一配置工序)。本例中，液滴L1的配置間距P1被設(shè)定得比在基板P上配置后的液滴L1直徑大。這樣就能使在基板P上配置后的液滴L1互不重疊(不接觸)，可以防止因液滴L1互相合并而在基板P上濕潤(rùn)擴(kuò)展。而且液滴L1的配置間距P1，可以設(shè)定在配置后液滴L1直徑的2倍以下。這里在基板P上配置液滴L1后，為了除去分散劑必要時(shí)可以進(jìn)行中間干燥處理(步驟SB5)。
然后如圖13(b)所示，重復(fù)上述的液滴配置動(dòng)作。也就是說(shuō)，與圖13(a)所示的上次同樣，從液滴噴頭10以液滴L2形式噴出功能液，每隔一定距離在基板P上配置該液滴L2。此時(shí)液滴L2的體積(與一滴液滴相當(dāng)?shù)墓δ芤毫?及其配置間距P2與上次的液滴L1相同。而且將液滴L2的配置位置移到距離上次液滴L1有1/2間距的距離，將本次液滴L2配置在基板P上配置的上次液滴L1間的中間位置上(第二配置工序)。如上所述，基板P上液滴L1的配置間距P1，比基板P上配置后的液滴L1直徑大，而且為其直徑的二倍以下。因此，通過(guò)將液滴L2配置在液滴L1的中間位置，使液滴L2與液滴L1部分重疊，這樣能將液滴L1之間的空隙填埋。此時(shí)雖然本次液滴L2與上次液滴L1接觸，但是由于上次液滴L1中的分散劑已經(jīng)被全部或以某種程度除去，所以二者合并在基板P上的擴(kuò)展少。將液滴L2配置在基板P上后為了除去分散劑，與上次同樣必要時(shí)可以進(jìn)行中間干燥工序。
通過(guò)多次反復(fù)進(jìn)行這樣的一系列液滴配置動(dòng)作，可以將基板P上配置的液滴間空隙填埋，如圖13(c)所示，可以在基板P上形成線狀連續(xù)的配線圖案73。這種情況下通過(guò)增加液滴配置動(dòng)作的反復(fù)次數(shù)，能使液滴在基板P上依次重疊，增加配線圖案73的膜厚。
另外，在圖13(b)中，雖然使開始配置液滴L2的位置為上次同側(cè)(圖13(a)所示的左側(cè))，但是也可以使之為相反側(cè)(右側(cè))。通過(guò)在往復(fù)動(dòng)作向各方向移動(dòng)時(shí)進(jìn)行液滴噴出，能夠減少噴頭10與基板P間相對(duì)移動(dòng)的距離。
以下參照?qǐng)D14和圖15說(shuō)明功能液配置順序的其他實(shí)例。其中在用圖14和圖15的說(shuō)明中，對(duì)于第一次在基板P上(圖案形成區(qū)域74)配置的液滴附以符號(hào)“1”，對(duì)于第二次、第三次、…第n次配置的液滴附以符號(hào)“2”、“3”…“n”。
可以采用這樣一種方式，即如圖14所示，對(duì)著圖案形成區(qū)域74中縱向的一個(gè)端部76配置第一滴液滴，然后對(duì)著縱向另一個(gè)端部78配置第二滴液滴，接著向中央部分依次配置液滴。
還也可以另一種方式，即如圖15所示，在將多個(gè)(這里是三條)線狀圖案合并形成寬幅配線圖案73的情況下，分別交替將液滴配置在一方端部76和另一個(gè)端部78上。
而且也可以采用這樣一種方式，即如圖16所示，使用以Y軸方向?yàn)榭v向，在Y軸方向上并列排列多個(gè)噴嘴的液滴噴頭10在基板P上配置液滴時(shí)，在圖案形成區(qū)域74縱向與液滴噴頭10縱向一致的狀態(tài)下，如圖16(a)所示，一邊使液滴噴頭10沿著X方向掃描，一邊從液滴噴頭10的多個(gè)噴嘴中與端部76、78對(duì)應(yīng)的噴嘴選擇性噴出液滴30，然后如圖16(b)和圖16(c)所示，依次在圖案形成區(qū)域74的縱向中央部分配置液滴30。
另外，在上述實(shí)施方式中，可以使用玻璃、石英玻璃、硅晶片、塑料薄膜、金屬板等各種材料作為導(dǎo)電膜配線用基板。而且也包括在這些各種材料基板的表面上形成了半導(dǎo)體膜、金屬膜、電介質(zhì)膜、有機(jī)膜等作為基底層的。
作為導(dǎo)電膜配線用的功能液，本例中使用的是將含有有機(jī)銀化合物的導(dǎo)電性微粒分散在分散劑中的分散液(液體材料)，水溶性和油溶性均可。
這里使用的導(dǎo)電性微粒，除含有金、銀、銅、鈀和鎳中任何金屬的金屬微粒以外，還可以使用導(dǎo)電性聚合物和超導(dǎo)體的微粒等。
為了提高分散性，這些導(dǎo)電性微粒也可以使用表面上涂有有機(jī)物等的。作為在導(dǎo)電性微粒表面涂布的涂料，可以舉出五個(gè)碳原子以上的烴類、醇類、醚類、酯類、酮類、有機(jī)氮化合物、有機(jī)硅化合物、有機(jī)硫化合物或其混合物等。
導(dǎo)電性微粒的粒徑優(yōu)選為1納米或其以上和0.1微米或其以下。若大于0.1微米，則有使上述液滴噴頭的噴嘴堵塞之虞。而一旦小于1納米，涂料相對(duì)于導(dǎo)電性微粒的容積比就會(huì)增大，使得到的膜中有機(jī)物比例過(guò)高。
