專利名稱：光學記錄介質及其制造方法以及記錄設備的制作方法
技術領域：
本公開涉及一種具有記錄層的光學記錄介質以及制造該光學記錄介質的方法，其中，在所述光學記錄層中深度方向上選擇性地執(zhí)行標記記錄并且所述標記以多層形式形成。本公開還涉及一種記錄設備，該記錄設備在光學記錄介質的記錄層上執(zhí)行標記記錄。
背景技術：
作為通過光學照射對其執(zhí)行信號記錄和再生的光學記錄介質，諸如⑶(壓縮光盤)、DVD(數字多功能光盤)和BD(藍光盤注冊商標)的所謂的光盤被廣泛應用。對于期望成為當前廣泛應用的光學記錄介質(諸如⑶、DVD和BD)的下一代的光學記錄介質，本申請的申請人已經提出了一種所謂的塊記錄(bulk recording)型(可簡單稱為塊型)光學記錄介質，如在日本未審查專利申請公開第2008-135144號和第 2008-176902號中所描述的。這里，例如，如圖19所示，塊記錄是一種順序改變在至少具有覆蓋層101和塊層 (記錄層)102的光學記錄介質(塊型記錄介質100)中的聚焦位置的同時執(zhí)行激光照射而在塊層102中執(zhí)行多層記錄從而實現記錄容量提高的技術。對于這樣的塊記錄，上面提到的日本未審查專利申請公開第2008-135144號公開了一種稱為微全息(micro-hologram)方法的記錄技術。在該微全息方法中，將所謂的全息記錄材料用作塊層102的記錄材料。作為全息記錄材料，例如，受光聚合的聚合物 (photopolymerized polymer)等是眾所周知的。微全息方法大致分為正型微全息方法和負型微全息方法。正型微全息方法是通過在同一位置會聚兩個相對光束(束A和束B)而形成細干涉條紋(全息圖)并使該條紋用作記錄標記的技術。負型微全息方法基于與正型微全息方法相反的思想，并且為利用激光照射擦除預形成的干涉條紋并使擦除的部分用作記錄標記的技術。在該負型微全息方法中， 需要提供預先在塊層中形成干涉條紋的處理作為初始化處理。例如，作為與微全息方法不同的塊記錄技術，如在日本未審查專利申請公開第 2008-176902號中所公開的，申請人還提出了形成孔隙(孔洞)作為記錄標記的記錄技術?？紫队涗浄椒ㄊ峭ㄟ^將例如由受光聚合的聚合物、樹脂等制成的塊層102經受具有相對高功率的激光照射而在塊層102中記錄孔洞的技術。如日本未審查專利申請公開第 2008-176902號中所描述的，以這種方式形成孔洞的部分為折射率不同于塊層102中的其他部分折射率的部分，且它們之間邊界處光的反射率增加。因此，孔洞部分用作記錄標記， 這通過形成孔洞標記實現了信息記錄。在這樣的孔隙記錄方法中，沒有形成全息圖，因此可以僅通過從一側執(zhí)行光學照射來完成記錄。換句話說，與正型微全息方法不同，可以不通過在同一位置會聚兩個光束來形成記錄標記。而且，與負型微全息方法相比，存在的優(yōu)勢在于，可以去除初始化處理。應該注意的是，日本未審查專利申請公開第2008-176902號描述了這樣的實例，其中，在進行孔隙記錄時，執(zhí)行記錄前的預固化的光照射，但即使省略預固化的光照射，也可以進行孔隙
4記錄。順便地，盡管已經提出上述各種記錄技術用于塊記錄型(也可簡單稱為塊型)的光學記錄介質，但例如就形成多于一個的反射膜的意義而言，這樣的塊型光學記錄介質的記錄層(塊層)不具有明顯的多層結構。換句話說，在塊層102中，沒有設置如普通多層光盤中的每個記錄層的反射膜以及引導凹槽(guiding groove)。因此，當保持如圖19所示的塊型記錄介質100的結構時，在其中沒有形成標記的記錄時可以不執(zhí)行聚焦伺服和跟蹤伺服。因此，實際上，塊型記錄介質100設置有反射表面(基準面)，該反射表面具有位置引導元件并作為基準，如圖20所示。具體地，通過在覆蓋層101的下表面?zhèn)刃纬砂伎踊虬疾蹃硇纬陕菪幕蛲牡奈恢靡龑г?即，在該情況下的引導凹槽)，在其上形成選擇性反射膜103。隨后，在形成有選擇性反射膜103的覆蓋層101的下側上，例如，經由圖中用作中間層104的粘合材料(諸如UV固化樹脂)層疊塊層102。這里，通過利用上述凹坑或凹槽形成位置引導元件(引導凹槽)，記錄諸如半徑位置信息和旋轉角信息的絕對位置信息 (地址信息)。下面，將形成引導凹槽并記錄絕對位置信息的表面(在這種情況下為形成有選擇性反射膜103的表面)稱為“基準面Ref ”。此外，基于上述介質結構，除了標記記錄(或再生)激光束(以下也可稱為記錄/ 再生激光束，或簡稱為記錄/再生光)之外，利用用作位置控制的激光束的伺服激光束(也可簡稱為伺服光)照射塊型記錄介質100，如圖21所示。如圖所示，這些記錄/再生激光束和伺服激光束通過共用物鏡施加至塊型記錄介質100。此時，作為上述伺服激光束，使用與記錄/再生激光束不同的波長范圍內的激光束。這是為了利用各波長之差，獨立地檢測來自基準面Ref的伺服激光束的反射光和來自記錄標記的記錄/再生激光束的反射光。為了支持該目的，作為形成在基準面Ref上的反射膜，使用具有反射伺服激光束而同時允許記錄/再生激光束穿過其中的波長選擇性的選擇性反射膜103?；谏鲜銮疤幔瑢⒖紙D21描述塊型記錄介質100中標記記錄時的操作。首先， 在對沒有形成引導凹槽和反射膜的塊層102執(zhí)行多層記錄時，預先確定塊層102的深度方向的哪個位置將是用于記錄標記的層位置。圖21示出這樣的情況，作為要在塊層102中記錄標記的層位置(標記形成層位置，也可稱作信息記錄層位置)，總共設置了五個信息記錄層位置L，即，第一信息記錄層位置Ll至第五信息記錄層位置L5。如圖21所示，第一信息記錄層位置Ll設置為與形成有引導凹槽的選擇性反射膜103 (基準面Ref)在聚焦方向上 (在深度方向上)相距第一偏移-Ll的位置。此外，第二、第三、第四和第五信息記錄層位置 L2、L3、L4和L5分別設置為與基準面Ref相距第二偏移-L2、第三偏移-L3、第四偏移-L4 和第五偏移-L5的位置。這里應該注意的是，為了便于示出，有五個信息記錄位置L，但實際上，幾十(例如20)個信息記錄層位置L以約10 μ m的間隔設置。在沒有形成標記的記錄過程中，很難基于記錄/再生激光束的反射光執(zhí)行對于塊層102中每層位置的聚焦伺服和跟蹤伺服。因此，通過使伺服激光束的斑點位置跟隨基準面Ref中的引導凹槽，基于伺服激光束的反射光執(zhí)行記錄時物鏡的聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制。然而，要求記錄/再生激光束到達形成在基準面Ref的下層側上的塊層102以用于標記記錄。為此，這種情況下的光學系統(tǒng)除了設置有物鏡的聚焦機構之外，還設置有記錄 /再生光聚焦機構以獨立地調節(jié)記錄/再生激光束的聚焦位置。具體地，作為這樣的聚焦機構，設置了改變入射至物鏡上的記錄/再生激光束準直的擴束器(expander)。換句話說，該聚焦機構由此改變入射至物鏡上的記錄/再生激光束的準直，從而獨立于伺服激光束調節(jié)記錄/再生激光束的聚焦位置。這樣的聚焦機構使得能夠進行調節(jié)以使得記錄/再生激光束的聚焦位置與塊層 102中要求的信息記錄層位置L一致，而同時基于來自上述基準面Ref的伺服激光束的反射光來執(zhí)行物鏡的聚焦伺服控制。應該注意的是，證實通過基于來自基準面Ref的伺服激光束的反射光執(zhí)行物鏡的跟蹤伺服控制，在跟蹤方向上的記錄/再生激光束的位置被控制在預定位置(正好在基準面Ref中形成的引導凹槽的下方的位置)。進一步，當為其中已經執(zhí)行了標記記錄的塊型記錄介質100執(zhí)行再生時，可不必基于伺服激光束的反射光控制物鏡的位置，這與執(zhí)行記錄時不同。換句話說，再生時，通過將形成在用于再生的信息記錄層位置L(也可以稱作再生時的信息記錄層L)中的記錄串 (mark train)作為目標，可以基于記錄/再生激光束的反射光執(zhí)行物鏡的聚焦伺服和跟蹤伺服。這里，如圖20和21所示，現有塊型記錄介質100是其中覆蓋層101、基準面Ref (選擇性反射膜10 和塊層102從光入射平面?zhèn)纫来卧O置的介質。換句話說，為執(zhí)行位置控制獲得伺服激光束反射光的基準面Ref (反射表面)形成在塊層102的上層側上。此時，就在塊層102中記錄和再生方面考慮標記的特性，期望記錄/再生激光束無損耗地進入塊層102。例如，當具體采用上述孔隙記錄方法時，期望相對大激光功率來在塊層102中記錄標記，且記錄在塊層102中的標記反射率小，因此選擇性反射膜103的用于記錄/再生激光束的透射因子很重要，且近似全透射是理想的。因此，當前將具有優(yōu)良波長選擇性的介電多層膜用作選擇性反射膜103。

發(fā)明內容
