專利名稱：光信息記錄盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光信息記錄盤，制備光信息記錄盤的裝置，和制備光信息記錄盤的方法。更具體地，本發(fā)明涉及DVD(數(shù)字視頻光盤)型光信息記錄盤。
最近，由于DVD型光信息記錄盤可以在有限的空間內(nèi)記錄非常大量的信息，所以DVD(數(shù)字視頻光盤)型光信息記錄盤己經(jīng)受到了人們的注意。DVD型光信息記錄盤分成下面幾類DVD-ROM(只讀的)，DVD-R(其中可以記錄另外的信息)，和DVD-RAM(其中記錄的信息是可以重寫的)。
DVD型光信息記錄盤具有多層結(jié)構(gòu)。更具體地，它包括一對基片盤，該基片盤具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層。這一對基片或這套基片和盤片是在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下使用粘合劑層結(jié)合在一起的。
Nikkei Electronics，No.630(1995出版的Nihon Keizai Shimbunsha，即日本電子學報)，“光盤”特集，以及Nikkei New Media，“DVD”特集(1995出版的Nihon Keizai Shimbunsha)說明了DVD-R型的代表性的光信息記錄盤的示意性結(jié)構(gòu)，它示于本說明書附圖的

圖1中。
圖1的DVD-R型的代表性的光信息記錄盤包括一對具有用于導向的預刻槽的基片盤1a和1b，分別放在基片盤1a和1b上面的可記錄信息層2a和2b，分別放在可記錄信息層2a和2b上面的激光反射層3a和3b，分別放在激光反射層3a和3b上面的保護層4a和4b，和將保護層4a和保護層4b結(jié)合在一起的粘合劑層5。該信息記錄盤是使用粘合劑材料5通過將一對其上裝有可記錄信息層2a和2b，反射層3a和3b，和保護層4a和4b的基片盤1a和1b結(jié)合在一起生產(chǎn)的。
本發(fā)明人己經(jīng)研究了DVD-型的光信息記錄盤并且己經(jīng)注意到DVD-型的光信息記錄盤有時顯示出差的機械強度以及差的儲存穩(wěn)定性。本發(fā)明人的進一步研究還表明差的機械強度以及差的儲存穩(wěn)定性是由從裝配好的記錄盤結(jié)構(gòu)的基片邊緣的部分剝離引起的。在基片和保護層之間有時可觀察到該剝離。該記錄盤通常含有染料，和可能地含有少量粘合劑，因此，它具有低的粘合強度。此外，通常由金屬做成的反射層和通常由有機樹脂做成的保護層之間的粘合強度是低的。因此，當該信息盤遇到物理撞擊或在苛刻的環(huán)境條件下長時間儲存時，在其外周邊的端部，該基片盤和粘合劑層容易分離。特別地，如果該基片在其外部或內(nèi)部周邊的端部有鰭狀物或毛邊，當該信息盤與其它信息盤或任何其它材料接觸時更容易出現(xiàn)分離。
本發(fā)明的目的是提供顯示出改進了機械強度和改進了儲存穩(wěn)定性的光信息記錄盤。
本發(fā)明的具體目的是提供具有改進了機械強度和改進了儲存穩(wěn)定性的DVD-型光信息記錄盤。
在第一個方面，本發(fā)明在于一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其保護層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將保護層放在它們之間，其中記錄層和反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
在上述信息記錄盤中，優(yōu)選的是記錄層和反射層還從中心孔的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在如此縮回的區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。另外，優(yōu)選的是粘合劑層也在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。該信息記錄層優(yōu)選是染料層。
在第二個方面，本發(fā)明在于一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其保護層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將保護層放在它們之間，其中在其外部周邊端部加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域并且反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些。
在上述信息記錄盤中，其中記錄層和反射層優(yōu)選從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在該縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。還優(yōu)選的是在其內(nèi)部周邊端部進一步加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域，記錄層和反射層還從基片盤的內(nèi)部周邊端部縮回一些，致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。優(yōu)選的是粘合劑層也在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。優(yōu)選通過使該基片盤的外部周邊端部變粗糙或刻槽實現(xiàn)該形成增大表面區(qū)域的加工。該記錄層優(yōu)選是染料層。