作為含有導(dǎo)電性微粒的液體的分散劑，優(yōu)選室溫下蒸氣壓為0.001mmHg或其以上和200mmHg或其以下(大約0.133Pa或其以上和26600Pa以下)的。在蒸氣壓高于200mmHg的情況下，噴出后分散劑會(huì)急劇蒸發(fā)，很難形成良好的膜。而且更優(yōu)選分散劑的蒸氣壓為0.001mmHg或其以上和50mmHg或其以下(大約0.133Pa或其以上和6650Pa或其以下)的。蒸氣壓高于50mmHg的情況下，用噴墨法噴出液滴時(shí)容易因干燥而引起噴嘴堵塞。另一方面，當(dāng)分散劑在室溫下的蒸氣壓低于0.001mmHg的情況下，因干燥減慢而容易在膜中殘留分散劑，后續(xù)工序的熱和光處理后很難得到質(zhì)地優(yōu)良的膜。
上述分散劑只要是能將上述導(dǎo)電性微粒分散而不引起凝聚的就無(wú)特別限制。本實(shí)施方式中雖然使用了二甘醇二乙基醚，但是還可以舉出例如水、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇類，正庚烷、正辛烷、癸烷、甲苯、二甲苯、對(duì)異丙基甲苯、杜烯、茚、二戊烯、四氫萘、十氫萘、環(huán)己基苯等烴類化合物，和乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇甲基乙基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙基醚、1，2-二甲氧基乙烷、雙(2-甲氧基乙基)醚、對(duì)二噁烷等醚類化合物，以及亞丙基碳酸酯、γ-丁內(nèi)酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、環(huán)己酮等極性化合物。從微粒的分散性和分散液的穩(wěn)定性以及采用液滴噴出法的容易性觀點(diǎn)來(lái)看，這些分散劑中優(yōu)選水、醇類、烴類化合物類和醚類化合物，更優(yōu)選的分散劑可以舉出水和烴類化合物。這些分散劑可以單獨(dú)使用或者兩種或其以上組合使用。
將上述導(dǎo)電性微粒分散在分散劑中時(shí)，分散體濃度為1重量％或其以上和80重量％或其以下，可以根據(jù)所需導(dǎo)電膜的膜厚調(diào)整。其中一旦超過(guò)80重量％就容易產(chǎn)生凝聚，很難得到均勻膜。
上述導(dǎo)電性微粒分散液的表面張力，優(yōu)選為0.02N/m或其以上和0.07N/m或其以下范圍內(nèi)。采用液滴噴出法噴出液體材料時(shí)，表面張力一旦低于0.02N/m，因液體材料對(duì)噴嘴面的濕潤(rùn)性增大而容易使飛行路線產(chǎn)生彎曲，反之若超過(guò)0.07N/m因噴嘴端部的彎月面形狀不穩(wěn)定而使噴出量和噴出定時(shí)的控制變得困難。
為了調(diào)整表面張力，可以在使與基板的接觸角不產(chǎn)生顯著降低的范圍內(nèi)，向上述分散液中添加微量的含氟類、硅酮類、非離子類等表面張力調(diào)節(jié)劑。
非離子類表面張力調(diào)節(jié)劑能提高液體與基板的濕潤(rùn)性，改善膜的流平性，具有防止產(chǎn)生膜的微小凹凸的作用。必要時(shí)上述分散液中還可以含有醇、醚、酯、酮等有機(jī)化合物。
上述分散液的粘度優(yōu)選為1mPa·s或其以上和50mPa·s或其以下。用液滴噴出法以液滴形式噴出液體材料時(shí)，粘度小于1mPa·s的情況下，噴嘴周邊部分容易因液體材料的流出污染，而且在粘度大于50mPa·s的情況下，噴嘴孔被堵塞的頻度增高，很難順利噴出液滴。
(圖案形成裝置)以下參照附圖17說(shuō)明本發(fā)明圖案形成裝置的一個(gè)實(shí)例。圖17是表示本實(shí)施方式涉及的圖案形成裝置的示意立體圖。如圖17所示，圖案形成裝置100備有液滴噴頭10；將液滴噴頭10沿著X軸方向驅(qū)動(dòng)用的X方向?qū)蜉S2；使X方向?qū)蜉S2旋轉(zhuǎn)的X方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)3；承載基板P用的承載臺(tái)4；使承載臺(tái)沿著Y方向驅(qū)動(dòng)用的Y方向?qū)蜉S5；使Y方向?qū)蜉S5旋轉(zhuǎn)的Y方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)6；清洗機(jī)構(gòu)14；加熱器15和總體控制這些部件用的控制裝置8等。X方向?qū)蜉S2和Y方向?qū)蜉S5分別被固定在臺(tái)架7上。其中在圖17中，液滴噴頭10相對(duì)于基板P前進(jìn)方向被配置成直角，但是也可以調(diào)整液滴噴頭10的角度，使其相對(duì)于基板P前進(jìn)方向交叉。這樣的話，調(diào)整液滴噴頭10的角度時(shí)，能夠調(diào)整噴嘴間的間距。而且還可以任意調(diào)整基板P與噴嘴面間的距離。
液滴噴頭10是從噴嘴(噴出口)噴出由含有導(dǎo)電性微粒和有機(jī)銀化合物的分散液組成的功能液用的部件，被固定在X方向?qū)蜉S2上。X方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)3是步進(jìn)馬達(dá)等，一旦有從控制裝置8供給X軸方向的驅(qū)動(dòng)脈沖信號(hào)，就使X方向?qū)蜉S2旋轉(zhuǎn)。通過(guò)X方向?qū)蜉S2的旋轉(zhuǎn)使液滴噴頭10相對(duì)于臺(tái)架7向X軸方向移動(dòng)。
