專利名稱：記錄裝置、記錄方法和光學(xué)記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將信號記錄至光學(xué)記錄介質(zhì)上的記錄裝置，其記錄方法以及光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，通過光照射將信號記錄到所述光學(xué)記錄介質(zhì)上/從光學(xué)記錄介質(zhì)再生信號。專利文件I :日本專利申請公開第2008-135144號專利文件2 :日本專利申請公開第20 08-176902號
背景技術(shù)：
作為通過光照射將信號記錄在其上/從其上再生信號的光學(xué)記錄介質(zhì)，諸如CD(光盤)、DVD(數(shù)字多功能光盤)和BD(藍(lán)光光盤注冊商標(biāo))的所謂的光盤被廣泛使用。關(guān)于繼目前流行的諸如⑶、DVD和BD的光學(xué)記錄介質(zhì)之后的下一代光學(xué)記錄介質(zhì)，如以上專利文件I和2中所公開的，申請人已經(jīng)提出了所謂的塊記錄型光學(xué)記錄介質(zhì)。這里，塊記錄是這樣ー種技木，即，該技術(shù)例如用來對圖10中所示的至少包括覆蓋層101和塊層(記錄層)102的光學(xué)記錄介質(zhì)通過照射激光而同時連續(xù)改變聚焦位置而在塊層102內(nèi)執(zhí)行多層記錄來實(shí)現(xiàn)大的記錄容量。關(guān)于上述塊記錄，上述專利文件I公開了ー種稱為微型全息的記錄技木。如圖11所示，微型全息技術(shù)大致分為正型微型全息技術(shù)和負(fù)型微型全息技木。在微型全息技術(shù)中，所謂的全息記錄材料被用作塊層102的記錄材料。作為全息記錄材料，例如，光致聚合型光敏聚合物是眾所周知的。正型微型全息技術(shù)為通過將兩個相對光通量(光通量A、光通量B)的光在ー個位置處會聚并且形成微細(xì)干涉條紋(全息圖)來形成記錄標(biāo)記的技術(shù)，如圖11(a)所示。此外，圖11(b)所示的負(fù)型微型全息技術(shù)為基干與正型微型全息技術(shù)相反的概念，通過刪除先前通過照射激光已經(jīng)形成的干涉條紋并且使用刪除的部分作為記錄標(biāo)記來形成記錄標(biāo)記的技術(shù)。圖12為用于說明負(fù)型微型全息技術(shù)的示圖。在負(fù)型微型全息技術(shù)中，在執(zhí)行記錄操作之前，如圖12(a)所示，執(zhí)行用來預(yù)先在塊層102上形成干涉條紋的初始化處理。具體地，如圖所示，相對地照射作為平行光的光通量C和D，使得干涉條紋形成在整個塊層102上。在通過上述初始化處理預(yù)先形成干涉條紋之后，如圖12(b)所示，通過形成刪除標(biāo)記來執(zhí)行信息記錄。具體地，通過根據(jù)記錄信息照射激光而同時在任意層位置設(shè)置聚焦位置，執(zhí)行了使用刪除標(biāo)記的信息記錄。然而，在正型和負(fù)型微型全息技術(shù)中存在以下問題。首先，為了實(shí)現(xiàn)正型微型全息圖，存在對激光照射位置的控制要求極高精度的問題。換言之，如圖11(a)所示，盡管在正型微型全息技術(shù)中，通過將相対的光通量A和B在ー個位置處會聚來形成記錄標(biāo)記(全息圖)，但是對兩個光照射位置的控制要求極高的精度。如上所述，由于要求極高的位置控制精度，所以實(shí)現(xiàn)正型微型全息技術(shù)的技術(shù)難度高，并且即使實(shí)現(xiàn)了該技術(shù)，裝置制造成本也増加。因此，正型微型全息技術(shù)不是切實(shí)可行的技木。此外，存在在負(fù)型微型全息技術(shù)中需要預(yù)記錄初始化處理的問題。此外，特別地，如圖12所示，在使用平行光來執(zhí)行初始化處理的情況下，存在初始化光要求極高的功率并且難以形成微細(xì)記錄標(biāo)記(刪除標(biāo)記)的問題。具體地，基于參考圖11(a)所描述的正型微型全息圖的原理，在初始化處理中，兩個光通量最初應(yīng)該會聚在同一位置處，但是當(dāng)通過如上所述使兩個光通量會聚來執(zhí)行初始化處理時，初始化處理需要被執(zhí)行與層設(shè)定數(shù)相對應(yīng)的次數(shù)，這是不切實(shí)際的。在這方面， 通過如上所述使用平行光縮短了處理時間，但是對于如上所述使用平行光來形成干涉條紋而言，與如上所述采用會聚光技術(shù)的情況相比要求極大的功率。就此而言，也可以提高塊層102的記錄靈敏度，但是在這種情況下，極難形成微細(xì)標(biāo)記。從這幾點(diǎn)可以理解的是，極難實(shí)現(xiàn)負(fù)型微型全息技木。在這方面，申請人提出了如專利文件2所公開的使用孔隙記錄(孔記錄)技術(shù)的記錄方法作為替代具有上述問題的微型全息技術(shù)的新的塊記錄方法。孔隙記錄方法為通過以相對高的功率照射激光到塊層102上來將孔(孔隙)記錄在由諸如光致聚合型光敏聚合物的記錄材料形成的塊層102中的方法。如專利文件2中所公開，由此形成的孔部分的折射率不同于塊層102內(nèi)其他部分的折射率，其邊界部分處的光學(xué)反射率増加。因此，孔部分用作記錄標(biāo)記，從而實(shí)現(xiàn)了使用孔標(biāo)記的信息記錄。由于這樣的孔隙記錄方法不是用于形成全息圖，所以在記錄過程中僅需從ー側(cè)執(zhí)行光照射。換言之，不需如在正型微型全息技術(shù)情況下那樣通過將兩個光通量會聚在同一位置處來形成記錄標(biāo)記，從而用于將兩個光通量會聚在同一位置處的高的位置控制精度也變得沒必要。此外，與負(fù)型微型全息技術(shù)相比，初始化處理變得沒必要，結(jié)果，可以解決關(guān)于上述就初始化處理的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題然而，上述孔隙記錄方法具有以下問題。因?yàn)榭紫队涗浄椒ㄊ怯糜谛纬煽?，所以記錄要求極高的功率。具體地，為了形成孔標(biāo)記，使用能夠在短時間內(nèi)集聚極高功率的專用激光(所謂短脈沖激光)?？蛇x地,可以使用通常用在目前光盤系統(tǒng)中的CW激光(CW :連續(xù)波)。然而,在這樣的情況下，除非以幾乎最大功率照射激光并且執(zhí)行記錄而同時將記錄速度(光盤旋轉(zhuǎn)速度)抑制到一定程度，否則極難穩(wěn)定地形成孔標(biāo)記。圖13示出了通過傳統(tǒng)孔隙記錄方法來執(zhí)行信息記錄時的再生信號波形。從該圖可以看出，在傳統(tǒng)的孔隙記錄方法中不能獲得足夠的S/N。應(yīng)該注意的是，圖13中，記錄標(biāo)記長度被均勻設(shè)定為0. 17 u m。如上所述，目前，實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)的孔隙記錄方法仍存在很大的難度。換言之，與上述微型全息技術(shù)相似，傳統(tǒng)的孔隙記錄方法并不是用于實(shí)現(xiàn)作為塊型記錄介質(zhì)的大容量記錄介質(zhì)的切實(shí)可行的方法。
