專利名稱：用于磁盤驅(qū)動器的浮動塊清潔方法和裝置的制作方法
一般說來，本發(fā)明涉及具有加載/卸載斜面的旋轉(zhuǎn)的磁盤驅(qū)動器，更詳細地說，它涉及在加載和卸載過程中從記錄磁頭除去廢物的一種方法和加載/卸載斜面結(jié)構(gòu)。
磁存儲設(shè)備一般包括一片或多片磁盤，每片磁盤至少有一個數(shù)據(jù)記錄面，后者包括多個以磁性方法存儲的數(shù)據(jù)的同心磁道；象主軸電機及主軸電機控制器那樣的裝置，用來支撐磁盤和使磁盤以選定的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)；每個記錄面的至少一個讀/寫換能器或“磁頭”，它在流體軸承浮動塊上形成，用來從記錄面上讀出信息以及把信息寫到記錄面上；用來處理讀出/寫入的數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)通道；用來支持換能器，使之非常貼近所需數(shù)據(jù)磁道的可定位的傳動部位；以及用來控制傳動部件的運動，把換能器定位在所需磁道上面的伺服系統(tǒng)。
每個浮動塊在一個面上通過韌性懸架固定在傳動臂上，而在對面還包括一個所需結(jié)構(gòu)的流體軸承面，以提供合適的浮動高度特性。在接觸式記錄的磁盤驅(qū)動器結(jié)構(gòu)中，浮動塊和換能器與存儲磁盤處于連續(xù)接觸狀態(tài)，磁盤可能涂有潤滑劑，以減少浮動塊上的磨損。在接觸式起動/停止的磁盤驅(qū)動器結(jié)構(gòu)中，浮動塊和換能器只有在主軸電機功率降低時才與記錄面接觸。當磁盤開始旋轉(zhuǎn)時，就產(chǎn)生一股進入浮動塊前緣并向其后緣方向流動的氣流。氣流在流體軸承面(也稱為空氣軸承面)上產(chǎn)生正壓，從而把浮動塊升起在記錄面之上。當主軸電機達到工作的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)時，浮動塊就靠氣墊保持在記錄面上方額定的浮動高度上。然后，當轉(zhuǎn)速下降時，浮動高度降低，直到浮動塊再次與磁盤接觸。
由于接觸式起停記錄使浮動塊和換能器遭受大范圍的磨損，使某些磁盤驅(qū)動器結(jié)構(gòu)用另一種方法采用“加載/卸載”技術(shù)。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，當主軸電機功率降低時，在浮動塊安全“停放”的磁盤的內(nèi)徑或外徑處，為每個浮動塊/懸架部件提供了斜面。在正常工作過程中，在磁頭在由于磁盤旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的流體墊或氣墊上從斜面被“加載”到磁盤上去以前，能使磁盤速度達到選擇的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)(它可能低于正常工作的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù))。這樣，浮動塊沒有明顯地與磁盤表面接觸就浮動到磁盤上方，從而顯著減少了接觸式起停的磨損。
隨著浮動塊的浮動高度減小，換能器對存儲表面的信息的靈敏度提高。這樣，如果浮動塊的浮動高度能保持在非常貼近磁盤的位置上，就能以更高的位密度和道密度記錄信息。但是較低的浮動高度使浮動塊的空氣軸承面積累可能在換能器的讀寫間隙中聚集的廢物，因而損害數(shù)據(jù)傳送。例如，在生產(chǎn)或裝配磁盤驅(qū)動器的過程中，由于經(jīng)過一段時間磨損的運動零件，不合格的空氣過濾系統(tǒng)，或浮動塊與磁盤表面粗糙部位的接觸，都可能把廢物引進磁盤表面。廢物還可能沿著空氣軸承面的地勢積累，因而降低浮動高度的性能。浮動高度的降級可能表現(xiàn)為導(dǎo)致信號丟失的增大了的浮動高度，或?qū)е隆按蓬^劃道”，即碰撞磁盤的浮動高度的減小。磁頭與磁盤碰撞能嚴重損害換能器，浮動塊以及磁盤鍍層，結(jié)果形成不可恢復(fù)的數(shù)據(jù)。