作為液滴噴出方式，可以采用使用壓電元件噴出液滴的壓電方式、借助于加熱功能液產(chǎn)生的氣泡使功能液噴出的氣泡(bubble)方式等各種公知方法。其中由于壓電方式無(wú)需加熱，所以有對(duì)材料的組成不產(chǎn)生影響的優(yōu)點(diǎn)。另外，在本例中，從液體材料選擇自由度高和液滴控制性優(yōu)良的觀點(diǎn)來(lái)看，采用上述壓電方式。
承載臺(tái)4被固定在Y方向?qū)蜉S5上，將Y方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)6和16連接在Y方向?qū)蜉S5上。Y方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)6和16是步進(jìn)馬達(dá)等，一旦有從控制裝置8供給Y軸方向的驅(qū)動(dòng)脈沖信號(hào)，就使Y方向?qū)蜉S5旋轉(zhuǎn)。通過(guò)Y方向?qū)蜉S5的旋轉(zhuǎn)使承載臺(tái)4相對(duì)于臺(tái)架7向Y軸方向移動(dòng)。清洗機(jī)構(gòu)14是清洗液滴噴頭10，防止噴嘴堵塞用的。清洗機(jī)構(gòu)14作上述清洗時(shí)，在Y方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)16作用下將沿著Y方向?qū)蜉S5移動(dòng)。加熱器15是采用燈退火等加熱機(jī)構(gòu)對(duì)基板P進(jìn)行熱處理用的，用于對(duì)被噴出在基板P上的液體進(jìn)行蒸發(fā)和干燥，同時(shí)進(jìn)行使之轉(zhuǎn)變成導(dǎo)電膜的熱處理。
本實(shí)施方式的圖案形成裝置100，一邊從液滴噴頭10噴出功能液，一邊借助于X方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)3和Y方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)6使基板P與液滴噴頭作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，以此方式在基板P上配置功能液。從液滴噴頭10的各噴嘴噴出液滴的噴出量，由控制裝置8根據(jù)上述壓電元件供給的電壓來(lái)控制。而且被配置在基板P上的液滴之間的間距，由上述相對(duì)移動(dòng)的速度、以及液滴噴頭10噴出的頻率(對(duì)壓電元件供給驅(qū)動(dòng)電壓的頻率)加以控制。此外液滴開始在基板P上的位置，由上述的移動(dòng)方向、以及上述相對(duì)移動(dòng)時(shí)由液滴噴頭10開始噴出液滴的定時(shí)控制等來(lái)控制。這樣可以在基板P上形成上述的配線圖案33。
(等離子體處理裝置)圖18是表示上述親液化處理(O2等離子體處理)或疏液化處理(CF4等離子體處理)時(shí)使用的等離子體處理裝置一個(gè)實(shí)例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖18所示的等離子體處理時(shí)處理裝置，具有與交流單元41連接的電極42和作為接地電極的樣品臺(tái)40。樣品臺(tái)40能夠一邊支持樣品一邊沿著Y軸方向移動(dòng)。在電極42的下面突出設(shè)置沿著與移動(dòng)方向正交的X軸方向延伸的兩個(gè)平行的放電發(fā)生部分44和44，同時(shí)設(shè)置電介體部件45將放電發(fā)生部分44包圍。電介體部件45是防止放電發(fā)生部分44異常放電用的部件。而且包含電介體部件45的電極42的下面大體呈平面狀，在放電發(fā)生部分44和電介體部件45與基板P之間形成有少許空間(放電間隙)。在電極42的中央設(shè)置構(gòu)成沿著X方向形成的細(xì)長(zhǎng)的部分處理氣體供給部的氣體噴出口46。氣體噴出口46通過(guò)電極內(nèi)部的氣體通路47和中間腔室48與氣體導(dǎo)入口連接。通過(guò)氣體通路47從氣體噴出口46噴出的含有處理氣體的所定氣體，在上述空間中于移動(dòng)方向(Y軸方向)的前方和后方被分流，從電介體部件45的前端和后端向外部排出。與此同時(shí)，由電源41向電極42施加所定電壓，使放電發(fā)生部44，44與樣品臺(tái)40之間產(chǎn)生氣體放電。于是由這種氣體放電生成等離子體的情況下，生成上述所定氣體的激發(fā)活性物種，對(duì)通過(guò)放電區(qū)域的基板P的全部表面實(shí)施連續(xù)處理。本實(shí)施方式中，上述所定氣體，是由作處理氣體用的氧(O2)或四氟化碳(CF4)、以及在大氣壓附近壓力下容易開始放電而且為了能穩(wěn)定維持的氦(He)、氬(Ar)等稀有氣體或氮(N2)等惰性氣體的混合物。特別是通過(guò)使用氧作處理氣體，如上所述，可以進(jìn)行親液化和除去有機(jī)物殘?jiān)ㄟ^(guò)使用四氟化碳作為處理氣體可以進(jìn)行疏液化。此外，例如通過(guò)對(duì)有機(jī)EL裝置中的電極進(jìn)行這種O2等離子體處理，能夠調(diào)整此電極的功函數(shù)。
