專利名稱：光盤裝置及其聚焦偏置設(shè)定方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光盤裝置的聚焦偏置處理，尤其是涉及對(duì)于光盤具有多個(gè)記錄層時(shí)的 該多個(gè)記錄層的聚焦偏置的設(shè)定。
背景技術(shù)：
作為與本發(fā)明有關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)，例如有記載于日本專利第3465413號(hào)說明書(專 利文獻(xiàn)1)、日本特開2003-217140號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)、日本特開2003-248940號(hào)公報(bào)(專 利文獻(xiàn)3)中的技術(shù)。在日本專利第3465413號(hào)說明書中，記載有利用跟蹤誤差信號(hào)的振 幅、抖晃、RF信號(hào)振幅等設(shè)定聚焦偏置(Focus Offset :聚焦偏移、偏焦)值的技術(shù)，在日本 特開2003-217140號(hào)公報(bào)中記載有對(duì)于各記錄層獨(dú)立地設(shè)定聚焦偏置的技術(shù)，在日本特開 2003-248940號(hào)公報(bào)中記載有在裝置內(nèi)設(shè)置溫度檢測(cè)器，在裝置內(nèi)溫度變化規(guī)定值以上且 結(jié)束聚焦跳躍和尋道時(shí)進(jìn)行偏移再調(diào)整的技術(shù)。 在上述的現(xiàn)有技術(shù)中，分別獨(dú)立地求取各記錄層的聚焦偏置量，根據(jù)記錄層切換 前后的跟蹤誤差信號(hào)的振幅、抖晃、RF信號(hào)振幅等的差值，求該切換后的記錄層的聚焦偏置 量，因此，偏移處理的所需要時(shí)間容易變長(zhǎng)，另外，在未記錄狀態(tài)的記錄層的情況下恐怕不 能確保處理精度。 專利文獻(xiàn)1 :日本專利第3465413號(hào)說明書
專利文獻(xiàn)2 :日本特開2003-217140號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3 :日本特開2003-248940號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的狀況而提出的，在光盤裝置中，在多個(gè)記錄 層的聚焦偏置處理時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)該處理時(shí)間的縮短、并且能夠確保對(duì)于記錄結(jié)束狀態(tài)的記 錄層(也包括再現(xiàn)專用盤)及未記錄狀態(tài)的記錄層的聚焦偏置處理精度。另外，也能夠與 裝置內(nèi)的溫度變化對(duì)應(yīng)而確保聚焦偏置處理精度。 本發(fā)明的目的在于，解決上述課題，提供一種能夠在光盤裝置中提高使用便利性 的技術(shù)。 為解決上述課題點(diǎn)，本發(fā)明提供一種光盤裝置，其中，對(duì)于光盤具有的多個(gè)記錄層 中的相互鄰接的記錄層的各層，根據(jù)來自形成于記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信 號(hào)，學(xué)習(xí)光學(xué)單元對(duì)于該引導(dǎo)槽的聚焦偏置，根據(jù)該學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置，運(yùn)算且設(shè) 定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置。作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的光學(xué)單元的聚焦偏置，將所述學(xué)習(xí) 的各記錄層的聚焦偏置的平均值設(shè)定為該各記錄層共同的聚焦偏置，或者，將與所述學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置，設(shè)定為各記 錄層或各記錄層共同的聚焦偏置，或者，將與該學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的差成為與所 述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置的平均值作為一個(gè)記錄層的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定。另 外，根據(jù)裝置內(nèi)的溫度變化，將所述學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的平均值或與該學(xué)習(xí)的各 記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置設(shè)定為記錄或再 現(xiàn)時(shí)用的光學(xué)單元的聚焦偏置。 另外，在本發(fā)明中，通過所述學(xué)習(xí)求取的聚焦偏置意味著是滿足有效地構(gòu)成本發(fā) 明的適當(dāng)范圍的聚焦偏置。另外，本發(fā)明的"記錄層"是指將記錄信息的層(記錄層)，即也 包括記錄有信息的記錄層(也包括再現(xiàn)專用盤的記錄層、可記錄盤即可改寫的盤和可追記 的盤的記錄層)、另外，還有雖然尚未記錄信息但能夠記錄信息的記錄層(該情況下為可記 錄盤的記錄層)。 根據(jù)本發(fā)明，在光盤裝置中，能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行多個(gè)記錄層的聚焦偏置處理，信 息的記錄或再現(xiàn)動(dòng)作可迅速的開始。另外，對(duì)于記錄結(jié)束狀態(tài)的記錄層(也包括再現(xiàn)專用 光盤)及未記錄狀態(tài)的記錄層也能夠確保聚焦偏置的處理精度。另外，也能夠與裝置內(nèi)的 溫度變化相對(duì)應(yīng)而確保聚焦偏置處理精度。 通過以下的附圖及說明將明了以上所說明的功能、對(duì)象及本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。


圖1是作為本發(fā)明的第一實(shí)施例的光盤裝置的構(gòu)成圖； 圖2是圖1的光盤裝置中的光盤的多個(gè)記錄層的基準(zhǔn)面位置和光拾取器的光學(xué)單 元的位置的說明圖； 圖3是圖1的光盤裝置的聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置設(shè)定的說明 圖； 圖4是基于實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)的圖1的光盤裝置的聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦 偏置設(shè)定的說明圖； 圖5是基于另一實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)的圖1的光盤裝置的聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的 聚焦偏置設(shè)定的說明圖； 圖6是圖1的光盤裝置的、對(duì)于光盤中的鄰接的記錄層的聚焦偏置處理的動(dòng)作流 程圖； 圖7是圖1的光盤裝置的、對(duì)于記錄層為3層以上的光盤的聚焦偏置處理的說明 圖； 圖8是圖7的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖； 圖9是圖1的光盤裝置的、對(duì)于記錄層為3層以上的光盤的另一聚焦偏置處理的 說明圖； 圖10是圖9的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖； 圖11是作為本發(fā)明的第二實(shí)施例的光盤裝置的構(gòu)成圖； 圖12是表示光學(xué)單元的聚焦偏置的溫度特性例的圖； 圖13是表示通過圖11的光盤裝置改善了圖12的溫度特性時(shí)的狀態(tài)的圖。
具體實(shí)施例方式
下面，應(yīng)用附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說明。 圖1 圖10是作為本發(fā)明的第一實(shí)施例的光盤裝置的說明圖。圖1是作為本發(fā)明 的第一實(shí)施例的光盤裝置的構(gòu)成圖，圖2是圖1的光盤裝置的光盤的多個(gè)記錄層的基準(zhǔn)面 位置和光拾取器的光學(xué)單元的位置的說明圖，圖3是圖1的光盤裝置的聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄 或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置設(shè)定的說明圖，圖4是基于實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)的圖1的光盤裝置的聚焦偏置 學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置設(shè)定的說明圖，圖5是基于另一實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)的圖1的光盤裝 置的聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置設(shè)定的說明圖，圖6是圖1的光盤裝置的、 對(duì)于光盤中的鄰接的記錄層的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖，圖7是在圖1的光盤裝置中，對(duì) 于具有3層以上的記錄層的光盤的聚焦偏置處理的說明圖，圖8是圖7的聚焦偏置處理的 動(dòng)作流程圖，圖9是在圖1的光盤裝置中，對(duì)于具有3層以上記錄層的光盤的另一聚焦偏置 處理的說明圖，圖10是圖9的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖。 另外，在以下的說明中使用的"記錄層"是指記錄信息的層(記錄層)，即也包括記 錄有信息的記錄層(也包括再現(xiàn)專用盤的記錄層、可記錄盤的記錄層)、另外，還有雖然尚 未記錄信息但是能夠記錄信息的記錄層(該情況下為可記錄盤的記錄層)。
在圖1中，la是作為本發(fā)明的實(shí)施例的光盤裝置；2是具有多個(gè)記錄層的0￥0+/-尺 DL等的光盤；3是旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)光盤2的盤電動(dòng)機(jī)；4是光拾取器，5在光拾取器4內(nèi)，是含有物 鏡(未圖示)而構(gòu)成，將激光聚光，使該聚光了的激光向光盤2的記錄面照射的光學(xué)單元； 6在光拾取器4內(nèi)，是為了記錄或再現(xiàn)而產(chǎn)生規(guī)定的強(qiáng)度的激光的激光二極管；7在光拾取 器4內(nèi)，是驅(qū)動(dòng)激光二極管6的激光驅(qū)動(dòng)電路；8在光拾取器4內(nèi)，是經(jīng)由光學(xué)單元5接受來 自光盤2的記錄面(盤面)的反射光并切換為電信號(hào)(再現(xiàn)信號(hào))而輸出的受光部；9是 改變光學(xué)單元5中的物鏡(未圖示)的位置及姿勢(shì)的致動(dòng)器；10是將從受光部8輸出的再 現(xiàn)信號(hào)作為RF信號(hào)進(jìn)行增幅和解調(diào)等而進(jìn)行信號(hào)處理的再現(xiàn)信號(hào)處理部；11是具備直線 狀的引導(dǎo)部件(未圖示)及導(dǎo)向螺桿部件(未圖示)等而構(gòu)成，使光拾取器4向光盤2的 大致半徑方向移動(dòng)的移動(dòng) 引導(dǎo)機(jī)構(gòu)部；12在該移動(dòng) 引導(dǎo)機(jī)構(gòu)部11內(nèi)，是旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)導(dǎo)向 螺桿部件(未圖示)的滑動(dòng)電動(dòng)機(jī)；14是生成驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器9的驅(qū)動(dòng)信號(hào)的聚焦/跟蹤控制 部；15是旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)盤電動(dòng)機(jī)3和滑動(dòng)電動(dòng)機(jī)12的電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電路；30是控制該光盤裝置 la整體的作為控制部的系統(tǒng)控制器；31在系統(tǒng)控制器30內(nèi)，是控制電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電路15的 電動(dòng)機(jī)控制部；32是系統(tǒng)控制器30內(nèi)的微機(jī)；321是構(gòu)成在微機(jī)32內(nèi)、作為第一控制模塊 的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元，上述第一控制模塊由自再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的信號(hào)學(xué)習(xí)(檢測(cè)) 上述光學(xué)單元5的最佳聚焦偏置(在最適合范圍的聚焦偏置即在滿足有效構(gòu)成本發(fā)明的適 當(dāng)范圍內(nèi)的聚焦偏置的意思。