在如上所述的現有塊型記錄介質100中，將具有優(yōu)良波長選擇性的介電多層膜用作選擇性反射膜103，以使得記錄/再生激光束通過并近似100%地到達塊層102。然而，在當前情況下，介電多層膜非常昂貴，導致了產品成本的增加，這是所不期望的。而且，在使用介電多層膜的情況下，很難適當控制每個介電膜的膜厚從而獲得理想的特性，導致產率降低從而導致成本增加，這也是所不期望的。期望使得記錄/再生激光束幾乎無損耗地到達塊層，而同時抑制塊型光學記錄介質的產品成本的增加。根據本發(fā)明的實施方式，提供了如下的光學記錄介質。該光學記錄介質包括記錄層，其中，通過照射第一光在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記記錄，標記以多層形式形成；以及反射膜，反射波長與第一光波長不同的第二光，并設置在記錄層下層側上。此外，根據本發(fā)明的另一個實施方式，提供了制造光學記錄介質的下述方法。該方法包括在記錄層的下層側上形成反射膜，在所述記錄層中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記的記錄，且標記以多層形式形成。反射膜反射波長與第一光波長不同的第二光。
此外，根據本發(fā)明的另一個實施方式，提供了下述的記錄設備。該記錄設備在光學記錄介質中執(zhí)行記錄。光學記錄介質包括記錄層，其中，通過照射第一光在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記的記錄，且標記以多層形式形成；以及反射膜，反射波長與第一光波長不同的第二光，并設置在記錄層的下層側上。所述記錄設備包括，物鏡，第一光和第二光入射在該物鏡上并且該物鏡以第一光和第二光照射光學記錄介質。所述記錄設備進一步包括在聚焦方向上驅動物鏡的物鏡聚焦機構。記錄設備進一步包括聚焦位置獨立調節(jié)機構，改變入射到物鏡上的第一光的準直狀態(tài)，從而獨立于第二光的聚焦位置改變第一光的聚焦位置。 記錄設備進一步包括聚焦伺服控制部，基于通過接收來自反射膜的第二光的反射光而獲得的聚焦誤差信號來驅動物鏡聚焦機構，從而對物鏡執(zhí)行聚焦伺服控制以將第二光聚焦在記錄層的下層側上形成的反射膜上。記錄設備進一步包括控制部，控制聚焦位置獨立調節(jié)機構以將第一光的聚焦位置調節(jié)至位于反射膜的上層側上的記錄層中的記錄目標位置，并執(zhí)行控制以通過第一光執(zhí)行標記記錄。如上所述，通過在記錄層(塊層)的下層側上設置反射第二光(伺服光)的反射膜，可以幾乎無損耗地用第一光(記錄/再生光)照射記錄層。同時，通過采用上述反射膜設置在記錄層下層側上的結構，反射膜可不必保持第一光的透射因子近似100%。因此，可以不用過去使用的介電多層膜，而是例如采用為由金屬材料(包括合金材料)制成的單層結構的低成本的反射膜。應該注意的是，證實了第一光在標記再生時聚焦在記錄層中的目標層位置，即，在第一光達到聚焦之后以第一光照射反射膜。因此，可降低來自反射膜的第一光的反射光對來自標記的第一光的反射光(再生光)的影響。根據本發(fā)明的上述實施方式，在包括其中通過照射第一光在深度方向上選擇性執(zhí)行標記錄且標記是以多層形式形成的記錄層的光學記錄介質中，可以幾乎無損耗地用第一光照射記錄層，而不用由介電多層膜形成的具有波長選擇性的反射膜作為反射波長與第一光波長不同的第二光的反射膜。結果，根據本發(fā)明的上述實施方式，可實現幾乎無損耗地用第一光照射記錄層和光學記錄介質產品成本降低之間的兼容。此外，根據本發(fā)明的上述實施方式的方法，可以制造產生這樣優(yōu)異效果的本發(fā)明上述實施方式的光學記錄介質。此外，根據本發(fā)明上述實施方式的記錄設備，可以通過支持本發(fā)明的上述實施方式的光學記錄介質來執(zhí)行標記記錄。應該理解的是，前面的概述和下面的詳細描述都是示例性的，且意在提供所要求的技術的進一步說明。


附圖被包括以提供對本公開的進一步理解，并結合在說明書中并作為說明書的一部分。附圖示出了實施方式，并與說明書一起用來說明技術原理。圖1是根據實施方式的光學記錄介質的截面結構圖。圖2是說明用于實施方式的光學記錄介質的位置控制技術的示圖。圖3示出相對于由包含銀作為主要成分的材料形成的反射膜(和包含鋁作為主要成分的反射膜)的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性的示圖。圖4示出相對于由包含銅作為主要成分的材料形成的反射膜的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性。
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圖5示出相對于由包含金作為主要成分的材料形成的反射膜的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性。圖6示出相對于由合金形成的反射膜的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性。圖7A至圖7D是用于說明制造根據實施方式的光學記錄介質的方法的示圖。圖8為主要示出設置在根據實施方式的記錄設備中的光學系統(tǒng)的配置的示圖。圖9是根據實施方式的整個記錄設備的內部配置的框圖。圖10示出這樣一種狀態(tài)，其中，經由物鏡施加記錄/再生激光束以聚焦在最下信息記錄層位置上，且從塊型記錄介質獲得的記錄/再生激光束的反射光作為結果被引導至光接收部。圖11示出對于基準面Ref的反射率和標記的反射率之間的每個反射率比，相對于從最下信息記錄層至基準面的距離的“雜散光強度/再生光強度”的變化特性的計算結果。圖12A至圖12C為分別示出基準面、物鏡出射表面(返回光側)和光接收表面上強度分布圖案的示圖，它們是圖11中計算的前提。圖13是用來說明來自最下信息記錄層位置的反射光的球面和來自基準面的反射光的球面之間差異出現的示圖。圖14是根據其中引導凹槽形成在塊層側上的變形例的光學記錄介質的截面結構圖。圖15A至圖15E是用于說明制造變形例的光學記錄介質的方法的示圖。圖16是根據其中省略了覆蓋層的變形例的光學記錄介質的截面結構圖。圖17是根據其中采用粘合結構的變形例的光學記錄介質的截面結構圖。圖18是根據其中設置了多于一個半透明記錄膜并允許多層記錄的變形例的光學記錄介質的截面結構圖。圖19是用于說明塊記錄方法的示圖。圖20是作為實例示出了實際上設置有基準面的塊型記錄介質的截面結構的示圖。圖21是說明用于塊型記錄介質的標記記錄/再生技術的示圖。
具體實施例方式下面參考附圖詳細說明本公開的實施方式。順便地，以下面的順序給出描述。1.實施方式的光學記錄介質1-1.光學記錄介質的結構1-2.反射膜的具體材料1-3.光學記錄介質的制造方法2.記錄設備的配置2-1.光學系統(tǒng)的配置2-2.記錄設備的整體內部配置3.從最下信息記錄層位置到基準面的距離以及反射比的討論4.變形例
(1.實施方式的光學記錄介質)(1-1.光學記錄介質的結構)圖1示出是根據本發(fā)明實施方式的用作光學記錄介質實例的塊型記錄介質1的截面結構圖。這里，塊型記錄介質是其中執(zhí)行所謂塊記錄的光學記錄介質。塊記錄是指這樣一種技術，即，通過將激光束發(fā)射到塊記錄層而同時順序改變聚焦位置來執(zhí)行多層記錄，而無需像普通多層光盤那樣采用其中形成有多于一個記錄膜的多層結構。在圖1中，假定塊型記錄介質1為盤狀光學記錄介質，其以被驅動旋轉的方式由激光束照射，從而在塊層3中執(zhí)行標記記錄(信息記錄)。此外，在記錄信息的再生中，塊型記錄介質1同樣以被驅動旋轉的方式由激光束照射。應該注意的是，光學記錄介質是其中通過光照射記錄和再現信息的記錄介質的統(tǒng)稱。如圖所示，從上層側依次在塊型記錄介質1中形成覆蓋層2、塊層3、粘合層4、反射膜5和基板6。這里，在本說明書中，“上層側”是指在激光束從設置下述記錄設備(記錄/ 再生設備10)的一側入射在其上的表面用作頂表面時的上層側。此外，在本說明書中，使用術語“深度方向”。該“深度方向，，指的是與根據“上層側”的上述定義的垂直方向一致的方向(也就是，與來自記錄設備側的激光束的入射方向平行的方向，即，聚焦方向)。在塊型記錄介質1中，覆蓋層2例如由樹脂形成，并起到用作記錄層的塊層3的保護層的作用。塊層3形成在覆蓋層2的下層側上。作為形成塊層3的材料，例如，根據要采用的塊記錄的方法(諸如像正型微全息方法或負型微全息方法的微全息方法和孔隙記錄方法)，可采用認為是最佳的材料。應該注意的是，在本公開中，用于塊層的標記記錄方法并不具體限制，可采用的塊記錄方法類別中的任何方法。下面，將作為實例描述采用孔隙記錄方法的情況。當采用孔隙記錄方法時，將包含樹脂作為主成分的材料用作塊層3的記錄材料。反射膜5經由由所需的粘合材料形成的粘合層(中間層)4形成在塊層3的下層側上。在反射膜5中形成了引導記錄/再生位置的位置引導元件。位置引導元件形成在反射膜中的事實意味著反射膜形成在形成位置引導元件的界面上。特別地，在這種情況下，凹槽或凹坑串形成在圖中基板6的一個表面?zhèn)壬希瑥亩峁┝藞D中所示的具有波紋形狀的截面，而反射膜5形成在具有波紋形狀截面的基板6的表面上。結果，由凹槽或凹坑串形成的位置引導元件形成在反射膜5中。通過凹槽或凹坑串，記錄了表示在與塊型記錄介質1的面內記錄方向平行的方向上的絕對位置的信息(絕對位置信息半徑位置信息和旋轉角信息)。當位置引導元件通過使用凹槽形成時，通過凹槽的蜿蜒(擺動)周期的變化來記錄該絕對位置信息，然而，當位置引導元件通過使用凹坑串形成時，通過凹坑長度變化或凹坑形成間隔來記錄絕對位置信息。此外，例如基板6由樹脂(諸如聚碳酸酯或丙烯酸)形成。通過利用設置有用來形成位置引導元件的凹凸截面形狀的壓模的注入成型來形成基板6。這里，在塊層3內，既沒有形成位置引導元件也沒有形成設置有位置引導元件的反射膜。如隨后所述，基于來自形成有位置引導元件的反射膜5的反射光來控制塊層3中的記錄/再生位置。在這個意義上，形成有位置引導元件的反射膜5 (反射表面)被表示為基準面Ref。