(電光學(xué)裝置)以下作為本發(fā)明電光學(xué)裝置的一個(gè)實(shí)例，對(duì)等離子體型顯示裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖19表示本實(shí)施方式等離子體顯示裝置500的分解立體圖。等離子體顯示裝置500由包含互相相對(duì)配置的基板501和502及在其間形成的放電顯示部510構(gòu)成。放電顯示部510由多個(gè)放電室516集合而成。將多個(gè)放電室516中的紅色放電室516(R)、綠色放電室516(G)和藍(lán)色放電室(B)配置成成對(duì)而構(gòu)成一個(gè)像素。
在基板501的上面，以所定間隔形成條狀地址電極511，并形成電介體層519將地址電極511和基板501的上面覆蓋。
在電介體層519上形成隔壁515，使之位于地址電極511和511之間，而且沿著各地址電極511。隔壁515包括與地址電極511寬度方向左右兩側(cè)相鄰的隔壁，和沿著與地址電極511正交方向延伸設(shè)置的隔壁。而且與被隔壁515隔開的長(zhǎng)方形區(qū)域?qū)?yīng)地形成著放電室516。此外，在被隔壁515區(qū)分的區(qū)域內(nèi)側(cè)配置有熒光體517。熒光體517是發(fā)出紅、綠和藍(lán)色中任何顏色熒光的，分別將熒光體517(R)、熒光體517(G)和熒光體517(B)設(shè)置在紅色放電室516(R)的底部、綠色放電室516(G)的底部和藍(lán)色放電室(B)的底部。
另一方面，在基板502上以與前面的地址電極511正交的方向以所定間隔形成有條紋狀多個(gè)顯示電極512。此外還形成有電介體層513和由MgO等組成的保護(hù)膜514將其覆蓋。將基板501和基板502互相相對(duì)向地粘貼起來(lái)，使上述地址電極511…與顯示電極512…互相正交。將上述地址電極511和顯示電極512與圖中未示出的交流電源相連。通過(guò)對(duì)各電極通電，使放電顯示部分510中熒光體517激發(fā)發(fā)光，因而可以進(jìn)行彩色顯示。
本實(shí)施方式中，上述地址電極511和顯示電極512，是分別采用前面圖9所示的圖案形成裝置，借助于前面圖1～圖16所示的圖案形成方法形成的。其中在采用貯存格的實(shí)施方式中，利用灰化處理可以除去貯存格B。
以下說(shuō)明作為本發(fā)明的電光學(xué)裝置其他實(shí)例的液晶顯示裝置。圖20是表示有關(guān)本實(shí)施方式涉及的液晶顯示裝置中，第一基板上的信號(hào)電平等的平面布置圖。本實(shí)施方式涉及的液晶顯示裝置，大體由此第一基板；設(shè)有掃描電極等的第二基板(圖中未示出)；和在第一基板和第二基板間封入的液晶(圖中未示出)構(gòu)成。
如圖20所示，在第一基板300上的像素區(qū)域303上，以多重矩陣狀設(shè)置有多個(gè)信號(hào)電極310…。各信號(hào)電極310…特別是由與各像素對(duì)應(yīng)設(shè)置的多個(gè)像素電極部分310a…和將其連接成多重矩陣狀的信號(hào)配線部分310b…構(gòu)成，沿著Y方向延伸的。而且符號(hào)350表示一個(gè)芯片結(jié)構(gòu)的液晶驅(qū)動(dòng)電路，這種液晶驅(qū)動(dòng)電路350和信號(hào)配線310b…的一端側(cè)(圖中下側(cè))通過(guò)第一回引配線331…相連接。而且符號(hào)340表示上下導(dǎo)通接線柱，這種上下導(dǎo)通接線柱340…與圖中未示出的設(shè)置在第二基板上的接線柱借助于上下導(dǎo)通材料341…連接起來(lái)。此外，上下導(dǎo)通接線柱340…與液晶驅(qū)動(dòng)電路350通過(guò)第二回引配線332…連接。
本實(shí)施方式中，上述第一基板300上設(shè)置的信號(hào)配線部分310b…、第一回引配線331…、和第二回引配線332…，可以分別采用上述圖17所示的圖案形成裝置，根據(jù)上述用圖1～圖16說(shuō)明的圖案形成方法形成。而且用于大型液晶顯示裝置的基板制造的情況下，能夠有效地使用配線用材料，實(shí)現(xiàn)低成本化。而且，本發(fā)明能夠適用的器件，并不限于這些電光學(xué)裝置，例如也能用于形成導(dǎo)電配線的電路基板、半導(dǎo)體實(shí)際安裝配線等、以及其他器件的制造上。