以下的說明中的"最佳聚焦偏置"全部是該意思)；322是構(gòu) 成在微機(jī)32內(nèi)、作為第二控制模塊的聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元，上述第二控制模塊根據(jù)上 述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)了的最佳聚焦偏置，運(yùn)算且設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的上述光學(xué) 單元5的聚焦偏置。作為上述第一控制模塊的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321在上述最佳聚焦偏置 的學(xué)習(xí)時(shí)，根據(jù)自再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的信號(hào)即來自形成于光盤2的多個(gè)記錄層中、相 互鄰接的記錄層的各記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)(檢測(cè))光學(xué)單元5對(duì)于各該 引導(dǎo)槽的最佳聚焦偏置。 另外，在圖1中，33是生成并輸出用于驅(qū)動(dòng)激光二極管6的記錄用信號(hào)的記錄用信號(hào)生成部；40是存儲(chǔ)器，其存儲(chǔ)光學(xué)單元5的特性信息、聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的鄰接 的各記錄層的最佳聚焦偏置的信息、聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322運(yùn)算 設(shè)定的記錄或再 現(xiàn)時(shí)用的上述光學(xué)單元5的聚焦偏置的信息、在聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321中執(zhí)行上述學(xué)習(xí)動(dòng) 作的一系列順序的程序、在聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322中執(zhí)行上述運(yùn)算 設(shè)定動(dòng)作的一 系列步驟的程序等。光學(xué)單元5的特性信息、上述學(xué)習(xí)動(dòng)作執(zhí)行用的程序、上述運(yùn)算《設(shè)定 動(dòng)作執(zhí)行用的程序在聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)動(dòng)作前，預(yù)先存儲(chǔ)于存 儲(chǔ)器40。 在上述最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)，作為基于來自形成于相互鄰接的多個(gè)記錄層的記 錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)。
作為第一控制模塊的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321具有的構(gòu)成為，在最佳聚焦偏置的學(xué) 習(xí)時(shí)，應(yīng)用從上述再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)，作為相對(duì)于相互鄰接的 多個(gè)記錄層的各引導(dǎo)槽的各最佳聚焦偏置，學(xué)習(xí)(檢測(cè))上述推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅 成為最大(處于實(shí)際的最大范圍內(nèi)的值的意思，含有真正的最大值，例如，意思是成為真正 的最大值95%以上范圍的值。以下，推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅的"最大"或"最大值"為 該意思)的聚焦偏置。利用推挽信號(hào)學(xué)習(xí)最佳聚焦偏置時(shí)，跟蹤控制成為關(guān)(OFF)狀態(tài)，利 用擺頻信號(hào)學(xué)習(xí)最佳聚焦偏置時(shí)，跟蹤控制成為開(ON)狀態(tài)。聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321根據(jù) 從存儲(chǔ)器40讀出的程序，執(zhí)行最佳聚焦偏置學(xué)習(xí)動(dòng)作中的規(guī)定的步驟。
作為第二控制模塊的聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322，運(yùn)算，設(shè)定用于在相互鄰接的 多個(gè)記錄層記錄或再現(xiàn)信息時(shí)的聚焦偏置時(shí)，運(yùn)算上述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的、該 鄰接的多個(gè)記錄層的各最佳聚焦偏置即上述推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦 偏置的平均值(平均的聚焦偏置)，將該運(yùn)算的平均值作為記錄或再現(xiàn)時(shí)的該兩個(gè)記錄層 共同的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定，或，運(yùn)算與聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的各記錄層的最佳聚焦 偏置的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)在每一 個(gè)記錄層加權(quán)(重^付W )后的聚焦偏置，將該運(yùn)算的聚焦偏置作為上述相互鄰接的多個(gè) 記錄層的各個(gè)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置對(duì)每個(gè)該記錄層分別進(jìn)行設(shè)定。
應(yīng)用聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321得到的學(xué)習(xí)結(jié)果運(yùn)算且設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的上述 平均的聚焦偏置時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322如下進(jìn)行該聚焦偏置的設(shè)定。即，例如， 在從激光入射側(cè)(配置有光學(xué)單元5的側(cè))配置有第一記錄層(L0層)、第二記錄層(Ll 層)時(shí)，通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321對(duì)于該第一記錄層(L0層)的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺 頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏置而得到F^另外，通過相對(duì)于該第二記錄層(Ll層)的 學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏置而得到FA1，此時(shí)，作為第一記錄 層(L0層)及第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F^例如，將通過
FQC = (FA。+FA1) /2 (數(shù)學(xué)式1) 運(yùn)算得到的值設(shè)定為該第一記錄層(L0層)及該第二記錄層(Ll層)共同的聚焦 偏置(記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置)。 另外，在利用聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的學(xué)習(xí)結(jié)果且對(duì)應(yīng)光學(xué)單元5的特性對(duì)每一 個(gè)鄰接記錄層分別運(yùn)算各記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置并進(jìn)行設(shè)定時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定 單元322如下進(jìn)行該記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置的設(shè)定。S卩，例如，在從激光入射側(cè)以第一 記錄層(L0層)、第二記錄層(Ll層)的順序配置有記錄層時(shí)，通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321對(duì)于該第一記錄層(L0層)的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏置 而得到F^另外，通過相對(duì)于該第二記錄層(Ll層)的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振 幅成為最大的聚焦偏置而得到FA1，此時(shí)，例如，將通過
<formula>formula see original document page 10</formula> (數(shù)學(xué)式2) 運(yùn)算得到的值設(shè)定為第一記錄層(L0層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ。。 另外，例如，將通過<formula>formula see original document page 10</formula>(數(shù)學(xué)式3) 運(yùn)算得到的值設(shè)定為第二記錄層(LI層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ1。
聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322根據(jù)從存儲(chǔ)器40讀出的程序，執(zhí)行對(duì)記錄或再現(xiàn)動(dòng) 作用的上述光學(xué)單元5的上述聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算 設(shè)定的動(dòng)作順序。 另外，上述數(shù)學(xué)式1 數(shù)學(xué)式3為發(fā)明者在研究本發(fā)明的過程中，從應(yīng)用多個(gè)光盤 進(jìn)行實(shí)驗(yàn)而得到的數(shù)學(xué)式，是解決本發(fā)明的課題且能夠得到顯著的效果的實(shí)用的數(shù)學(xué)式。