順便地，如在普通塊型記錄介質100的情況下，在對既沒有形成位置引導元件也沒有形成反射膜的塊層3執(zhí)行多層記錄時，預先確定塊層103的深度方向上哪個位置是記錄標記的層位置。如圖2所示，像圖21中的情況，作為塊層3中將要形成標記的層位置(標記形成層位置，其也可稱為信息記錄層位置)，在這種情況下同樣設定了總共五個信息記錄層位置L，即，第一信息記錄層位置Ll至第五信息記錄層位置L5。在這種情況下，在隨后描述的記錄/再現設備10中的控制器39中設定關于基準面Ref至每個信息記錄層位置L的偏移-L的信息。應該注意的是，這里為了示例方便，也是示出五個信息記錄層位置L，但實際上，例如幾十個(如20個)信息記錄層位置L以約10 μ m的間隔設定。此外，如前面說明，在塊型光學記錄介質中，以用于記錄/再生標記的激光束(記錄/再生激光束)和就波長而言與記錄/再生激光束不同且用來基于基準面Ref中的位置引導元件執(zhí)行位置控制的激光束(伺服激光束)照射記錄層。作為實例，圖2示出將在塊層 3中的信息記錄層位置L3作為目標而記錄標記時，照射至塊型記錄介質1的記錄/再生激光束和伺服激光束的狀態(tài)。在記錄標記時，如圖所示，伺服激光束被施加為在反射膜5(基準面Ref)上聚焦，并基于來自反射膜5的伺服激光束的反射光執(zhí)行物鏡的聚焦/跟蹤伺月艮。隨后，在這種狀態(tài)下，調節(jié)記錄/再生激光束的聚焦位置從而與所期望的信息記錄層位置L 一致，且將標記記錄在塊層3中期望的位置(聚焦方向和跟蹤方向上)。如隨后所述， 通過記錄/再生光聚焦機構(包括圖8中的固定透鏡14、可移動透鏡15和透鏡驅動部16) 執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦位置的調節(jié)。應該注意的是，該實例中，假定記錄/再生激光束的波長約為400nm，且伺服激光束的波長約為650nm。這里，從上面的描述顯而易見的是，在本實施方式中，獲得記錄時用于位置控制的伺服激光束的反射光的反射膜5形成在塊層3的下層側上。因為反射膜5形成在塊層3的下層側上，記錄/再生激光束幾乎無損耗地照射塊層3。此時，當提供反射膜5形成在塊層 3的下層側上的結構時，記錄/再生激光束穿過其中的記錄/再現激光束的反射膜5的透射因子不必如采用現有結構的情況那樣近似為100%。因此，反射膜5不必是過去使用的介電多層膜，例如，可以采用由金屬材料形成并具有單層結構的相對低廉的反射膜用作反射膜 5。這降低了材料自身的成本，并因為不使用介電多層膜而提高了產率，從而實現了成本的降低。以該方式，根據本實施方式，可以降低塊型光學記錄介質的制造成本，而同時允許記錄/再生激光束近似無損耗地照射至塊層3。應該注意的是，證實了在再生塊層3中記錄的標記時，記錄/再生激光束聚焦在塊層3中的目標信息記錄層位置L上，即，聚焦后的記錄/再生激光束被施加至反射膜5。這降低了來自反射膜5的記錄/再生激光束的反射光對來自記錄標記的記錄/再生激光束的反射光(再生光)的影響。這里，涉及根據上述實施方式的光學記錄介質的技術可包括，例如，在日本未審查專利申請公開第2007-102185號和第2007-333766號中所描述的技術。這些日本未審查專利申請公開第2007-102185號和第2007-333766號每個都描述了可用于以頁為單位記錄全息圖(全息圖頁)的全息記錄介質。具體地，日本未審查專利申請公開第2007-102185號描述了具有基于“第一基板5 —記錄層4 —濾波層6 —光吸收層9 —反射膜2 —第二基板 1”的結構的全息記錄介質。此外，日本未審查專利申請公開第2007-333766號描述了具有
10基于“透明基板70 —全息記錄層60 —間隙層50 —波長選擇層40 —間隙層30 —反射層 20 —基板10”的結構的全息記錄介質。換句話說，它們都采用了其中具有波長選擇性的反射層(濾波層6、和波長選擇層40)設置在記錄層的下層側上的結構。然而，在日本未審查專利申請公開第2007-102185號和第2007-333766號描述的結構中，濾波層6和波長選擇層40中的每個都是用來反射來自全息圖的衍射光并將該衍射光作為再生光返回至設備側所需的層，并被配置為允許伺服光穿過其中。此時，全息圖的衍射效率約為1 %，且因此濾波層6和波長選擇層40中的每個都被配置為幾乎完全反射記錄光(信息光或基準光)，以獲得足夠的再生光檢測強度(參考日本未審查專利申請公開第2007-102185號中W005]和
段，日本未審查專利申請公開第2007-333766號中W023]段，等)。此外，日本未審查專利申請公開第2007-102185號和第2007-333766號每個中的記錄介質均為不在記錄層中執(zhí)行多層記錄的介質，并且這方面與塊型光學記錄介質不同。(1-2.反射膜的具體材料)下面將描述反射膜5材料的具體實例。首先，作為前提，通過如下方式執(zhí)行塊層3 中記錄的信息的再生，即，施加記錄/再生激光束并在隨后描述的記錄/再生設備10側上接收來自所得的記錄標記(在本實例中為孔隙)的反射光。此時，根據上述圖1中所示的塊型記錄介質1的結構，只要通過將塊層3中的某個信息記錄層位置L作為目標執(zhí)行再生，記錄/再生激光束并不以剛聚焦的狀態(tài)施加至反射膜5，聚焦之后的光被發(fā)射。這降低了來自反射膜5的記錄/再生激光束的反射光對用于所記錄的標記的再生光的影響。然而，為了改善再生特性，期望能夠抑制來自反射膜的記錄/再生激光束的反射光強度。例如，對于來自反射膜5的記錄/再生激光束的反射光，可以想到通過信號處理消除其的影響而改善再生特性。然而，這會增加設備側上處理的負擔，例如，可能導致再生速率降低的缺點。從這個意義上，例如，期望能夠抑制來自反射膜的記錄/再生激光束的反射光強度。另一方面，僅在考慮抑制記錄/再生激光束的反射光強度時，可以通過減小反射膜5的膜厚來降低反射膜5的反射率。然而，當反射膜5的膜厚減小時，伺服激光束的反射光的光強度也變低，這可能會導致用于執(zhí)行伺服控制的各種誤差信號(error signal)的信號質量降低，結果，很難穩(wěn)定地執(zhí)行伺服控制。因此，考慮到這一點來選擇反射膜5的構成材料。具體地，選擇具有如下特性的材料，即，至少對伺服激光束的反射率比對記錄/再生激光束的反射率高(即，在反射率方面具有“伺服激光束>記錄/再生激光束”的波長選擇性)。此外，如上所述，記錄/再生激光束的反射光的量越小越好，因此，需要考慮這一點來設定反射膜5的膜厚。此時，因為過去使用的介電多層膜具有復雜的結構且由此很昂貴，所以采用甚至具有單層結構的可用的金屬材料作為具有這樣的波長選擇性的材料。這里，銀(Ag)可以作為具有上述波長選擇性的金屬材料的實例。圖3示出相對于由包含銀作為主要成分的材料形成的反射膜5的膜厚(nm)的每個波長的反射率變化特性。 應該注意的是，圖3還示出當反射膜5由包含鋁(Al)作為主要成分的材料形成時，相對于膜厚的每個波長的反射率的變化特性，這樣的反射膜通常用作光盤的反射膜。在圖3中，假設水平軸為膜厚(Onm至60nm)，且假設垂直軸為反射率(0至1)。對于基于銀的反射膜5，