因此，最好是定期清除磁頭的廢物。在接觸式起停結(jié)構(gòu)中，廢物的清除是在磁頭與磁盤表面進入實際接觸時實現(xiàn)的。當浮動塊與磁盤接觸時，累積的廢物就被磁盤表面刮去。在加載/卸載結(jié)構(gòu)中，這樣的清除是不可能的，因為磁頭最好永遠不與磁盤接觸。
發(fā)給Lee等人的美國專利第5486970號之目的在于提供一種安裝在磁盤附近的磁頭清潔裝置，它包括基座，棘輪機構(gòu)，以及由棘輪機構(gòu)使之在平行于磁盤平面的平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的帶有硬毛的清潔墊。磁頭靠斜面被加到清潔墊上并由旋轉(zhuǎn)的硬毛清潔處理。由于必須提供足夠的空間來容納旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)對于在磁盤周圍只有有限空間的小型磁盤驅(qū)動器結(jié)構(gòu)來說是不合要求的。
因此，所需要的是，在加載/卸載過程中從浮動塊上清除廢物的空間效率高的斜面結(jié)構(gòu)及方法，使讀出，寫入以及浮動高度性能都不會受到有害影響。
所以，本發(fā)明提供一種用來在磁盤驅(qū)動器中實現(xiàn)的方法和加載/卸載結(jié)構(gòu)，從而在加載和卸載過程中，通過使浮動塊空氣軸承面移過與斜面結(jié)構(gòu)組成整體的固定清潔墊，防止在流體軸承浮動塊的表面上積累廢物。作為本發(fā)明的第一個方面，通過提供與斜面結(jié)構(gòu)成為整體的固定清潔面，有效利用了磁盤周圍的空間。作為本發(fā)明的另一方面，通過使跨越固定墊的浮動塊，例如，在選擇的共振頻率下發(fā)生高頻振動以除去更大量的廢物，可提高清潔效果。本發(fā)明還有另外一個方面，在磁盤驅(qū)動器內(nèi)部可提供檔板，以便引導(dǎo)磁盤產(chǎn)生的氣流，使之朝空氣過濾器的方向通過清潔墊。
從下面的本發(fā)明的最佳實施例的詳細說明中并參看附圖，本發(fā)明的上述的和其它目的，性能和優(yōu)點將很明顯，附圖中相同的參考數(shù)字表示相同的構(gòu)件，在附圖中

圖1是可用來實施本發(fā)明的磁盤存儲系統(tǒng)的示意圖；圖2是帶有加載/卸載斜面的敞開的，旋轉(zhuǎn)式傳動裝置的磁盤驅(qū)動器的頂視圖；圖3A和3B是帶有側(cè)面安裝的換能器的空氣軸承浮動塊的底視圖和側(cè)視圖；圖4A和4B是加載/卸載斜面結(jié)構(gòu)的放大的頂視圖和側(cè)視圖；圖5A和5B是根據(jù)本發(fā)明經(jīng)過改進包括空間效率高的固定的清潔墊的，圖4A和4B的加載/卸載結(jié)構(gòu)的頂視圖和側(cè)視圖；圖6A和6B說明在加載和卸載過程中浮動塊和圖5A及5B的加載/卸載結(jié)構(gòu)的清潔墊之間的關(guān)系；圖7說明根據(jù)本發(fā)明的高頻振動時序；以及圖8表示根據(jù)本發(fā)明在多盤驅(qū)動器中用來引導(dǎo)氣流經(jīng)過清潔墊的檔板的實施例。
現(xiàn)在，將參照最佳實施例，即適用于實現(xiàn)空氣軸承浮動塊的磁盤驅(qū)動器的斜面結(jié)構(gòu)來說明本發(fā)明。當然，提供本實施例僅僅是為了說明的目的，而不是要限制發(fā)明的范圍，該范圍是在附加的權(quán)利要求中所詳細說明的。例如，當想要通過從存儲面上定期卸載浮動塊來清潔接觸式記錄的浮動塊的流體軸承面時，本發(fā)明可容易地適用于接觸式記錄的磁盤驅(qū)動器。
現(xiàn)在參閱圖1，磁盤存儲系統(tǒng)包括至少一個支撐在主軸14上并由磁盤驅(qū)動器電機18轉(zhuǎn)動的可旋轉(zhuǎn)的磁盤12，它帶有至少一個配置在磁盤12上的浮動塊13，每個浮動塊13支持一個或多個在技術(shù)上通常稱為讀/寫磁頭的磁性讀/寫換能器21。