在上述構(gòu)成的光盤裝置la中，在對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤2進(jìn)行信息的記錄或 再現(xiàn)時(shí)，例如，在光盤2裝入裝置內(nèi)，且以規(guī)定的速度旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，光拾取器4內(nèi)的激光二 極管6產(chǎn)生的激光通過光學(xué)單元5向光盤2的多個(gè)記錄層的記錄面照射，進(jìn)行相對(duì)于多個(gè) 記錄層的聚焦偏置處理。對(duì)于相互鄰接的記錄層的各層，利用形成于該各記錄層的引導(dǎo)槽 的槽信息(表示槽的構(gòu)造或狀態(tài)的信息)來進(jìn)行聚焦偏置處理。即，對(duì)于相互鄰接的記錄 層的各層，用受光部8接受來自形成于記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光并切換為電信號(hào) (再現(xiàn)信號(hào))，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出。聚焦偏置處理時(shí)，在形 成從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出推挽信號(hào)的構(gòu)成的情況下，在光盤裝置la中，不進(jìn)行跟蹤控 制，而從聚焦/跟蹤控制部14只輸出聚焦控制信號(hào)。另一方面，在形成從再現(xiàn)信號(hào)處理部 10輸出擺頻信號(hào)的結(jié)構(gòu)的情況下，進(jìn)行跟蹤控制，從聚焦/跟蹤控制部14輸出聚焦控制信 號(hào)和跟蹤控制信號(hào)。作為相互鄰接的各記錄層的引導(dǎo)槽的槽信息，從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸 出的該推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)被輸入微機(jī)32內(nèi)的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321內(nèi)。聚焦偏置學(xué)習(xí) 單元321對(duì)于相互鄰接的記錄層的各層，將該輸入的推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大 時(shí)的聚焦偏置作為最佳聚焦偏置來進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))。微機(jī)32內(nèi)的聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單 元322如上所述，運(yùn)算聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的相互鄰接的記錄層各層的最佳聚焦偏 置的平均值或與該學(xué)習(xí)的各最佳聚焦偏置的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦 偏置，作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的上述光學(xué)單元的聚焦偏置來進(jìn)行設(shè)定。 下面，對(duì)于說明中使用的圖1的光盤裝置la的構(gòu)成要素標(biāo)記與圖1的情況相同的 符號(hào)。 圖2是在圖l的光盤裝置la中，光盤2的多個(gè)記錄層的基準(zhǔn)面(聚焦偏置成為 O(零)的面)的位置和與此相對(duì)的光拾取器4的光學(xué)單元5的位置的說明圖。(a)表示用 光學(xué)單元5聚光的激光向第一記錄層(L0層)照射，由以來自該第一記錄層(L0層)的記 錄面的引導(dǎo)槽的反射光為依據(jù)的推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)，進(jìn)行對(duì)于第一記錄層(L0層)的最 佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)的狀態(tài)，(b)表示用光學(xué)單元5聚光的激光向與上述第一記錄層(L0 層)鄰接的第二記錄層(Ll層)照射，由以來自該第二記錄層(Ll層)的記錄面的引導(dǎo)槽的 反射光為依據(jù)的推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)，進(jìn)行對(duì)于第二記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置的學(xué) 習(xí)時(shí)的狀態(tài)。5a為光學(xué)單元5中的物鏡，h為第一記錄層(L0層)的基準(zhǔn)面和第二記錄層(Ll層)的基準(zhǔn)面之間的距離。在最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)，物鏡5a根據(jù)來自聚焦/跟蹤控 制部14的聚焦控制信號(hào)，通過致動(dòng)器9控制聚焦方向(士Z軸方向)的位置。進(jìn)行對(duì)于第 一記錄層(L0層)的最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)，在包括第一記錄層(L0層)的基準(zhǔn)面位置的 該第一記錄層(L0層)的基準(zhǔn)面的附近，物鏡5a的聚焦方向位置通過致動(dòng)器9被改變，推 挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的物鏡5a的聚焦方向位置的聚焦偏置通過聚焦偏置學(xué) 習(xí)單元321被學(xué)習(xí)為對(duì)于第一記錄層(L0層)的最佳聚焦偏置。同樣，進(jìn)行對(duì)于第二記錄 層(Ll層)的最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)，在包括該第二記錄層(Ll層)的基準(zhǔn)面位置的該第 二記錄層(Ll層)的基準(zhǔn)面的附近，物鏡5a的聚焦方向位置通過致動(dòng)器9被改變，推挽信 號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的物鏡5a的聚焦方向位置的聚焦偏置通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單 元321被學(xué)習(xí)為對(duì)于第二記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置。進(jìn)行對(duì)于第三記錄層(L2層) (未圖示)的最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)也同樣。 在以下的說明中，第一記錄層(L0層)和第二記錄層(Ll層)也設(shè)為相對(duì)于激光入 射方向(配置著物鏡5a的方向)處于上述圖2所示的位置關(guān)系。另外，圖7 圖10中說 明的記錄層為3層以上的光盤時(shí)，第三記錄層(L2層)(未圖示)配置于比第二記錄層(Ll 層)更靠Z軸方向側(cè)的位置。 圖3是對(duì)于圖1的光盤裝置la的光盤2的聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦 偏置設(shè)定的說明圖。在本圖3中，聚焦偏置學(xué)習(xí)用推挽信號(hào)進(jìn)行。在圖3中，橫軸取聚焦偏 置F，縱軸取推挽信號(hào)振幅A和分辨率D。 在圖3中，A。是利用來自第一記錄層(L0層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理 部10輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線的模型，A。max是振幅特性曲線A。上的最大值即第一 記錄層(L0層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，F(xiàn)A。是在振幅特性曲線A。上推挽信號(hào)振幅成為最 大值A(chǔ)。^時(shí)的聚焦偏置即最佳聚焦偏置，^是利用來自第二記錄層(Ll層)的引導(dǎo)槽的反 射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線的模型，A^x是振幅特性曲線A 上的最大值即第二記錄層(Ll層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，F(xiàn)M是在振幅特性曲線A上推 挽信號(hào)振幅成為最大值A(chǔ)^,時(shí)的聚焦偏置即最佳聚焦偏置，D。是基于來自第一記錄層(LO 層)的反射光的分辨率特性曲線的模型，F(xiàn)D。是該分辨率特性曲線D。成為最大值時(shí)的聚焦偏 置，D工是基于來自第二記錄層(Ll層)的反射光的分辨率特性曲線的模型，F(xiàn)D1是該分辨率 特性曲線D工成為最大值時(shí)的聚焦偏置。上述推挽信號(hào)振幅的最大值A(chǔ)。max和那時(shí)的聚焦偏 置FA。(最佳聚焦偏置)及上述推挽信號(hào)振幅的最大值A(chǔ)lmax和那時(shí)的聚焦偏置FA1 (最佳聚焦 偏置)通過作為第一控制模塊的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))。另外，上述分辨 率D，由以來自光盤2的各記錄層的引導(dǎo)槽中的最短標(biāo)記(7 —々)(在DVD中為3T標(biāo)記) 的反射光為依據(jù)的信號(hào)的振幅相對(duì)于以來自最長(zhǎng)標(biāo)記(在DVD中為11T標(biāo)記)的反射光為 依據(jù)的信號(hào)的振幅的比定義。 另外，在圖3中，Q。為聚焦偏置運(yùn)算《設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置(最佳聚焦 偏置)FA。、 FA1，按照與聚焦偏置FA。的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式運(yùn)算并設(shè) 定的聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)且在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán)(=相比于與聚 焦偏置FA1的差，與聚焦偏置FA。的差被減小)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)。。為與該位置Q。對(duì)應(yīng)的 聚焦偏置，Qi為聚焦偏置運(yùn)算《設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置(最佳聚焦偏置)FA。、FA1按 照與聚焦偏置FA1的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)且在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA。的差， 與聚焦偏置FA1的差被減小)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)Q1為與該位置Q工對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，Qc為 聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FA。、FA1運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置，是該兩個(gè) 聚焦偏置FA。、 FA1的平均值的聚焦偏置的位置；FQe是與該位置Qe對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。圖3表 示在聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322的聚焦偏置的運(yùn)算中使用的數(shù)學(xué)式的精度高，且聚焦偏 置運(yùn)算*設(shè)定單元322運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置F。。、和分辨率特性曲線D。成為最大值時(shí)的聚 焦偏置FD。成為同值，且聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置Fw、和分辨率 特性曲線D工成為最大值時(shí)的聚焦偏置FD1成為同值的情況。聚焦偏置FQC被使用例如數(shù)學(xué) 式1運(yùn)算，聚焦偏置FQ。被使用例如數(shù)學(xué)式2運(yùn)算，聚焦偏置FQ1被使用例如數(shù)學(xué)式3運(yùn)算， 該聚焦偏置F『F。。、F^的各個(gè)不是分別求分辨率特性曲線D。、D工或聚焦偏置F。。、Fm，而是作 為信息記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置被設(shè)定。 另外，在圖3的橫軸上將第一記錄層(L0層)的聚焦偏置F二O的位置和第二記 錄層(Ll層)的聚焦偏置F二O的位置重合。