11波長為400nm的激光束的反射率以星號繪出，而波長為650nm的激光束的反射率以實心菱形繪出。此外，對于基于鋁的反射膜5，波長為400的激光束的反射率以實心圓繪出，而波長為650nm的激光束的反射率以實心正方形繪出。首先，對于基于鋁的反射膜5，發(fā)現即使膜厚變化，波長為400nm(記錄/再生激光束)的反射率和波長為650nm(伺服激光束)的反射率之間幾乎沒有差別。相對地，在基于銀的反射膜5的情況下，發(fā)現與采用鋁的情況相比，記錄/再生激光束的反射率和伺服激光束的反射率之間整個范圍內存在差異。這樣的波長選擇性主要是由于銀的光學常數中消光系數k的波長色散(wavelength dispersion)而獲得的。在該情況下，特別在約IOnm以上的膜厚的范圍內，記錄/再生激光束的反射率和伺服激光束反射率之間有顯著的差別。此時，發(fā)現記錄/再生激光束的反射率和伺服激光束反射率之間的差在高達約30nm的膜厚范圍內有加寬的趨勢，而在約30nm以上的膜厚范圍內有逐漸收縮的趨勢。從圖3顯而易見的是，通過提供由包含銀作為主要成分的材料形成的反射膜5，可以實現具有上述波長選擇性的反射膜。換句話說，可以實現具有這樣特性的反射膜，即，至少對伺服激光束的反射率高于對記錄/再生激光束的反射率。這里，當反射膜5的對伺服激光束的反射率為對記錄/再生激光束反射率的兩倍或更高時，可以假定獲得了足夠的波長選擇性。換句話說，如果反射膜5的對伺服激光束的反射率為Rsv而對記錄/再生激光束的反射率為Rrp，這兩個反射率的比(下文中表述為反射率比Rrp/Rsv)為0. 5以下時，可假定確保了足夠的波長選擇性。根據圖3，在基于銀的反射膜5情況下，當反射膜5的膜厚在約4nm至約20nm的范圍內時實現了反射率比Rrp/Rsv < 0. 5。應該注意的是，由于膜形成技術的限制或諸如要求確保反射率Rsv為使得伺服穩(wěn)定的程度的限制，膜厚的下限自然受到限制，考慮到這一點， 約20nm以下的膜厚可定義為實現足夠的波長選擇性的膜厚。此時，反射膜5的膜厚變成影響記錄/再生激光束和伺服激光束之間反射率比 Rrp/Rsv的因素，且同時還成為影響反射率絕對大小的因素。這里，當來自反射膜5的記錄 /再生激光束的反射光的量大時，這增加了雜散光的量，從而引起了再生信號質量降低。當將來自記錄的標記的反射光的量假定為Rmk而將作為雜散光的反射光的量假定為fois時， 雜散光的影響可簡單地表達為“tos/Rmk”。對于記錄/再生激光束，可以將雜散光的量fois 看作與反射膜5的反射率Rrp成比例，因此，為了抑制雜散光的影響，可使反射率的值Rrp 盡可能小，從而與標記的反射率Rmk平衡。在如本實例中采用孔隙記錄方法的情況下，與孔隙標記的反射率Rmk相關，將被假定為幾乎不受雜散光影響的反射率Rrp設定為約0. 3以下，其被確定為一個基于測試計算的指標(index)。根據圖3，顯然為了滿足反射率Rrp彡0.3的條件，反射膜5的膜厚可以約為20nm以下，如上所述。換句話說，基于上述膜厚約為20nm以下的條件，獲得了對反射膜5足夠的波長選擇性，并獲得幾乎無雜散光影響的效果。因此，根據由包含銀作為主要成分的材料形成的反射膜5，可以實現具有上述波長選擇性的反射膜。此外，通過適當地設定反射膜5的膜厚，幾乎沒有雜散光的影響而同時確保了足夠的波長選擇性。此時，還通過考慮伺服激光束的反射光量不期望太小以確保伺服的穩(wěn)定性來設定膜厚，如上所述。
此外，銅(Cu)可以作為其他金屬材料的實例。圖4示出相對于由包含銅作為主要成分的材料形成的反射膜5的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性。在圖4中，假定水平軸為膜厚(Onm至60nm)，而垂直軸為反射率(0至1)。對于基于銅的反射膜5，波長為 400nm的激光束的反射率以減號繪出，而波長為650nm的激光束的反射率以十字繪出?？梢园l(fā)現，與圖3中所示的使用鋁的情況相比，在基于銅的反射膜5的情況下，記錄/再生激光束的反射率Rrp和伺服激光束的反射率Rsv之間的差別同樣在整個范圍內出現。具體地，可以發(fā)現，在該情況下，在膜厚約IOnm以上的范圍內，對記錄/再生激光束的反射率Rrp和對伺服激光束的反射率Rsv之間也出現顯著的差別。由于消光系數k的波長色散和折射率η的波長色散而獲得了銅的波長選擇性。在銅的情況下應該特別注意的是，反射率Rrp和反射率Rsv之間的差增大的趨勢甚至在30nm以上的膜厚時仍得到保持。當膜厚為60nm時，反射率Rrp和反射率Rsv之差約為“0. 9至0. 4”，且此時反射率比Rrp/Rsv約為0. 45。根據圖4，在銅的情況下，為了滿足上述反射率比Rrp/Rsv ( 0. 5的條件，反射膜5 的膜厚可設定為約IOnm以上。然而，如上所述，當膜厚過大時，反射率Rrp變得太大，使得雜散光的影響也變大。為此，假定上述反射率Rrp <約0. 3的條件也得到滿足，則在該情況下要求將反射膜5的膜厚設定為約IOnm以上且約30nm以下。因此提供由包含銅作為主要成分的材料形成的反射膜5也使得能夠實現具有上述波長選擇性的反射膜。此外，在該情況下，可通過適當地設定反射膜5的膜厚，也可以幾乎不產生雜散光影響而同時確保足夠的波長選擇性。此外，在這種情況下，將膜厚設定為伺服激光束的反射光量不會變的太小的程度。此外，金(Au)也可作為其他金屬材料的實例。圖5示出相對于由包含金作為主要成分的材料形成的反射膜5的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性。像圖3和圖4 那樣，假定水平軸為膜厚(Onm至60nm)，而假定垂直軸為反射率(0至1)。對于基于金的反射膜5，波長為400nm的激光束的反射率以垂直條繪出，而波長為650nm的激光束的反射率以實心三角形繪出?？梢园l(fā)現，在基于金的反射膜5的情況下，與圖3中所示的使用鋁的情況相比，對記錄/再生激光束的反射率Rrp和對伺服激光束的反射率Rsv之間的差也出現在整個范圍內。在金的情況下，在約IOnm以上膜厚范圍內，反射率Rrp和反射率Rsv之間也出現顯著的差別。此外，像銅的情況那樣，在該情況下，甚至在30nm以上的膜厚時，反射率Rrp和反射率Rsv之間的差仍具有加寬的趨勢。應該注意的是，證實了也是因為消光系數k和折射率η的波長依賴性而獲得了金的這樣的波長選擇性。根據圖5，在金的情況下，為了滿足反射率比Rrp/Rsv ( 0. 5的上述條件，反射膜5 的膜厚可以設定為約18nm以上。這里，在金的情況下應該特別注意的是，甚至在膜厚很大時記錄/再生激光束的反射率Rrp也不會超過0. 3。在這方面，在金的情況下，不必考慮反射率Rrp <約0. 3的上述條件。結果，在金的情況下，為滿足這兩個條件，所設定的膜厚約為18nm或更大。以該方式提供基于金的反射膜5使得能夠實現具有上述波長選擇性的反射膜，而且，通過將反射膜5的膜厚設定為預定值或更大，雜散光幾乎不產生影響，同時確保了足夠的波長選擇性。此外，通過以該方式將膜厚設定為預定值或更大，可以確保伺服激光束的反射光量，并確保伺服的穩(wěn)定性。再進一步，可以采用合金作為反射膜5的材料以實現上述波長選擇性。圖6示出相對于由合金形成的反射膜5的膜厚(nm)的每個波長的反射率的變化特性。在圖6中，實心圓和十字繪圖表示合金，具體地，表示相對于由銀和銅合金形成的反射膜5的膜厚的反射率變化特性。實心圓繪圖表示當銀和銅之間原子組分比約為58 42時的反射率變化特性，十字繪圖表示當該原子組分比約為18 82時的反射率變化特性。此外，在該圖中，為進行比較，實心正方形繪圖表示相對于包含銀作為主要成分的反射膜5的膜厚的反射率變化特性，而實心三角形繪圖表示相對于包含銅作為主要成分的反射膜5的膜厚的反射率變化特性。如圖所示，與實線組合的是對伺服激光束(波長650nm)的反射率變化特性，而與虛線組合的是對記錄/再生激光束(波長400nm)的反射率變化特性。圖6中可以發(fā)現，在記錄/再生激光束和伺服激光束任一者中，銀和銅=58 42 的合金的反射率變化特性(實心圓)近似為主要成分為銀的情況下的特性(實心正方形) 和主要成分為銅的情況下的特性(實心三角形)之間的中間特性。此外，可以認識到的是， 與銀和銅=58 42的合金的情況下的特性相比，在記錄/再生激光束和伺服激光束任一者中，銀和銅=18 82的合金的反射率變化特性更接近主要成分為銅的特性。考慮到這些方面，顯然，則在銀和銅合金情況下，銀和銅作為主要成分哪個含量高，所獲得的反射率變化特性更接近哪種情況下的特性。在采用銀和銅合金的情況下，作為記錄/再生激光束和伺服激光束的反射率變化特性，可以獲得在銀是主要成分情況下的特性和銅是主要成分情況下的特性之間的中間特性(即，銀和銅作為主要成分哪個含量高，特性更接近包含哪種情況下的特性)。從這方面可以理解，在銀和銅合金的情況下，也可以實現上述波長選擇性，并通過調節(jié)膜厚充分減少記錄/再生激光束的反射光量，因而幾乎沒有雜散光影響。具體地，在銀和銅=58 42的合金的情況下，滿足反射率比Rrp/Rsv彡0. 5且Rrp彡0. 3的上述條件的膜厚約為0. 6nm 以上且約22nm以下。