鑒于如上所述問題而作出本發(fā)明，其目的是使得通過以比傳統(tǒng)孔隙記錄方法中的功率低的激光的照射形成孔標(biāo)記而提高作為塊型記錄介質(zhì)的大容量記錄介質(zhì)的實(shí)現(xiàn)性。解決所述問題的方式為了解決以上問題，根據(jù)本發(fā)明，記錄裝置構(gòu)成如下。具體地，記錄裝置包括 激光照射部，在改變聚焦位置的同時將第一激光照射至形成有多層樹脂層的光學(xué)記錄介質(zhì)上；聚焦控制部，控制第一激光的聚焦位置；發(fā)光驅(qū)動部，執(zhí)行第一激光的發(fā)光驅(qū)動；以及控制部，在第一激光聚焦于光學(xué)記錄介質(zhì)的樹脂層邊界表面上的同吋，控制發(fā)光驅(qū)動部執(zhí)行第一激光發(fā)光驅(qū)動，以將孔標(biāo)記記錄至邊界表面上。此外，根據(jù)本發(fā)明，光學(xué)記錄介質(zhì)構(gòu)成如下。具體地，根據(jù)本發(fā)明，提供了ー種光學(xué)記錄介質(zhì)，其中形成有多層樹脂層，并且在第一激光聚焦于樹脂層邊界表面上的同時通過用第一激光照射光學(xué)記錄介質(zhì)，將孔標(biāo)記記錄至邊界表面上。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，在第一激光聚焦于樹脂層邊界表面上的同時，通過將第一激光照射至形成有多層樹脂層的光學(xué)記錄介質(zhì)上，孔標(biāo)記被記錄至邊界表面上。這里，申請人從實(shí)驗(yàn)結(jié)果證實(shí)，孔標(biāo)記的記錄靈敏度在樹脂層邊界表面處增強(qiáng)。換言之，根據(jù)本發(fā)明，其中，在如上所述以樹脂層邊界表面作為目標(biāo)時記錄孔標(biāo)記，形成孔標(biāo)記所需的激光功率可被抑制為比傳統(tǒng)技術(shù)中的激光功率更低。本發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，形成孔標(biāo)記所需的激光功率可被抑制為比在采用傳統(tǒng)孔隙記錄方法的情況下更低。因此，沒有必要使用專用激光(諸如短脈沖激光)，并且即使使用CW激光(Cff :連續(xù)波)，也不需犧牲記錄速度。換言之，根據(jù)本發(fā)明，創(chuàng)痛孔隙記錄方法的短處可得到補(bǔ)償，因此，作為塊型記錄介質(zhì)的大容量記錄介質(zhì)的實(shí)現(xiàn)性可以進(jìn)一歩增強(qiáng)。


圖I為根據(jù)第一實(shí)施方式的光學(xué)記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)圖。圖2為示出了激光功率與形成孔標(biāo)記時距離界面的距離之間關(guān)系的示圖。圖3為示出執(zhí)行界面記錄(interface recording)情況下再生信號波形的示圖。圖4為用于說明根據(jù)本實(shí)施方式的伺服控制方法的示圖。圖5為示出根據(jù)本實(shí)施方式的記錄裝置內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖。圖6為根據(jù)第二實(shí)施方式的光學(xué)記錄介質(zhì)的截面結(jié)構(gòu)圖。圖7為用于說明僅在界面的一部分上記錄孔標(biāo)記的變形實(shí)例的示圖。圖8為用于說明根據(jù)變形實(shí)例的聚焦伺服控制方法的示圖。圖9為示出根據(jù)變形實(shí)例的記錄裝置內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖。圖10為用于說明塊記錄技術(shù)的示圖。圖11為用于說明微型全息技術(shù)的示圖。
圖12為用于說明負(fù)型微型全息技術(shù)的示圖。圖13為示出在采用傳統(tǒng)孔隙記錄方法情況下再生信號波形的示圖。
具體實(shí)施例方式下文中，將描述本發(fā)明的最佳模式(下文中，稱為實(shí)施方式)。 應(yīng)該注意的是，將以以下順序進(jìn)行描述?！碔.第一實(shí)施方式>
[1-1.作為第一實(shí)施方式的光學(xué)記錄介質(zhì)][1-2.作為實(shí)施方式的記錄方法][1-3.伺服控制][1-4.記錄裝置的結(jié)構(gòu)][1-5.界面記錄的效果]<2.第二實(shí)施方式><3.變形實(shí)例>〈I.第一實(shí)施方式>[1-1.作為第一實(shí)施方式的光學(xué)記錄介質(zhì)]圖I為根據(jù)本發(fā)明的作為光學(xué)記錄介質(zhì)的實(shí)施方式的記錄介質(zhì)I的截面結(jié)構(gòu)圖。首先，作為前提，本實(shí)施方式的記錄介質(zhì)I為盤狀記錄介質(zhì)，通過向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的記錄介質(zhì)I上照射激光來在該盤狀記錄介質(zhì)上執(zhí)行標(biāo)記記錄(信息記錄)。此外，記錄信息的再生也通過向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的記錄介質(zhì)I上照射激光來執(zhí)行。如圖I所示，覆蓋層2和選擇性反射膜3從上層側(cè)依次形成在本實(shí)施方式的記錄介質(zhì)I中，而UV固化粘合層4和樹脂層5重復(fù)形成于它們之下。這里，本說明書中所使用的“上層側(cè)”是指激光從下文所述記錄裝置側(cè)進(jìn)入的表面朝上時的上層側(cè)。覆蓋層2由諸如聚碳酸酯樹脂和丙烯酸樹脂的樹脂形成，并如圖所示在其下表面?zhèn)壬暇哂邪殡S用于引導(dǎo)記錄/再生位置的引導(dǎo)凹槽形成的凹凸截面形狀。作為引導(dǎo)凹槽，形成了連續(xù)溝槽或者凹坑串。當(dāng)引導(dǎo)凹槽形成為溝槽時，例如，通過形成溝槽使得它們循環(huán)蜿蜒，基于蜿蜒的周期信息來記錄位置信息(地址信息)。覆蓋層2通過使用其上形成有這樣的引導(dǎo)凹槽(凹凸形狀)的壓模以注入成型等方式而形成。此外，選擇性反射膜3形成在其中形成了引導(dǎo)凹槽的覆蓋層2之下。這里，在塊記錄方法中，除了用于將標(biāo)記記錄至作為記錄層的塊層上的記錄光(第一激光)之外，照射伺服光(第二激光)以基于上述引導(dǎo)凹槽來獲得跟蹤和聚焦誤差信號。此時，如果伺服光到達(dá)塊層，則擔(dān)心塊層中標(biāo)記記錄由此受到不利影響。因此，具有反射伺服光而使得記錄光穿過的選擇性反射膜是必需的。在傳統(tǒng)的塊記錄方法中，記錄光和伺服光使用具有不同波長的激光。因此，作為選擇性反射膜3，使用具有反射波長范圍與伺服光相同的光而使得其他波長的光透射的波長選擇性的選擇性反射膜。
