專利名稱：立式爐儲(chǔ)片臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種立式爐的儲(chǔ)片臺(tái)，特別涉及一種半導(dǎo)體器件立式加熱爐的儲(chǔ)片臺(tái)。
背景技術(shù)：
電子工業(yè)中所用的立式爐是用于半導(dǎo)體器件及集成電路制造過程中對(duì)硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝的熱加工設(shè)備。
在硅片進(jìn)入立式爐之前，需要有凈化系統(tǒng)對(duì)硅片進(jìn)行凈化，因此在凈化室內(nèi)，需要有一個(gè)部件用來中轉(zhuǎn)存放硅片，一般稱為儲(chǔ)片臺(tái)。為了配合凈化系統(tǒng)工作，儲(chǔ)片臺(tái)一般設(shè)計(jì)為中空結(jié)構(gòu)，中空部分置入凈化裝置對(duì)硅片進(jìn)行凈化。
目前國(guó)內(nèi)的立式爐儲(chǔ)片臺(tái)尚無成型的設(shè)計(jì)。國(guó)際上，日本有采用儲(chǔ)片倉(cāng)的形式，在入口將硅片由下到上依次放置，每次開合立式爐門，將里外的硅片順序取出和放入。這種設(shè)計(jì)體積龐大，需要較大的凈化室空間，并且不易與凈化系統(tǒng)配合。荷蘭有采用轉(zhuǎn)臺(tái)的方式，用8片薄鋼板放置8個(gè)片盒，用齒輪傳動(dòng)帶動(dòng)片盒旋轉(zhuǎn)，依次向爐口遞送片盒。這種設(shè)計(jì)工藝要求極高，生產(chǎn)成本昂貴。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種立式爐儲(chǔ)片臺(tái)，它充分利用立式爐爐門外凈化室空間，中轉(zhuǎn)存放硅片。中空結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)，配合凈化系統(tǒng)對(duì)硅片凈化?？尚D(zhuǎn)的上下兩層轉(zhuǎn)盤各有6個(gè)工位，依次旋轉(zhuǎn)到爐口，配合內(nèi)部機(jī)械手向爐內(nèi)取送硅片。
本實(shí)用新型儲(chǔ)片臺(tái)主要包括基座、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)和轉(zhuǎn)盤。
本實(shí)用新型基座為鋼結(jié)構(gòu)，基座下部裝有定位螺釘和調(diào)整螺釘，用來固定和調(diào)整基座的位置。基座的高度依據(jù)爐門高度和機(jī)械手的高度匹配設(shè)計(jì)。
本實(shí)用新型直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)為外轉(zhuǎn)子電機(jī)，安裝在基座上部，二者之間用下過渡板聯(lián)接。
本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤安裝在直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)頂部，二者之間通過不銹鋼制成的上過渡板聯(lián)接。轉(zhuǎn)盤包括上下兩層，每層外圈固定6個(gè)片盒固定臺(tái)。根據(jù)不同的實(shí)際情況，也可以分為單層或多層。
本實(shí)用新型充分利用立式爐爐門外凈化室空間，設(shè)計(jì)為雙層12工位，放置好片盒以后，可以加熱兩爐以后再換片，減少了與大氣相通的次數(shù)。直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)可以帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)任一角度，旋轉(zhuǎn)精度高，轉(zhuǎn)角誤差為±5’。轉(zhuǎn)盤為鋁合金結(jié)構(gòu)，整體性好，質(zhì)量輕，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，工藝上易于實(shí)現(xiàn)。片盒固定臺(tái)用和片盒一致的PEEK材料制成，防止片盒直接接觸轉(zhuǎn)盤產(chǎn)生顆粒污染。轉(zhuǎn)盤、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)和基座均為中空結(jié)構(gòu)，便于安裝凈化系統(tǒng)對(duì)硅片進(jìn)行凈化。


圖1是本實(shí)用新型儲(chǔ)片臺(tái)的主視圖圖2是本實(shí)用新型儲(chǔ)片臺(tái)的俯視圖
具體實(shí)施方式
如圖1和圖2所示，儲(chǔ)片臺(tái)主要由基座6、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4和轉(zhuǎn)盤2組成?；?為鋼結(jié)構(gòu)，通過其下部的定位螺釘7和調(diào)整螺釘8固定在立式爐爐門外的凈化室內(nèi)，基座6的高度尺寸根據(jù)爐門高度和機(jī)械手高度匹配設(shè)計(jì)?；?上部固定安裝下過渡板5，下過渡板5上安裝直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4，直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4為外轉(zhuǎn)子電機(jī)。直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4頂部聯(lián)接上過渡板3，上過渡板3為不銹鋼材質(zhì)，上過渡板3上安裝轉(zhuǎn)盤2。