具有蓋子支撐部的存儲器件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種具有蓋子支撐部的存儲器件。一種磁盤驅(qū)動器組件包括基部、蓋子、從基部向蓋子延伸的立柱以及被可移動安裝在立柱上使得所述立柱延伸穿過其中的閂鎖,其中立柱包括蓋子支撐部,該蓋子支撐部被配置為支撐蓋子,并且防止蓋子在負(fù)荷被施加到蓋子在閂鎖上方的部分時壓縮閂鎖并防止使閂鎖同時接觸蓋子和基部兩者。
【專利說明】具有蓋子支撐部的存儲器件
[0001] 相關(guān)申請的交叉引用
[0002] 本申請要求2013年4月3日提交的美國臨時專利申請61 / 808156(律師編號 T6491.P)的權(quán)益,該公開通過引用合并于此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003] 本公開主要涉及信息存儲器件,并且尤其是涉及具有蓋子支撐件的閂鎖組件。
【背景技術(shù)】
[0004] 磁盤驅(qū)動器通常包括閂鎖、基部和頂蓋?;靠梢允牵ńM裝后)容納大多數(shù)驅(qū)動 器組件的鑄鋁空腔。頂部蓋子可以是與基部的上部嚙合并密封驅(qū)動器所有內(nèi)部組件的沖壓 鋼板。閂鎖是圍繞經(jīng)機(jī)械加工的立柱樞軸轉(zhuǎn)動的并被設(shè)計為在非運(yùn)行旋轉(zhuǎn)震動事件期間防 止驅(qū)動器故障的磁致動塑料掛鉤機(jī)構(gòu)。然而,當(dāng)外部負(fù)荷被施加到頂部蓋子時,頂部蓋子會 向閂鎖偏斜,從而閂鎖會遭受約束。這樣的約束可能阻止閂鎖適當(dāng)?shù)仄鹱饔?。因此,本申?的一個方面涉及可以減少蓋子偏斜的結(jié)構(gòu)。
【發(fā)明內(nèi)容】
【專利附圖】
【附圖說明】
[0005] 現(xiàn)在將參照下列附圖描述實施本公開的各個特征的總體結(jié)構(gòu)。所述附圖及其相關(guān) 的描述被提供用于說明本公開的實施方式,而非意在限制本公開的范圍。在整個附圖中,重 用參考編號用于指示參考元件之間的對應(yīng)性。
[0006] 圖1提供總體示出磁盤驅(qū)動器的分解的透視圖。
[0007] 圖2A和2B提供可以被用于本申請的實施方式的磁盤驅(qū)動器外殼的兩個實施例的 首1J視圖。
[0008] 圖3提供根據(jù)本申請的第一實施方式的包括閂鎖組件的磁盤驅(qū)動器的透視圖。
[0009] 圖4提供根據(jù)本申請的第一實施方式的包括閂鎖組件的磁盤驅(qū)動器的剖視圖。 [0010] 圖5提供圖4的磁盤驅(qū)動器的剖視圖的一部分的放大視圖。
[0011] 圖6提供根據(jù)本申請的第二實施方式的包括閂鎖組件的磁盤驅(qū)動器的透視圖。
[0012] 圖7提供根據(jù)本申請的第二實施方式的包括閂鎖組件的磁盤驅(qū)動器的剖視圖。
【具體實施方式】
[0013] 參考圖1,通用磁盤驅(qū)動器100被示出。磁盤驅(qū)動器100包括輪轂102、與輪轂102 的至少一個安裝表面(未在圖1中標(biāo)記)物理接觸并由其支撐的磁盤104以及可操作寫入 磁盤104并且從磁盤104讀取的磁頭106。輪轂102可以包括基本圓柱形部108,其限定縱 軸L和基本垂直于縱軸L的安裝表面,該安裝表面徑向向外延伸。
[0014] 如圖1所示,磁盤驅(qū)動器100包括磁性盤驅(qū)動器,并且本文所述的結(jié)構(gòu)和方法將根 據(jù)這類磁盤驅(qū)動器進(jìn)行描述。然而,這些結(jié)構(gòu)和方法也可以被應(yīng)用到和/或被實現(xiàn)在包括 例如光盤和磁光盤驅(qū)動器的其他磁盤驅(qū)動器中。