在選擇性反射膜3之下，經(jīng)由UV固化粘合層4形成了塊層6。UV固化粘合層4均由UV固化樹脂形成，并且將形成在它們之下的樹脂層5結(jié)合至選擇性反射膜3。
在該實(shí)例的情況下，將所謂的HPSA (片型UV固化PSA :壓敏粘合劑)用作形成UV固化粘合層4的UV固化樹脂。這里，在傳統(tǒng)的塊記錄型光學(xué)記錄介質(zhì)中，由諸如光致聚合型光敏聚合物的全息記錄材料形成的塊層(圖10中的塊層102)經(jīng)由諸如上述HPSA的UV固化粘合劑結(jié)合至覆
蓋層2側(cè)。據(jù)此，直接位于選擇性反射膜3之下的UV粘合層4下方的部分被稱為塊層6。在第一實(shí)施方式情況下，塊層6通過樹脂層5和UV固化粘合層4的交替層壓而形成。樹脂層5均由與用于UV固化粘合層4的樹脂不同的樹脂形成。在該實(shí)例的情況下，使用片型聚碳酸酯(所謂的聚碳酸酯片)。如上所述，在第一實(shí)施方式中，塊層6通過層壓由不同樹脂材料形成的層而形成。這里，盡管為了方便示出，圖I中示出了通過層壓3層樹脂層5和2層UV固化粘合層4而構(gòu)成的塊層6，實(shí)際上，塊層6中樹脂層數(shù)大約為幾十層(例如，20層)，從而使得記錄容量増加。將描述具有如上所述結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施方式的記錄介質(zhì)I的制造方法。首先，作為覆蓋層2的形成處理，通過注入成型使用上述壓模來形成其ー個表面上形成有引導(dǎo)凹槽的覆蓋層2。接著，作為反射膜沉積處理，例如，通過濺射或者氣相沉積在覆蓋層2的其上形成有引導(dǎo)凹槽的表面上沉積選擇性反射膜3。在如上所述選擇性反射膜3沉積于覆蓋層2上之后，預(yù)定厚度的HPSA作為UV固化粘合層4形成在選擇性反射膜3上，而預(yù)定厚度的樹脂片(本實(shí)例中聚碳酸酯片)形成在HPSA上。之后，執(zhí)行紫外線照射。結(jié)果，首先各形成ー層UV固化粘合層4和樹脂層5。以相同的方式，將在形成HPSA并且然后在HPSA上形成樹脂片之后執(zhí)行紫外光照射的處理重復(fù)預(yù)定次數(shù)。結(jié)果，形成了包括通過交替層壓預(yù)定數(shù)目的樹脂層5和UV固化粘合層4而構(gòu)成的塊層6的記錄介質(zhì)I。[1-2.作為實(shí)施方式的記錄方法]如上所述，在本實(shí)施方式的記錄介質(zhì)I中，由樹脂形成的多個層被層壓為UV固化粘合層4和樹脂層5。在本實(shí)施方式中，當(dāng)激光聚焦于形成在記錄介質(zhì)I中這樣的樹脂層之間邊界表面上時記錄孔標(biāo)記(孔隙)。換言之，孔標(biāo)記被記錄至邊界表面上。在圖I所示的記錄介質(zhì)I中,樹脂層中總共有5個邊界表面LO至L4。因此，可以認(rèn)為，在這種情況下記錄介質(zhì)I包括5個記錄層。應(yīng)該注意的是，下文中，“邊界表面”也將被稱為“界面”。這里，已經(jīng)證實(shí)，孔標(biāo)記的記錄靈敏度在如上所述樹脂層中的界面處增強(qiáng)。圖2示出激光功率與形成孔標(biāo)記時距離界面的距離之間的關(guān)系。如圖所示，在界面處形成孔標(biāo)記所需的激光功率為最低。根據(jù)圖2，形成孔標(biāo)記所需的激光功率根據(jù)距離界面的距離逐漸增加，并且在界面與某一距離處的點(diǎn)之間的區(qū)域之后變?yōu)楹愣āQ言之，在界面與某一距離處的點(diǎn)之間的區(qū)域中，需要根據(jù)距離界面的距離來逐漸增加激光功率以形成孔標(biāo)記，通過將激光功率設(shè)定為恒定，可以不考慮距離界面的距離來形成孔標(biāo)記如上所述，孔標(biāo)記的記錄靈敏度在界面處變?yōu)樽钣欣?。因此，根?jù)將孔標(biāo)記記錄至界面上的該實(shí)施方式，可以比將孔標(biāo)記記錄在塊層內(nèi)部的傳統(tǒng)孔隙記錄方法更低的功率來執(zhí)行穩(wěn)定的記錄。應(yīng)該注意的是，孔標(biāo)記的記錄靈敏度在界面處增強(qiáng)的原因被認(rèn)為是由于光在樹脂界面處比在樹脂內(nèi)部更易被吸收。還可以認(rèn)為，由于樹脂界面處的壓力比樹脂內(nèi)部的小，所以可容易地形成孔標(biāo)記。順便地，在如上所述采用將孔標(biāo)記記錄至界面上的方法情況下，擔(dān)心當(dāng)界面之間距離太小時可能引起層間串?dāng)_。因此，在本實(shí)施方式中，界面之間距離設(shè)定為IOym以下。換言之，形成圖I所示的塊層6的UV固化粘合層4和樹脂層5的厚度都設(shè)定為10 y m以下。此外，在本實(shí)施方式中，為了防止發(fā)生多重干渉，界面的間隔是不規(guī)則的。換言之，如圖I所示，在本實(shí)施方式中，層間間隔設(shè)定為不規(guī)則，使得越靠近下表面?zhèn)壬系膶雍穸茸兊迷酱?。?yīng)該注意的是，將界面的間隔設(shè)定為不規(guī)則的方法并不限于上述方法，并且當(dāng)然可使用其他方法。此外，在本實(shí)施方式中，塊層6的厚度設(shè)定為300iim以下。為了比較，圖3示出了孔標(biāo)記記錄至界面上的情況下的再生信號波形。圖3中，記錄標(biāo)記長度如圖13中那樣為0. 17 Um0從圖3和圖13的比較可以看出，在執(zhí)行界面記錄的本實(shí)施方式中S/N比在執(zhí)行傳統(tǒng)的孔隙記錄的情況下明顯進(jìn)ー步提高。[1-3.伺服控制]隨后，將參考圖4描述使用本實(shí)施方式的記錄介質(zhì)I來執(zhí)行記錄/再生時執(zhí)行的伺服控制。圖4中，用于形成孔標(biāo)記的激光(第一激光圖中“第一激光”)以及波長與第一激光不同的作為伺服光的激光(第二激光圖中“第二激光”)照射至如上所述的記錄介質(zhì)I上。如下文將描述，第一激光和第二激光經(jīng)由共用物鏡照射到記錄介質(zhì)I上。