在第三個方面，本發(fā)明在于一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其反射層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將反射層放在它們之間，其中記錄層和反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在縮回區(qū)域并且粘合層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
在上述信息記錄盤中，優(yōu)選的是記錄層和反射層還從中心孔的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且粘合劑層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。該信息記錄層優(yōu)選是染料層。
在第四個方面，本發(fā)明在于一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其反射層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將反射層放在它們之間，其中在其外部周邊端部加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域并且反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些。
在上述信息記錄盤中，優(yōu)選的是記錄層和反射層優(yōu)選從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在該縮回區(qū)域并且粘合劑在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。還優(yōu)選的是在其內(nèi)部周邊端部進一步加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域，記錄層和反射層還從基片盤的內(nèi)部周邊端部縮回一些，致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且粘合劑層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。此外，還優(yōu)選的是粘合劑層也在該暴露區(qū)域保持與該基片盤接觸。優(yōu)選通過使該基片盤的外部周邊端部變粗糙或刻槽實現(xiàn)該形成增大表面區(qū)域的加工。該記錄層優(yōu)選是染料層。
在第五個方面，本發(fā)明在于一種制備光信息記錄盤的裝置，它使用粘合劑層，在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該裝置包括至少一個壓力盤片，其有效壓力直徑小于基片盤和盤片的直徑。
上述裝置優(yōu)選包括一對壓力盤片，其有效壓力直徑小于基片盤和盤片的直徑。優(yōu)選的是壓力盤片的有效壓力直徑是基片盤和盤片直徑的90-98％(優(yōu)選92-98％，更優(yōu)選95-98％)。還優(yōu)選的是該基片盤和該盤片直徑具有中心孔并且壓力盤片的中心孔直徑大于該基片盤和該盤片中心孔的直徑，優(yōu)選是1.01-1.1倍，更優(yōu)選是1.02-1.08倍。
在第六個方面，本發(fā)明在于一種制備光信息記錄盤的方法，它使用粘合劑層，在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該方法使用一對壓力盤片，其有效壓力直徑小于基片盤和盤片的直徑。
在第七個方面，本發(fā)明在于一種制備光信息記錄盤的裝置，它使用粘合劑層，在將信息記錄層和可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該裝置包括至少一個壓力盤片，其表面硬度低于該基片盤和盤片的硬度。
上述裝置優(yōu)選包括一對壓力盤片，其表面硬度低于基片盤和盤片的硬度。優(yōu)選的是壓力盤片的表面硬度在基片盤和盤片硬度的10-80％范圍，其中該硬度是用Rockwell硬度表示的。該壓力盤片的表面優(yōu)選是由彈性材料例如硅橡膠或氯丁二烯橡膠制成的。
在第八個方面，本發(fā)明在于一種制備光信息記錄盤的方法，它使用粘合劑層，在將信息記錄層和可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該裝置使用一對壓力盤片，其表面硬度低于該基片盤和盤片的硬度。
圖1說明了己知的DVD-R型光信息記錄盤的示意圖。
圖2說明了本發(fā)明信息記錄盤的優(yōu)選結(jié)構(gòu)的一個例子。
圖3說明了本發(fā)明信息記錄盤(對稱型)的優(yōu)選結(jié)構(gòu)的另一個例子。
圖4-7示意性地說明了制備圖2的信息記錄盤的方法。
圖8說明了圖12的信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化。
圖9說明了本發(fā)明光信息記錄盤的其它例子。
圖10-11說明了本發(fā)明光信息記錄盤的其它例子。
圖12-13說明了本發(fā)明光信息記錄盤的其它例子。
圖14-16說明了制備圖12的信息記錄盤的方法。
圖17說明了圖12的信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化。
圖18說明了圖12的信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的其它變化。
圖19說明了圖12的信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的其它變化。