S卩，圖3為將圖2的距離h作為0(零)使上 述兩位置重合的狀態(tài)。 圖4是基于實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)的圖1的光盤裝置la的聚焦偏置學(xué)習(xí)、信息的記錄或再現(xiàn)時(shí) 用的聚焦偏置設(shè)定的說明圖。橫軸取聚焦偏置F，縱軸取推挽信號(hào)振幅A、基于3T標(biāo)記的信 號(hào)的振幅B。在圖4中記述下述內(nèi)容，應(yīng)用聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的推挽信號(hào)的學(xué)習(xí)結(jié)果， 聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322運(yùn)算在該學(xué)習(xí)中求取的最佳聚焦偏置(意味著最適合范圍內(nèi) 的聚焦偏置，即，滿足有效構(gòu)成本發(fā)明并在適當(dāng)范圍內(nèi)的聚焦偏置)的平均值，將該運(yùn)算的 聚焦偏置作為記錄或再現(xiàn)用的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定的情況；運(yùn)算并求取與上述學(xué)習(xí)中求取的 最佳聚焦偏置的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置即與光學(xué)單元5的特性 對(duì)應(yīng)并加權(quán)的聚焦偏置，將該求出的聚焦偏置作為記錄或再現(xiàn)用的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定的情 況。 在圖4中，A。為根據(jù)來自第一記錄層(L0層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理 部10輸出的推挽信號(hào)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，A。^為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅 值，實(shí)測(cè)振幅特性曲線A。上的最大值即第一記錄層(LO層)的推挽信號(hào)振幅的最大值(使 用實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)經(jīng)由多項(xiàng)式近似求出的最大值)，F(xiàn)A。是通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦 偏置，即，在實(shí)測(cè)振幅特性曲線A。上推挽信號(hào)振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置即最佳聚焦偏置。 另外，A是根據(jù)來自第二記錄層(Ll層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出的推 挽信號(hào)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，A^,為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值，S卩，實(shí)測(cè)振 幅特性曲線A上的最大值即第二記錄層(Ll層)的推挽信號(hào)振幅的最大值(使用實(shí)測(cè)數(shù) 據(jù)經(jīng)由多項(xiàng)式近似求出的最大值)，F(xiàn)A1為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值，即，在 實(shí)測(cè)振幅特性曲線A上推挽信號(hào)振幅成為最大值時(shí)的聚焦偏置即最佳聚焦偏置。
另外，在圖4中，B。是利用來自第一記錄層(LO層)的引導(dǎo)槽中的3T標(biāo)記的反射 光從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的信號(hào)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，F(xiàn)B。是實(shí)測(cè)振幅特性曲線B。取最 大值B。^(使用實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)通過多項(xiàng)式近似求出的最大值)時(shí)的聚焦偏置。另外，B工是利用 來自第二記錄層(Ll層)的引導(dǎo)槽中的3T標(biāo)記的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出的信號(hào) 的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，^是實(shí)測(cè)振幅特性曲線B工取最大值Blmax(使用實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)通過多項(xiàng)式 近似求出的最大值)時(shí)的聚焦偏置。
另外，在圖4中，Q。為聚焦偏置運(yùn)算《設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置(最佳聚焦 偏置)FA。、 FA1按照與聚焦偏置FA。的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述數(shù) 學(xué)式2運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即在聚焦偏置FA。側(cè)與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并加權(quán) (=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA。的差)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)。。為與該 位置Q。對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。另外，為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述學(xué)習(xí)的兩個(gè)最 佳聚焦偏置FA。、FA1按照與最佳聚焦偏置FA1的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式 用上述數(shù)學(xué)式3運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即在聚焦偏置FA1側(cè)與光學(xué)單元5的特性對(duì) 應(yīng)并加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA。的差減小了與聚焦偏置FA1的差)的聚焦偏置的位置， FQ1為與該位置對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。另外，Qe為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述學(xué) 習(xí)的聚焦偏置FA。、FA1用上述數(shù)學(xué)式1運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置，該兩個(gè)聚焦偏置FA。、FA1的平 均值的聚焦偏置的位置，F(xiàn)Qe是與該位置Qe對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。 另外，在圖4中，在橫軸上將第一記錄層(L0層)的聚焦偏置F = 0的位置和第二 記錄層(Ll層)的聚焦偏置F二O的位置設(shè)定為重合。S卩，將圖2的距離h作為0(零)成 為使上述兩位置重合的狀態(tài)。 具體而言，在圖4中，通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的第一記錄層(LO層)的 最佳聚焦偏置FA。約為7X0. 05 m，同樣，第二記錄層(LI層)的最佳聚焦偏置FA1約為 0 X 0. 05 ii m。另外，實(shí)測(cè)振幅特性曲線B。成為最大值B。max時(shí)的聚焦偏置FB。約3 X 0. 05 y m， 實(shí)測(cè)振幅特性曲線B工成為最大值Blmax時(shí)的聚焦偏置FB1約2X0. 05 m。另外，聚焦偏置 運(yùn)算 設(shè)定單元322基于上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。、 FA1且與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)作 為第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置F。。約為 5X0.05ym，作為第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定的聚焦 偏置Fw約為2X0.05ym，作為第一記錄層(LO層)及第二記錄層(LI層)共同的記錄或 再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定的該兩個(gè)聚焦偏置FA。、FA1的平均值的聚焦偏置FQe約為 3. 5X0. 05iim。 由上述可知，作為第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而設(shè)定的聚 焦偏置F。。(約為5X0. 05 ym)與該第一記錄層(LO層)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線B。成為最大值 B。^時(shí)的聚焦偏置Fe。(約3X0.05ym)是近似值，另外，作為第二記錄層(LI層)的記錄或 再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而設(shè)定的聚焦偏置Fw(約為2X0.05ym)與該第二記錄層(LI層)的 實(shí)測(cè)振幅特性曲線B工成為最大值Blmax時(shí)的聚焦偏置FB1 (約2X0. 05 m) —致，另外，作為 第一記錄層(LO層)及第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用共同的聚焦偏置而設(shè)定的平 均值的聚焦偏置FQe (約為3. 5 X 0. 05 ii m)與上述實(shí)測(cè)聚焦偏置FB。(約3 X 0. 05 y m)和上述 實(shí)測(cè)的聚焦偏置FM(約2X0.05ym)是相接近的值。其結(jié)果是，相互鄰接的記錄層的各層 在具有圖4的推挽信號(hào)振幅特性及3T標(biāo)記的信號(hào)振幅特性的光盤的情況下，在光盤裝置la 中，作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，也可以根據(jù)數(shù)學(xué)式l運(yùn)算并設(shè)定第一記錄層(LO層) 及第二記錄層(Ll層)共同的上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置F,FM的平均值的聚焦偏置，另外， 也可以利用數(shù)學(xué)式2和數(shù)學(xué)式3運(yùn)算并設(shè)定與第一記錄層(LO層)及第二記錄層(LI層) 的各個(gè)分別對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。 圖5是在圖1的光盤裝置la中，相互鄰接的記錄層的各層，對(duì)于和圖4的情況不 同的光盤2，根據(jù)和圖4不同的推挽信號(hào)振幅特性的實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)，進(jìn)行聚焦偏置學(xué)習(xí)、記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置設(shè)定時(shí)的說明圖。圖5也和圖4時(shí)同樣，橫軸取聚焦偏置F，縱軸取推 挽信號(hào)振幅A、基于3T標(biāo)記的信號(hào)的振幅B。