這里，在記錄介質(zhì)I中，作為用于孔標(biāo)記的記錄目標(biāo)位置的界面僅為樹脂之間界面，并且由凹坑、溝槽等構(gòu)成的引導(dǎo)凹槽未形成在界面中。因此，在還未形成孔標(biāo)記的記錄期間，不能執(zhí)行使用第一激光的跟蹤伺服。從這點(diǎn)來看，關(guān)于記錄期間的跟蹤伺服，使用第二激光。具體地，生成基于聚焦于選擇性反射膜3上的第二激光的反射光的跟蹤誤差信號，并且基于跟蹤誤差信號來執(zhí)行跟蹤方向上的物鏡位置控制。另ー方面，在記錄期間，第一激光被用于聚焦伺服。具體地，因?yàn)榈谝患す饩劢褂诮缑嫔系臓顟B(tài)與第一激光聚焦于除了界面以外部分上的狀態(tài)之間存在第一激光強(qiáng)度差，所以利用這一點(diǎn)使用第一激光的反射光來執(zhí)行聚焦伺服控制。此外，在孔標(biāo)記已經(jīng)記錄在其上的記錄介質(zhì)I的再生期間，第一激光的反射光被用在跟蹤伺服和聚焦伺服兩者中。換言之，在再生期間，第二激光的照射是沒必要的。這里，從以上描述可知，第一激光和第二激光經(jīng)由共用物鏡照射至記錄介質(zhì)I上，并且在記錄期間，通過基于第二激光的反射光的物鏡的位置控制來自動控制跟蹤方向上的第一激光的斑點(diǎn)位置。換言之，通過基于根據(jù)第二激光的反射光產(chǎn)生的跟蹤誤差信號驅(qū)動共用物鏡，基于第二激光的反射光執(zhí)行的跟蹤伺服控制同樣作用于第一激光側(cè)上。應(yīng)該注意的是，作為提醒，就聚焦方向而言，需要區(qū)分關(guān)于聚焦方向上的第一激光的聚焦位置和第二激光的聚焦位置。具體地，如從圖4可以理解的是，當(dāng)?shù)诙す獾木劢刮恢迷O(shè)定在選擇性反射膜3上使得適當(dāng)?shù)厣苫趤碜赃x擇性反射膜3 (其中，凹凸形狀通過引導(dǎo)凹槽形成)的反射光的跟蹤誤差信號時，相對于作為記錄目標(biāo)的界面設(shè)定第一激光的聚焦位置。考慮到這點(diǎn)，必需使用第一激光和第二激光來各自執(zhí)行聚焦方向上的獨(dú)立控制。如上所述，在記錄和再生過程中使用第一激光的反射光來執(zhí)行在這種情況下的第一激光的聚焦控制?？紤]到這點(diǎn)，在本實(shí)例中，通過驅(qū)動共用物鏡來執(zhí)行第一激光的聚焦控制，而通過驅(qū)動為獨(dú)立控制第二激光的聚焦位置而設(shè)置的機(jī)構(gòu)(對應(yīng)于圖5中的第二激光聚焦機(jī)構(gòu))來執(zhí)行第二激光的聚焦控制?？偨Y(jié)以上描述，在本實(shí)施方式情況下的伺服控制執(zhí)行如下。.第一激光側(cè)記錄期間…通過使用第一激光的反射光驅(qū)動物鏡來執(zhí)行聚焦伺服(通過使用第ニ激光的反射光驅(qū)動物鏡來自動執(zhí)行跟蹤伺服)。再生期間…通過使用第一激光的反射光驅(qū)動物鏡來執(zhí)行聚焦伺服和跟蹤伺服。.第二激光側(cè)記錄期間…通過使用第二激光的反射光驅(qū)動第二激光聚焦機(jī)構(gòu)來執(zhí)行聚焦伺服，而通過使用第二激光的反射光驅(qū)動物鏡來執(zhí)行跟蹤伺服。再生期間…第二激光自身的照射可省略。[1-4 記錄裝置的結(jié)構(gòu)]圖5示出相對于圖I所示的記錄介質(zhì)I執(zhí)行記錄和再生的記錄/再生裝置10的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。首先，如圖所示，裝載在記錄/再生裝置10中的記錄介質(zhì)I通過主軸電機(jī)(SPM) 39旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。在記錄/再生裝置10中，設(shè)置了用來將第一激光和第二激光照射至被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的記錄介質(zhì)I上的光學(xué)拾取器OP。在光學(xué)拾取器OP內(nèi)部，設(shè)置了作為用來通過孔標(biāo)記記錄信息并且再生由孔標(biāo)記記錄的信息的第一激光的光源的第一激光器11和作為上述伺服光的第二激光的光源的第ニ激光器25。這里，如上所述，第一激光和第二激光具有不同的波長。在本實(shí)例的情況下，第一激光的波長約為400nm(所謂的藍(lán)紫色激光)，而第二激光的波長約為650nm(所謂的紅色激光)。此外，在光學(xué)拾取部OP的內(nèi)部，設(shè)置了相對于記錄介質(zhì)I作為用于第一激光和第ニ激光的輸出端的物鏡21。此外，設(shè)置了用于接收來自記錄介質(zhì)I的第一激光的反射光的第一光電檢測器(圖中的ro-i)24和用于接收來自記錄介質(zhì)I的第二激光的反射光的第二光電檢測器(圖中的 PD-2)33。在光學(xué)拾取部OP內(nèi)部，形成了用于將從第一激光器11發(fā)出的第一激光引導(dǎo)至物鏡21以及將來自記錄介質(zhì)I的進(jìn)入物鏡21的第一激光的反射光引導(dǎo)至第一光電檢測器24的光學(xué)系統(tǒng)。具體地，從第一激光器11發(fā)出的第一激光經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡12變?yōu)槠叫泄?，并且在?光軸通過反射鏡13被彎曲90度之后進(jìn)入偏振分束器14。偏振分束器14被構(gòu)造為使得已經(jīng)從第一激光器11發(fā)出并且經(jīng)由反射鏡13進(jìn)入的第一激光穿過偏振分束器14。已經(jīng)穿過偏振分束器14的第一激光穿過液晶器件15和1/4波長板16。這里，設(shè)置液晶器件15以校正所謂的離軸像差，諸如彗形像差和散光。已經(jīng)穿過1/4波長板16的第一激光進(jìn)入由透鏡17和18構(gòu)成的擴(kuò)展器。在該擴(kuò)展器中，透鏡17為可移動透鏡，而透鏡18為固定透鏡。通過利用圖中所示的透鏡驅(qū)動部19在與第一激光的光軸平行的方向上驅(qū)動透鏡17，為第一激光校正球面像差。第一激光經(jīng)由擴(kuò)展器進(jìn)入ニ向色鏡20。ニ向色鏡20被構(gòu)造為使得波長范圍與第一激光相同的光穿過而反射具有其他波長的光。因此，如上所述已經(jīng)進(jìn)入的第一激光穿過ニ向色鏡20。已經(jīng)穿過ニ向色鏡20的第一激光經(jīng)由物鏡21照射至記錄介質(zhì)I上。關(guān)于物鏡21，設(shè)置了將物鏡21保持在可以在聚焦方向(接近/遠(yuǎn)離記錄介質(zhì)I的方向)和跟蹤方向(垂直于聚焦方向的方向記錄介質(zhì)I的徑向方向)上移動的狀態(tài)的雙軸機(jī)構(gòu)22。