每個磁盤上的磁記錄媒體表現(xiàn)為磁盤12上的環(huán)型同心數(shù)據(jù)磁道(未表示)。當磁盤12旋轉(zhuǎn)時，浮動塊13沿著徑向或沿著弧形路徑在磁盤表面22上方移動，使磁頭21可訪問記錄所需數(shù)據(jù)的磁盤的不同區(qū)段。
每個浮動塊13在其上表面通過懸架15而固定在傳動臂19上。懸架15形成一個使浮動塊13偏向磁盤表面22的輕微彈力。每個傳動臂19都固定在傳動裝置27上。如圖1所示的傳動裝置，例如，可能是一個音圈電機(VCM)。VCM包括一個可在固定磁場內(nèi)移動的線圈，線圈運動的方向和速度由伺服系統(tǒng)控制器所提供的控制信號控制。
在磁盤存儲系統(tǒng)工作過程中，磁盤12的旋轉(zhuǎn)在浮動塊13和磁盤表面22之間產(chǎn)生空間軸承，后者對浮動塊的下表面施加一個向上的力或正壓。這個下面的或空氣軸承的表面(ABS)一般包括多個空氣軸承導(dǎo)軌，其形狀可提供所需的浮動特性。這些導(dǎo)軌上產(chǎn)生的正壓與懸架15的輕微彈力平衡，在工作過程中支持浮動塊13離開，并以一個小的，實質(zhì)上恒定的間隙稍微高于磁盤表面。浮動塊還可能包括象氣阱97和97′那樣的負壓區(qū)，以便抵消正壓，提供扁平槽的浮動高度外形。
磁盤存儲系統(tǒng)的各種構(gòu)件在工作中由控制器29所產(chǎn)生的控制信號控制，如存取控制信號和內(nèi)部時鐘信號。一般地說，控制器29包括，例如，邏輯控制電路，存儲裝置和一個微處理器?？刂破?9產(chǎn)生控制信號來控制各種系統(tǒng)操作，如線路23上的驅(qū)動電機控制信號和線路28上的磁頭定位和查找控制信號。線路28上的控制信號提供所需的電流分布，以便最恰當?shù)匾苿舆x擇的浮動塊13并使之定位在有關(guān)磁盤12的所需數(shù)據(jù)磁道上。讀出和寫入信號通過記錄通道25與讀/寫磁頭21互相連通。
上面對典型磁盤存儲系統(tǒng)的描述以及圖1的附帶例圖僅僅是為了說明的目的。很明顯，磁盤存儲系統(tǒng)可能包括許多磁盤和傳動裝置，而每個傳動裝置可支撐若干個浮動塊。
圖2表示磁盤驅(qū)動器30，它使用旋轉(zhuǎn)式傳動裝置19，帶有在其上形成的換能器(未表示)的空氣軸承浮動塊13，以及安裝在存儲磁盤8的外周的加載/卸載斜面結(jié)構(gòu)41。傳動裝置通過懸架15與浮動塊連接，懸架在其末端包括一個突出部45，以便在加載/卸載操作過程中與斜面結(jié)構(gòu)41的斜面43接合。在數(shù)據(jù)存取操作過程中，傳動裝置19根據(jù)從伺服控制電子線路來的控制信號有選擇地把換能器定位在磁盤8的上方，例如，可能放在固定在磁盤驅(qū)動器的基座42上的印刷電路板上。控制信號及準備寫入磁盤8的信息通過包括一個臂電子模件的接插電路33，沿著軟性電纜31被提供給傳動裝置。由換能器從磁盤8讀出的信息通過軟性電纜31和電路33被傳送給同樣放在印刷電路板上的讀/寫通道。
傳動裝置圍繞軸27沿著箭頭44所指出的方向轉(zhuǎn)動。在傳動裝置19的一端，在一對永久磁鐵(其中一塊表示為37)之間裝有音圈39。另一塊磁鐵固定在磁盤驅(qū)動器外殼的里蓋上，后者在圖2中被拆下以便于說明。從伺服控制電路來的控制信號使電流在音圈39內(nèi)流動并產(chǎn)生磁通量。磁通量產(chǎn)生相對于永久磁鐵37的或是吸引力，或是排斥力，從而使傳動裝置沿所需方向運動。傳動裝置的運動受到一個或多個碰撞止動器46的限制，該止動器通過與突出部48相接觸而阻擋運動的范圍。在數(shù)據(jù)存取操作不在進行或磁盤8不在旋轉(zhuǎn)的時間間隔內(nèi)，伺服控制電路命令傳動裝置使浮動塊離開磁盤并移到加載/卸載斜面43上。
圖3A說明浮動塊13的典型的空氣軸承面?？諝庠诎ㄅ_階或做成斜面的部分36的前端62進入空氣軸承面，以增強升力，并在后端64排出。在通常比前端62更靠近磁盤浮動的后端64處形成換能器38。圖3B表示后端64和換能器38的視圖。再返回來參看圖3A，當磁盤旋轉(zhuǎn)時，在導(dǎo)軌34和34′上形成正壓，以支持浮動塊位于離磁盤8額定的間隙處。在導(dǎo)軌34和34′之間形成凹區(qū)32并可能包括負壓氣阱(由導(dǎo)軌34和34′形成)，以抵消正壓的變化。