在圖5中記述了下述內(nèi)容，應(yīng)用聚焦偏置學(xué)習(xí) 單元321的推挽信號(hào)的學(xué)習(xí)結(jié)果，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322運(yùn)算在該學(xué)習(xí)中求取的最 佳聚焦偏置的平均值，將該運(yùn)算的聚焦偏置作為信息的記錄或再現(xiàn)用的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定 的情況；運(yùn)算并求取與上述學(xué)習(xí)中求取的最佳聚焦偏置的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng) 的值的聚焦偏置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并加權(quán)了的聚焦偏置，將該求取的聚焦偏置 作為信息的記錄或再現(xiàn)用的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定的情況。 在圖5中，A。為利用來自第一記錄層(L0層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理 部10輸出的推挽信號(hào)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，A。^為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅 值，即，實(shí)測(cè)振幅特性曲線A。上的最大值即第一記錄層(LO層)的推挽信號(hào)振幅的最大值 (使用實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)經(jīng)由多項(xiàng)式近似求出的最大值)，F(xiàn)A。是通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的 聚焦偏置，即，在實(shí)測(cè)振幅特性曲線A。上推挽信號(hào)振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置即最佳聚焦 偏置。另外，^是利用來自第二記錄層(Ll層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸 出的推挽信號(hào)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，Almax為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值，即， 實(shí)測(cè)振幅特性曲線A上的最大值即第二記錄層(Ll層)的推挽信號(hào)振幅的最大值(使用 實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)經(jīng)由多項(xiàng)式近似求出的最大值)，F(xiàn)A1為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值， 即，在實(shí)測(cè)振幅特性曲線A上推挽信號(hào)振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置即最佳聚焦偏置。
另外，在圖5中，B。是利用來自第一記錄層(LO層)的引導(dǎo)槽中的3T標(biāo)記的反射 光從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的信號(hào)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，F(xiàn)B。是實(shí)測(cè)振幅特性曲線B。取最 大值B。^(使用實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)通過多項(xiàng)式近似求出的最大值)時(shí)的聚焦偏置。另外，B工是利用 來自第二記錄層(Ll層)的引導(dǎo)槽中的3T標(biāo)記的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出的相互 的實(shí)測(cè)振幅特性曲線，^是實(shí)測(cè)振幅特性曲線B工取最大值Blmax(使用實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)通過多項(xiàng)式 近似求出的最大值)時(shí)的聚焦偏置。 另外，在圖5中，Q。為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置(最佳聚 焦偏置)FA。、 FA1按照與聚焦偏置FA。的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述 數(shù)學(xué)式2運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即在聚焦偏置FA。側(cè)與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并 加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA。的差)了的聚焦偏置的位置，F(xiàn)。。 為與該位置Q。對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。另外，為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏 置FA。、FA1按照與聚焦偏置FA1的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述數(shù)學(xué)式 3運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即在聚焦偏置FA1側(cè)與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并加權(quán)(= 相比于與聚焦偏置Fa。的差減小了與聚焦偏置Fm的差)了的聚焦偏置的位置，F(xiàn)w為與該位 置對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。另外，Qe為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FA。、FA1 用上述數(shù)學(xué)式1運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置，該兩個(gè)聚焦偏置F,FM的平均值的聚焦偏置的位 置，F(xiàn)Qe是與該位置Qe對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。 另外，在圖5中也和上述圖4同樣，在橫軸上將第一記錄層(LO層)的聚焦偏置F =0的位置和第二記錄層(LI層)的聚焦偏置F = 0的位置重合。S卩，圖5也將圖2的距 離h作為O(零)設(shè)定上述兩位置。 具體而言，在圖5中，通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的第一記錄層(LO層) 的最佳聚焦偏置FA。約為3X0. 05 m，同樣，第二記錄層(LI層)的最佳聚焦偏置FA1
14約為-8X0.05i!m。另外，實(shí)測(cè)振幅特性曲線B。成為最大值B。^時(shí)的聚焦偏置Fe。約 0X0. 05 ii m，實(shí)測(cè)振幅特性曲線成為最大值Blmax時(shí)的聚焦偏置FB1約-4X0. 05 y m。另 外，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322基于上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。、FA1且與光學(xué)單元5的 特性對(duì)應(yīng)，作為第一記錄層(L0層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏 置F。。約為0X0.05i!m，作為第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而運(yùn)算并 設(shè)定的聚焦偏置Fw約為-5X0.05ym，作為第一記錄層(LO層)及第二記錄層(LI層)共 同的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定的該兩個(gè)聚焦偏置F, FA1的平均值的聚焦 偏置F③約為-2. 5X0. 05iim。 由上述可知，作為第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而設(shè)定的聚 焦偏置F。。(約為0X0.05ym)與該第一記錄層(LO層)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線B。成為最大 值B。^時(shí)的聚焦偏置FB。(約0X0.05ym)大體一致，另外，作為第二記錄層(Ll層)的記 錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置而設(shè)定的聚焦偏置Fw(約為-5X0.05ym)與該第二記錄層(Ll 層)的實(shí)測(cè)振幅特性曲線B工成為最大值Blmax時(shí)的聚焦偏置FB1 (約-4X0. 05 ii m)成為近似 值。但是，作為第一記錄層(L0層)及第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的共同的聚 焦偏置而設(shè)定的平均值的聚焦偏置FQe(約為-2. 5X0. 05 i！ m)與上述實(shí)測(cè)聚焦偏置FB。(約 0X0.05iim)和上述實(shí)測(cè)的聚焦偏置FM(約-4X0.05iim)的差值大。其結(jié)果是，相互鄰接 的記錄層的各層在具有圖5的推挽信號(hào)振幅特性及3T標(biāo)記的信號(hào)振幅特性的光盤的情況 下，光盤裝置la中，作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，也可以利用數(shù)學(xué)式2和數(shù)學(xué)式3運(yùn)算 并分別設(shè)定與第一記錄層(LO層)和第二記錄層(Ll層)分別對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，由此，能夠 進(jìn)行適當(dāng)?shù)木劢蛊锰幚怼?圖6是圖1的光盤裝置la對(duì)于光盤2中的鄰接的記錄層即第一記錄層(L0層) 和第二記錄層(Ll層)進(jìn)行的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖。在該聚焦偏置處理中，和圖4、 圖5同樣，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321通過推挽信號(hào)學(xué)習(xí)最佳聚焦偏置。 光盤裝置la對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤2進(jìn)行聚焦偏置處理時(shí)，在圖6中，在成 為a、c間被連接的狀態(tài)時(shí)， (1)首先，作為控制部的系統(tǒng)控制器30將光盤裝置la設(shè)定為跟蹤控制關(guān)(OFF)、 聚焦控制開(ON)的狀態(tài)。S卩，系統(tǒng)控制器30控制聚焦/跟蹤控制部14，該聚焦/跟蹤控制 部14成為不輸出跟蹤控制信號(hào)，只輸出聚焦控制信號(hào)的狀態(tài)(步驟S601)。