[0015] 磁盤104可以包括任何種類的磁或光盤介質(zhì),其具有通過所述介質(zhì)限定的基本同 心開口 114。當(dāng)然,磁盤驅(qū)動器100可替代地包括更多或更少的磁盤。例如,磁盤驅(qū)動器100 可以包括一個磁盤或其可以包括兩個或多個磁盤。每個磁盤104包括磁盤表面116以及在 圖1中不可見的相對磁盤表面。進(jìn)一步地,磁盤表面116可以包括用于存儲數(shù)據(jù)的多個同 心磁道。
[0016] 如圖所示,輪轂102可以被連接到磁盤104并支撐磁盤104。輪轂102還可以被可 旋轉(zhuǎn)地附連到磁盤驅(qū)動器100的基部118,以及可以形成電機(jī)120的一個組件(例如,主軸 電機(jī))。電機(jī)120和輪轂102可以被配置為圍繞縱軸L旋轉(zhuǎn)磁盤104。
[0017] 進(jìn)一步地,磁盤夾140可以被連接到輪轂102以向磁盤104提供向下夾持力。具 體地,磁盤夾140可以位于磁盤104上方并且被附連到輪轂102的上表面。以下更詳細(xì)地 討論磁盤夾140與輪轂102相互作用從而提供向下夾持力。
[0018] 磁盤驅(qū)動器100可以進(jìn)一步包括蓋子122,蓋子122與基部118 -起可以容納磁 盤104和電機(jī)120。磁盤驅(qū)動器100還可以包括被可旋轉(zhuǎn)地附連到基部118的磁頭堆組件 ("HSA")124。HSA124可以包括致動器126,致動器126包括致動器體128和從致動器體 128延伸的一個或多個致動器臂130。致動器體128可以被進(jìn)一步配置為圍繞致動器樞轉(zhuǎn) 軸旋轉(zhuǎn)。
[0019] 一個或多個磁頭懸架組件("HGA") 132可以被附連到每個致動器臂130的遠(yuǎn)端。每 個HGA132包括可操作地寫入對應(yīng)的磁盤104和從對應(yīng)的磁盤104讀取的磁頭106。HSA124 可以進(jìn)一步包括運(yùn)行期間變化的電流流過其中的線圈134。線圈134與被附連到基部118 的一個或多個磁體136相互作用,從而形成用于可控地旋轉(zhuǎn)HSA124的音圈馬達(dá)("VCM")。
[0020] 磁頭106可以包括用于寫入磁盤104和從磁盤104讀取的任何種類的磁頭。在磁 記錄應(yīng)用中,磁頭106可以包括空氣支承滑動器和包括寫入器以及讀取元件的磁換能器。 該磁換能器的寫入器可以是縱向或垂直的設(shè)計,并且該磁換能器的讀取元件可以是感應(yīng)式 或磁阻式。在光記錄應(yīng)用和磁光記錄應(yīng)用中,該磁頭可以包括用于將激光聚焦到相鄰磁盤 表面上的反射鏡和物鏡。
[0021] 磁盤驅(qū)動器100還可以包括印刷電路板("PCB")(未示出)。PCB可以包括或者 尤其包括用于控制讀取和寫入操作的磁盤驅(qū)動控制器以及用于生成伺服控制信號從而相 對于磁盤104的定位致動器臂130的伺服控制系統(tǒng)。
[0022] 某些磁盤驅(qū)動器還可以包括設(shè)置在基部118內(nèi)并位于HAS124的致動器臂126附 近的閂鎖組件(未在圖1中示出)。包括圍繞閂鎖柱144、644可移動的閂鎖機(jī)構(gòu)142、642 的閂鎖組件150、650的幾種實施方式在下面的圖2A-7中示出。
[0023] 圖2A示出可以被用于本申請的實施方式的磁盤驅(qū)動器組件的第一實施例。在第 一實施例中,基部118被配置為在頂部開口,以便部件可以被放置在基部118內(nèi)。進(jìn)一步, 蓋子122被配置為環(huán)繞基部118的側(cè)面以產(chǎn)生有效的密封。此外,通過環(huán)繞基部118的側(cè) 面,可以提供某些收縮阻力。在某些實施例中,基部118和蓋子122可以從金屬材料來加工。 然而,基部118和蓋子122并非局限于此,并且可以使用任何制造工藝從本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員顯而易見的任何材料形成基部118和蓋子122。