當浮動塊在非?？拷疟P表面處浮動時，污物或廢物的微粒就可能聚集在浮動塊的凹口32，較低浮動的后端64，空氣軸承面34和34′，特別是換能器38的讀寫間隙66。建議的方法和裝置力圖在讀/寫性能和浮動高度受到有害影響之前，就從空氣軸承面和間隙66清除這些微粒。在今天的磁盤驅(qū)動器工業(yè)中，正在使用眾多的空氣軸承結(jié)構(gòu)，但全都具有某些易于積累廢物的特點，它們將從建議的發(fā)明中得到好處。
圖4A展示適宜于實現(xiàn)本發(fā)明的加載卸載斜面結(jié)構(gòu)的頂視圖。該結(jié)構(gòu)最好包括用注模法形成的堅固而有彈性的塑料。塑料必須抗剝落或碎屑，以避免弄臟磁盤驅(qū)動器內(nèi)部。該結(jié)構(gòu)包括最好含有做成斜坡的部分49，平頂51和穩(wěn)定部分53的斜面43。如所示，平面限制器從斜面向外延伸，當懸架“停放”在斜面上時，使得它被直接配置在浮動塊的空氣軸承面下方。該結(jié)構(gòu)安裝在磁盤驅(qū)動器的基座42上，貼近磁盤8的外周的地方，在孔71處帶有螺釘或其它機械固定工具。
在卸載過程中，懸架15末端的突出部或小突舌45與斜面接合，在最終停放到穩(wěn)定部分53以前，移動到做成斜坡的部分49上并越過平頂51。在加載過程中，有一個斷開的力施加于傳動裝置19，在最終把浮動塊加載到旋轉(zhuǎn)的磁盤表面上方以前，使懸架脫離穩(wěn)定部分53進到平頂51上，并把它移下斜坡部分49。
盡管圖1和圖2只表示了帶有單個懸架15的單個傳動臂，但是傳動裝置一般備有一對懸架15，15′，每個對應(yīng)于存儲磁盤8的一個表面。由于這個原因，最佳的斜面結(jié)構(gòu)包括供每個存儲磁盤用的雙側(cè)斜面43。一個這樣的雙側(cè)斜面43的側(cè)視圖示于圖4B。間隙55適合于存儲磁盤8的整個一圈，以便在每個表面上方提供一個做成斜坡的部分49，49′，使之與懸架對中的每個懸架的末端接合。每個做成斜坡的部分49，49′引導(dǎo)到平頂51，51′，并最終到穩(wěn)定部分53，53′。
圖5A，5B，6A和6B表示根據(jù)本發(fā)明改進的圖4A和4B的斜面結(jié)構(gòu)41。首先參看圖5A和5B，例如在注模過程中，或在形成斜面結(jié)構(gòu)以后，通過把一塊帶有硬毛狀的突起物粘結(jié)到限制器47的每個表面上，從而在限制器47的每一側(cè)備置硬毛61和61′。當懸架15，15′沿著斜面43移動時，浮動塊13和13′的空氣軸承面與硬毛61，61′接觸，后者的作用是從這些移動的表面上刷去微粒。硬毛最好是相當細，以便能進入空氣軸承面的所有縫隙，且足夠有力，以便清除與之接觸的微粒，但又相當柔軟，以避免損害換能器38，38′及懸架15的精密零件。
如圖6A和6B所示，懸架15，15′一旦停放在穩(wěn)定部分53，53′，傳動裝置就可按箭頭65所指的方向和/或按箭頭73所指的方向顫動或高頻振動選定的一定量時間，以便從空氣軸承面上清除附加的累積物。高頻振動的順序示于圖7，作為伺服控制系統(tǒng)所執(zhí)行的加載過程的一部分。伺服控制系統(tǒng)的操作在技術(shù)上是眾所周知的，圖7所示的改進型式應(yīng)該是對相對簡單明了的，易于在現(xiàn)有的伺服系統(tǒng)中由那些具有傳動控制普通技能的人們所實現(xiàn)。
在第一步81，換能器/浮動塊結(jié)構(gòu)或“磁頭”按照常規(guī)程序被卸載到斜面43上。當支持這些磁頭的懸架15，15′停放在穩(wěn)定部分53，53′時，傳動裝置19，例如，就以選擇的能引起運動并激發(fā)懸架共振的頻率，在足以清除附加的微粒的時間內(nèi)自動高頻振動(步驟85)。在高頻振動之后，懸架仍然停放著，直到伺服控制器收到加載命令，那時控制就轉(zhuǎn)移到加載序列(步驟89)。如果不需要在每次磁頭卸載時都進行高頻振動程序，則可提供任選步驟81，以便有選擇地使傳動裝置19高頻振動。例如，清潔處理可預(yù)定僅僅在預(yù)選的時間間隔內(nèi)，或只在磁盤降低轉(zhuǎn)速的過程中發(fā)生。