隨著驅(qū)動電流分別施加于第一激光聚焦伺服電路36和跟蹤伺服電路37的聚焦線圈和跟蹤線圈，雙軸機(jī)構(gòu)22在聚焦方向和跟蹤方向上移動物鏡21。通過如上所述將第一激光照射至記錄介質(zhì)I上，可從記錄介質(zhì)I獲得第一激光的反射光。由此獲得的第一激光的反射光經(jīng)由物鏡21引導(dǎo)至ニ向色鏡20以穿過ニ向色鏡。已經(jīng)穿過ニ向色鏡20的第一激光的反射光在穿過構(gòu)成上述擴(kuò)展器的透鏡18和17之后經(jīng)由1/4波長板16和液晶器件15進(jìn)入偏振分束器14。這里，通過1/4波長板16的操作和記錄介質(zhì)I的反射操作，進(jìn)入如上所述偏振分束器14的第一激光的反射光(返回光)的偏振方向與從第一激光器11側(cè)進(jìn)入偏振分束器14的第一激光(發(fā)射光)的偏振方向相差90度。結(jié)果，如上所述已經(jīng)進(jìn)入的第一激光的反射光被偏振分束器14反射。如上所述已經(jīng)通過偏振分束器14被反射的第一激光的反射光經(jīng)由會聚透鏡23會聚在第一光電檢測器24的檢測表面上。此外，在光學(xué)拾取器OP的內(nèi)部，除了關(guān)于上述第一激光的光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)之外，形成了用于將從第二激光器25發(fā)出的第二激光引導(dǎo)至物鏡21以及將已經(jīng)進(jìn)入物鏡21的來自記錄介質(zhì)I的第二激光的反射光引導(dǎo)至第二光電檢測器33的光學(xué)系統(tǒng)。
如圖所示，從第二激光器25發(fā)出的第二激光經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡26變?yōu)槠叫泄?，并且之后進(jìn)入偏振分束器27。偏振分束器27被構(gòu)造為使得已經(jīng)經(jīng)由第二激光器25和準(zhǔn)直透鏡26進(jìn)入的第二激光(發(fā)射光)穿過偏振分束器。已經(jīng)穿過偏振分束器27的第二激光經(jīng)由1/4波長板28進(jìn)入第二激光聚焦透鏡29。如圖所示，相對于第二激 光聚焦透鏡29設(shè)置第二激光聚焦機(jī)構(gòu)30。第二激光聚焦機(jī)構(gòu)30保持第二激光聚焦透鏡29，使得其可在與第二激光的光軸平行的方向上移動，并且當(dāng)驅(qū)動電流施加于包括在第二激光聚焦機(jī)構(gòu)中的聚焦線圈時還驅(qū)動第二激光聚焦透鏡29。已經(jīng)穿過第二激光聚焦透鏡29的第二激光在被聚焦在對應(yīng)于第二激光聚焦機(jī)構(gòu)30的驅(qū)動狀態(tài)的位置之后經(jīng)由透鏡31變?yōu)槠叫泄獠⑦M(jìn)入ニ向色鏡20。如上所述，ニ向色鏡20被構(gòu)造為使得波長范圍與第一激光相同的光穿過ニ向色鏡20而反射具有其他波長的光。因此，如圖所示，第二激光被ニ向色鏡20反射并經(jīng)由物鏡21照射至記錄介質(zhì)I上。此外，通過如上所述將第二激光照射至記錄介質(zhì)I上而獲得的第二激光反射光經(jīng)由物鏡21被ニ向色鏡20反射，并且在穿過透鏡31、第二激光聚焦透鏡29和1/4波長板28之后進(jìn)入偏振分束器27。與第一激光相似，通過1/4波長板28操作和記錄介質(zhì)I反射操作，第二激光的從記錄介質(zhì)I側(cè)由此進(jìn)入的反射光(返回光)的偏振方向與發(fā)射光的偏振方向相差90度。因此，作為返回光的第二激光的反射光被偏振分束器27反射。如上所述被偏振分束器27反射的第二激光的反射光經(jīng)由會聚透鏡32會聚在第二光電檢測器33的檢測表面上。盡管本文將省略使用附圖的描述，但是實(shí)際上，在記錄/再生裝置10中設(shè)置了在跟蹤方向上滑動驅(qū)動整個光學(xué)拾取器OP的滑動驅(qū)動部，并且通過驅(qū)動光學(xué)拾取器OP的滑動驅(qū)動部，激光照射位置可以在寬的范圍內(nèi)移動。此外，在記錄/再生裝置10中，和上述光學(xué)拾取器OP和主軸電機(jī)39 —起還設(shè)置了第一激光矩陣電路34、第二激光矩陣電路35、第一激光聚焦伺服電路36、跟蹤伺服電路37、第二激光聚焦伺服電路38、控制器40、記錄處理器41和再生處理器42。首先，待記錄到記錄介質(zhì)I上的數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))被輸入至記錄處理器41中。例如，通過將誤差校正碼添加至輸入記錄數(shù)據(jù)或者對輸入記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行預(yù)定的記錄調(diào)制編碼，記錄處理器41獲得了記錄調(diào)制數(shù)據(jù)串作為實(shí)際記錄至記錄介質(zhì)I上的ニ進(jìn)制數(shù)據(jù)串“O，，和 “I”。記錄處理器41響應(yīng)于來自控制器40的指令基于由此產(chǎn)生的記錄調(diào)制數(shù)據(jù)串來驅(qū)動第一激光器11的發(fā)光。此外，根據(jù)作為第一光電檢測器24的多個光接收器件的輸出電流,第一激光矩陣電路34包括電流-電壓轉(zhuǎn)換電路和矩陣運(yùn)算/放大器電路，并且產(chǎn)生矩陣運(yùn)算處理所必需的信號。具體地，生成與通過再生上述記錄調(diào)制數(shù)據(jù)串而獲得的再生信號對應(yīng)的高頻信號(下文中稱作再現(xiàn)信號RF)以及用于伺服控制的聚焦誤差信號FE和跟蹤誤差信號TE。這里，本實(shí)例中的聚焦誤差信號FE和跟蹤誤差信號TE為兩種類型，ー種為基于第ー激光反射光的信號，而另ー種為基于第二激光反射光的信號。下文中，為了區(qū)分這些信號，由第一激光矩陣電路34產(chǎn)生的聚焦誤差信號FE將被稱為聚焦誤差信號FE-1，而由第一激光矩陣電路34產(chǎn)生的跟蹤誤差信號TE將相似地被稱為跟蹤誤差信號TE-I。由第一激光矩陣電路34產(chǎn)生的再生信號RF被提供至再生處理器42。此外，聚焦誤差信號FE-I被提供至第一激光聚焦伺服電路36，而跟蹤誤差信號TE-I被提供至跟蹤伺服電路37。再生處理器42對由第一激光矩陣電路34產(chǎn)生的再生信號RF執(zhí)行恢復(fù)上述記錄數(shù)據(jù)的再生處理(諸如記錄調(diào)制碼的ニ進(jìn)制處理和解碼/誤差校正處理)，并且通過再生記錄數(shù)據(jù)而獲得再生數(shù)據(jù)。