[0024] 圖2B示出可以被用于本申請的實施方式的磁盤驅(qū)動器組件的第二實施例。在此 第二實施例中,頂部蓋子222凹進(jìn)基部218的頂表面的下方,并且整個驅(qū)動器可以由密封件 246(例如,薄膜密封件)來覆蓋。在某些實施方式中,還可以設(shè)置密封件246以便在驅(qū)動器 內(nèi)產(chǎn)生氣密封。此密封件246沒有被特別限制,其可以包括薄膜,該薄膜具有施加到某一側(cè) 面使得密封件246遵從蓋子222和基部218的特征的粘合劑。這種設(shè)計可以允許更加有效 地使用可用的Z高度。然而,這種設(shè)計可能經(jīng)受沿驅(qū)動器邊緣的下降的蓋子支撐(尤其是 在閂鎖組件150的正上方的區(qū)域)。
[0025] 圖3示出根據(jù)本申請的第一實施方式的包括閂鎖組件150的磁盤驅(qū)動器的透視 圖。此外,圖4示出根據(jù)本申請的第一實施方式的包括閂鎖組件150的磁盤驅(qū)動器的剖視 圖。進(jìn)一步地,圖5示出圖4的磁盤驅(qū)動器的剖視圖的一部分的放大視圖。
[0026] 如圖所示,閂鎖組件150包括閂鎖機(jī)構(gòu)142和閂鎖柱144。閂鎖機(jī)構(gòu)142被形成為 具有通孔154,通孔154從閂鎖機(jī)構(gòu)142的底部穿至閂鎖機(jī)構(gòu)142的頂部。閂鎖柱144可以 被插入穿過通孔154。閂鎖柱144和閂鎖機(jī)構(gòu)142的直徑尺寸被設(shè)計為使得閂鎖機(jī)構(gòu)142 可以圍繞閂鎖柱144自由地旋轉(zhuǎn)。進(jìn)一步地,閂鎖機(jī)構(gòu)142可以被配置為沿閂鎖柱144的 長度垂直移動,使得閂鎖機(jī)構(gòu)142在磁盤驅(qū)動器的運(yùn)行期間"懸浮"在基部118與蓋子122 之間。
[0027] 在某些實施方式中,閂鎖機(jī)構(gòu)142還可以包括被布置在閂鎖機(jī)構(gòu)142的上表面上 的一個或多個蓋子接觸部152。一個或多個蓋子接觸部152可以提供減少的接觸面積,從而 在閂鎖機(jī)構(gòu)142接觸蓋子122時減少閂鎖機(jī)構(gòu)142與蓋子122之間的摩擦。在圖3-5中示 出的實施方式中,一個或多個蓋子接觸部152被形成為從閂鎖機(jī)構(gòu)142的上表面向上延伸 的半球形凸起。此外,在圖3-5的實施方式中,四個蓋子接觸部152被均勻間隔地設(shè)置在通 孔154周圍。然而,蓋子接觸部152并不限于這種配置,并且其可以具有對于本領(lǐng)域的普通 技術(shù)人員來說是顯而易見的任何形狀或布局。
[0028] 此外,在某些實施方式中,閂鎖機(jī)構(gòu)142還可以包括被布置在閂鎖機(jī)構(gòu)142的底表 面上的一個或多個基部接觸部156 (在圖4中示出)。一個或多個基部接觸部156可以提 供減少的接觸面積,從而在閂鎖機(jī)構(gòu)142接觸基部118時減少閂鎖機(jī)構(gòu)142與基部118之 間的摩擦。在圖4中示出的實施方式中,一個或多個基部接觸部156被形成為從閂鎖機(jī)構(gòu) 142的底表面向下延伸的半球形凸起。然而,基部接觸部156并不限于這種配置,并且其可 以具有對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易見的任何形狀或布局。
[0029] 如圖4所示,閂鎖柱144具有基本圓柱形并且從基部118朝著蓋子122向上延伸。 進(jìn)一步地,蓋子支撐部148被設(shè)置在基本圓柱形的一端。在一個實施例中,閂鎖柱144被配 置為具有長度,使得當(dāng)偏向力被施加到蓋子122時,蓋子122接觸蓋子支撐部148并由蓋子 支撐部148支撐而不壓縮閂鎖機(jī)構(gòu)142,使得閂鎖機(jī)構(gòu)142同時接觸蓋子122和基部118兩 者。換句話說,Η鎖柱144的長度提供Η鎖機(jī)構(gòu)142的凈空,以便Η鎖機(jī)構(gòu)142在外部負(fù)荷 被施加到驅(qū)動器時不會被困在蓋子122與基部118之間。通過使用作為蓋子限制器的閂鎖 柱144,可以確保在最壞的負(fù)荷條件情況下閂鎖機(jī)構(gòu)142連續(xù)起作用。