圖20說明了圖12的信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的其它變化。
圖21說明了圖12的信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的其它變化。
圖22說明了本發(fā)明信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的其它變化。
圖23說明了本發(fā)明光信息記錄盤的其它例子，其中沒有提供保護層。
圖24-25說明了本發(fā)明的其中沒有保護層的光信息記錄盤的其它例子。
圖26說明了圖8省去保護層的方案。
圖27和28分別說明了圖10和11省去保護層的方案。
圖29和30分別說明了圖12和13省去保護層的方案。
圖31-38說明了特別設(shè)計的可有利地用于制備本發(fā)明的信息記錄盤或常規(guī)信息記錄盤的裝置。
下面進一步敘述本發(fā)明的光信息記錄盤。
本發(fā)明的光信息記錄盤包括一對基片盤，該基片盤具有中心孔并且在其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層(任選地，和保護層)，該基片盤是通過粘合劑層結(jié)合在一起的從而將其記錄層和反射層放在它們之間?？梢杂靡粋€通常與該基片盤本身相同的盤片代替一個有中心孔和裝有記錄層和反射層(任選地，和保護層)的基片盤。
該基片盤(或盤片)可以由丙烯酸樹脂，氯乙烯樹脂例如聚氯乙烯或氯乙烯和其它單體的共聚物，環(huán)氧樹脂，聚碳酸酯，無定型聚烯烴，或聚酯制成。也可以使用其它聚合物。優(yōu)選的是聚碳酸酯，聚烯烴和盒鑄聚甲基丙烯酸甲酯。
在該基片盤的表面上，可以提供有膠層以便改進表面光滑性，粘合條件，使記錄層不靠近基片盤，或其它目的。該膠層可以由下面物質(zhì)制成聚異丁烯酸甲酯，丙烯酸-異丁烯酸共聚物，苯乙烯-馬來酸酐共聚物，聚乙烯醇，N-羥甲基丙烯酰胺，苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物，氯磺化的聚乙烯，硝化纖維素，聚氯乙烯，氯化的聚烯烴，聚酯，聚酰亞胺，醋酸乙烯基酯，氯乙烯共聚物，聚乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯或其它聚合物，或無機材料例如無機氧化物(如SiO2或Al2O3)或有機氟化物(如MgF2)。使用常規(guī)的涂覆方法例如旋轉(zhuǎn)涂覆，浸涂，或擠壓涂覆，或者常規(guī)的真空沉積例如濺射或離子鍍可以在基片盤上形成該膠層。
在該基片盤或該膠層上，可以形成預溝槽或預凹槽?？梢詫⒃谄渖蠈⒁纬深A溝槽或預凹槽的預溝槽或預凹槽層放在基片盤或膠層上。該形成預溝槽或預凹槽的層可以使用常規(guī)方法由丙烯酸單酯，二酯，三酯或四酯的單體或低聚物和光聚合引發(fā)劑的混合物制成。
信息記錄層優(yōu)選是由染料制成。可以將少量的聚合物粘合劑摻入到該記錄層中。染料的例子包括花青染料，酞菁染料，咪唑并喹喔啉染料，吡喃瘄染料，硫代吡喃瘄染料，甘菊環(huán)瘄染料，角鯊烷瘄染料，金屬絡(luò)合物染料例如Ni絡(luò)合物染料，Cr絡(luò)合物染料，萘醌染料，蒽醌染料，靛酚染料，部花青染料，oxonol染料，靛苯胺染料，三苯基次甲基染料，三烯丙基次甲基染料，含鋁染料，二immonium染料，和亞硝基化合物。優(yōu)選的是花青染料、酞菁染料、甘菊環(huán)瘄染料、角鯊烷瘄染料，oxonol染料，和咪唑并喹喔啉染料。
通過將在溶劑中的染料溶液(如果需要，和粘合劑)涂覆在基片盤或膠層上，并將該涂覆層干燥可以形成該含染料的信息記錄層。
信息記錄層的厚度通常是10-550nm。
該記錄層可以由兩個或多個含染料層組成。在這種情況下，可以將中間層(阻擋層)放在相鄰的含染料層之間。通過使用樹脂例如一種用于膠層的所述樹脂可以制備該中間層。中間層的厚度通常是1-100μm。
在該信息記錄層上，放有反射層。反射層是由對激光束具有高反射性的材料例如金屬或半金屬制成的。反射性金屬的例子包括Mg，Se，Y，Ti，Hf，V，Nb，Ta，Cr，Mo，W，Mn，Re，F(xiàn)e，Co，Ni，Ru，Rh，Pd，Ir，Pt，Cu，Ag，Au，Zn，Cd，Al，Ga，In，Si，Ge，Te，Pb，Po，Sn和Bi。優(yōu)選的是Au，Ag，Cu，Pt，Al，Cr和Ni。最優(yōu)選的是Au。這些金屬可以單獨或混合使用。例如，可以使用金屬合金。反射層的厚度通常是10-200nm。
然后用保護層涂覆該反射層。該保護層可以由熱塑性樹脂，可熱固化樹脂，可UV(紫外線)固化樹脂，和其混合物制成?？蒛V固化的樹脂是優(yōu)選的。可UV固化樹脂的例子包括(甲基)丙烯酸酯的低聚物例如(甲基)丙烯酸尿烷酯，(甲基)丙烯酸環(huán)氧酯和(甲基)丙烯酸聚酯酯，和單體例如(甲基)丙烯酸酯?？梢詫⒐庖l(fā)劑與這些低聚物和單體組合使用。
保護層的厚度通常是0.1-100μm，優(yōu)選1-15μm。
可以省去保護層的措施。
用于將一對上述制備復合體或該復合體與簡單基片盤(即盤片)結(jié)合在一起的粘合劑層可以由粘合劑樹脂制成。該粘合劑樹脂可以是上述用于保護層的樹脂。優(yōu)選使用可UV固化的樹脂。
粘合劑層的平均厚度通常是0.1-100μm，優(yōu)選20-80μm，最優(yōu)選30-70μm。
參考附圖描述按照本發(fā)明的信息記錄盤的特征。
圖2說明了本發(fā)明優(yōu)選結(jié)構(gòu)的一個例子。信息記錄盤1由兩個樹脂基片盤11和12(基片盤12可以表示為“盤片”)組成，該基片盤分別有中心孔10a和10b，并且其中基片盤11其上裝有記錄層13和反射層14(兩者均從外部和內(nèi)部周邊的端部縮回一些從而留出區(qū)域17和18，其中基片盤11的表面是暴露的)，還有保護層15(該層涂覆在反射層14之上并與暴露的區(qū)域17和18相接觸)，和粘合劑層16。