圖21是表示液晶顯示裝置中每個(gè)像素上設(shè)置的作為開關(guān)元件薄膜晶體管60的圖，通過(guò)采用上述實(shí)施方式的基板P上的圖案形成方法，在基板P上的貯存格之間形成柵極配線61。隔著由SiNx組成的柵極絕緣膜62在柵極配線61上層疊由無(wú)定形硅(a-Si)層組成的半導(dǎo)體層63。將與此柵極配線部分相對(duì)向部分的半導(dǎo)體層63被定為通道區(qū)域。在半導(dǎo)體層63上層疊為獲得歐姆連接所需的、例如由n+型a-Si層組成的結(jié)合層64a和64b，在通道區(qū)域中央部分中的半導(dǎo)體層63上，形成保護(hù)通道用的由SiNx組成的絕緣性抗蝕膜65。另外，這些柵極絕緣膜62、半導(dǎo)體層63、和抗蝕膜65是在蒸鍍(CVD)后，經(jīng)過(guò)涂布抗蝕劑、感光、顯影和光蝕，像圖示那樣被圖案化。此外，由結(jié)合層64a、64b和ITO組成的像素電極69也同樣成膜，同時(shí)進(jìn)行光蝕，像圖那樣被圖案化。于是分別在像素電極69、柵極絕緣膜62和抗蝕膜65上突出設(shè)置貯存格66…，利用上述的液滴噴出裝置100噴出有機(jī)銀化合物液滴的情況下可以在這些貯存格66…之間形成源線和漏線。
圖22是通過(guò)上述液滴噴出裝置100制造了部分構(gòu)成要素的有機(jī)EL裝置的側(cè)剖面圖。以下參照?qǐng)D22說(shuō)明有機(jī)EL裝置的大體結(jié)構(gòu)。
圖22中有機(jī)EL裝置401，是將柔性基板(圖示略)的配線和驅(qū)動(dòng)IC(圖示略)連接在由基板411、電路元件部421、像素電極431、貯存格部441、發(fā)光元件451、陰極461(對(duì)向電極)和密封部分471構(gòu)成的有機(jī)EL元件402上的裝置。電路元件部分421，是在基板411上形成作為有源元件的TFT60，由多個(gè)像素電極431在電路元件部分421上整列排列而成的。而且構(gòu)成TFT60的柵極配線61可以用上述實(shí)施方式的配線圖案形成方法形成。
事先在各像素電極431間形成格子狀貯存格441，在由貯存格441形成的凹部開口444上形成發(fā)光元件451。而且發(fā)光元件451由紅色發(fā)光元件、綠色發(fā)光元件和藍(lán)色發(fā)光元件構(gòu)成，這樣一來(lái)有機(jī)EL裝置401將能實(shí)現(xiàn)全色顯示。陰極461在貯存格441和發(fā)光元件451的上部全面形成，在陰極461上層疊密封用基板471。
包含有機(jī)EL元件的有機(jī)EL裝置401的制造工藝過(guò)程，具有形成貯存格441的貯存格形成工序；適當(dāng)形成發(fā)光元件451用的等離子體處理工序；形成發(fā)光元件451的發(fā)光元件形成工序；形成陰極461的對(duì)向電極形成工序；和在陰極461上層疊密封用基板471后密封的密封工序。
發(fā)光元件形成工序是通過(guò)在凹部開口444，即通過(guò)在像素電極431上形成空穴注入層452和發(fā)光層453而形成發(fā)光元件451的，所以備有空穴注入層形成工序和發(fā)光層形成工序。而且空穴注入層形成工序具有向各像素電極431上噴出形成空穴注入層452用液體材料的第一噴出工序，和將被噴出的液體材料干燥形成空穴注入層452的第一干燥工序。此外發(fā)光層形成工序具有向空穴注入層452上噴出形成發(fā)光層453用液體材料的第二噴出工序，和將被噴出的液體材料干燥形成發(fā)光層453的第二干燥工序。其中發(fā)光層453，如上所述，事先由與紅、綠、藍(lán)三色對(duì)應(yīng)的材料形成的三層，所以所述的第二噴出工序由分別噴出三種材料的三個(gè)工序組成。
這種發(fā)光元件形成工序中，在空穴注入層形成工序中的第一噴出工序與發(fā)光層形成工序中的第二噴出工序中，都可以采用上述的液滴噴出裝置100。
而且在上述的實(shí)施方式中，雖然采用本發(fā)明涉及的圖案形成方法形成了TFT(薄膜晶體管)的柵極配線，但是也能制造源電極、漏電極、像素電極等其他構(gòu)成要素。以下參照?qǐng)D23～圖26說(shuō)明TFT的制造方法。
如圖23所示，首先利用光刻法在洗凈的玻璃基板610的上面形成為設(shè)置一個(gè)像素間距為1/20～1/10的溝槽611a用的第一層貯存格611。作為這種貯存格611形成后需要具有透光性和疏液性，其材料可以適當(dāng)使用丙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂、烯烴樹脂、蜜胺樹脂等高分子材料。
為了使這樣形成后的貯存格511具有疏液性，需要實(shí)施CF4等離子體處理等(用有含氟成分的氣體的等離子體處理)，或者也可以代之以事先在貯存格611材料本身上充填疏液成分(氟代基團(tuán)等)。這種情況下可以省略CF4等離子體處理。
經(jīng)過(guò)這樣疏液化的貯存格611相對(duì)于噴出油墨的接觸角優(yōu)選為40或其以上，而玻璃面的接觸角優(yōu)選確保為10或其以下。也就是說(shuō)，經(jīng)過(guò)本發(fā)明人等的試驗(yàn)確認(rèn)，例如對(duì)導(dǎo)電性微粒(十四碳烷溶劑)處理后的接觸角，在采用丙烯樹脂作為貯存格611的原始材料的情況下能夠確保大約為54.0(未處理情況下為10或其以下)。其中這些接觸角是在等離子體功率為550瓦以及以0.1升/分鐘速度供給四氟化碳的處理?xiàng)l件下得到的。