(2)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第一記錄層(L0層)照射 激光，在系統(tǒng)控制器30內(nèi)構(gòu)成微機(jī)32的一部分的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處 理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置FA。作為第一記錄層(LO層)的最 佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S602)。該所學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器 40。 (3)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第二記錄層(Ll層)照射 激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的 聚焦偏置FA1作為第二記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S603)。該 學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (4)在系統(tǒng)控制器30內(nèi)構(gòu)成微機(jī)32的一部分的聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根 據(jù)上述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。、FA1運(yùn)算并設(shè)定對(duì)于第一記錄層(LO層)的信息的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ。(步驟S606)。聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322 利用例如數(shù)學(xué)式2，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置^。加權(quán)(=相比于與聚焦 偏置Fm的差減小了與聚焦偏置Fa。的差)了的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定該聚焦偏置F『所 設(shè)定的該聚焦偏置FQ。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (5)聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322根據(jù)所學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。、FA1運(yùn)算并設(shè)定 第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ1 (步驟S607)。聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定 單元322利用例如數(shù)學(xué)式3，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相 比于與聚焦偏置Fa。的差減小了與聚焦偏置Fm的差)了的聚焦偏置而運(yùn)算并設(shè)定該聚焦偏 置F『設(shè)定的該聚焦偏置Fw被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (6)光盤裝置la中，系統(tǒng)控制器30開始上述設(shè)定的聚焦偏置FQ。、 FQ1的對(duì)于光盤 2的記錄或再現(xiàn)動(dòng)作(步驟S608)。光盤裝置la利用設(shè)定的聚焦偏置FQ。進(jìn)行第一記錄層 (LO層)的記錄或再現(xiàn)，利用設(shè)定的聚焦偏置Fw進(jìn)行第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)。
另外，在上述聚焦偏置的學(xué)習(xí)及運(yùn)算*設(shè)定中，所有的對(duì)第一記錄層(LO層)的處 理都比對(duì)第二記錄層(Ll層)的處理先進(jìn)行，但是，也可以對(duì)第二記錄層(Ll層)的處理先 進(jìn)行。 聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321及聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322分別根據(jù)存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器的 程序通過執(zhí)行上述一系列動(dòng)作步驟來進(jìn)行對(duì)于光盤2的上述聚焦偏置處理。
另外，光盤裝置la對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤2進(jìn)行聚焦偏置處理時(shí)，在圖6中， 在成為a、b間被連接的狀態(tài)的情況時(shí)， (1)首先，作為控制部的系統(tǒng)控制器30將光盤裝置la設(shè)定為跟蹤控制關(guān)(OFF)、 聚焦控制開(ON)的狀態(tài)。S卩，系統(tǒng)控制器30控制聚焦/跟蹤控制部14，該聚焦/跟蹤控制 部14成為不輸出跟蹤控制信號(hào)，而只輸出聚焦控制信號(hào)的狀態(tài)(步驟S601)。
(2)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第一記錄層(LO層)照射 激光，在系統(tǒng)控制器30內(nèi)構(gòu)成微機(jī)32的一部分的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處 理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置FA。作為第一記錄層(LO層)的最佳 聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S602)。該學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。
(3)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第二記錄層(Ll層)照射 激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的 聚焦偏置FA1作為第二記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S603)。該 學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (4)在系統(tǒng)控制器30內(nèi)構(gòu)成微機(jī)32的一部分的聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根 據(jù)上述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。、FA1運(yùn)算并設(shè)定第一記錄層(LO層) 及第二記錄層(Ll層)共同的聚焦偏置作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置(步驟S604)。聚 焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322利用例如數(shù)學(xué)式1，運(yùn)算該聚焦偏置F③，作為該兩個(gè)聚焦偏置 FA。、 FA1的平均值。所設(shè)定的該聚焦偏置FQe被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (5)在光盤裝置la中，系統(tǒng)控制器30開始上述設(shè)定的聚焦偏置FQe的對(duì)于光盤2 的記錄或再現(xiàn)動(dòng)作(步驟S605)。光盤裝置la利用聚焦偏置FQe進(jìn)行第一記錄層(LO層) 的記錄或再現(xiàn)，并且，第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)也按照該聚焦偏置F"進(jìn)行。
另外，在上述聚焦偏置的學(xué)習(xí)中，對(duì)第一記錄層(LO層)的學(xué)習(xí)比對(duì)第二記錄層(Ll層)的學(xué)習(xí)先進(jìn)行，但是，也可以先進(jìn)行對(duì)第二記錄層(Ll層)的學(xué)習(xí)。 對(duì)于光盤2的上述聚焦偏置處理，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321及聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定
單元322分別根據(jù)存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40的程序通過執(zhí)行上述一系列動(dòng)作步驟來進(jìn)行。 圖7是光盤2具有3層以上的記錄層，光盤裝置la對(duì)于該光盤2進(jìn)行聚焦偏置處
理時(shí)的說明圖。聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的聚焦偏置的學(xué)習(xí)仍然用推挽信號(hào)進(jìn)行。在圖7中，
橫軸取聚焦偏置F，縱軸取推挽信號(hào)振幅A。 在圖7中，A。為利用來自第一記錄層(L0層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理 部10輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線，A。max為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值， 即，振幅特性曲線A。上的最大值即第一記錄層(L0層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，F(xiàn)A。是通 過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦偏置，即，在振幅特性曲線A。上推挽信號(hào)振幅成為最 大時(shí)的聚焦偏置即從推挽信號(hào)學(xué)習(xí)的第一記錄層(L0層)的最佳聚焦偏置，^是利用來自 第二記錄層(Ll層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出的推挽信號(hào)的振幅特性 曲線，A^x為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值，振幅特性曲線^上的最大值即第 二記錄層(Ll層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，^為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦 偏置，在振幅特性曲線A上推挽信號(hào)振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置即從推挽信號(hào)學(xué)習(xí)的第二 記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置，4是利用來自第三記錄層(L2層)的引導(dǎo)槽的反射光從 再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線，4_為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué) 習(xí)的振幅值，振幅特性曲線4上的最大值即第三記錄層(L2層)的推挽信號(hào)振幅的最大值， FA2為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦偏置，在振幅特性曲線A2上推挽信號(hào)振幅成為 最大時(shí)的聚焦偏置即從推挽信號(hào)學(xué)習(xí)的第三記錄層(L2層)的最佳聚焦偏置。