此外，在銀和銅=18 82的合金情況下，滿足這些條件的膜厚為約 6nm以上且約Mnm以下。應該注意的是，將膜厚設置為伺服激光束的反射光量為不太小的程度。這里，如上所述，在銅為主要成分的情況下，通過將膜厚設定為約IOnm以上來滿足反射率比Rrp/Rsv ( 0. 5的條件。然而，與銀為主要成分的情況相比，很難使得反射率比 Rrp/Rsv小。另一方面，在銀為主要成分的情況下，如上所述，通過將膜厚設定為約20nm以下來滿足反射率比Rrp/Rsv的條件，但此時，減少膜厚引起了存儲可靠性方面的缺點。已知銀和銅合金具有優(yōu)良的存儲可靠性，并且在可因此減小膜厚的方面是具有優(yōu)勢的。當考慮這一點時，在銀和銅合金的情況下，具體地，在銀含量為50%以上的情況下，可以實現具有優(yōu)良存儲可靠性而同時保持銀的特性(即，能夠使反射率比Rrp/Rsv更小的特性)的反射膜5，并在形成膜厚更小的膜情況下帶來優(yōu)勢。(1-3.光學記錄介質的生產方法)圖7A至圖7D是用于說明塊型記錄介質1的制造方法的示圖。制造塊型記錄介質 1的處理可大致分為基板生成處理(圖7A)、反射膜形成處理(圖7B)、記錄層粘合處理(圖 7C)以及覆蓋層層壓處理(圖7D)。首先，在圖7A的基板生成處理中，生成其中形成有引導凹槽的基板6。換句話說，存在具有一個設置有凹凸截面形狀的表面的生成的基板6，以使得位置引導元件形成在反射膜5中。如前所述，基板6是通過將用作形成材料的樹脂用壓模注入成型而生成的。在圖7B的反射膜形成處理中，在上述基板生成處理中生成的基板6(其上形成有引導凹槽)的表面上形成反射膜5。換句話說，在本實例的情況下，反射膜5是利用包含銀、 銅或金中任一種作為主要成分的金屬材料或上述合金材料形成的。此時，通過濺射、氣相沉積(vapor deposition)等來執(zhí)行膜形成。在圖7C的記錄層粘合處理中，通過使用粘合材料將用作塊層3的記錄材料粘合至反射膜5上。在該情況下，作為塊型層3的記錄材料，例如，使用預先處理而具有薄膜形狀的材料(膜形記錄材料)。如前所述，在本實例的情況下，記錄材料包含樹脂作為主要成分。 上述膜形記錄材料被沖壓成盤狀并利用所要求的粘合材料粘合至反射膜5上。作為粘合材料，例如，使用PSA (壓敏粘合劑)。當使用PSA時，將PSA安放在反射膜5上，且在塊層3進一步安放在PSA上的狀態(tài)下執(zhí)行按壓處理，從而反射膜5和塊層3彼此粘合。這形成了如圖所示的具有層壓的塊層3、粘合層4、反射膜5和基板6的結構。應該注意的是，UV固化樹脂也可用于塊層3的粘合。在該情況下，將UV固化樹脂例如通過旋涂等處理涂覆至反射膜5上，然后利用紫外照射施加硬化處理，從而反射膜5和塊層3彼此粘合。在圖7D的覆蓋層層壓處理中，將覆蓋層2層壓在塊層3上。在實例的情況下，將 UV固化樹脂(例如，UV樹脂)用作覆蓋層2的材料，因此，這種情況的覆蓋層層壓處理中， 例如通過旋涂等將UV固化樹脂涂覆至塊層3上，然后利用紫外照射執(zhí)行硬化處理，從而層
壓覆蓋層2。通過上述處理完成了圖1中所示的塊型記錄介質1。(2.記錄設備的配置)(2-1.光學系統(tǒng)的配置)圖8是根據本發(fā)明實施方式的主要說明設置在對塊型記錄介質1執(zhí)行記錄/再生的記錄設備中的光學系統(tǒng)的配置的示圖。除了用于塊型記錄介質1的記錄功能之外，本實施方式的記錄設備還具有再生功能。在這方面，該實施方式的記錄設備下面將被稱為記錄/再生設備10。圖8主要示出了設置在記錄/再生設備10中的光學拾取裝置(optical pickup) OP的內部配置。在圖8中，設定裝載至記錄/再生設備10的塊型記錄介質1，使得其中心孔被夾持在記錄/再生設備10中的預定位置，并保持在允許被主軸電機(未示出)驅動旋轉的狀態(tài)。光學拾取裝置OP被設置為將記錄/再生激光束和伺服激光束施加至被上述主軸電機驅動旋轉的塊型記錄介質1。在光學拾取裝置OP中，提供了記錄/再生激光器11和伺服激光器對，其中，記錄 /再生激光器為通過標記執(zhí)行信息記錄且執(zhí)行由標記記錄的信息的再生的記錄/再生激光束的光源，伺服激光器為利用基準面Ref上形成的位置引導元件執(zhí)行位置控制的伺服激光束的光源。這里，如上所述，記錄/再生激光束和伺服激光束波長彼此不同。換句話說，在這種情況下，記錄/再生激光束的波長約為400nm(所謂的藍紫激光束)，而伺服激光束的波長約為650nm(紅激光束)。此外，在光學拾取裝置OP中，提供了物鏡20，其為朝向塊型記錄介質1的記錄/再生激光束和伺服激光束的輸出端。此外，提供了接收來自塊型記錄介質1的記錄/再生激光束的反射光的記錄/再生光接收部23以及接收來自塊型記錄介質1的伺服激光束的反射光的伺服光接收部四。在光學拾取裝置OP中，形成了光學系統(tǒng)使得從記錄/再生激光器11發(fā)出的記錄 /再生激光束被引導到物鏡20，且入射在物鏡20上并從塊型記錄介質1反射的記錄/再生激光束的反射光被引導至記錄/再生光接收部23。具體地，經由準直透鏡12使從記錄/再生激光器11發(fā)出的記錄/再生激光束變?yōu)槠叫泄猓缓筮M入偏振束分光鏡13。偏振束分光鏡13被配置為允許從記錄/再生激光束 11側進入的記錄/再生激光束穿過其中。記錄/再生激光束在通過偏振束分光鏡13后進入包括固定透鏡14、可移動透鏡 15以及透鏡驅動部16的擴束器。該擴束器等同于上述記錄/再生光聚焦機構，并被配置為使得固定透鏡14設置在更靠近用作光源的記錄/再生激光器11的一側，可移動透鏡15設置在遠離記錄/再生激光器11的一側，且可移動透鏡15在與記錄/再生激光束光軸平行的方向上被透鏡驅動部16驅動。該記錄/再生光聚焦機構使得能夠對再生/記錄激光束執(zhí)行獨立的聚焦控制。如隨后所述，根據對應于目標信息記錄層位置L的偏移-L的值，通過圖9所示的控制器39來驅動記錄/再生光聚焦機構中的透鏡驅動部16。如圖所示，通過記錄/再生光聚焦機構的固定透鏡14和可移動透鏡15的記錄/ 再生激光束被反射鏡17反射，然后經四分之一波片18進入二向色棱鏡19。二向色棱鏡19 被配置為具有選擇性反射表面，其反射處于與記錄/再生激光束相同波長范圍內的光并允許其他波長的光穿過其中。因此，如上述進入的記錄/再生激光束被二向色棱鏡19反射。如圖所示，被二向色棱鏡19反射的記錄/再生激光束經物鏡20施加至塊型記錄介質1。對于物鏡20，提供了雙軸致動器21，其保持物鏡20在聚焦方向(接觸/離開塊型記錄介質1的方向)和跟蹤方向(與聚焦方向正交的方向塊型記錄介質1的徑向)上是可移動的。雙軸致動器21包括被分別提供以驅動信號(隨后描述的驅動信號FD和TD)從而在聚焦方向和跟蹤方向移動物鏡20的聚焦線圈和跟蹤線圈。這里，在再生時，響應于如上所述施加至塊型記錄介質1的記錄/再生激光束，從塊型記錄介質1 (記錄在塊層3中用于作為再生目標的信息記錄層L中的標記串)獲得記錄/再生激光束的反射光。這樣獲得的記錄/再生激光束的反射光經由物鏡20被引導至二向色棱鏡19，并被二向色棱鏡19反射。在通過四分之一波片18 —反射鏡17 —記錄/再生光聚焦機構(可移動透鏡15—固定透鏡14)之后，被二向色棱鏡19反射的記錄/再生激光束的反射光進入偏振光分束器13。這里，通過基于四分之一波片18的作用和塊型記錄介質1反射時的作用，以該方式進入偏振束分光鏡13的記錄/再生激光束的反射光(返回光)與從記錄/再生激光束 11側進入偏振光分束器13的記錄/再生激光束(外向光)在偏振方向上相差90度。結果，如上述進入的記錄/再生激光束的反射光被偏振光分束器13反射。這樣被偏振光分束器13反射的記錄/再生激光束的反射光經由聚光透鏡22會聚在記錄/再生光接收部23的光接收表面上。此外，在光學拾取裝置OP中，除了記錄/再生激光束的光學系統(tǒng)上述配置之外，還形成了將從伺服激光器M發(fā)出的伺服激光束引導向物鏡20以及將從塊型記錄介質1進入