在外部和內(nèi)部周邊的端部暴露的區(qū)域17和18處保護層15與樹脂基片盤11接觸。因此，保護層15牢固地粘接于基片盤11上。保護層15和粘合劑層16之間的粘接自然是牢固的，并且粘合劑層16和樹脂基片盤12之間的粘接也是牢固的。因此，圖2的信息記錄盤具有高的機械強度。
圖3說明了本發(fā)明優(yōu)選結(jié)構(gòu)的另一個例子。該信息記錄盤2由兩個樹脂基片盤21a和21b組成，該基片盤分別有中心孔20a和20b，并且其中基片盤21a和21b其上覆蓋有記錄層23a和23b和反射層24a和24b(兩者均從外部和內(nèi)部周邊的端部縮回一些從而留出區(qū)域27a和27b，28a和28b，其中基片盤21a和21b的表面是暴露的)，還有保護層25a和25b(該層涂覆在反射層24a和24b之上并與暴露的區(qū)域27a和27b，28a和28b相接觸)，和粘合劑層26。
在外部和內(nèi)部周邊的端部暴露的區(qū)域27a和27b及28a和28b處保護層25a和25b分別與樹脂基片盤21a和21b接觸。因此，保護層25a和25b分別牢固地粘接于基片盤21a和21b上。保護層25a和25b和粘合劑層26a和26b之間的粘接自然是牢固的，因此，圖3的信息記錄盤也具有高的機械強度。
圖4-7示意性地說明了制備圖2的信息記錄盤的方法。
首先，通過己知的旋轉(zhuǎn)涂覆法將染料溶液涂覆在基片盤11(它具有中心孔10a)上從而形成含染料的記錄層13。按照旋轉(zhuǎn)涂覆法，離開中心孔10a的邊緣，可以容易地形成記錄層13的內(nèi)部邊緣，如在圖4中所示的。然后，通過在區(qū)域17處除去含染料的記錄層13暴露該基片盤11的外部周邊區(qū)域17。通過使用合適的溶劑在該區(qū)域?qū)⒂涗泴酉吹艨梢赃M行外部周邊區(qū)域的去除。與該記錄層的形成同時可以進行該記錄層的部分去除。在將反射層放在記錄層上之后可以進行該記錄層的部分去除。去除在外部周邊區(qū)域中的含染料記錄層的方法在日本專利公開號H2-183442和H2-236833中有描述。
該暴露的外部周邊區(qū)域的寬度優(yōu)選為0.05-10mm，更優(yōu)選0.2-1.0mm。有時，在該暴露區(qū)域中可以保留小部分的該記錄層。然而，這樣保留的記錄層基本上不妨礙保護層和基片盤之間的粘合。
在記錄層13上，例如通過濺射形成反射層14?？梢允褂煤线m的罩進行濺射以便留出暴露的區(qū)域17，如圖5所說明的。
在該反射層14上，涂覆保護層15以便擴展其邊緣部分從而變得與暴露的基片表面部分17和18相接觸。通過用己知的涂覆方法例如旋轉(zhuǎn)涂覆在該反射層14上涂覆樹脂溶液可以形成該保護層15。
如從圖7中所看到的，在圖6裝有記錄層13，反射層14和保護層15的基片盤11上，涂覆粘合劑得到粘合劑層16，并且將盤片12放在其上。然后將所得復合體放在壓力機30上并將其夾在壓力盤31a和31b之間。然后操作壓力盤31a和31b以便牢固地使該復合體結(jié)合得到所需要的圖2信息記錄盤。
圖8說明了圖2信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化。
在圖8-(a)中，用反射層14的邊緣部分覆蓋記錄層13的邊緣部分。在這種情況下，很好地保護了該記錄層免于受周圍環(huán)境的不良影響。
在圖8-(b)中，記錄層由兩個單位記錄層13A和13B組成，在它們之間放置有樹脂中間層(即阻擋層)19。
圖8-(c)說明了圖8-(b)組成結(jié)構(gòu)的一個變化，其中每個上面放置的層覆蓋了下面放置層的全部表面。
在圖9中，與基片盤11暴露的表面相接觸地放置保護層15的外部周邊端部部分以及粘合劑層16的外部周邊端部部分。
圖10說明了本發(fā)明的光信息記錄盤的另一個例子，其中在其外部周邊部分加工基片盤從而增大了該部分的表面區(qū)域。
更具體地，信息記錄盤4包括基片盤41和盤片42，該基片盤41具有中心孔40a并且在其上按順序地覆蓋有記錄層43，反射層44和保護層45，該基片盤41和該盤片42是通過粘合劑層46結(jié)合的從而將保護層45放置在它們之間，其中在其外部周邊的端部加工基片盤41以便形成增大的表面區(qū)域47并且反射層45從基片41的外部周邊端部縮回一些。也在其外部周邊端部加工盤片42以便形成增大的表面區(qū)域。
在圖10的結(jié)構(gòu)中，該基片表面和記錄層的區(qū)域以及記錄層和保護層的區(qū)域都增大了。因此，在這些區(qū)域中粘合強度增加了從而改進了所得信息記錄盤的機械強度。
在圖11中，信息記錄盤5包括一對基片盤51a和51b，該基片盤分別有中心孔50a和50b，并且其中基片盤51a和51b其上覆蓋有記錄層53a和53b，反射層54a和54b和保護層55a和55b，該基片盤51a和51b是通過粘合劑層56結(jié)合的從而將保護層55a和55b放置在它們之間，其中在其外部周邊端部加工基片盤51a和51b以便形成增大的表面區(qū)域57a和57b，并且反射層54a和54b分別從該基片51a和51b的外部周邊端部縮回一些。
在圖10和11的信息記錄盤中，記錄層43，53a和53b分別擴展到基片盤41，51a和51b的外部周邊端部。然而，優(yōu)選的是該記錄層從該外部周邊端部縮回一些以便暴露該加工的端部(即端部區(qū)域)致使該暴露的區(qū)域與樹脂保護層部分接觸。
在圖12和13中說明了上述優(yōu)選的實施方案。圖12和13的信息記錄盤具有進一步增強的機械強度。
給出圖14-16以便說明制備圖12信息記錄盤的方法。
