專利名稱：包括有形狀的寫線圈的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開的某些實(shí)施例總地涉及包括帶有形狀的寫線圈的讀/寫磁頭的方法和裝置。

發(fā)明內(nèi)容
在某些實(shí)施例中，磁頭包括具有多個(gè)線圈匝的寫線圈。多個(gè)線圈匝的一部分位于空氣承載表面附近并形成V形或u形。在某些實(shí)施例中，磁頭包括具有多個(gè)線圈匝的寫線圈。最靠近空氣承載表面的線圈匝是錐形的。


圖1給出根據(jù)本公開某些實(shí)施例的讀/寫磁頭的一部分的側(cè)視圖。圖2給出根據(jù)本公開某些實(shí)施例的寫線圈的一部分的圖。圖3給出根據(jù)本公開某些實(shí)施例的寫線圈的一部分的圖。圖4給出根據(jù)本公開某些實(shí)施例的寫線圈的一部分的圖。圖5給出根據(jù)本公開某些實(shí)施例的寫線圈的一部分的圖。圖6示出依照本公開的某些實(shí)施例的凸起外形的圖表。
具體實(shí)施例方式本公開涉及包括用于讀/寫磁頭的寫線圈的裝置、系統(tǒng)和方法。通過調(diào)整寫線圈的形狀，可調(diào)整讀/寫磁頭面向介質(zhì)的表面的凸起外形。在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置工作期間，讀/寫磁頭靠近記錄介質(zhì)地定位以將數(shù)據(jù)讀和寫至介質(zhì)。為了控制磁頭讀出器或?qū)懭肫髋c介質(zhì)之間的距離，磁頭可包括一個(gè)或多個(gè)加熱電路以誘導(dǎo)熱凸起。圖1示出具有寫入器部分102和讀出器部分104的讀/寫磁頭100。寫入器部分102包括寫入器以及位于寫入器周圍和/或附近的一個(gè)線圈或一組線圈。這一個(gè)或多個(gè)線圈可以是扁平的(如圖所示)或螺旋形的(有時(shí)被稱為盤形線圈)，其中線圈纏繞在后通路周圍。加熱電路106位于寫入器部分102附近。當(dāng)電流流過加熱電路106時(shí)，電路106提供局部加熱以在空氣承載表面(ABS)處誘導(dǎo)熱凸起。沿下行道方向的熱凸起的例子在圖1中以虛線示出，其朝向記錄介質(zhì)108凸起。當(dāng)使用加熱元件時(shí)，凸起形狀或外形依存于周圍的大體積形狀，例如寫線圈，所述寫線圈可利用具有高熱膨脹系數(shù)的材料(例如銅)制成。當(dāng)寫線圈因?yàn)榧訜嵩蛞驗(yàn)殡娏髁鬟^其中而受熱時(shí)，寫線圈的形狀影響到凸起形狀。本公開的某些實(shí)施例因此針對(duì)用于調(diào)整寫線圈的形狀以控制凸起形狀以及作為結(jié)果控制讀/寫換能器和介質(zhì)之間的接觸面積的系統(tǒng)、裝置和方法。圖2示出具有多個(gè)線圈匝202-206的螺旋形寫線圈200的一部分。線圈匝202的位置最靠近空氣承載表面(ABS)，接著是線圈匝204、206。線圈匝202-206被削錐以形成v形狀，這提供窄的凸起形狀。如圖2所示，隨著線圈越來越接近ABS，線圈匝202-206變得越來越薄。線圈匝202在ABS附近包括一平坦部208。調(diào)整寫線圈200及其線圈匝202-206的形狀可沿橫道(cross-track)方向使凸起形狀變寬或變窄。例如，調(diào)整平坦部的寬度將調(diào)整凸起沿橫道方向的寬度。平坦部208越寬，則凸起和作為結(jié)果的讀/寫磁頭和記錄介質(zhì)之間的接觸面積就越寬。因此，可將凸起形狀調(diào)節(jié)成窄的，就像圖6所示的凸起外形600那樣——它代表從與圖2的寫線圈200相似的寫線圈設(shè)計(jì)誘導(dǎo)出的凸起形狀。盡管前面的說明書談到使用單個(gè)寫線圈，但可通過使用多個(gè)寫線圈來獲得相似的凸起形狀。例如，不使用具有三個(gè)線圈匝的寫線圈，而是使用三個(gè)獨(dú)立的寫線圈。圖3示出具有多個(gè)線圈匝302-306的扁平寫線圈300的一部分。線圈匝302的位置最靠近ABS，接著是線圈匝304、306。線圈匝在接近ABS的地方被削錐以形成v形狀，這提供窄的凸起形狀。如圖3所示，隨著線圈越來越接近ABS，線圈匝302-306變得越來越薄。線圈匝302在ABS附近包括一平坦部308。調(diào)整寫線圈300及其線圈匝302-306的形狀可沿橫道方向使凸起形狀變寬或變窄。例如，調(diào)整平坦部的寬度將調(diào)整凸起沿橫道方向的寬度。盡管前面的說明書談到使用單個(gè)寫線圈，但可通過使用多個(gè)寫線圈來獲得相似的凸起形狀。例如，不使用具有三個(gè)線圈匝的寫線圈，而是使用三個(gè)獨(dú)立的寫線圈。