1物鏡20的伺服光的反射光引導向伺服光接收部四的光學系統(tǒng)。如圖所示，從伺服激光器 24發(fā)射的伺服激光束經由準直透鏡25變成平行光線，并進入偏振光分束器26。偏振光分束器沈被配置為允許以這種方式從激光器M側進入的伺服激光束(外向光)穿過其中。穿過偏振光分束器沈之后的伺服激光束通過四分之一波片27進入二向色棱鏡 19。如前所述，二向色棱鏡19被配置為反射與記錄/再生激光束處于相同波長范圍的光， 并允許其他波長的光穿過。因此，伺服激光束穿過二向色棱鏡19并經由物鏡20施加至塊型記錄介質1。此外，響應于以該方式向塊型記錄介質1施加伺服激光束而獲得的伺服激光束的發(fā)射光(來自基準面Ref的反射光)經物鏡20穿過二向色棱鏡19，并經由四分之一波片 27進入偏振光分束器26。以類似于上述記錄/再生激光束的情況的方式，通過四分之一波片27的作用和由塊型記錄介質1反射時的作用，從塊型記錄介質1側進入的伺服激光束的反射光(返回光)與外向光在偏振方向上相差90度。因此，作為返回光的伺服激光束的反射光被偏振光分束器26反射。被偏振光分束器沈反射的伺服激光束的反射光經由聚光透鏡觀會聚在伺服光接收部四的光接收表面上。應該注意的是，雖然省略了示圖，但記錄/再生設備10實際上設置有驅動并從而使得上述整個光學拾取裝置OP在跟蹤方向上滑動的滑動驅動部，且通過滑動驅動部對光學拾取裝置OP的驅動使得能夠在寬范圍內移動激光束的照射位置。這里，如上所述，在本實施方式的塊型記錄介質1中，基準面Ref設置在塊層3的下層側上。因此，在記錄時，執(zhí)行物鏡的聚焦伺服控制從而將伺服激光束聚焦在設置在塊層 3的下層側上的基準面Ref上，同時，通過記錄/再生光聚焦機構調節(jié)進入物鏡20的記錄/ 再生激光束的準直以將記錄/再生激光束聚焦在基準面Ref上方的上層側上的塊層3中。然而，此時，根據光學系統(tǒng)的配置，存在這樣的情況，即，即使通過記錄/再生光聚焦機構改變記錄/再生激光束的準直時，也很難使記錄/再生激光束的位置位于基準面Ref 上方的上層側上。具體地，對于普通的塊型記錄介質100，基準面Ref設置在塊層3(102) 的上層側上。因此，在支持這種介質的記錄/再生設備中，將設計光學系統(tǒng)使得在如上述記錄時的聚焦伺服控制的狀態(tài)下，也就是，物鏡20位于使伺服激光束的聚焦位置與基準面 Ref—致的位置的狀態(tài)下，記錄/再生光聚焦機構的可移動透鏡15處于中間位置(neutral position)(例如，可移動范圍內的中間位置)時記錄/再生激光束的聚焦位置位于基準面 Ref下面的下層側上。然而，當使用這樣的光學系統(tǒng)配置時，存在這樣的可能性，即，對于基準面Ref在塊層3的下層側上的塊型記錄介質1，記錄/再生激光束不能在塊層3中的信息記錄層位置L上聚焦(因為通過記錄/再生光聚焦機構可調節(jié)的記錄/再生激光束的聚焦位置的范圍是有限的)。因此，在本實施方式的記錄/再生設備10中，假定光學系統(tǒng)被設計為使得在記錄/ 再生光聚焦機構的可移動透鏡15處于中間位置，且物鏡20處于使伺服激光束的聚焦位置與基準面Ref —致的狀態(tài)下，經由物鏡20施加的記錄/再生激光束的聚焦位置將位于基準面Ref上方的上層側上(例如，位于塊層3的深度方向上近似中間位置)。這使得能夠在基準面Ref上方的上層側上的塊層3中聚焦記錄/再生激光束，而不必在記錄/再生光聚焦機構中很大程度地移動可移動透鏡15的位置(即，無需很大程度地改變記錄/再生激光束的準直)。這里，當由記錄/再生光聚焦機構進行的準直狀態(tài)變化小時，光學放大倍率的變化量也小。因此，抑制了由物鏡20的位置變化(在聚焦方向和跟蹤方向上)而導致的伺服激光束的聚焦位置和記錄/再生激光束的聚焦位置之間的間隙。換句話說，結果，實現了記錄/再生激光束的位置控制精度的提高。(2-2.記錄設備的整體內部配置)圖9示出記錄/再生設備10的整體內部配置。應該注意的是，在圖9中，對于光學拾取裝置OP的內部配置，僅提取并示出了圖8中所示的配置中的記錄/再生激光器11、 透鏡驅動部16和雙軸致動器21。首先，在圖中，記錄/再生設備10設置有記錄處理部32、記錄/再生光矩陣電路 33和再生處理部34，作為信號處理系統(tǒng)的一部分以將塊層3作為目標執(zhí)行記錄/再生以及執(zhí)行在所記錄的標記再生時的物鏡20的聚焦/跟蹤控制(即，基于記錄/再生激光束反射光的位置控制)。將要記錄在塊型記錄介質1中的數據(記錄數據)輸入到記錄處理部32中。例如，記錄處理部32對輸入的記錄數據執(zhí)行誤差校正碼的應用或預定的記錄調制編碼，從而獲得最終將記錄在塊型記錄介質1中的記錄調制數據序列，該序列例如為二進制數據“0” 和“ 1，，的序列。記錄處理部32根據上述生成的記錄調制數據序列生成記錄脈沖信號RCP。 然后記錄處理部32基于記錄脈沖信號RCP執(zhí)行光學拾取裝置OP中的記錄/再生激光器11 的發(fā)射驅動。記錄/再生光矩陣電路33包括電流-電壓轉換電路、矩陣計算/放大電路等，響應于來自一個以上的用作圖8所示的記錄/再生光接收部23的光接收元件的光接收信號 DT-rp (輸出電流)，并通過矩陣計算處理生成所需的信號。具體地，記錄/再生光矩陣電路33生成等同于再生了上述記錄調制數據序列的再生信號的高頻信號(以下稱為再生信號RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦誤差信號FE-rp以及用于跟蹤伺服控制的跟蹤誤差信號 TE-rpο將記錄/再生光矩陣電路33中生成的再生信號RF提供給再生處理部34。此外， 將聚焦誤差信號FE-rp和跟蹤誤差信號TE-rp提供給記錄/再生光伺服電路35。對于再生信號RF，再生處理部34執(zhí)行再生處理從而恢復上述記錄數據，如解碼記錄調制碼和誤差校正處理，從而獲得再生的數據，記錄數據是通過該再生數據再生的。此外，記錄/再生光伺服電路35基于從記錄/再生光矩陣電路33提供的聚焦誤差信號FE-rp和跟蹤誤差信號TE-rp，分別生成聚焦伺服信號FS_rp和跟蹤伺服信號TS_rp。 此外，記錄/再生光伺服電路35基于聚焦驅動信號FD-rp和跟蹤驅動信號TD_rp (基于聚焦伺服信號FS-rp和跟蹤伺服信號TS-rp)驅動雙軸致動器21的聚焦線圈和跟蹤線圈，從而為記錄/再生激光束執(zhí)行聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制。如從前面描述中看出，雙軸致動器21 (物鏡20)基于記錄/再生激光束反射光的這樣的伺服控制在再生時進行。此外，記錄/再生光伺服電路35通過關閉跟蹤伺服環(huán)并響應于對應再生時從控制器39提供的指令向跟蹤線圈給出跳躍脈沖來實現跟蹤跳躍操作，并且還在再生時執(zhí)行跟蹤伺服的穩(wěn)定控制(settling control)等。此外，記錄/再生光伺服電路35還在再生時執(zhí)行聚焦伺服的穩(wěn)定控制等。
此外，在記錄/再生設備10中，設置了伺服光矩陣電路36、位置信息檢測部37和伺服光伺服電路38作為伺服激光束反射光的信號處理系統(tǒng)。伺服光矩陣電路36包括電流-電壓轉換電路和矩陣計算/放大電路，響應于來自圖8中所示的伺服光接收部四中一個以上的光接收元件的光接收信號DT-sv (輸出電流)， 并通過矩陣計算處理生成所需的信號。具體地，伺服光矩陣電路36生成用于聚焦伺服控制的聚焦誤差信號FE-sv和用于跟蹤伺服控制的跟蹤誤差信號TE-sv。此外，伺服光矩陣電路 36生成位置信息檢測信號Dps以檢測記錄在基準面Ref中的絕對位置信息。例如，當絕對位置信息通過凹坑串記錄時，伺服光矩陣電路36生成和信號(sumsignal)作為位置信息檢測信號Dps?？商鎿Q地，當絕對位置信息通過擺動槽(wobbling groove)記錄時，伺服光矩陣電路36生成推挽信號作為位置信息檢測信號Dps。將位置信息檢測信號Dps提供給位置-信息檢測部37。位置信息檢測部37基于位置信息檢測信號Dps檢測記錄在基準面Ref中的絕對位置信息。將檢測的絕對位置信息提供給控制器39。將伺服-光矩陣電路36中生成的聚焦誤差信號FE-sv和跟蹤誤差信號Te-sv提供給伺服光伺服電路38。伺服光伺服電路38基于這些聚焦誤差信號FE-sv和跟蹤誤差信號 TE-sv分別生成聚焦伺服信號Fs-sv和跟蹤伺服信號TS-sv。隨后，在記錄時，響應于來自控制器39的指令，伺服光伺服電路38基于聚焦驅動信號FD-sv和跟蹤驅動信號TD_sv (基于聚焦伺服信號FS-sv和跟蹤伺服信號TS-sv生成)驅動雙軸致動器21的聚焦線圈和跟蹤線圈，從而實現用于伺服激光束的聚焦伺服控制和跟蹤伺服控制。此外，伺服光伺服電路38通過關閉跟蹤伺服環(huán)并響應于對應記錄時從控制器39 提供的指令向跟蹤線圈給出跳躍脈沖來實現跟蹤跳躍操作，并且還相對基準面Ref執(zhí)行聚焦伺服的穩(wěn)定控制等。例如，控制器39通過使用具有存儲器(存儲設備)(如CPU(中央處理單元)、 ROM(只讀存儲器)和RAM(隨機存取存儲器))的微型計算機來配置，并例如根據存儲在上述ROM等中的程序通過執(zhí)行控制和處理來控制整個記錄/再生裝置10。例如，根據對應于上述每個信息記錄層位置L預先設定的偏移-L的值，控制器39執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦位置的控制(設定)。具體地，基于對應于作為記錄目標的信息記錄層位置L而設定的偏移-L的值，通過驅動光學拾取裝置OP中的透鏡驅動部16，控制器39在深度方向上選擇記錄位置。此外，控制器39還執(zhí)行控制以實現在前述記錄/再生時物鏡20的伺服控制切換。 具體地，在記錄時，控制器39指示伺服光伺服電路38輸出聚焦驅動信號FD-sv和跟蹤驅動信號TD-sv，并且還指示記錄/再生光伺服電路35停止輸出聚焦驅動信號FD-rp和跟蹤驅動信號TD-rp。此外，在記錄時，控制器39向記錄處理部提供指令，從而使得基于記錄數據執(zhí)行標記記錄。另一方面，再生時，控制器39指示記錄/再生光伺服電路35輸出聚焦驅動信號 FD-rp和跟蹤驅動信號TD-rp，并且還指示伺服-光伺服電路38停止輸出聚焦驅動信號 FD-sv和跟蹤驅動信號TD-sv?？刂破?9還為伺服光伺服電路38執(zhí)行尋找操作控制。換句話說，控制器39指示伺服光伺服電路38將伺服激光束的光斑位置移動到基準面Ref上的預定目標地址。