此外，第一激光聚焦伺服電路36基于聚焦誤差信號FE-I產(chǎn)生聚焦伺服信號，并且基于聚焦伺服信號通過驅(qū)動雙軸機(jī)構(gòu)22的聚焦線圈來執(zhí)行第一激光的聚焦伺服控制。第一激光聚焦伺服電路36響應(yīng)于來自控制器40指令，還執(zhí)行形成在記錄介質(zhì)I中的邊界表面(記錄表面)之間層間跳躍操作以及相對于所要求的邊界表面L的聚焦伺服的引入(draw-in)。根據(jù)作為第二光電檢測器33的多個光接收器件的輸出電流,第二激光矩陣電路35包括電流-電壓轉(zhuǎn)換電路和矩陣運(yùn)算/放大器電路，并且產(chǎn)生矩陣運(yùn)算處理所必需的信號。具體地，第二激光矩陣電路35產(chǎn)生用于伺服控制的聚焦誤差信號FE-2和跟蹤誤差信號TE-2。聚焦誤差信號FE-2被提供至第二激光聚焦伺服電路38，而跟蹤誤差信號TE-2被提供至跟蹤伺服電路37。第二激光聚焦伺服電路38產(chǎn)生基于聚焦誤差信號FE-2的聚焦伺服信號，并且基于聚焦伺服信號通過驅(qū)動上述第二激光聚焦機(jī)構(gòu)30來執(zhí)行第二激光的聚焦伺服控制。此時，第二激光聚焦伺服電路38響應(yīng)于來自控制器40的指令，執(zhí)行相對于形成在記錄介質(zhì)I中的選擇性反射膜3(引導(dǎo)凹槽形成表面)的聚焦伺服的引入。響應(yīng)于來自控制器40的指令，跟蹤伺服電路37產(chǎn)生基于來自第一激光矩陣電路34的跟蹤誤差信號TE-I或者來自第二激光矩陣電路35的跟蹤誤差信號TE-2的跟蹤伺服信號，并基于跟蹤伺服信號來驅(qū)動雙軸機(jī)構(gòu)22的跟蹤線圏。換言之，關(guān)于跟蹤方向上物鏡21的位置控制，執(zhí)行基于第一激光的反射光的跟蹤伺服控制或者基于第二激光的反射光的跟蹤伺服控制?？刂破?0例如由配備有CPU(中央處理電路)和諸如ROM(只讀存儲器)的存儲器(存儲裝置)的微型計算機(jī)構(gòu)成，并且例如通過根據(jù)存儲在ROM中的程序執(zhí)行控制和處理來控制整個記錄/再生裝置I。具體地，記錄期間，在指示第一激光聚焦伺服電路36將第一激光聚焦在所要求的邊界表面L上的同時(即，執(zhí)行以所要求的邊界表面L為目標(biāo)的聚焦伺服控制的同時)，通過指示記錄處理器41記錄，控制器40執(zhí)行將與記錄數(shù)據(jù)對應(yīng)的孔標(biāo)記形成至邊界表面L上的操作。換言之，執(zhí)行形成孔標(biāo)記的信息記錄操作。
這里，如上所述，基于第二激光的反射光來執(zhí)行記錄期間的跟蹤伺服控制。因此，在記錄期間，控制器40指示跟蹤伺服電路37基于跟蹤誤差信號TE-2執(zhí)行跟蹤伺服控制。
同樣在記錄期間，控制器40指示第二激光聚焦伺服電路38執(zhí)行聚焦伺服控制。另ー方面，在再生期間，控制器40指示第一激光聚焦伺服電路36將第一激光聚焦在記錄了將被再生的數(shù)據(jù)的邊界表面L上。換言之，關(guān)于第一激光，執(zhí)行了以邊界表面L為目標(biāo)的聚焦伺服控制。此外，在再生期間，控制器40指示跟蹤伺服電路37基于跟蹤誤差信號TE-I執(zhí)行跟蹤伺服控制。應(yīng)該注意的是，如上所述，在再生期間，沒有必要總是基于第二激光的反射光來執(zhí)行伺服控制。然而，例如，在基于通過溝槽擺動而記錄的信息檢測用于再生的地址信息或者檢測通過凹坑串記錄的地址信息的情況下，在再生期間，可執(zhí)行以引導(dǎo)凹槽形成表面(選擇性反射膜3)為目標(biāo)的第二激光伺服控制。[I. 5界面記錄的效果] 根據(jù)上述本實(shí)施方式的記錄方法，因?yàn)樵诘谝患す饩劢褂诮缑嫔系耐瑫r記錄孔標(biāo)記，所以與采用傳統(tǒng)孔隙記錄方法情況相比，穩(wěn)定形成孔標(biāo)記所需的激光功率可得到抑制。結(jié)果，沒有必要使用專用激光(諸如短脈沖激光)，并且即使使用CW激光(CW :連續(xù)波)吋，也不需犧牲記錄速度。換言之，根據(jù)本實(shí)施方式，可以補(bǔ)償傳統(tǒng)孔隙記錄方法的短處，結(jié)果，進(jìn)ー步提高了作為塊型記錄介質(zhì)的大容量記錄介質(zhì)的可實(shí)現(xiàn)性?！?.第二實(shí)施方式〉隨后，將描述第二實(shí)施方式。在第二實(shí)施方式中，構(gòu)成塊層的多個樹脂層由相同材料形成。圖6為根據(jù)第二實(shí)施方式的記錄介質(zhì)50的截面結(jié)構(gòu)圖。如圖6所示，在第二實(shí)施方式的記錄介質(zhì)50中，使用如第一實(shí)施方式中那樣的其上形成由選擇性反射膜3的覆蓋層2。在這種情況下，通過層壓多層樹脂層51而形成的塊層52形成在選擇性反射膜3之下。換言之，在這種情況下，塊層52由相同樹脂材料形成的多層構(gòu)成。例如，存在作為第二實(shí)施方式的記錄介質(zhì)50再生方法的以下方法。首先，同樣在這種情況下，覆蓋層2的形成處理和選擇性反射膜3的沉積處理與第ー實(shí)施方式的相同。此外，在這種情況下，在形成塊層52的過程中，使用UV固化樹脂作為樹脂層51的材料，UV固化樹脂首先旋涂在選擇性反射膜3上，之后照射紫外光，結(jié)果，形成了第一層樹脂層51。對于第二層以及隨后的層，以相同方式重復(fù)UV固化樹脂旋涂和紫外線照射。結(jié)果，在選擇性反射膜3之下形成了其中層壓了由相同材料形成的多層樹脂層51的塊層52。在第二實(shí)施方式中，孔標(biāo)記記錄在如上所述由相同材料形成的多層樹脂層51界面上。圖6示出6層樹脂層51形成在塊層52中的實(shí)例，因此形成了總共5個界面LO至L4。在記錄期間，當(dāng)?shù)谝患す膺m當(dāng)?shù)鼐劢乖谒蟮慕缑鍸上吋，孔標(biāo)記被記錄至界面LO至L4上。甚至當(dāng)孔標(biāo)記記錄到如上所述由相同材料形成的樹脂層界面上時，如第一實(shí)施方式那樣，與中傳統(tǒng)技術(shù)相比，可以減少形成孔標(biāo)記所需的激光功率。<3.變形例 >