[0030] 在某些實施方式中,間隙Di (如圖5所示)被設(shè)置在蓋子支撐部148與蓋子122之 間,使得蓋子122與閂鎖柱144的蓋子支撐部148僅在負(fù)荷被施加到蓋子122時接觸。然 而,在某些實施方式中,在蓋子122與蓋子支撐部148之間不可以形成間隙,使得蓋子122 與蓋子支撐部148 -直接觸。
[0031] 如圖3-5所示,蓋子支撐部148被形成為具有錐形區(qū)域158的基本平坦表面,使得 閂鎖柱144的直徑朝著蓋子減少。然而,蓋子支撐部148并不限于這種配置并且可以具有 其他替換性配置。例如,蓋子支撐部148可以被形成為具有彎曲上表面的半球形部。進(jìn)一 步地,在某些實施方式中,閂鎖柱144可以被形成為沿其長度具有恒定的直徑。
[0032] 閂鎖柱144可以由包括經(jīng)機(jī)械加工的鋁或鋼的各種材料形成。此外,在某些實施 方式中,閂鎖柱144被形成為與基部118分離的工件,其被插入穿過基部118。然而,閂鎖柱 144并不限于插入穿過基部118的單獨(dú)工件。閂鎖柱144可以被形成為通過粘合劑、焊接、 螺絲附連、沖壓裝配或?qū)τ诒绢I(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易見的任何其他附連類型被 附連到基部118底部的單獨(dú)工件。閂鎖柱144還可以被形成為經(jīng)機(jī)械加工的延伸零件,其 被形成為基部118的一部分或者對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易見的任何其他 配置。
[0033] 在如圖3-5所示的實施方式中,閂鎖柱144被配置為支撐磁盤驅(qū)動器組件的蓋子。 然而,本申請的實施方式并不限于這種配置。閂鎖柱144可以被配置為在具有外部負(fù)荷情 況時支撐磁盤驅(qū)動器組件的其他部件,以便防止約束或壓縮閂鎖機(jī)構(gòu)142。圖6提供根據(jù) 第二實施方式的磁盤驅(qū)動器的閂鎖組件的透視圖,其中閂鎖柱644被配置為支撐VCM蓋子 660。圖7提供圖6的磁盤驅(qū)動器的剖視圖。
[0034] 類似于上述的實施方式,在這個實施方式中的閂鎖組件650包括閂鎖機(jī)構(gòu)642和 閂鎖柱644。閂鎖機(jī)構(gòu)642被形成為具有通孔654,通孔654從閂鎖機(jī)構(gòu)642的底部穿過到 達(dá)閂鎖機(jī)構(gòu)642的頂部。閂鎖柱644可以被插入穿過通孔654。閂鎖柱644和閂鎖機(jī)構(gòu)642 的直徑尺寸可以被設(shè)計成使得閂鎖機(jī)構(gòu)642可以圍繞閂鎖柱644自由旋轉(zhuǎn)。進(jìn)一步地,閂 鎖機(jī)構(gòu)642可以被配置為沿閂鎖柱644的長度垂直移動,使得閂鎖機(jī)構(gòu)642在磁盤驅(qū)動器 的運(yùn)行期間"懸浮"在基部118與VCM蓋子660之間。
[0035] 在某些實施方式中,閂鎖機(jī)構(gòu)642還可以包括被布置在閂鎖機(jī)構(gòu)642的上表面上 的一個或多個VCM蓋子接觸部652。一個或多個蓋子接觸部652可以提供減少的接觸面積, 以便在閂鎖機(jī)構(gòu)642接觸VCM蓋子660時減少閂鎖機(jī)構(gòu)642與VCM蓋子660之間的摩擦。 一個或多個蓋子接觸部652可以被形成為從閂鎖機(jī)構(gòu)642的上表面向上延伸的半球形凸 起。此外,兩個或多個VCM蓋子接觸部652可以圍繞通孔654被均勻地隔開。然而,VCM蓋 子接觸部652并不限于這種配置,并且可以具有對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易 見的任何形狀或布局。