繼上述第一層貯存格形成后的柵極掃描電極形成工序(第一導(dǎo)電性圖案形成工序)中，以油墨法噴出含有導(dǎo)電性材料的液滴，形成柵極掃描電極612，填滿被貯存格611區(qū)分的作為掃描區(qū)域的上述溝槽611a。而且在形成柵極掃描電極612時(shí)，可以采用本發(fā)明涉及的圖案形成方法。
作為此時(shí)的導(dǎo)電性材料，可以適當(dāng)采用Ag、Al、Au、Cu、Pd、Ni、W-Si和導(dǎo)電性聚合物等。這樣形成的柵極掃描電極612，由于事先對(duì)貯存格611賦予充分的疏液性，所以可以在不從溝槽611a滲出的情況下形成微細(xì)配線圖案。
通過(guò)以上工序可以在基板610上形成由貯存格611和柵極掃描電極612組成的具有平坦上面的第一導(dǎo)電層A1。
為了獲得在溝槽611a內(nèi)的良好噴出效果，如圖23所示，此溝槽611a的形狀優(yōu)選采用準(zhǔn)圓錐狀(朝噴出方向打開的圓錐狀)。這樣能夠使被噴出的液滴充分進(jìn)入深處。
進(jìn)而如圖24所示，通過(guò)等離子體CVD法使柵極絕緣膜613、活性層610和接觸層609連續(xù)成膜。通過(guò)改變?cè)蠚怏w和等離子體條件形成氮化硅膜作為柵極絕緣膜613，形成無(wú)定形硅膜作為活性層610，以及形成n+型硅膜作為接觸層609。用CVD法形成的情況下需要經(jīng)歷300～350℃的熱歷史，在貯存格采用無(wú)機(jī)系材料的情況下，可以回避透明性和耐熱性方面的問(wèn)題。
繼上述半導(dǎo)體層形成工序后在第二層貯存格形成工序中，如圖25所示，利用光刻法在柵極絕緣膜613的上面形成設(shè)置一個(gè)像素間隔為1/20～1/10而且與上述溝槽611a交叉的溝槽614a用的第二層貯存格614。這種貯存格614形成后需要有透光性和疏液性，作為其材料可以適當(dāng)使用丙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂、烯烴樹脂、蜜胺樹脂等高分子材料。
為了使這樣形成后的貯存格614具有疏液性而需要實(shí)施CF4等離子體處理等(采用有含氟成分的氣體的等離子體處理)，或者也可以代之以事先在貯存格614材料本身充填有疏液成分(氟代基團(tuán))的。這種情況下可以省略CF4等離子體處理。
經(jīng)過(guò)這樣疏液化的貯存格614相對(duì)于噴出油墨的接觸角，優(yōu)選確保為40或其以上。
繼上述第二層貯存格形成工序后的源、漏電極形成工序(第二次導(dǎo)電性圖案形成工序)中，利用油墨噴頭噴出含有導(dǎo)電性材料的液滴，將被貯存格614劃分的作為掃描區(qū)域的上述溝槽614a內(nèi)填滿的情況下，如圖26所示，可以形成與上述柵極掃描電極612交叉的源電極615和漏電極616。而且在形成源電極615和漏電極616時(shí)，可以采用本發(fā)明涉及的圖案形成方法。
作為此時(shí)可以采用的導(dǎo)電性材料有Ag、Al、Au、Cu、Pd、Ni、W-Si和導(dǎo)電性聚合物等。這樣形成的源電極615和漏電極616，由于事先對(duì)貯存格614賦予充分的疏液性，所以能在不從溝槽614a滲出的情況下形成微細(xì)配線圖案。
而且可以配置絕緣材料617將配置了源電極615和漏電極616的溝槽614a填埋。通過(guò)以上工序可以在基板610上形成由貯存格614和絕緣材料617組成的平坦的上面620。
于是將在絕緣材料617上形成接觸孔619，同時(shí)在上面620上形成圖案化的像素電極(ITO)618，通過(guò)接觸孔619將漏電極616與像素電極618連接形成TFT。
圖27是表示液晶顯示裝置另一實(shí)施方式的圖。
圖27所示的液晶顯示裝置(電光學(xué)裝置)901，大體上講備有彩色液晶板(電光學(xué)板)902和與液晶板902連接的電路基板903。而且必要時(shí)還可以在液晶板902上設(shè)有背光燈等照明裝置和其他附屬設(shè)備。
液晶板902具有用密封材料904粘接的一對(duì)基板905a和基板905b，在這些基板905a和基板905b之間形成的間隙，即晶胞間隙中將封入液晶。這些基板905a和基板905b一般由透光性材料，例如玻璃、合成樹脂等形成。在基板905a和基板905b的外側(cè)表面上粘貼有偏光板906a和另一塊偏光板。其中在圖27中，另一塊偏光板的圖示被省略。
而且在基板905a的內(nèi)側(cè)表面上形成電極907a，在基板905b的內(nèi)側(cè)表面上形成電極907b。這些電極907a、907b形成了帶狀、文字、數(shù)字或其他適當(dāng)圖案形狀。而且這些電極907a、907b，例如可以由ITO(Indium Tin Oxide銦錫氧化物)等透光性材料形成。基板905a具有相對(duì)于基板905b伸出的伸出部，在這種伸出部上形成有多個(gè)接線柱908。這些接線柱908是在基板905a上形成電極907a時(shí)與電極907a同時(shí)形成的。因此，這些接線柱908例如可以用ITO形成。在這些接線柱908上包含自電極907a延伸成一體的部分，和利用導(dǎo)電材料(圖中未示出)連接到電極907b上的部分。