直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4可以帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)任一角度，旋轉(zhuǎn)精度高，轉(zhuǎn)角誤差為±5’。轉(zhuǎn)盤2為鋁合金結(jié)構(gòu)，整體性好，質(zhì)量輕，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，工藝上容易實(shí)現(xiàn)。轉(zhuǎn)盤2為雙層十二工位結(jié)構(gòu)，上下兩層分別沿外圈均勻分布安裝六個(gè)片盒固定臺(tái)1。片盒固定臺(tái)1用和片盒一致的PEEK材料制成，防止片盒直接接觸轉(zhuǎn)盤2產(chǎn)生顆粒污染。轉(zhuǎn)盤2、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4和基座6均采用中空結(jié)構(gòu)，便于安裝凈化系統(tǒng)對(duì)硅片進(jìn)行凈化。
當(dāng)外部機(jī)械手放置一個(gè)片盒到片盒固定臺(tái)1，確認(rèn)到位后，直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)4帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤2轉(zhuǎn)動(dòng)60°到另一工位，再放下一個(gè)片盒，直至擺滿雙層轉(zhuǎn)盤2。硅片裝舟時(shí)，內(nèi)部機(jī)械手依次取走六個(gè)片盒內(nèi)的硅片放入舟內(nèi)做工藝，工藝完畢后，再取出加工好的硅片放回剛才空出的六個(gè)片盒上。一爐加工完畢后，再對(duì)轉(zhuǎn)盤的另一層六個(gè)工位重復(fù)上述操作。這時(shí)轉(zhuǎn)盤上就都是已經(jīng)加工好的硅片了，用外部機(jī)械手依次取出，實(shí)現(xiàn)一個(gè)循環(huán)。
權(quán)利要求1.一種立式爐儲(chǔ)片臺(tái)，包括基座(6)、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)和轉(zhuǎn)盤(2)，其特征在于直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)安裝在基座(6)上部；轉(zhuǎn)盤(2)安裝在直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)上部，轉(zhuǎn)盤(2)、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)和基座(6)均為中空結(jié)構(gòu)。
2.按照權(quán)利要求1所述的儲(chǔ)片臺(tái)，其特征在于轉(zhuǎn)盤(2)包括上下兩層，每層外圈固定6個(gè)片盒固定臺(tái)(1)。
3.按照權(quán)利要求1所述的儲(chǔ)片臺(tái)，其特征在于基座(6)下部裝有定位螺釘(7)和調(diào)整螺釘(8)。
4.按照權(quán)利要求1所述的儲(chǔ)片臺(tái)，其特征在于直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)和基座(6)之間通過下過渡板(5)聯(lián)接，轉(zhuǎn)盤(2)和直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)之間通過上過渡板(3)聯(lián)接。
5.按照權(quán)利要求1所述的儲(chǔ)片臺(tái)，其特征在于直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)為外轉(zhuǎn)子電機(jī)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種立式爐儲(chǔ)片臺(tái)，包括基座、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)和轉(zhuǎn)盤。直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)為外轉(zhuǎn)子電機(jī)，安裝在基座上部。轉(zhuǎn)盤安裝在直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)頂部。轉(zhuǎn)盤包括上下兩層，每層外圈固定6個(gè)片盒固定臺(tái)。直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)可以帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)任一角度，旋轉(zhuǎn)精度高。本實(shí)用新型充分利用立式爐爐門外凈化室空間，中轉(zhuǎn)存放硅片。轉(zhuǎn)盤、直接驅(qū)動(dòng)電機(jī)和基座均為中空結(jié)構(gòu)，便于安裝凈化系統(tǒng)對(duì)硅片進(jìn)行凈化。
文檔編號(hào)H01L21/02GK2636410SQ0327253
公開日2004年8月25日 申請(qǐng)日期2003年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月17日
發(fā)明者鐘華, 孫妍, 楊進(jìn)維, 陳江榮 申請(qǐng)人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司