首先，基片盤41在其外部周邊端部被開槽以便得到增大的表面區(qū)域47。通常，使用具有特定染料的模具直接生產(chǎn)該邊緣開槽的基片盤。用己知的旋轉(zhuǎn)涂覆法將染料溶液涂覆在基片盤41上從而形成含染料的記錄層43，如在圖14中所說明的。然后，通過在區(qū)域47除去含染料的記錄層43使該基片盤41的增大了的外部周邊表面區(qū)域47暴露。
該暴露的外部周邊區(qū)域的寬度(圖15中的“L”)通常是0.05-10mm，優(yōu)選0.2-1.0mm，或該寬度通常是基片盤直徑的0.05-3％，優(yōu)選0.1-2％。在該基片盤深度方向上的開槽長度通常是該基片盤厚度的1-50％范圍，優(yōu)選3-30％。
在記錄層43上，形成反射層44，如在圖15中所示的。
在該反射層44上，涂覆保護層45以便擴展其邊緣部分從而變得與暴露的基片表面部分47和48相接觸，如在圖16中所示的。
在圖16裝有記錄層43，反射層44和保護層45的基片盤上41，涂覆粘合劑從而得到粘合劑層，并且用與圖7中說明的同樣的方式在其上放置盤片。然后將得到復合體加壓得到所需要的圖12的信息記錄盤。
圖17說明了圖1 2信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化(a)，(b)和(c)。
圖18說明了圖12信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化(a)，(b)，(c)和(d)。
圖19說明了圖12信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化(a)，(b)，(c)，(d)和(e)。在變化(a)，(b)，(c)，(d)和(e)中，該暴露的外部周邊端部部分47具有己經(jīng)加工過從而得到粗糙表面的表面。
圖20說明了圖12信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的幾種變化(a)，(b)，(c)，(d)，(e)和(f)。在變化(a)，(b)，(c)，(d)，(e)和(f)中，該暴露的外部周邊端部部分47具有己經(jīng)加工過從而通過使該端部部分變形具有增大表面區(qū)域的表面。
圖21說明了圖12信息記錄盤特征結(jié)構(gòu)的其它變化(a)，(b)，(c)和(d)。在變化(a)，(b)，(c)和(d)中，該暴露的外部周邊端部部分47具有己經(jīng)加工過從而通過使該端部部分開槽或變形具有增大表面區(qū)域的表面。
基片盤41和42可以具有被加工從而得到沿該盤周邊的增大表面區(qū)域47的外部周邊端部部分，如在圖22中所示的。
在圖23中，與基片盤41的暴露表面相接觸地放置保護層45的外部周邊端部部分以及粘合劑層46的外部周邊端部部分。
如上所述，可以省去保護層。在這種情況下，使粘合劑層與基片盤的暴露表面接觸。
給出圖24-30以便說明本發(fā)明其中去掉保護層的信息記錄盤。
圖24和25分別說明了圖2和3省去保護層的方案。使粘合劑層16和26分別與基片盤11和21a及21b的暴露表面17和27a及27b，和28a及28b相接觸。
圖26說明了圖8省去保護層的方案。使粘合劑層16與基片盤11的暴露表面相接觸。
圖27和28分別說明了圖10和11省去保護層的方案。使粘合劑層在基片盤開槽的周邊端部部分與記錄層接觸。
圖29和30分別說明了圖12和13省去保護層的方案。使粘合劑層與基片盤開槽的周邊端部部分接觸。該基片盤在開槽的部分是暴露的以便直接接受粘合劑層從而得到增大的粘合強度。
如上所述，使用說明于圖31-38中的特別設(shè)計的裝置可以將一對具有記錄層和反射層(任選地，和保護層)的基片，或者將一個具有記錄層和反射層(任選地，和保護層)的基片和一個盤片結(jié)合在一起。對于制備本發(fā)明的信息記錄盤優(yōu)選可以使用特別設(shè)計的裝置。然而，對于制備具有常規(guī)結(jié)構(gòu)的信息記錄盤使用該裝置也是有利的。
在圖31中，用于制備光信息記錄盤的裝置60包括一對壓力盤片61a和61b，它們的有效壓力直徑小于信息記錄盤80的基片盤81a和81b的直徑。術(shù)語“有效壓力直徑”指的是將要與基片盤表面接觸的園形直徑。在圖31中，有效壓力直徑等于壓力盤片61a和61b的直徑。
在圖32中，裝置70包括一對壓力盤片71a和71b，它們的有效壓力直徑也小于信息記錄盤80的基片盤81a和81b的直徑。盡管壓力盤片71a和71b的直徑大于基片盤81a和81b的直徑，但是與基片盤表面接觸的表面是在槽72a和72b內(nèi)的區(qū)域，它小于基片盤81a和81b的直徑。
圖33說明了可以在壓力盤上形成的刻槽的各種說明性的截面圖。
在壓力盤上于內(nèi)部區(qū)域可以形成刻槽，如圖34所示。在實施方案(a)中，僅在內(nèi)部區(qū)域中形成刻槽74a(74b)，同時在實施方案(b)中，分別在周邊端部區(qū)域和內(nèi)部區(qū)域附近形成兩個刻槽71a(71b)，74a(74b)。在內(nèi)部區(qū)域中的刻槽有效地避免了基片盤的內(nèi)邊緣部分(相應于中心孔86a(86b)的周邊)和基片盤之間不需要的接觸。
圖35說明了具有環(huán)型壓力盤片的優(yōu)選裝置。環(huán)型壓力盤片的直徑小于基片盤的直徑，同時壓力盤中心孔的直徑大于基片中心孔的直徑。
如從圖36所看到的，當基片盤在外部周邊邊緣處具有鰭狀物87a(87b)時，使用具有相對小有效直徑壓力盤片61a和61b的裝置60是特別有利的。通過使用具有相對小有效直徑的壓力盤片，鰭狀物87a和87b不妨礙在基片盤之間形成強的結(jié)合。所得的信息記錄盤具有足夠的機械強度。
在圖37中說明的裝置也可以有利地用于將基片盤結(jié)合在一起。更具體地，該裝置90包括一對具有表面層92a和92b的壓力盤91a和91b，表面層的硬度小于信息記錄盤80的基片盤的硬度。表面層92a和92b的硬度優(yōu)選在基片盤硬度的10-80％范圍內(nèi)，更優(yōu)選40-80％。該硬度是以Rockwell硬度表示的。