磁盤驅(qū)動器一般包括一個或多個過濾器，以便過濾磁盤驅(qū)動器機座內(nèi)部的空氣。一個這樣的過濾器91示于圖2。當磁盤驅(qū)動器旋轉(zhuǎn)時，空氣在連續(xù)運動。為了避免被硬毛消除的污染物再次循環(huán)，在磁盤驅(qū)動器內(nèi)部可提供檔板，例如，該檔板可作為磁盤機殼的一部分，以便在微粒有機會返回到磁盤表面以前，引導(dǎo)氣流通過豎有硬毛的清潔面并導(dǎo)向空氣過濾器。適用于這個目的的檔板的例子在圖2中用虛線93表示。例如，可在注模過程中作為斜面結(jié)構(gòu)43的一部分而形成檔板。在多盤磁盤驅(qū)動器結(jié)構(gòu)中，如圖8所示，檔板93可配置在磁盤8，8′和每對斜面結(jié)構(gòu)43，43′之間。
本發(fā)明已經(jīng)參照特定的實施例予以說明。但是，可以理解的是，正如在下面的權(quán)利要求書中所提出的那樣，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，精通技術(shù)的人可能會想出被描述的實施例的許多改型和修改權(quán)利要求
1.一種供磁盤驅(qū)動器使用的加載/卸載結(jié)構(gòu)，包括一個用來與懸架的末端接合的加載/卸載斜面，該斜面支撐帶有流體軸承面(LBS)的浮動塊；以及一個從斜面延伸的限制器，它包括這樣配置的清潔面，以致當懸架的末端與斜面已經(jīng)接合時，清潔面與LBS接觸并從那里除去微粒。
2.權(quán)利要求1的結(jié)構(gòu)，其特征在于該結(jié)構(gòu)進一步包括與加載/卸載斜面相對的第二個加載/卸載斜面，用于與支撐帶有流體軸承面(LBS)的第二個浮動塊的第二個懸架接合。
3.權(quán)利要求2的結(jié)構(gòu)，其特征在于限制器被配備在斜面之間并進一步包括這樣配置的第二個清潔面，以致當?shù)诙€懸架與第二個斜面已經(jīng)接合時，第二個清潔面與第二個浮動塊的LBS接觸并從那里除去微粒。
4.權(quán)利要求1的結(jié)構(gòu)，其特征在于清潔面包括硬毛。
5.權(quán)利要求1的結(jié)構(gòu)，其特征在于包括清潔面的結(jié)構(gòu)是用注模法形成的。
6.權(quán)利要求1的結(jié)構(gòu)，其特征在于清潔面包括固定在限制器上的清潔墊。
7.一種磁盤驅(qū)動器，包括一個可旋轉(zhuǎn)的存儲磁盤；一個浮動塊，它包括流體軸承面(LBS)和用來讀出存儲在磁盤上的信息的換能器；一個用電的方法與換能器結(jié)合的通道，用來處理從磁盤上讀出的信息；二個通過懸架與換能器連接的傳動部件，用來使換能器相對于磁盤定位；一個用來控制傳動部件運動的伺服控制系統(tǒng)；以及一個配置在磁盤驅(qū)動器周圍的加載/卸載結(jié)構(gòu)，包括一個加載/卸載斜面，用來與懸架的末端接合；以及一個從斜面延伸的限制器，它包括這樣配置的清潔面，以致當懸架的末端已經(jīng)與斜面接合時，清潔面與LBS接觸并從那里除去微粒。
8.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特點在于進一步包括機座，空氣過濾器，以及在磁盤周圍這樣配置的檔板，使得由旋轉(zhuǎn)的磁盤所產(chǎn)生的氣流被引導(dǎo)到清潔面的上方并流向空氣過濾器。
9.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特征在于伺服控制系統(tǒng)使浮動塊至少在LBS與清潔面接觸的某一段時間內(nèi)高頻振動。