在電路基板903上，于配線基板909上所定位置處安裝有作液晶驅(qū)動(dòng)IC用的半導(dǎo)體元件900。其中雖然省略了圖示，但是也可以在安裝半導(dǎo)體元件900的部位以外所定位置上安裝電容器和其他芯片元件。配線基板909，例如可以通過(guò)將聚酰亞胺等具有柔性的基礎(chǔ)基板911上形成的Cu等金屬膜圖案化形成配線圖案912，以此方式加以制造。
本實(shí)施方式中，液晶板902中的電極907a、907b以及電路基板903中的配線圖案912都可以采用上述器件制造方法形成。
根據(jù)本實(shí)施方式的液晶顯示裝置，可以得到能夠消除電學(xué)特性不均勻的高品質(zhì)液晶顯示裝置。
另外，上述實(shí)例雖然是無(wú)源型液晶板，但是也可以制成有源矩陣型液晶板。也就是說(shuō)，在一塊基板上形成薄膜晶體管(TFT)，并就各TFT形成像素電極。而且像上述那樣利用噴墨技術(shù)在各TFT上形成電連接用配線(柵極配線和源極配線)。另一方面，在對(duì)基板上形成對(duì)電極等。本發(fā)明也能用于這種有源矩陣型液晶板上。
(電子儀器)以下說(shuō)明本發(fā)明的電子儀器實(shí)例。圖28是表示一種備有上述實(shí)施方式涉及的顯示裝置的移動(dòng)型個(gè)人電腦(信息處理裝置)結(jié)構(gòu)的立體圖。該圖中個(gè)人電腦1100由備有鍵盤1102的主體部分1104和備有上述電光學(xué)裝置1106的顯示單元所構(gòu)成。因而能夠提供一種具有發(fā)光效率高而且明亮的顯示部分的電子儀器。
另外，除上述的實(shí)例以外，其他實(shí)例還可以舉出移動(dòng)電話、手表型電子儀器、液晶電視、取景框型和單反型磁帶攝像機(jī)、汽車駕駛導(dǎo)航裝置、尋呼機(jī)、電子記事本、計(jì)算器、文字處理機(jī)、工作站、可視電話、POS終端、電子紙、備有觸摸屏的儀器等。本發(fā)明的電光學(xué)裝置，也可以作為這種電子儀器的顯示部使用。其中，本實(shí)施方式的電子儀器雖然是備有液晶裝置的，但是也可以制成備有有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置、等離子體型顯示裝置等其他電光學(xué)裝置的電子儀器。
以上參照

了本發(fā)明涉及的優(yōu)選實(shí)施方式，但是勿庸置疑本發(fā)明并不限于所涉及的實(shí)例上。上述實(shí)例中所示的各種構(gòu)成部分的各種形狀和組合等僅僅是一個(gè)例子，在不超出本發(fā)明要點(diǎn)的范圍內(nèi)可以根據(jù)設(shè)計(jì)要求等做出各種改變和更改。
權(quán)利要求
1.一種圖案形成方法，是通過(guò)在基板上配置功能液的液滴形成膜圖案的圖案形成方法，其特征在于，具有在所述的基板上以所定圖案形狀形成貯存格的工序；在所述的貯存格間溝槽部的端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的溝槽部中所述的端部以外位置上配置液滴的工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，具有對(duì)所述的貯存格賦予疏液性的疏液化處理工序。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，具有對(duì)所述的溝槽部的底部賦予親液性的親液化處理工序。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，在所述的端部配置液滴后，依次向所述的溝槽部的中央部分配置多個(gè)液滴。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于，所述的功能液中含有導(dǎo)電性材料。
6.一種圖案形成裝置，是備有在基板上配置功能液液滴的液滴噴出裝置，用所述的液滴形成膜圖案的圖案形成裝置，其特征在于所述的液滴噴出裝置，在所述的基板上根據(jù)所定圖案事先形成的貯存格間的溝槽部上依次配置多個(gè)液滴，依次配置所述的液滴時(shí)，在所述的溝槽部端部配置液滴后，在所述的端部中所述的端部以外位置上配置液滴。
7.一種器件的制造方法，其特征在于，在具有在基板上形成膜圖案工序的器件制造方法中，通過(guò)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法在所述的基板上形成膜圖案。
8.一種電光學(xué)裝置，其特征在于，備有用權(quán)利要求7所述的器件制造方法制造的器件。
9.一種電子儀器，其特征在于，備有權(quán)利要求8所述的電光學(xué)裝置。