表面層的優(yōu)選材料的例子包括下面材料。在材料名稱后的括號中給出的數(shù)值表示該材料的Rockwell硬度。聚碳酸酯的Rockwell硬度是120。
(1)ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂用于擠壓加工的樹脂，耐高沖擊的樹脂---(95)玻璃纖維增強(20-40％)樹脂---(83)(2)直鏈脂肪族聚酰胺樹脂錦綸6(高彈體，共聚物)----(95)(3)聚丙烯(PP)增強粉末---(95)未增強的---(95)
共聚物---(73)耐高沖擊的高彈體改性樹脂---(68)(4)纖維素樹脂乙基纖維素---(83)醋酸纖維素---(80)用于模塑的丁酸醋酸纖維素---(74)用于成片的丁酸醋酸纖維素---(73)用于模塑的丙酸纖維素---(66)(5)氟樹脂聚(三氟氯乙烯)＝乙烯改性的(E-CTFE)---(95)聚(三氟氯乙烯)＝CTFE---(85)聚(氟化乙烯)，乙烯改性的，玻璃纖維增強的---(74)聚(氟化乙烯)，乙烯改性的，ETFE---(60)(6)聚亞胺酯(PU)樹脂聚亞胺酯，熱塑性的---(50)有利地用于形成具有相對低硬度的優(yōu)選的高彈體的例子包括下面這些(1)聚氨酯橡膠簡單的橡膠組合物(2)表氯醇橡膠(CHR)混合有碳，混合有硅酸鹽，混合有碳/油的，(3)氟化的橡膠混合有碳的，簡單的橡膠組合物(4)氯化的聚乙烯(CPE)混合有碳，混合有粘土/油的，(5)氯磺化的聚乙烯(CSM)混合有碳的，(6)氯丁二烯橡膠(CR)混合有碳，混合有粘土的，(7)丙烯腈-丁二烯橡膠(NBR)混合有碳，混合有粘土的，
(8)乙烯-丙烯橡膠(EPDM)混合有碳，混合有粘土的，(9)丙烯?；鹉z(ACM)混合有碳，混合有碳酸鈣的，(10)苯乙烯-丁二烯橡膠(SBR)混合有粘土，混合有碳的，(11)溶液聚合的苯乙烯-丁二烯橡膠(可溶解的-SBR)混合有碳/油的，(12)聚硫橡膠混合有碳的，(13)環(huán)氧丙烷橡膠(POR)混合有碳/油的，簡單橡膠組合物(14)天然橡膠(NR)混合有硅酸鹽/油的，簡單橡膠組合物(15)硅橡膠高強度型，一般模塑型，(16)丁二烯橡膠(BR)混合有碳/油的，混合有碳的(17)異戊二烯橡膠(IR)混合有碳的，混合有碳酸鈣的，簡單橡膠組合物(18)異丁烯-異戊二烯橡膠(IIR)混合有滑石，混合有碳的。
上述高彈體的硬度(在JIS-K-6301中定義的)在10-80％的范圍，特別地為30-80％。聚碳酸酯的硬度(JIS-K-6301)為100。
具有低相對硬度的表面層的厚度通常為0.5-10mm，優(yōu)選1-5mm。
如從圖38中所看到的，當基片盤在外部周邊邊緣處具有鰭狀物時，使用具有相對低硬度表面的壓力盤片是特別有利的。通過使用具有相對低硬度表面的壓力盤片，鰭狀物不妨礙在基片盤之間形成強的結(jié)合。所得的信息記錄盤具有足夠的機械強度。
通過下面實施例進一步描述本發(fā)明。
實施例1在2，2，3，3-四氫氟化丙醇中溶解具有下式的染料
得到用于形成記錄層的染料溶液(染料濃度2.65％重量)。
使具有中心孔和導軌槽(直徑120mm，厚度0.6mm，內(nèi)徑15mm，槽寬度0.4μm，槽深度200nm)的聚碳酸酯基片盤在1000rpm下旋轉(zhuǎn)，并通過旋轉(zhuǎn)涂覆法將染料溶液涂覆在旋轉(zhuǎn)的基片盤上。僅在中心孔周圍的內(nèi)周邊區(qū)域擦去涂覆的染料層，從而得到暴露的環(huán)狀區(qū)域。然后將涂覆的染料層加熱至70℃10分鐘從而得到厚度為120nm，具有圖4中所示形式的記錄層。
通過真空沉積在記錄層上沉積Au從而形成厚度為100nm的反射層。在該沉積過程中，控制o沉積層的外部周邊端部以便使其略微在記錄層外部周邊端部里面一些。
通過旋轉(zhuǎn)涂覆法在具有記錄層和反射層的基片盤的表面上噴霧上2，2，3，3-四氫氟化丙醇，從而僅在沒有覆蓋上反射層的區(qū)域除去記錄層。這樣，將該基片盤的外部周邊區(qū)域暴露，如在圖5中所示的。暴露的寬度是0.5mm。
通過在1500rpm下的旋轉(zhuǎn)涂覆在反射層的表面涂覆上UV固化樹脂溶液(可從Three Bond Co.，以產(chǎn)品號3070得到)。之后，將從高壓汞燈發(fā)出的紫外線照射在該涂覆的層上固化該涂覆的層。得到的樹脂層(即保護層)的厚度為5μm。
接著，通過在1500rpm下的旋轉(zhuǎn)涂覆在保護層的表面涂覆上UV固化樹脂溶液(可從Three Bond Co.，以產(chǎn)品號3070得到)。在該涂覆了UV固化的樹脂層上放置一個盤片，該盤片與該基片盤一樣并具有粘合的UV固化樹脂層，該UV固化樹脂層是處于彼此相對的條件下。
將所得復合體放在結(jié)合裝置中的一對壓力盤片(石英玻璃制成)之間，操作壓力盤片將0.2kg/cm2的壓力施加于該復合體。然后，將從高壓汞燈發(fā)出的紫外線照射在該盤片面上的壓力盤片上以便固化該UV固化的樹脂層。得到的樹脂層(即粘合劑層)的厚度為8μm。
這樣，生產(chǎn)出本發(fā)明圖2形式的光信息記錄盤。
比較例1重復實施例1的過程只是不去除記錄層的外部周邊部分，從而生產(chǎn)出用于比較的光信息記錄盤。
實施例2重復實施例1的過程只是用相同尺寸但在外部周邊面上具有斜面邊緣的基片盤(直徑120mm，厚度0.6mm，內(nèi)徑15mm，槽寬度0.4μm，槽深度200nm，斜面部分的尺寸深度方向0.2mm，半徑方向0.5mm)代替該基片盤，和用具有相同尺寸和相同斜面的盤片代替該盤片，從而生產(chǎn)出本發(fā)明圖12形式的光信息記錄盤。