根據上述配置的記錄/再生設備10，可以在塊層3的預定位置中記錄標記(在聚焦方向和跟蹤方向上)，同時支持塊型記錄介質1，其中反射膜5(基準面Ref)形成在塊層 3的下層側上。(3.從最下信息記錄層位置到基準面的距離以及反射比的討論)圖10示出這樣的狀態(tài)，其中，記錄/再生激光束經由物鏡20施加以在塊型記錄介質1的最下層側中設定的信息記錄層位置L(以下稱為最下信息記錄層位置Lmb)上聚焦， 且根據照射而從塊型記錄介質1獲得的記錄/再生激光束的反射光被引導至光接收部(記錄/再生光接收部2 。應該注意的是，圖10以放大方式示出了其中最下信息記錄層位置 Lmb經由物鏡20以記錄/再生激光束照射的部分。此外，在圖10中，通過省略物鏡20和偏振光分束器13之間的各部件(例如，二向色棱鏡19、記錄/再生光聚焦機構等)、記錄/再生激光器11以及準直透鏡12示出了記錄/再生激光束的光學系統(tǒng)。在再生時，當記錄再生/激光束被照射而聚焦在信息記錄層位置L上以再生記錄在所要求的信息記錄層位置L中的信息時，來自基準面Ref的反射光與來自標記的反射光一起獲得。從圖中明顯看出，在聚焦在信息記錄層位置L上之后，此時來自基準面Ref的反射光變成為以漫射光狀態(tài)施加的光的反射光。來自基準面Ref的記錄/再生激光束的這樣的反射光與來自標記的反射光(也就是再生光)一起被記錄/再生光接收部23接收。換句話說，來自基準面Ref的反射光將成為再生光的噪聲光。下面，來自基準面Ref的記錄/再生激光束的這樣的反射光也將被稱為雜散光。此時，當從為作為再生目標的信息記錄層位置L到基準面Ref的距離最小時，來自基準面Ref的雜散光的強度最大。換句話說，在最下信息記錄層位置Lmb的再生時，噪聲疊加量最大。從這方面顯然還可以看出，當考慮雜散光的噪聲影響時，從最下信息記錄層位置 Lmb到基準面Ref的距離(以下表示為距離d)是重要的因素。此外，自然，雜散光的強度還根據對于記錄/再生激光束的基準面Ref的反射率 (與上述反射率Rrp同義以下還表示為反射率Rrr)而改變。因此，為了抑制雜散光強度并抑制噪聲疊加的影響，期望反射率Rrr小。同時，噪聲的影響與再生光強度相關，因此，自然，當考慮噪聲的影響時，還需要考慮標記的反射率(以下還表示為反射率Rmr)。以這種方式，當考慮由雜散光而導致的噪聲的影響時，距離d、基準面Ref的反射率Rrr和標記的反射率Rmr都是重要的因素。這里，在評估由雜散光而導致的噪聲的影響時，假定“雜散光強度/再生光強度” 為SNR相關性的評估指標。在塊型記錄介質1中，形成在基準面Ref上的圖案以相對低的頻率改變，從而雜散光疊加在來自塊層3的再生信號上作為DC補償。因此可以將“雜散光強度/再生光強度”作為SNR相關性的評估指標，如上所述。基于該前提，對于系統(tǒng)中可接受的噪聲/再生光強度比，假定“雜散光強度/再生光強度< α”。在該情況下，可設定基準面Ref的反射率Rrr、標記的反射率Rmr以及距離d從而滿足“雜散光強度/再生光強度彡α ”的條件。圖11示出相對于從最下信息記錄層位置Lmb至基準面Ref的距離d，基準面Ref 的反射率Rrr和標記的反射率Rmr之間的每個反射率比，“雜散光強度/再生光強度”的變化特性的計算結果。具體地，圖11示出相對于距離d，基準面Ref的反射率Rrr和標記的反射率Rmr之間的每個反射率比(Ref反射率/標記反射率=25、50、100、150)，“雜散光強度 /再生光強度”變化特性的計算結果，假定垂直軸為“雜散光強度/再生光強度”，而水平軸為d(l至10 μ m)。Ref反射率/標記反射率=25的計算結果以十字示出，Ref反射率/標記反射率=50的計算結果以實心三角形示出，Ref反射率/標記反射率=100的計算結果以實心正方形示出，而Ref反射率/標記反射率=150的計算結果以實心菱形示出。應該注意的是，在獲得圖11所示的計算結果的過程中，作為基準面Ref的圖案 (位置引導元件的圖案)，設定如圖12A所示重復凹槽和臺階(land)的圖案(強度分布圖案)。此外，計算是以下面的假定執(zhí)行的，即假定來自最下信息記錄層位置Lmb的反射光的球表面和來自基準面Ref的反射光的球表面之間出現差別，諸如圖13中所示的聚焦時基準球表面SRl和散焦時基準球表面SR2之間的差別。此外，基于該前提，計算是以下面的假定執(zhí)行的，即假定對于來自塊型記錄介質1的記錄/再生激光束的反射光(包括來自基準面Ref的反射光)，從物鏡20向外的表面上的強度分布圖案如圖12B中所示，而對于記錄/ 再生激光束的反射光，在記錄/再生光接收部23的光接收表面上的強度分布圖案如圖12C 所示。應該注意的是，計算是以下面的假定進行的，即假定記錄/再生激光束的波長λ為 400nm,且物鏡20的數值孔徑NA為0. 85?；趫D11中的計算結果，可以在設計上獲得距離d和Ref反射率/標記反射率之間的優(yōu)選關系。例如，可以發(fā)現，在上述“雜散光強度/再生光強度”的可接受值被假定為 α = 1的情況下，如果Ref反射率/標記反射率為50，則距離d可以約為10 μ m以上。可選地，可以發(fā)現，在相同條件α = 1下，Ref反射率/標記反射率被假定為100、150等的情況下，距離d需要更大。應該注意的是，證實了 Ref反射率(反射率Rrr)由反射膜5的材料、膜厚等確定。此外，標記反射率(反射率Rmr)例如由所選的塊層3的材料(記錄材料) 類型確定。(4.變形例)至此，已經描述了本技術的實施方式，但本技術并不限于上述具體例子。例如，上面作為實例已經描述了引導凹槽形成在基板6的頂表面上的情況，但如同圖14中所示的塊型記錄介質40，可以采用引導凹槽形成在塊層底面?zhèn)壬系慕Y構。應該注意的是，將其中形成引導凹槽的塊層表示為塊層3’。在這種情況下，作為基板6，通過支撐在塊層側上形成上述引導凹槽(和反射膜幻，使用頂表面?zhèn)纫残纬蔀槠教沟幕?以下表示為基板6’)。圖15A至圖15E是用于說明制造圖14中所示的塊型記錄介質40的方法的示圖。 在圖15A至圖15E中，在制造塊型記錄介質40時，首先，制備膜狀記錄材料3’作為塊層3’ 的材料(圖15A)。換句話說，制備通過沖壓而形成為盤狀的膜狀記錄材料。其后，在膜狀記錄介質3’ m中形成引導凹槽，從而完成塊層3’(圖15B)。使用所謂的納米印刷技術來執(zhí)行在膜狀記錄材料3’ m中引導凹槽的形成。具體地，通過諸如熱轉移印刷(heat transfer printing)的技術來執(zhí)行引導凹槽的形成。此外，在以該方式形成的塊層3’上，形成反射膜5(圖15C)。換句話說，在形成引導凹槽的塊層3’側的表面上，形成由基于銀、銅或金的金屬材料形成的膜。在反射膜5形成后，反射膜5和基板6’通過由諸如PSA和UV可固化樹脂制成的粘合層4彼此粘合(圖15D)。進一步，覆蓋層2層壓在塊層3’的頂面?zhèn)壬?圖15E)。這完成了圖14所示的塊型記錄介質40。這里，在上面提供的描述中，已經將其中覆蓋層2形成在塊層3(或塊層3’)的上層側上的結構作為實例。然而，作為根據本發(fā)明實施方式的光學記錄介質，可以采用其中省略覆蓋層2的結構，例如，像圖16中所示的塊型記錄介質45那樣。在這種情況下，塊層 3(或塊層3’)中的上層部分(最上信息記錄層位置L上的上層側上的部分)用作覆蓋層。可選地，根據本發(fā)明實施方式的光學記錄介質可具有這樣的結構，其中兩個層單元彼此粘合，像圖17中所示的塊型記錄介質50那樣。具體地，該塊型記錄介質50具有這樣的結構，其中，均具有“覆蓋層2、塊層3、圖案轉移中間層51和反射膜5”兩個層單元彼此粘合，而同時反射膜被彼此面對地定向。這里，可以通過使施加在塊層3上的UV固化樹脂在形成上述引導凹槽的壓模按壓UV固化樹脂的狀態(tài)下經受基于紫外照射的硬化處理，來形成圖案轉移中間層51。應該注意的，具有圖14所示的塊層3 ’的光學記錄介質也可以具有類似粘合結構。 