[0036] 此外,在某些實施方式中,閂鎖機(jī)構(gòu)642還可以包括被布置在閂鎖機(jī)構(gòu)642的底表 面上的一個或多個基部接觸部656。一個或多個基部接觸部656可以提供減少的接觸面積, 以便在閂鎖機(jī)構(gòu)642接觸基部118時減少閂鎖機(jī)構(gòu)642與基部118之間的摩擦。一個或多 個基部接觸部656被形成為從閂鎖機(jī)構(gòu)642的底表面向下延伸的半球形凸起。然而,基部 接觸部656并不限于這種配置,并且可以具有對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易見 的任何形狀或布局。
[0037] 如圖所示,閂鎖柱644具有基本圓柱形并從基部118向VCM蓋子660向上延伸。進(jìn) 一步地,蓋子支撐部648被設(shè)置在基本圓柱形的一端。閂鎖柱644被配置為具有長度,使得 當(dāng)偏斜力被施加到VCM蓋子660時,VCM蓋子660接觸蓋子支撐部648并由蓋子支撐部148 支撐而不壓縮閂鎖機(jī)構(gòu)642,使得閂鎖機(jī)構(gòu)642同時接觸VCM蓋子622和基部118兩者。換 句話說,閂鎖柱644的長度提供閂鎖機(jī)構(gòu)642的凈空,以便閂鎖機(jī)構(gòu)642不會被困在VCM蓋 子660與基部118之間。通過使用閂鎖柱644作為蓋子限制器,可以確保在最壞的負(fù)荷條 件情況下,閂鎖機(jī)構(gòu)642連續(xù)起作用。
[0038] 在某些實施方式中,間隙可以被設(shè)置在蓋子支撐部648與VCM蓋子660之間,使得 VCM蓋子660與閂鎖柱644的蓋子支撐部648僅在負(fù)荷被施加到VCM蓋子660時接觸。然 而,在某些實施方式中,在VCM蓋子660與蓋子支撐部648之間不可以形成間隙,使得VCM 蓋子660與蓋子支撐部648 -直接觸。
[0039] 如圖所示,VCM蓋子支撐部648被形成為具有彎曲區(qū)域662的基本平坦表面,使得 閂鎖柱644的直徑朝著VCM蓋子660逐漸減少。然而,蓋子支撐部648并不限于這種配置, 并且可以具有其他替換性配置。例如,蓋子支撐部648可以被形成為具有彎曲上表面的半 球形部。進(jìn)一步地,在某些實施方式中,閂鎖柱644可以被形成為沿其長度具有恒定直徑。
[0040] 閂鎖柱644可以由包括經(jīng)機(jī)械加工的鋁或鋼的各種材料形成。此外,在某些實施 方式中,閂鎖柱644被形成為與基部118分離的工件,該工件被插入穿過基部118。然而, 閂鎖柱644并不限于被插入穿過基部118的單獨(dú)工件。閂鎖柱644可以被形成為通過粘合 齊U、焊接、螺絲附連、沖壓裝配或?qū)τ诒绢I(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易見的任何其他附 連類型被附連到基部118底部的單獨(dú)工件。閂鎖柱644還可以被形成為經(jīng)機(jī)械加工的延伸 零件,其被形成為基部118的一部分或者對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是顯而易見的任 何其他配置。
[0041] 雖然已經(jīng)描述了特定實施和實施例,這些實施和實施例僅通過示例的方式陳述, 但是所述實施例并非意圖限制本公開的保護(hù)范圍。實際上,本文描述的新穎方法和裝置可 以以各種其他形式體現(xiàn)和實施。而且,在不偏離本公開保護(hù)精神的情況下,可以對本文所述 的方法和系統(tǒng)進(jìn)行各種形式的刪減、替換和變化。所附的權(quán)利要求和其等同物意圖覆蓋落 入本公開保護(hù)范圍和精神內(nèi)的此種形式或修改。
【權(quán)利要求】
