專利名稱：光學(xué)元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在DVD(注冊商標(biāo))、藍(lán)光光盤(注冊商標(biāo))的記錄(錄音、錄像)或重 放用裝置中使用的光學(xué)元件。具體地，本發(fā)明涉及元件表面層疊有氧化隔斷膜以防止與氧 反應(yīng)的光學(xué)元件。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，已知有，例如日本特開JP2004-197067號公報等所示，通過在制造諸 如波長板、偏振板、棱鏡、反射鏡、物鏡等光學(xué)元件的過程中添加防氧化劑來制造防氧化的 光學(xué)元件。 對于用藍(lán)光光盤錄音、錄像等記錄用的特定的短波長的光例如390nm 420nm等 的光，波長板、偏振板、棱鏡、反射鏡、物鏡等光學(xué)元件由于受到光的照射而白濁化并劣化。 因此，不能用于錄音、錄像等記錄中。 在日本特開JP2004-197067號公報中，在元件內(nèi)部添加了防氧化劑。但是，因?yàn)樵?元件表面沒有稠密配置防氧化劑的化合物，所以可能因例如390nm 420nm等短波長的光 的長時間照射而仍然劣化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種即使受到上述那樣的特定的短波長的光長時間照射 也難以發(fā)生白濁化和劣化的光學(xué)元件。 作為本發(fā)明的解決方案的例子，有如權(quán)利要求1 3記載的光學(xué)元件。
本發(fā)明者們發(fā)現(xiàn)，由如上所述的特定的短波長的光的照射而導(dǎo)致的光學(xué)元件的白 濁化及劣化，是由于光的照射而使元件與空氣中的氧分子反應(yīng)，發(fā)生化學(xué)變化而引起的。并 且還發(fā)現(xiàn)，通過防止光學(xué)元件表面與氧接觸，可以大幅改善光學(xué)元件的白濁化及劣化。
因此，在本發(fā)明的一個實(shí)施形態(tài)中，對在DVD、藍(lán)光光盤等中記錄、重放用裝置中使 用的光學(xué)元件進(jìn)行改良，在元件的最外層層疊具有氧隔斷性的膜。具體地，將具有氧隔斷性 的膜層疊(或涂敷)在元件的表面、和/或背面、和/或側(cè)面。 在本發(fā)明的另一個實(shí)施形態(tài)中，提供一種波長板、偏振板、棱鏡、反射鏡、物鏡等的 光學(xué)元件，是在藍(lán)光光盤裝置中使用的光學(xué)元件中，在元件的最外層層疊有具有隔斷氧的 性質(zhì)的膜，即使在例如390nm 420nm等的短波長的藍(lán)光的激光中也不會白濁化及劣化，能 夠用于重放、錄音、錄像等的記錄。 在本發(fā)明的另一個實(shí)施形態(tài)中，在用于藍(lán)光光盤裝置的光學(xué)元件的表面、背面、側(cè) 面中的至少1個面(優(yōu)選所有的面)上層疊(或涂敷)具有隔斷氧的性質(zhì)的膜。采用這種 方式，即使在例如390nm 420nm等的短波長的藍(lán)光的激光中光學(xué)元件也不會白濁化及劣 化，能夠在重放、錄音、錄像等的記錄中使用。 如果說明具有隔斷氧的性質(zhì)的膜的優(yōu)選例子，最佳的例子是，通過例如采用真空 蒸鍍層疊Si02等的金屬氧化物(氧阻止層)而形成的膜，或者通過以濕法(溶液涂敷)涂敷S叫+氟(氧阻止層)而形成的膜。此外，并不僅限于S叫，也可以層疊SiON、Si+DLC、氮化硅(SiF4)等的金屬氧化物。 作為層疊方法，除了真空蒸鍍、溶液涂敷法(浸漬法)之外，還可以采用濺射法、旋涂法等的方法。 本發(fā)明的光學(xué)元件優(yōu)選為波長板、偏振板、棱鏡、反射鏡、物鏡。
具體實(shí)施例方式
說明本發(fā)明的多個實(shí)施例的光學(xué)元件。 通過對例如波長板的包含透過藍(lán)光激光的區(qū)域(有效直徑約3mm左右)的整個表面及背面進(jìn)行蒸鍍，層疊Si(^等的金屬氧化物(氧阻止層)。同樣地，也可以在例如波長板的整個側(cè)面上也蒸鍍，層疊Si02等的金屬氧化物(氧阻止層)。 或者，在波長板的透過藍(lán)光激光的范圍中以濕法(溶液涂敷)形成Si(^+氟的涂層(氧阻止層)。分析的結(jié)果確認(rèn)了，通過這些處理，元件表面的氧透過率與未處理過時相比，能減少到0.4%左右。 當(dāng)然，并不僅限于Si(^，層疊SiON、Si+DLC(類金剛石碳)、氮化硅(SiF4)等的金屬氧化物，也可以得到同樣的效果。 在采用溶液涂敷法時，作為涂敷膜種類，還可以采用氟樹脂、氯乙烯、偏二氯乙烯