換句話說，在那樣的情況下，均具有“覆蓋層2、塊層3’和反射膜5”的層單元通過粘合層4 彼此粘合，而反射膜5被彼此面對地定向。順便地，不用說，在采用粘合結構的情況下可以省略覆蓋層2。此外，在上面提供的描述中，已經將根據本發(fā)明實施方式的光學記錄介質為所謂的塊型光學記錄介質的情況作為實例。然而，作為根據本發(fā)明實施方式的光學記錄介質，例如可以采用具有記錄層58的多層記錄介質55，該記錄層58設置有多于一個的半透明記錄膜56，如圖18所示。在圖18中，覆蓋層2、粘合層4、反射膜5和基板6類似于塊型記錄介質1，因此省略其描述。與用作塊層3的塊型記錄層不同，多層記錄介質55的記錄層58具有多層結構，其中，形成了其間插有中間層57的兩個或更多半透明記錄膜56。具體地，重復層壓半透明記錄膜56 —中間層57 —半透明記錄膜56 —中間層57...。然而，這里應該注意的是，伴隨凹槽、凹坑串等形成的位置引導元件沒有形成在半透明記錄膜56中。換句話說，在該多層記錄介質陽中，僅為用作基準面Ref的一個層位置形成位置引導元件。這樣的結構使得能夠省略像塊型光學記錄介質情況那樣的為每層形成位置引導元件的處理，因此在通過該省略降低制造記錄介質成本方面具有優(yōu)勢。這里，在圖18所示的多層記錄介質55中，形成了半透明記錄膜56，因此在記錄時也可以獲得記錄/再生激光束的反射光。因此，在這種情況下，通過基于記錄/再生激光束的反射光驅動物鏡20來執(zhí)行記錄時的記錄/再生激光束的聚焦伺服控制，從而實現了在作為記錄目標的半透明記錄膜56上的聚焦。另一方面，同樣在這種情況下，記錄時的記錄/ 再生激光束的跟蹤伺服控制是利用伺服激光束執(zhí)行的。換句話說，同樣在這種情況下，基于來自基準面Ref的伺服激光束的反射光通過驅動物鏡20執(zhí)行記錄時的跟蹤伺服控制，從而使得伺服激光束的聚焦位置跟隨基準面Ref的引導凹槽。此外，在再生時，同樣在這種情況下，可以基于已經記錄的標記串執(zhí)行記錄/再生激光束的跟蹤伺服控制。此外，從上面描述還可以知道，在再生時，也可以利用來自目標半透明記錄膜56 (信息記錄層L)的反射光執(zhí)行記錄/再生激光束的聚焦伺服控制。換句話說，在該情況下，利用類似于塊型光學記錄介質的技術來執(zhí)行再生時的伺服控制。這里，即使在采用圖18中多層記錄介質55時，像塊型光學記錄介質那樣，多層記錄介質陽仍是其中標記的記錄選擇性地在深度方向上執(zhí)行的介質，，并具有其中標記以多層形式形成的記錄層。此外，在上面提供的描述中，已經將記錄/再生激光束的波長約為400nm且伺服激光束的波長約為650nm的情況作為實例。然而，這些光束的波長不限于該實例中的數值。此外，在上面提供的說明中，以這樣的情況作為實例，其中，在記錄/再生設備10 中，光學系統(tǒng)被設計為使得在記錄/再生光聚焦機構的可移動透鏡15位于中間位置且物鏡 20處于允許伺服激光束的聚焦位置與基準面Ref —致的狀態(tài)下，經由物鏡20施加的記錄/ 再生激光束的聚焦位置位于基準面Ref上的上層側上(例如，近似位于記錄層的深度方向上的中部)。然而，根據本發(fā)明實施方式的記錄設備可以被配置為使得至少伺服激光束(第二光)可聚焦在記錄層下層側上形成的反射膜(反射膜幻上，且在這種狀態(tài)下，記錄/再生激光束(第一光)可以聚焦在形成反射膜上層側上的記錄層上。而且，在上面提供的描述中，已經將其中形成在基準面(反射膜)中的位置引導元件是由凹坑或凹槽形成的引導凹槽的情況作為實例。然而，基準面中的位置引導元件可通過標記記錄形成。在該情況下，可去除形成引導凹槽的處理，取代地，可加入能夠在反射膜 5的頂面?zhèn)壬线M行標記記錄并在其中記錄標記的在反射膜中形成標記的處理或形成記錄材料的處理。此外，在上面提供的描述中，已經將根據本發(fā)明實施方式的記錄設備應用于在對光學記錄介質執(zhí)行記錄和再生的光學記錄設備的情況作為實例。然而，本技術可適當地應用于僅允許在光學記錄介質(記錄層)中進行記錄的只記錄設備(記錄設備)中。本申請包含2010年10月19日向日本專利局提交的日本在先專利申請JP 2010-234656中公開的主題，其全部內容結合于此作為參考。本領域技術人員應該理解的是，根據設計要求和其他因素，可進行各種修改、組合、子組合和變形，它們均在所附權利要求或其等同替換的范圍內。
權利要求
1.一種光學記錄介質，包括記錄層，其中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記的記錄，且所述標記以多層形式形成；以及反射膜，反射波長與所述第一光的波長不同的第二光，并設置在所述記錄層的下層側上。
2.根據權利要求1所述的光學記錄介質，其中，位置引導元件形成在在所述反射膜中。
3.根據權利要求2所述的光學記錄介質，其中，所述反射膜由包含金屬作為主要成分的材料制成。
4.根據權利要求3所述的光學記錄介質，其中，所述反射膜被配置為對所述第一光的反射率比對所述第二光的反射率小。
5.根據權利要求3所述的光學記錄介質，其中，所述反射膜由包含銀(Ag)、銅(Cu)或金(Au)中任一種作為主要成分的材料制成。
6.根據權利要求3所述的光學記錄介質，其中，所述反射膜由合金制成。
7.根據權利要求6所述的光學記錄介質，其中，所述反射膜由銀和銅的合金制成。
8.根據權利要求1所述的光學記錄介質，其中，覆蓋層形成在所述記錄層的上層側上。
9.根據權利要求1所述的光學記錄介質，包括兩個層單元，每個層單元都具有所述記錄層和所述反射膜，其中，所述層單元彼此粘合，同時兩個層單元中各反射膜被彼此面對地定向以具有粘合結構。
10.根據權利要求2所述的光學記錄介質，進一步包括其頂面?zhèn)壬显O置有凹凸截面形狀的基板，其中，所述反射膜形成在所述基板的所述頂面?zhèn)壬?，從而所述位置引導元件形成在所述反射膜中?br> 11.根據權利要求2所述的光學記錄介質，其中，在所述記錄層的底面?zhèn)壬显O置凹凸截面形狀，且通過在所述記錄層的底面?zhèn)壬闲纬煞瓷淠?，在所述反射膜中形成所述位置引導元件?br> 12.一種光學記錄介質的制造方法，所述方法包括在記錄層的下層側上形成反射膜，在所述記錄層中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記的記錄，且所述標記以多層形式形成，所述反射膜反射波長與所述第一光的波長不同的第二光。
13.根據權利要求12所述的方法，進一步包括生成基板，所述基板在其頂面?zhèn)壬显O置有用作引導凹槽的凹凸截面形狀；在所述基板的所述頂面?zhèn)壬闲纬伤龇瓷淠?；以及將所述反射膜和所述記錄層彼此粘合?br> 14.根據權利要求12所述的方法，進一步包括生成所述記錄層，所述記錄層在其底面?zhèn)壬显O置有用作引導凹槽的凹凸截面形狀；在所述記錄層的所述底面?zhèn)壬闲纬伤龇瓷淠?；以及將所述反射膜和基板彼此粘合?br> 15.一種在光學記錄介質中執(zhí)行記錄的記錄設備，所述光學記錄介質包括記錄層和反射膜，在所述記錄層中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記的記錄，且所述標記以多層形式形成，所述反射膜反射波長與所述第一光的波長不同的第二光，并設置在所述記錄層的下層側上，所述記錄設備包括物鏡，所述第一光和所述第二光入射在所述物鏡上，且所述物鏡以所述第一光和所述第二光照射所述光學記錄介質；物鏡聚焦機構，在聚焦方向上驅動所述物鏡；聚焦位置獨立調節(jié)機構，改變入射在所述物鏡上的所述第一光的準直狀態(tài)，從而獨立于所述第二光的聚焦位置來改變所述第一光的聚焦位置；聚焦伺服控制部，基于通過接收來自所述反射膜的對所述第二光的反射光而獲得的聚焦誤差信號來驅動所述物鏡聚焦機構，從而對所述物鏡執(zhí)行聚焦伺服控制，以將所述第二光聚焦在所述記錄層下層側上形成的所述反射膜上；以及控制部，控制所述聚焦位置獨立調節(jié)機構以將所述第一光的聚焦位置調節(jié)至位于形成在所述反射膜的上層側上的所述記錄層中的記錄目標層位置，并執(zhí)行控制以通過所述第一光執(zhí)行標記記錄。
全文摘要
本發(fā)明披露了光學記錄介質及其制造方法以及記錄設備。一種光學記錄介質，包括記錄層，其中，通過照射第一光，在深度方向上選擇性地執(zhí)行標記的記錄，且標記以多層形式形成；以及反射膜，反射波長與第一光波長不同的第二光，并設置在記錄層的下層側上。
文檔編號G11B7/253GK102456365SQ201110308909
公開日2012年5月16日 申請日期2011年10月12日 優(yōu)先權日2010年10月19日
發(fā)明者坂本哲洋, 宮本浩孝, 山津久行 申請人:索尼公司