實施例3重復實施例1的過程只是用相同尺寸但在外部周邊面上具有粗糙表面邊緣的基片盤(直徑120mm，厚度0.6mm，內(nèi)徑15mm，槽寬度0.4μm，槽深度200nm，粗糙表面的表面粗糙度1μm，它是通過噴砂方法得到的)代替該基片盤，和用具有相同尺寸和在外部周邊區(qū)域上具有相同粗糙表面的盤片代替該盤片，從而生產(chǎn)出本發(fā)明的光信息記錄盤。用下面方法評價在上述實施例中得到的光信息記錄盤的機械強度和儲存穩(wěn)定性。
(1)落下沖擊實驗信息記錄盤從1M高的位置向混凝土地板上落下10次，并按下面標準檢查該盤是否在外部邊緣部分觀察到分離A幾乎沒有觀察到分離。
B觀察到略微分離。
C清除地注意到分離。
(2)測定槽外部周邊區(qū)域上的C/N在信息記錄盤上，在1.2m/s的條件下記錄11T的數(shù)據(jù)并用DDU1000(可從Pulstech Corp.得到)在外部周邊區(qū)域上復制。用光譜分析儀TR4135(可從Advantest Co.，Ltd.得到)測定該復制的數(shù)據(jù)。
另外，在80℃和85％RH條件下儲存該信息記錄盤240小時，并在邊緣部分觀察該儲存過的盤。用與落下沖擊實驗相同的標準評價邊緣部分的外觀。用同樣的方法進一步測定該儲存過的盤的外部周邊區(qū)域上的C/N。
結(jié)果列于表1。
表1儲存前 儲存后記錄盤 落下沖擊 C/N 外觀 C/N實施例1 A 55dBA 53dB實施例2 A 56dBA 53dB實旋例3 A 56dBA 53dB比較例1 C 52dBC 49dB實施例4重復實施例1的過程只是不提供保護層，從而生產(chǎn)出本發(fā)明圖22形式的光信息記錄盤。
比較例2重復實施例1的過程只是不提供保護層并且不除去該記錄層的外部周邊部分，從而生產(chǎn)出用于比較的光信息記錄盤。
實施例5重復實施例1的過程只是不提供保護層，用相同尺寸但在外部周邊面上具有斜面邊緣的基片盤(直徑120mm，厚度0.6mm，內(nèi)徑15mm，槽寬度0.4μm，槽深度200nm，斜面部分的尺寸深度方向0.2mm，半徑方向0.5mm)代替該基片盤，和用具有相同尺寸和相同斜面的盤片代替該盤片，從而生產(chǎn)出本發(fā)明圖29形式的光信息記錄盤。
實施例6重復實施例1的過程只是不提供保護層，用相同尺寸但在外部周邊面上具有粗糙表面邊緣的基片盤(直徑120mm，厚度0.6mm，內(nèi)徑15mm，槽寬度0.4μm，槽深度200nm，粗糙表面的表面粗糙度1μm，它是通過噴砂方法得到的)代替該基片盤，和用具有相同尺寸和在外部周邊區(qū)域上具有相同粗糙表面的盤片代替該盤片，從而生產(chǎn)出本發(fā)明的光信息記錄盤。用評價實施例1-3和比較例1的光信息記錄盤的所述方法評價在上述實施例中得到的光信息記錄盤的機械強度和儲存穩(wěn)定性。
結(jié)果列于表2。
表2儲存前 儲存后記錄盤 落下沖擊 C/N 外觀C/N實施例4 A55dBA 53dB實施例5 A56dBA 53dB實施例6 A56dBA 52dB比較例2 C52dBC 49dB
權(quán)利要求
1.一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其保護層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將保護層放在它們之間，其中記錄層和反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
2.按照權(quán)利要求1的信息記錄盤，其中記錄層和反射層還從中心孔的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
3.按照權(quán)利要求1的信息記錄盤，其中粘合劑層也在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
4.按照權(quán)利要求1的信息記錄盤，其中該信息記錄層是染料層。
5.一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其保護層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層，反射層和保護層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將保護層放在它們之間，其中在其外部周邊端部加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域并且反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些。
6.按照權(quán)利要求5的信息記錄盤，其中記錄層和反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在該縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
7.按照權(quán)利要求5的信息記錄盤，其中還在其內(nèi)部周邊端部加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域，記錄層和反射層還從基片盤的內(nèi)部周邊端部縮回一些，致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
8.按照權(quán)利要求5的信息記錄盤，其中粘合劑層也在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
9.按照權(quán)利要求5的信息記錄盤，其中通過使該基片盤的外部周邊端部變粗糙或刻槽進行該形成增大表面區(qū)域的加工。
10.按照權(quán)利要求5的信息記錄盤，其中該記錄層是染料層。