雖然上文已經(jīng)描述了本發(fā)明實(shí)施方式，但是本發(fā)明并不限于至此所述的特定實(shí)例。例如，在以上描述中，已經(jīng)描述孔標(biāo)記記錄于形成在塊層中的所有界面上的情況的實(shí)例。然而，也可以將孔標(biāo)記僅記錄在界面一部分上。圖7示出孔標(biāo)記僅記錄在UV固化粘合層4在上側(cè)而樹脂層5在下側(cè)的界面L(L0、L2、L4)上的情況作為將孔標(biāo)記僅記錄在界面的一部分上的實(shí)例。換言之，當(dāng)交替層壓由兩種不同材料形成的樹脂層吋，孔標(biāo)記僅記錄在由第一材料形成的樹脂層在上側(cè)而第二樹脂層在下側(cè)的界面上。相反，盡管圖中未示出，但是也可以將孔標(biāo)記僅記錄在樹脂層5在上側(cè)而UV固化粘合層4在下側(cè)的界面(L1、L3)上。 在以上描述中，已經(jīng)使用第一激光的反射光來執(zhí)行記錄期間第一激光的聚焦伺服控制。然而，記錄期間第一激光的聚焦伺服控制還可以如圖8所示通過基于選擇性反射膜3(引導(dǎo)凹槽形成表面)施加偏移來實(shí)現(xiàn)。圖9示出了如上所述用于通過基于引導(dǎo)凹槽形成表面施加偏移來實(shí)現(xiàn)記錄期間第一激光的聚焦伺服控制的記錄/再生裝置55的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。應(yīng)該注意的是，在圖中，已經(jīng)參照圖5描述的部分由相同的符號表不,并且描述省略對其的描述。比較圖9和圖5可以看出，在記錄/再生裝置55中，省略包括在圖5所示的記錄/再生裝置10中并且用于獨(dú)立地執(zhí)行第二激光的聚焦控制的第二激光聚焦伺服電路38、第ニ激光聚焦機(jī)構(gòu)30、第二激光聚焦透鏡29和透鏡31。在這種情況下，設(shè)置聚焦伺服電路56以替代包括在圖5所示的記錄/再生裝置10中的第一激光聚焦伺服電路36，并且由第一激光矩陣電路34產(chǎn)生的聚焦誤差信號FE-I和由第二激光矩陣電路35產(chǎn)生的聚焦誤差信號FE-2被提供至聚焦伺服電路56?；趤碜钥刂破?7的指令，聚焦伺服電路56在記錄期間基于來自第二激光矩陣電路35的聚焦誤差信號FE-2產(chǎn)生聚焦伺服信號，并基于聚焦伺服信號來驅(qū)動雙軸機(jī)構(gòu)22的聚焦線圏。換言之，在這種情況下記錄期間物鏡21聚焦位置在選擇性反射膜3(引導(dǎo)凹槽形成表面)上被設(shè)定為恒定。此外，在圖9所示的記錄/再生裝置55中，控制器57在記錄期間驅(qū)動透鏡驅(qū)動部19，并且向第一激光的聚焦位置施加偏移。具體地，在記錄期間，控制器57驅(qū)動透鏡驅(qū)動部19，使得根據(jù)作為記錄目標(biāo)的界面L位置來施加如圖8中所示的偏移。具體地，引導(dǎo)凹槽形成表面與各界面LO至L4(圖8中LO至L4)之間的距離由ー定的格式來預(yù)先限定。在控制器57中，預(yù)先設(shè)定關(guān)于將第一激光聚焦于界面L上所需的透鏡驅(qū)動部19驅(qū)動量的信息，基于關(guān)于預(yù)先由一定格式限定的距界面L的距離的信息來獲得所述信息?？刂破?7基于關(guān)于各界面L的驅(qū)動量的預(yù)設(shè)信息來驅(qū)動透鏡驅(qū)動部19。換言之，基于關(guān)于根據(jù)作為記錄目標(biāo)的界面L而設(shè)定的驅(qū)動量的信息來驅(qū)動透鏡驅(qū)動部19。因此，記錄期間第一激光的聚焦位置與作為記錄目標(biāo)的界面L相匹配。應(yīng)該注意的是，記錄期間，在圖9所示的記錄/再生裝置55中，基于來自控制器57的指令，聚焦伺服電路56基于來自第一激光矩陣電路34的聚焦誤差信號FE-I來產(chǎn)生聚焦伺服信號，并基于聚焦伺服信號來驅(qū)動雙軸機(jī)構(gòu)22的聚焦線圏。換言之，在這種情況下，再生期間的第一激光的聚焦伺服如圖5中所示的記錄/再生裝置10那樣基于第一激光的反射光來執(zhí)行。
此外，因?yàn)樵谶@種情況下還設(shè)置了跟蹤伺服電路37，所以基于第一激光的反射光(來自孔標(biāo)記串的反射光)來執(zhí)行再生期間的跟蹤伺服。應(yīng)該注意的是，從這點(diǎn)還可以理解，同樣在這種情況下，可以省略再生期間第二激光的照射。這里，在孔標(biāo)記還未記錄狀態(tài)下來自界面L的反射光強(qiáng)度為弱的情況下，參照圖8和圖9所描述的聚焦伺服控制方法是有利的。此外，在以上描述中，已經(jīng)作為形成界面的樹脂層材料列舉了 HPSA、聚碳酸酯等。然而，僅需要使用諸如光固化樹脂、光聚合樹脂、光學(xué)透明樹脂和高性能工程塑料材料的樹脂作為本發(fā)明的樹脂層的材料。此外，光學(xué)記錄介質(zhì)的制造方法并不限于實(shí)施方式中所舉例的制造方法。例如，關(guān)于作為第一實(shí)施方式(其中層壓由不同樹脂材料形成的層)的光學(xué)記錄介質(zhì)的制造方法而言，通過層壓片型樹脂來形成“多層樹脂層”，然而，可通過重復(fù)旋涂和紫外線照射來形成“多層樹脂層”。具體地，在這種情況下，UV固化樹脂(第一材料)被旋涂在通過反射膜沉積處理而形成的選擇性反射膜3上，并且之后利用紫外線照射。然后，與以上UV固化樹脂不同的UV固化樹脂(第二材料)相似地旋涂于通過紫外線照射固化的樹脂層上，并且利用紫外線照射。通過如此交替地重復(fù)作為第一材料的UV固化樹脂的旋涂和紫外線照射和作為第二材料的UV固化樹脂旋涂和紫外線照射，可制造其中層壓了由不同樹脂材料形成的多個層的光學(xué)記錄介質(zhì)。此外，關(guān)于其中層壓了由相同樹脂材料形成的多個層的光學(xué)記錄介質(zhì)，第二實(shí)施方式已經(jīng)列舉了重復(fù)UV固化樹脂的旋涂和紫外線照射的制造方法，然而，可采用以下的方法，即，預(yù)先形成其中層壓了由相同樹脂材料形成的多個層的塊層并且使用UV固化粘合劑(諸如HPSA)將塊層結(jié)合至選擇性反射膜3。此外，盡管在以上描述中并未具體提到層壓的樹脂層的折射率，但是層壓的樹脂層的折射率為相同或者不同。當(dāng)區(qū)分折射率時，僅需至少區(qū)分相鄰樹脂層的折射率。不論層壓的樹脂層的折射率是否相同，執(zhí)行界面記錄的點(diǎn)是相同的，因此可以比采用傳統(tǒng)孔隙記錄方法情況下具有更低功率來記錄孔標(biāo)記的點(diǎn)不會改變。此外，已經(jīng)描述了引導(dǎo)凹槽形成于光學(xué)記錄介質(zhì)上的情況的實(shí)例作為上述能夠引導(dǎo)記錄(和再生)位置的結(jié)構(gòu)，例如，可采用標(biāo)記記錄至相位改變膜而不是引導(dǎo)凹槽上的結(jié)構(gòu)。具體地，基于由此記錄的位置引導(dǎo)標(biāo)記串，獲得聚焦/跟蹤誤差信號、地址信息等。此外，盡管上文已經(jīng)描述了盤狀記錄介質(zhì)用作本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的情況的實(shí)例，但是記錄介質(zhì)可采用其他形狀，諸如矩形。符號描述I記錄介質(zhì)2覆蓋層3選擇性反射膜4UV固化粘合層5、51樹脂層6、52塊層10,55記錄/再生裝置11第一激光器12、26準(zhǔn)直透鏡13反射鏡14、27偏振分束器15液晶器件