樹脂、偏二氟乙烯樹脂、丙烯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂等。 波長板等的光學(xué)元件為有機(jī)化合物，可以使用環(huán)烯系聚合物的ARTON(注冊商標(biāo)，
7 -卜> JSR制造)、ZEONOR(注冊商標(biāo)，七才乂 7 、日本七才 >制造)、環(huán)烯聚合物(COC)即
7《A (注冊商標(biāo)，三井化學(xué)制造)等，另外，也可以采用其他的環(huán)烯系聚合物、聚碳酸酯、
聚乙烯醇、或三乙酰纖維素等。 對本發(fā)明的光學(xué)元件實(shí)施了表征其性能提高的耐光性試驗(yàn)。
該試驗(yàn)的光學(xué)特性(透射波面像差)數(shù)據(jù)如表1所示。
表1[數(shù)據(jù)l](入rms)
累積光量狄理樣品處理才f 口
微l微2微3
輛射0馬0.0040.0040細(xì)
1Wh/mm20.0230.004丄丄
3 Wh/mm2t 劣化0.005丄
6Wh/mm20.005i
16Wh/mm20.005
判定ooo
4
未處理的樣品在累積光量lWh/mm2的光照射下透射波面像差的值大幅變化，確認(rèn)劣化。 處理過的樣品雖然進(jìn)行了多次試驗(yàn)，但即使直至照射累積光量l、3、6、16Wh/mm2時也無像差變化，沒有確認(rèn)到劣化。另外，照射的波長為藍(lán)光光盤中使用的波長405nm。此外，也可以為390nm 420nm的范圍中的任意波長。 由表1數(shù)據(jù)也可看出，未處理(累積光量lWh/mm2)的樣品由于劣化而不可使用
(X)。處理過(直至累積光量16Wh/mm2)的樣品沒有劣化，可使用(〇)。 由這些比較結(jié)果可見，可以說光學(xué)元件的耐光性改善了 IO倍以上。 根據(jù)以上的實(shí)驗(yàn)結(jié)果可以確認(rèn)，通過在藍(lán)光光盤裝置中使用的光學(xué)元件中，在光
學(xué)元件的表面、背面、側(cè)面層疊(或涂敷)具有隔斷氧的性質(zhì)的膜，即使是在例如390nm
420nm等的短波長的藍(lán)光的激光中，光學(xué)元件也不會白濁化及劣化，能夠用于重放、錄音、錄
像等的記錄中。 另外，現(xiàn)有技術(shù)中，從對于短波長激光的耐久性的問題考慮，使用水晶、玻璃等的無初材料作為藍(lán)光用光學(xué)元件，但根據(jù)本發(fā)明，還可以采用樹脂材料作為光學(xué)元件材料。即，能夠?qū)⒖蛇m用于藍(lán)光等的短波長激光的光學(xué)元件材料從無機(jī)材料轉(zhuǎn)變成樹脂材料，可以大幅降低記錄、重放裝置的制造成本。
權(quán)利要求
一種光學(xué)元件，是在記錄或重放用裝置中使用的光學(xué)元件，其特征在于，為防止元件表面與氧反應(yīng)，在元件的最外層層疊有具有隔斷氧的性質(zhì)的膜。
2. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件，其特征在于，在元件的表面、背面、以及側(cè)面的至少 一個面上層疊有具有隔斷氧的性質(zhì)的膜。
3. 如權(quán)利要求1或2所述光學(xué)元件，其特征在于，光學(xué)元件為波長板、偏振板、棱鏡、反 射鏡或物鏡。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在記錄、重放用裝置中使用的光學(xué)元件，為防止元件表面與氧反應(yīng)，在元件的最外層層疊(或涂敷)具有隔斷氧的性質(zhì)的膜。具有隔斷氧的性質(zhì)的膜被層疊(或涂敷)在元件的表面、背面、側(cè)面的至少一個面上。光學(xué)元件是波長板、偏振板、棱鏡、反射鏡或物鏡。
文檔編號G11B7/135GK101726766SQ20091021167
公開日2010年6月9日 申請日期2009年10月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月31日
發(fā)明者中田達(dá)也, 齋藤孝朗, 田中伸樹, 高橋崇 申請人:拓普康株式會社