另外，在圖7中，Q。為聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置(最佳聚焦 偏置)FA。、 FA1按照與聚焦偏置FA。的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述數(shù) 學(xué)式2運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán) (=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA。的差)了的聚焦偏置的位置，F(xiàn)。。為與 該位置Q。對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，Qla為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FA。、 FA1 按照與聚焦偏置Fm的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式，用上述數(shù)學(xué)式3運(yùn)算的 聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏 置FA。的差減小了與聚焦偏置FA1的差)了的聚焦偏置的位置，F(xiàn),為與該位置Qla對(duì)應(yīng)的聚 焦偏置，Qlb為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)聚焦偏置FA1、FA2按照與聚焦偏置FA1的差 成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式，用上述數(shù)學(xué)式2運(yùn)算的聚焦偏置的位置，即與光 學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FM側(cè)加權(quán)(二相比于與聚焦偏置F^的差減小了與聚 焦偏置FA1的差)了的聚焦偏置的位置，F(xiàn)心為與該位置Qlb對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，92為聚焦偏置 運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FA1、 FA2按照與聚焦偏置FA2的差成為與光學(xué)單元5 的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述數(shù)學(xué)式3運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的 特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA2側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA2的 差)了的聚焦偏置的位置，F(xiàn)Q2為與該位置Q2對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，9^為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定 單元322運(yùn)算并設(shè)定的上述聚焦偏置FQla、FQlb的平均值的聚焦偏置的位置，F(xiàn)^為與該位置 Qk對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。另外，在圖7中，在橫軸上設(shè)定為將第一記錄層(L0層)的聚焦偏置F =0的位置、第二記錄層(LI層)的聚焦偏置F = 0的位置、第三記錄層(L2層)的聚焦偏
17置F二O的位置重合的狀態(tài)。 圖8是圖7的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖。
在圖8中， (1)首先，作為控制部的系統(tǒng)控制器30將光盤裝置la設(shè)定為跟蹤控制關(guān)閉 (OFF)、聚焦控制開啟(ON)的狀態(tài)(步驟S801)。 (2)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第一記錄層(LO層)照射 激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的 聚焦偏置FA。作為第一記錄層(LO層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S802)。該 學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (3)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第二記錄層(Ll層)照射 激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的 聚焦偏置FA1作為第二記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S803)。該 所學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (4)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的第三記錄層(L2層)照射激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元 321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置FA2作為第三記 錄層(L2層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S804)。該學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA2 被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (5)聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的最佳聚 焦偏置FA。、F^運(yùn)算并設(shè)定第一記錄層(LO層)的信息的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F。。(步 驟S805)。聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322利用例如數(shù)學(xué)式2，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng) 并在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA。的差)了的 聚焦偏置而運(yùn)算該聚焦偏置FQ。。所設(shè)定的該聚焦偏置FQ。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。
(6)聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322根據(jù)上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。、FA1運(yùn)算第二 記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F^(步驟S806)。聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元 322利用例如數(shù)學(xué)式3，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于 與聚焦偏置Fa。的差減小了與聚焦偏置Fm的差)了的聚焦偏置而運(yùn)算該聚焦偏置F,。所 運(yùn)算的該聚焦偏置FQla被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (7)聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322根據(jù)上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1、FA2運(yùn)算第二 記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQlb(步驟S807)。聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單 元322利用例如數(shù)學(xué)式2，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FM側(cè)加權(quán)(=相比 于與聚焦偏置FA2的差減小了與聚焦偏置FA1的差)的聚焦偏置而運(yùn)算該聚焦偏置FQlb。但 是，在該運(yùn)算中，在數(shù)學(xué)式2中，"FA。"被置換成"FA1 "， "FA1"置換成"FA2"來進(jìn)行運(yùn)算。所運(yùn) 算的該聚焦偏置FQlb被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (8)聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322根據(jù)上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1、FA2運(yùn)算第三 記錄層(L2層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ2(步驟S808)。聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元 322利用例如數(shù)學(xué)式3，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA2側(cè)加權(quán)(=相比于 與聚焦偏置Fm的差減小了與聚焦偏置F^的差)的聚焦偏置而運(yùn)算該聚焦偏置F『但是， 在該運(yùn)算中，在數(shù)學(xué)式3中，"FA。"被置換成"FA1"， "FA1"被置換成"FA2"來進(jìn)行運(yùn)算。所設(shè) 定的該聚焦偏置FQ2被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。
(9)聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FQla、 FQlb將第二記錄層(LI 層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F^作為聚焦偏置F^、Fwb的平均值進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定(步 驟S809)。所設(shè)定的該聚焦偏置FQ1。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (10)在光盤裝置la中，系統(tǒng)控制器30利用上述設(shè)定的聚焦偏置FQ。、FQ1。、FQ2使對(duì) 于光盤2的信息的記錄或再現(xiàn)動(dòng)作開始(步驟S810)。光盤裝置la按照所設(shè)定的聚焦偏置 FQ。進(jìn)行相對(duì)于第一記錄層(L0層)的信息的記錄或再現(xiàn)，按照所設(shè)定的聚焦偏置F^進(jìn)行 相對(duì)于第二記錄層(Ll層)的信息的記錄或再現(xiàn)，按照所設(shè)定的聚焦偏置F"進(jìn)行相對(duì)于第 三記錄層(L2層)的信息的記錄或再現(xiàn)。 另外，在上述圖7、圖8的聚焦偏置的學(xué)習(xí)及運(yùn)算"設(shè)定中，聚焦偏置運(yùn)算"殳定單 元322相對(duì)于第二記錄層(Ll層)，運(yùn)算且設(shè)定作為聚焦偏置FQla、FQlb的平均值的聚焦偏置 FQ1。，但是，除此之外，也可以運(yùn)算且設(shè)定與這些聚焦偏置FQla、 FQlb的差成為與光學(xué)單元5的 特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置。另外，在上述圖7、圖8的聚焦偏置的學(xué)習(xí)及運(yùn)算"設(shè)定中，將處 理順序設(shè)定為對(duì)第一記錄層(L0層)進(jìn)行的處理，對(duì)第二記錄層(Ll層)進(jìn)行的處理，對(duì)第 三記錄層仏2層)進(jìn)行的處理，但是，處理順序不僅限于此。 對(duì)于光盤2的上述聚焦偏置處理，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321及聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定 單元322分別按照存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40的程序通過執(zhí)行上述步驟S801 步驟S809的一連串 動(dòng)作步驟來進(jìn)行。 圖9是光盤裝置la相對(duì)于光盤2具有三層以上的記錄層的該光盤2進(jìn)行和上述 圖7、圖8的情況不同的聚焦偏置處理時(shí)的說明圖。聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的聚焦偏置的學(xué) 習(xí)仍然用推挽信號(hào)進(jìn)行。在圖9中，橫軸取聚焦偏置F，縱軸取推挽信號(hào)振幅A。