16,28 1/4 波長板17、18、31 透鏡20ニ向色鏡21物鏡22軸機(jī)構(gòu)23、32會聚透鏡24第一光電檢測器25第二激光器29第二激光聚焦透鏡30第二激光聚焦機(jī)構(gòu)33第二光電檢測器34第一激光矩陣電路 35第二激光矩陣電路36第一激光聚焦伺服電路37跟蹤伺服電路38第二激光聚焦伺服電路39主軸電機(jī)40、57控制器41記錄處理器42再生處理器56聚焦伺服電路L0-L4界面(邊界表面)
權(quán)利要求
1.一種記錄裝置，包括 激光照射部，在改變聚焦位置期間，將第一激光照射至其中形成有多層樹脂層的光學(xué)記錄介質(zhì)上； 聚焦控制部，控制所述第一激光的聚焦位置； 發(fā)光驅(qū)動部，執(zhí)行所述第一激光的發(fā)光驅(qū)動；以及 控制部，在所述第一激光聚焦在所述光學(xué)記錄介質(zhì)的所述樹脂層的邊界表面上的同時，控制所述發(fā)光驅(qū)動部執(zhí)行所述第一激光的發(fā)光驅(qū)動，以將孔標(biāo)記記錄至所述邊界表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的記錄裝置，還包括 第一光接收部，接收照射至所述光學(xué)記錄介質(zhì)上的所述第一激光的返回光， 其中，所述控制部控制所述聚焦控制部以基于通過所述第一光接收部獲得的光接收信號來在所述邊界表面上執(zhí)行所述第一激光的聚焦伺服控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄裝置， 其中，所述光學(xué)記錄介質(zhì)具有包括形成在其中的引導(dǎo)凹槽的位置引導(dǎo)層， 其中，所述激光照射部被構(gòu)造為將所述第一激光和與所述第一激光不同的第二激光經(jīng)由共用物鏡照射至光學(xué)記錄介質(zhì)上，并且包括雙軸機(jī)構(gòu)，所述雙軸機(jī)構(gòu)保持所述物鏡使得所述物鏡能夠在聚焦方向和與所述聚焦方向正交的跟蹤方向上移動， 所述記錄裝置還包括 跟蹤控制部，通過驅(qū)動所述雙軸機(jī)構(gòu)控制所述物鏡在所述跟蹤方向上的位置，執(zhí)行所述第一激光和所述第二激光的跟蹤控制；以及 第二光接收部，接收照射至所述光學(xué)記錄介質(zhì)上的所述第二激光的返回光，并且其中，所述控制部控制所述跟蹤控制部以基于通過所述第二光接收部獲得的光接收信號來在所述引導(dǎo)凹槽上執(zhí)行所述第一激光和所述第二激光的跟蹤伺服控制。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的記錄裝置，還包括 再生部，基于通過所述第一光接收部獲得的光接收信號來再生由所述孔標(biāo)記記錄的信息， 其中，在再生期間，所述控制部控制所述聚焦控制部以基于通過所述第一光接收部獲得的光接收信號來在形成有所述孔標(biāo)記的所述邊界表面上執(zhí)行所述第一激光的聚焦伺服控制，并且控制所述跟蹤控制部以基于通過所述第一接收部獲得的光接收信號來對所述孔標(biāo)記執(zhí)行所述第一激光的跟蹤伺服控制。
5.—種記錄方法,包括 在第一激光聚焦于多層樹脂層的邊界表面上的同吋，將所述第一激光照射至其中形成有所述多層樹脂層的光學(xué)記錄介質(zhì)上，以將孔標(biāo)記記錄至所述邊界表面上。
6.ー種光學(xué)記錄介質(zhì)，其中形成有多層樹脂層，并且在第一激光聚焦于所述樹脂層的邊界表面上的同時通過用所述第一激光照射所述光學(xué)記錄介質(zhì)，將孔標(biāo)記記錄至所述邊界表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，形成了多個邊界表面，以及 其中，所述邊界表面之間距離為IOym以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，形成了 3個以上邊界表面，以及 其中，所述邊界表面之間的間隔不同。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，通過層壓由不同樹脂材料形成的層來獲得所述多層樹脂層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，通過層壓由相同樹脂材料形成的層來獲得所述多層樹脂層。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，所述多層樹脂層具有相同的折射率。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，彼此相鄰的所述樹脂層具有不同的折射率。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，由所述多層樹脂層構(gòu)成的塊層的厚度為300 以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì)， 其中，各所述樹脂層由光固化樹脂、光聚合樹脂、光學(xué)透明樹脂和高性能工程塑料材料中的任ー種形成。
全文摘要
可以比傳統(tǒng)的孔隙記錄方法低的激光功率來穩(wěn)定地執(zhí)行孔隙記錄，其中，孔隙標(biāo)記(孔隙)記錄在塊層中。對于通過多層樹脂層形成的光學(xué)記錄介質(zhì)，第一光束聚焦在其上并照射至樹脂層的邊界表面，從而在邊界表面上記錄孔隙標(biāo)記。因?yàn)榭紫稑?biāo)記的記錄靈敏度在樹脂層的邊界表面處增強(qiáng)，所以通過如上所述將孔隙標(biāo)記記錄在邊界表面上，與現(xiàn)有技術(shù)相比記錄所需的激光功率可被抑制到低的水平。因此，不必要使用專用激光(諸如短脈沖激光)，并且即使使用CW激光(CW連續(xù)波)，也不必犧牲記錄速度。可以補(bǔ)償傳統(tǒng)孔隙記錄方法的短處，結(jié)果，作為塊型記錄介質(zhì)大容量記錄介質(zhì)的實(shí)現(xiàn)的可能性增強(qiáng)。
文檔編號G11B7/09GK102656633SQ201080042669
公開日2012年9月5日 申請日期2010年9月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月1日
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