圖4示出具有多個(gè)線圈匝402-406的螺旋形寫線圈400的一部分。線圈匝402的位置最靠近ABS，接著是線圈匝404、406。線圈匝在接近ABS的地方被削錐以形成u形狀，這提供寬的凸起形狀。線圈匝402在ABS附近包括一平坦部408。圖4的較長(zhǎng)平坦部408誘導(dǎo)寬的外形，由此使沿橫道方向的凸起形狀變寬。較寬的形狀提供讀/寫磁頭和記錄介質(zhì)之間的附加接觸面積。圖6示出從與圖4的寫線圈400類似的寫線圈設(shè)計(jì)誘導(dǎo)出的凸起外形602。盡管前面的說明書談到使用單個(gè)寫線圈，但可通過使用多個(gè)寫線圈來獲得相似的凸起形狀。例如，不使用具有三個(gè)線圈匝的寫線圈，而是使用三個(gè)獨(dú)立的寫線圈。圖5示出具有多個(gè)線圈匝502-506的扁平寫線圈500的一部分。線圈匝在接近ABS的地方被削錐以形成u形狀，這提供寬的凸起形狀。線圈匝502在ABS附近包括一平坦部508。圖5的較長(zhǎng)平坦部508誘導(dǎo)寬的外形，由此使沿橫道方向的凸起形狀變寬。較寬的形狀提供讀/寫磁頭和記錄介質(zhì)之間的附加接觸面積。盡管前面的說明書談到使用單個(gè)寫線圈，但可通過使用多個(gè)寫線圈來獲得相似的凸起形狀。例如，不使用具有三個(gè)線圈匝的寫線圈，而是使用三個(gè)獨(dú)立的寫線圈。圖6提供由不同寫線圈設(shè)計(jì)誘導(dǎo)的凸起形狀的示例性外形600、602的圖表。外形600表示從與圖2所示相似的寫線圈設(shè)計(jì)中誘導(dǎo)出的橫道凸起形狀。外形600具有比外形602更尖銳和更窄的凸起形狀，其代表從與圖4所示相似的寫線圈設(shè)計(jì)中誘導(dǎo)出的橫道凸起形狀。對(duì)各種扁平線圈設(shè)計(jì)可分別觀察到類似的凸起形狀?？梢岳斫猓M管在前述的描述中與本發(fā)明的各實(shí)施例的結(jié)構(gòu)和功能的細(xì)節(jié)一起闡述了本發(fā)明的各實(shí) 施例的很多特征和優(yōu)點(diǎn)，但是，此詳細(xì)描述只是說明性的，可以詳細(xì)作出更改，特別是在本發(fā)明的原理內(nèi)對(duì)各部分的結(jié)構(gòu)和布局方面、在由表達(dá)所附權(quán)利要求書的術(shù)語的廣泛的一般含義所指出的完整范圍內(nèi)作出更改。
權(quán)利要求
1.一種磁頭，包括: 具有多個(gè)線圈匝的寫線圈，其中多個(gè)線圈匝的一部分被定位在空氣承載表面附近并形成V形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，所述寫線圈是螺旋形線圈結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，所述寫線圈是扁平線圈結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，所述寫線圈位于寫入器附近。
5.如權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，所述寫線圈位于讀出器附近。
6.如權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，最靠近所述空氣承載表面的線圈匝具有緊鄰于所述空氣承載表面的平坦部。
7.如權(quán)利要求1所 述的磁頭，其特征在于，所述寫線圈被削錐成V形狀。
8.如權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，所述V形狀包括窄的凸起外形。
9.一種磁頭，包括: 呈扁平線圈結(jié)構(gòu)的具有多個(gè)線圈匝的寫線圈，其中多個(gè)線圈匝的一部分被定位在空氣承載表面附近并形成u形狀。
10.如權(quán)利要求9所述的磁頭，其特征在于，最靠近所述空氣承載表面的線圈匝具有緊鄰于所述空氣承載表面的平坦部。
全文摘要
在某些實(shí)施例中，磁頭包括具有多個(gè)線圈匝的寫線圈。多個(gè)線圈匝的一部分位于空氣承載表面附近并形成v形狀或u形狀。在某些實(shí)施例中，磁頭包括具有多個(gè)線圈匝的寫線圈。最靠近空氣承載表面的線圈匝是削錐的。
文檔編號(hào)G11B5/17GK103226953SQ20131002776
公開日2013年7月31日 申請(qǐng)日期2013年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月25日
發(fā)明者E·J·胡欽森 申請(qǐng)人:希捷科技有限公司