11.一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其反射層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將反射層放在它們之間，其中記錄層和反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在縮回區(qū)域并且保護層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
12.按照權(quán)利要求1 1的信息記錄盤，其中記錄層和反射層還從中心孔的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且粘合劑層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
13.按照權(quán)利要求11的信息記錄盤，其中該信息記錄層是染料層。
14.一種光信息記錄盤，包括一對基片盤，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤通過粘合劑層結(jié)合從而將其反射層放在它們之間，或者包括一個基片盤和一個盤片，該基片盤有一個中心孔并且其上按順序地覆蓋有記錄層和反射層，該基片盤和該盤片通過粘合劑層結(jié)合從而將反射層放在它們之間，其中在其外部周邊端部加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域并且反射層從基片盤的外部周邊端部縮回一些。
15.按照權(quán)利要求14的信息記錄盤，其中記錄層和反射層優(yōu)選從基片盤的外部周邊端部縮回一些致使該基片盤暴露在該縮回區(qū)域并且粘合劑在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
16.按照權(quán)利要求14的信息記錄盤，其中在其內(nèi)部周邊端部加工該基片盤以便形成增大的表面區(qū)域，記錄層和反射層還從基片盤的內(nèi)部周邊端部縮回一些，致使該基片盤暴露在如此縮回區(qū)域并且粘合劑層在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
17.按照權(quán)利要求14的信息記錄盤，其中粘合劑層也在該暴露區(qū)域保持與基片盤接觸。
18.按照權(quán)利要求14的信息記錄盤，其中通過使該基片盤的外部周邊端部變粗糙或刻槽進行該形成增大表面區(qū)域的加工。
19.按照權(quán)利要求14的信息記錄盤，其中該記錄層是染料層。
20.一種制備光信息記錄盤的裝置，它使用粘合劑層，在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該裝置包括至少一個壓力盤片，其有效壓力直徑小于基片盤和盤片的直徑。
21.按照權(quán)利要求20的裝置，包括一對壓力盤片，其有效壓力直徑小于基片盤和盤片的直徑。
22.按照權(quán)利要求20的裝置，其中壓力盤片的有效壓力直徑是基片盤和盤片的直徑的90-98％。
23.按照權(quán)利要求20的裝置，其中該壓力盤，該基片盤和該盤片直徑具有中心孔并且壓力盤片的中心孔直徑大于該基片盤和該盤片中心孔的直徑。
24.一種制備光信息記錄盤的方法，它使用粘合劑層，在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的信息記錄層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該方法使用一對壓力盤片，其有效壓力直徑小于基片盤和盤片的直徑。
25.一種制備光信息記錄盤的裝置，它使用粘合劑層，在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該裝置包括至少一個壓力盤片，其表面硬度低于該基片和盤片的硬度。
26.按照權(quán)利要求25的裝置，包括一對壓力盤片，其表面硬度低于基片盤和盤片的硬度。
27.按照權(quán)利要求25的裝置，其中壓力盤片的表面硬度在基片盤和盤片的硬度的10-80％范圍，該硬度是用Rodkwell硬度表示的。
28.按照權(quán)利要求25的裝置，其中該壓力盤片的表面是由彈性材料制成的。
29.按照權(quán)利要求25的裝置，其中該壓力盤片的表面是由硅橡膠或氯丁二烯橡膠制成的。
30.一種制備光信息記錄盤的方法，它使用粘合劑層，在將信息記錄層或可記錄信息的層放在它們之間的條件下，將一對基片盤結(jié)合在一起，該基片盤具有一個通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，或者將一個基片盤和一個盤片結(jié)合在一起，該基片具有通過向其施加激光束從中可以讀出信息的信息記錄層或通過向其施加激光束在該層中可以記錄信息的可記錄信息的層，該裝置使用一對壓力盤片，其表面硬度低于該基片和盤片的硬度。
全文摘要
在一對基片之間具有可記錄信息層(即多層結(jié)構(gòu))的DVD(數(shù)字視頻光盤)型的光信息記錄盤,當該基片在其外部周邊邊緣上具有暴露的區(qū)域并與樹脂層接觸地放置該暴露區(qū)域時,或者該基片在其外部周邊邊緣上具有增大的表面區(qū)域(優(yōu)選是暴露的)并與樹脂層接觸地放置該增大的表面區(qū)域時,顯示出改進的機械強度和改進的儲存穩(wěn)定性。還公開了一種用于制備具有改進了機械強度和改進了儲存穩(wěn)定性的DVD型光信息記錄盤的裝置。
文檔編號G11B7/24GK1178981SQ97121449
公開日1998年4月15日 申請日期1997年9月24日 優(yōu)先權(quán)日1996年9月24日
發(fā)明者宇佐美由久 申請人:富士寫真菲林株式會社