10.一種圖案形成方法，是通過(guò)在基板上配置功能液的液滴形成膜圖案的圖案形成方法，其特征在于，具有在所述的基板上設(shè)定的將形成所定圖案的圖案形成區(qū)域包圍的區(qū)域上設(shè)置疏液性膜工序；在所述的圖案形成區(qū)域的端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的圖案形成區(qū)域的所述的端部以外位置上配置液滴的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖案形成方法，其特征在于，所述的疏液性膜是在所述的基板表面上形成的單分子膜。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的圖案形成方法，其特征在于，所述的單分子膜，是由有機(jī)分子組成的自組織化膜。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖案形成方法，其特征在于，所述的疏液性膜是氟化聚合膜。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖案形成方法，其特征在于，具有對(duì)所述的圖案形成區(qū)域賦予親液性的親液化處理工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖案形成方法，其特征在于，在所述的端部配置液滴后，向所述的圖案形成區(qū)域的中央部分依次配置多個(gè)液滴。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖案形成方法，其特征在于，包括用多個(gè)液滴形成在所述的膜圖案時(shí)，將多個(gè)液滴配置得在所述的基板上液滴之間互相不重疊的第一配置工序；和在所述的第一工序中于所述的基板上配置的多個(gè)液滴之間配置液滴的第二配置工序。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖案形成方法，其特征在于，在所述的功能液中含有導(dǎo)電性材料。
18.一種圖案形成裝置，是備有在基板上配置功能液液滴的液滴噴出裝置，用所述的液滴形成膜圖案的圖案形成裝置，其特征在于，在所述的基板上將形成所定圖案的圖案形成區(qū)域包圍的區(qū)域事先設(shè)置成疏液性膜，所述的液滴噴出裝置在所述的圖案形成區(qū)域依次配置多個(gè)液滴，依次配置所述的液滴時(shí)，在所述的圖案形成區(qū)域的端部配置液滴后，在所述的圖案形成區(qū)域中所述的端部以外位置上配置液滴。
19.一種器件的制造方法，其特征在于，在具有在基板上形成膜圖案工序的器件制造方法中，用權(quán)利要求10所述的圖案形成方法在所述的基板上形成膜圖案。
20.一種電光學(xué)裝置，其特征在于，備有用權(quán)利要求19所述的器件制造方法制造的器件。
21.一種電子儀器，其特征在于，備有權(quán)利要求20所述的電光學(xué)裝置。
22.一種有源矩陣基板的制造方法，其特征在于，具有在基板上形成柵極配線的第一工序；在所述的柵極配線上形成柵極絕緣膜的第二工序；隔著所述的柵極絕緣膜層疊半導(dǎo)體層的第三工序；在所述的柵極絕緣層上形成源電極和漏電極的第四工序；在所述的源電極和所述的漏電極上配置絕緣材料的第五工序；和形成與所述的漏電極電連接的像素電極的第六工序，其中在所述的第一工序、所述的第四工序和所述的第六工序中的至少一個(gè)工序具有在所述的基板上形成與所定圖案對(duì)應(yīng)的貯存格的工序；在所述的貯存格間溝槽部的端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的溝槽部中所述的端部以外位置上配置液滴的工序。
23.一種有源矩陣基板的制造方法，其特征在于，在有源矩陣基板的制造方法中具有在基板上形成柵極配線的第一工序；在所述的柵極配線上形成柵極絕緣膜的第二工序；隔著所述的柵極絕緣膜層疊半導(dǎo)體層的第三工序；在所述的柵極絕緣層上形成源電極和漏電極的第四工序；在所述的源電極和所述的漏電極上配置絕緣材料的第五工序；和形成與所述的漏電極電連接的像素電極的第六工序，其中在所述的第一工序、所述的第四工序和所述的第六工序中的至少一個(gè)工序具有在所述的基板上設(shè)定的要形成所定圖案的圖案形成區(qū)域包圍的區(qū)域上設(shè)置疏液性膜的工序；在所述的圖案形成區(qū)域端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的圖案形成區(qū)域的所述的端部以外位置上配置液滴的工序。
全文摘要
提供一種在貯存格端部也能順利配置液滴，形成具有所需形狀的膜圖案的圖案形成方法。本發(fā)明的圖案形成方法，是通過(guò)在基板上配置功能液的液滴形成膜圖案(33)的方法，其中具有在基板上形成與膜圖案(33)對(duì)應(yīng)的貯存格B的工序；在貯存格B、B間溝槽部(34)的端部(36)、(38)配置液滴的工序；和在端部(36)、(38)配置液滴后，在溝槽部(34)中端部(36)、(38)以外位置上配置液滴的工序。
文檔編號(hào)H01L21/288GK1574201SQ20041004333
公開日2005年2月2日 申請(qǐng)日期2004年5月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月16日
發(fā)明者長(zhǎng)谷井宏宣 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社