1. 一種磁盤驅(qū)動器組件,其包括: 基部; 蓋子; 從所述基部向所述蓋子延伸的立柱;以及 被可移動安裝在所述立柱上使得所述立柱延伸穿過其中的閂鎖, 其中所述立柱包括蓋子支撐部,所述蓋子支撐部被配置為: 支撐所述蓋子,以及 防止所述蓋子在負(fù)荷被施加到所述蓋子在所述閂鎖上方的部分時壓縮所述閂鎖,并且 防止使所述閂鎖同時接觸所述蓋子和所述基部兩者。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述立柱被配置為具有大于所述閂鎖 的高度的高度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述閂鎖包括至少一個蓋子接觸部, 所述至少一個蓋子接觸部被配置為朝著所述蓋子延伸并在所述閂鎖與所述蓋子之間提供 減少的接觸面積。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述閂鎖包括被配置為朝著所述基部 延伸并且在所述閂鎖與所述基部之間提供減少的接觸面積的至少一個基部接觸部。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述至少一個基部接觸部和所述至少 一個蓋子接觸部中的至少一個包括在所述閂鎖的表面上形成的半球形結(jié)構(gòu)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述至少一個蓋子接觸部包括在所述 閂鎖的表面上形成的半球形結(jié)構(gòu)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述蓋子支撐部包括: 被布置在所述立柱的端部的基本平坦表面;以及 相鄰于所述基本平坦表面的錐形側(cè)壁,其半徑沿著所述立柱的高度的至少一部分增 加。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述蓋子支撐部包括:被布置在所述 立柱的端部的彎曲的上表面。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述立柱被形成為插入穿過所述基部 的銷釘。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述立柱被形成為所述基部的經(jīng)機(jī) 械加工的延伸零件。
11. 一種磁盤驅(qū)動器組件,其包括: 基部; 音圈馬達(dá)組件即VCM,其包括VCM蓋子; 從所述基部向所述VCM蓋子延伸的立柱;以及 閂鎖,其被可移動安裝在所述立柱上使得所述立柱延伸穿過其中, 其中所述立柱包括蓋子支撐部,所述蓋子支撐部被配置為: 支撐所述VCM蓋子,以及 防止所述VCM蓋子在負(fù)荷被施加到所述VCM蓋子在所述閂鎖上方的部分時壓縮所述閂 鎖,并防止使所述閂鎖同時接觸所述VCM蓋子和所述基部兩者。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述立柱被配置為具有大于所述閂 鎖的高度的高度。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述閂鎖包括被配置為朝著所述 VCM蓋子延伸并且在所述閂鎖與所述VCM蓋子之間提供減少的接觸面積的至少一個VCM蓋 子接觸部。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述閂鎖包括被配置為朝著所述基 部延伸并且在所述閂鎖與所述基部之間提供減少的接觸面積的至少一個基部接觸部。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述至少一個基部接觸部和所述至 少一個VCM蓋子接觸部中的至少一個包括在所述閂鎖的表面上形成的半球形結(jié)構(gòu)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述至少一個VCM蓋子接觸部包括 在所述閂鎖表面上形成的半球形結(jié)構(gòu)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述VCM蓋子支撐部包括: 被布置在所述立柱的端部的基本平坦表面;以及 相鄰于所述基本平坦表面的錐形側(cè)壁,其半徑沿著所述立柱的高度的至少一部分增 加。
18. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述VCM蓋子支撐部包括:被布置 在所述立柱的端部的彎曲的上表面。
19. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述立柱被形成為插入穿過所述基 部的銷釘。
20. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述立柱被形成為所述基部的經(jīng)機(jī) 械加工的延伸零件。
21. -種用于磁盤驅(qū)動器組件的閂鎖機(jī)構(gòu)組件,所述磁盤驅(qū)動器組件包括蓋子和基部, 所述閂鎖機(jī)構(gòu)包括: 立柱,其被配置為從所述磁盤驅(qū)動器組件的一部分向所述蓋子延伸;以及 閂鎖,其被可移動地安裝在所述立柱上使得所述立柱延伸穿過其中, 其中所述立柱包括蓋子支撐部,所述蓋子支撐部被配置為: 支撐所述蓋子,以及 防止所述蓋子在負(fù)荷被施加到所述蓋子在所述閂鎖上方的部分時壓縮所述閂鎖并且 防止使所述閂鎖同時接觸所述蓋子和所述基部兩者。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的閂鎖機(jī)構(gòu),其中所述立柱被配置為具有大于所述閂鎖的高 度的高度。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的閂鎖機(jī)構(gòu),其中所述閂鎖包括被配置為向所述蓋子延伸并 且在所述閂鎖與所述蓋子之間提供減少的接觸面積的至少一個蓋子接觸部。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的閂鎖機(jī)構(gòu),其中所述閂鎖包括被配置為朝著所述基部延伸 并且在所述閂鎖與所述基部之間提供減少的接觸面積的至少一個基部接觸部。
25. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的閂鎖機(jī)構(gòu),其中所述至少一個基部接觸部和所述至少一個 蓋子接觸部中的至少一個包括在所述閂鎖的表面上形成的半球形結(jié)構(gòu)。
26. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的閂鎖機(jī)構(gòu),其中所述至少一個蓋子接觸部包括在所述閂鎖 的表面上形成的半球形結(jié)構(gòu)。
27. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的閂鎖機(jī)構(gòu),其中所述蓋子支撐部包括: 被布置在所述立柱的端部的基本平坦表面;以及 相鄰于所述基本平坦表面的錐形側(cè)壁,其半徑沿著所述立柱的高度的至少一部分增 加。
28. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的磁盤驅(qū)動器組件,其中所述蓋子支撐部包括:被布置在所 述立柱的端部的彎曲的上表面。
【文檔編號】G11B5/48GK104103283SQ201410132947
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年4月3日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月3日
【發(fā)明者】N·D·史密斯, D·T·阮, D·K·邁爾斯 申請人:西部數(shù)據(jù)技術(shù)公司