10.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特征在于伺服控制系統(tǒng)使浮動塊至少在LBS與清潔面接觸時的某一段時間內(nèi)有選擇地高頻振動。
11.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特征在于該結(jié)構(gòu)進一步包括與第一個相對的第二個加載/卸載斜面，以便與支撐帶有流體軸承面(LBS)的第二個浮動塊的傳動部件的第二個懸架接合。
12.權(quán)利要求11的磁盤驅(qū)動器，其特征在于限制器被配置在第一個和第二個斜面之間并進一步包括這樣配置的第二個清潔面，使得當?shù)诙€懸架已經(jīng)與第二個斜面接合時，第二個清潔面與第二個浮動塊的LBS接觸并從那里除去微粒。
13.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特征在于清潔面包括硬毛。
14.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特征在于包括清潔面的結(jié)構(gòu)是用注模法形成的。
15.權(quán)利要求7的磁盤驅(qū)動器，其特征在于清潔面包括固定在限定器上的清潔墊。
16.一種用于清潔浮動塊的流體軸承面的方法，浮動塊由具有可旋轉(zhuǎn)的存儲磁盤的磁盤驅(qū)動器中的懸架支撐，該方法包括以下步驟在存儲磁盤的周圍設(shè)置包括加載/卸載斜面的加載/卸載結(jié)構(gòu)，以便與懸架的末端接合，以及從斜面延伸的包括配置于其上的清潔面的限制器；使懸架沿著斜面這樣移動，以致清潔墊與LBS接觸并通過運動從那里除去微粒。
17.權(quán)利要求16的方法，其特征在于磁盤驅(qū)動器包括空氣過濾器，且進一步包括這樣的步驟把由旋轉(zhuǎn)的磁盤所產(chǎn)生的氣流引導(dǎo)到清潔面上方并流向空氣過濾器。
18.權(quán)利要求16的方法，其特征在于進一步包括使浮動塊至少在LBS與清潔面接觸時的某一段時間內(nèi)高頻振動的步驟。
19.權(quán)利要求16的方法，其特征在于進一步包括至少在LBS與清潔面接觸時的某一段時間內(nèi)使浮動塊有選擇地高頻振動的步驟。
20.權(quán)利要求16的方法，其特征在于結(jié)構(gòu)進一步包括與第一個相對的第二個加載/卸載斜面，以便與支撐帶有流體軸承面(LBS)的第二個浮動塊的傳動部件的第二個懸架接合。
21.權(quán)利要求20的方法，其特征在于限制器被配置在第一個和第二個斜面之間并進一步包括配置于其上的第二個清潔面，且進一步包括這樣的步驟，即把第二個懸架沿著第二個斜面這樣移動，使得第二個清潔面與第二個浮動塊的LBS接觸并從那里除去微粒。
22.權(quán)利要求16的方法，其特征在于清潔面包括硬毛。
23.權(quán)利要求16的方法，其特征在于包括清潔面的結(jié)構(gòu)是用注模法形成的。
24.權(quán)利要求16的方法，其特征在于清潔面包括固定在限定器上的清潔墊。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種供在磁盤驅(qū)動器中實現(xiàn)的方法和加載/卸載結(jié)構(gòu),可借此在加載和卸載過程中,通過把浮動塊的空氣軸承面移過與斜面結(jié)構(gòu)形成整體的固定的清潔墊,防止在空氣軸承浮動塊的表面積累廢物。作為本發(fā)明的第一方面,通過提供與斜面結(jié)構(gòu)形成整體的固定的清潔面,有效地利用了磁盤周圍的空間。作為本發(fā)明的另一方面,通過使跨越固定墊的浮動塊,例如,在選擇的共振頻率下高頻振動,可增強清潔處理,以清除大量廢物。
文檔編號G11B5/41GK1187005SQ97123038
公開日1998年7月8日 申請日期1997年12月1日 優(yōu)先權(quán)日1997年1月2日
發(fā)明者多納爾德·雷·吉里斯, 邁克·蘇科 申請人:國際商業(yè)機器公司