在圖9中，A。為通過來自第一記錄層(L0層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理 部10輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線，A。max為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值， 振幅特性曲線A。上的最大值即第一記錄層(L0層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，F(xiàn)^是通過 聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦偏置，在振幅特性曲線A。上推挽信號(hào)振幅成為最大時(shí) 的聚焦偏置即從推挽信號(hào)學(xué)習(xí)的第一記錄層(L0層)的最佳聚焦偏置，^是利用來自第二 記錄層(k層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線， Almax為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的振幅值，振幅特性曲線A工上的最大值即第二記錄 層(Ll層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，F(xiàn)A1為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦偏置， 在振幅特性曲線A上推挽信號(hào)振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置即從推挽信號(hào)學(xué)習(xí)的第二記錄 層(Ll層)的最佳聚焦偏置，4是利用來自第三記錄層(L2層)的引導(dǎo)槽的反射光從再現(xiàn) 信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅特性曲線，4_為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的 振幅值，振幅特性曲線4上的最大值即第三記錄層(L2層)的推挽信號(hào)振幅的最大值，F(xiàn)A2 為通過聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的聚焦偏置，在振幅特性曲線A2上推挽信號(hào)振幅成為最 大時(shí)的聚焦偏置即從推挽信號(hào)學(xué)習(xí)的第三記錄層(L2層)的最佳聚焦偏置。
另外，在圖9中，Q。為聚焦偏置運(yùn)算《設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置(最佳聚焦 偏置)FA。、 FA1按照與聚焦偏置FA。的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述數(shù) 學(xué)式2運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán) (=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA。的差)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)。。為與該 位置Q。對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，Qla為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FA。、 FA1按照與聚焦偏置F^的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式，用上述數(shù)學(xué)式3運(yùn)算的聚 焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置 FA。的差減小了與聚焦偏置FA1的差)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)Qla為與該位置Qla對(duì)應(yīng)的聚焦偏 置，Qlb為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)聚焦偏置FA1、FA2按照與聚焦偏置FA1的差成為 與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的方式，用上述數(shù)學(xué)式2運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即與 光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FM側(cè)加權(quán)(二相比于與聚焦偏置F^的差減小了與 聚焦偏置FA1的差)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)心為與該位置Qlb對(duì)應(yīng)的聚焦偏置，92為聚焦偏置 運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置FA1、 FA2按照與聚焦偏置FA2的差成為與光學(xué)單元5 的特性對(duì)應(yīng)的值的方式用上述數(shù)學(xué)式3運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置的位置，即與光學(xué)單元5的 特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA2側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA2的 差)的聚焦偏置的位置，F(xiàn)①為與該位置Q2對(duì)應(yīng)的聚焦偏置。另外，在圖9中也和圖7時(shí)同 樣，在橫軸上將第一記錄層(L0層)的聚焦偏置F二0的位置、第二記錄層(Ll層)的聚焦 偏置F = 0的位置、第三記錄層(L2層)的聚焦偏置F = 0的位置重合。
圖10是圖9的聚焦偏置處理的動(dòng)作流程圖。
在圖10中， (1)作為控制部的系統(tǒng)控制器30將光盤裝置la設(shè)定為跟蹤控制關(guān)閉(OFF)、聚焦 控制開啟(ON)的狀態(tài)(步驟S1001)。 (2)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第一記錄層(L0層)照射 激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的 聚焦偏置FA。作為第一記錄層(L0層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S1002)。該 學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (3)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的相互鄰接的記錄層中的第二記錄層(Ll層)照射 激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的 聚焦偏置F^作為第二記錄層(Ll層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S1003)。該 學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (4)從光學(xué)單元5向光盤2內(nèi)的第三記錄層(L2層)照射激光，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元 321將從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置FA2作為第三記 錄層(L2層)的最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))(步驟S1004)。該學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA2 被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (5)聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)上述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)的最佳 聚焦偏置FA。、 FA1運(yùn)算并設(shè)定第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F。。(步驟 S1005)。聚焦偏置運(yùn)算《設(shè)定單元322利用例如數(shù)學(xué)式2，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并 在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA。的差)的聚焦 偏置而運(yùn)算并設(shè)定該聚焦偏置FQ。。所設(shè)定的該聚焦偏置FQ。被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。
(6)聚焦偏置運(yùn)算"設(shè)定單元322根據(jù)上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置F,FM，利用例如 數(shù)學(xué)式3，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA。 的差減小了與聚焦偏置Fm的差)聚焦偏置來運(yùn)算聚焦偏置F,，并且，根據(jù)上述所學(xué)習(xí)的最 佳聚焦偏置F『F^運(yùn)算并設(shè)定第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置Fwb(步 驟S1006)。聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322利用例如數(shù)學(xué)式2，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA2的差減小了與聚焦偏置FA1的差)的 聚焦偏置來運(yùn)算該聚焦偏置Fwb。但是，在該運(yùn)算中，在數(shù)學(xué)式2中，"Fa。"被置換成"Fm"， "FM"被置換成"F^"來進(jìn)行運(yùn)算。所運(yùn)算的該聚焦偏置F心被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。另外，上 述運(yùn)算的聚焦偏置FQla比聚焦偏置FQlb更位于激光入射側(cè)(配置物鏡5a的側(cè))，因此，作為 第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置不被采用。因此，該聚焦偏置F,不存 儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (7)聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322根據(jù)上述學(xué)習(xí)的最佳聚焦偏置FA1、FA2運(yùn)算第三 記錄層(L2層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ2(步驟S1007)。聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單 元322利用例如數(shù)學(xué)式3，作為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)并在聚焦偏置F^側(cè)加權(quán)(=相比 于與聚焦偏置FA1的差減小了與聚焦偏置FA2的差)的聚焦偏置來運(yùn)算該聚焦偏置FQ2。但 是，在該運(yùn)算中，在數(shù)學(xué)式3中，"FA。"被置換成"FA1 "， "FA1"被置換成"FA2"來進(jìn)行運(yùn)算。所 設(shè)定的該聚焦偏置FQ2被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 (8)在光盤裝置la中，系統(tǒng)控制器30按照上述設(shè)定的聚焦偏置FQ。、 FQlb、 FQ2使對(duì) 于光盤2的記錄或再現(xiàn)動(dòng)作開始(步驟S1008)。光盤裝置la按照設(shè)定的聚焦偏置FQ。進(jìn)行 第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)，按照設(shè)定的聚焦偏置F心進(jìn)行第二記錄層(Ll層)的 記錄或再現(xiàn)，按照設(shè)定的聚焦偏置F"進(jìn)行第三記錄層(L2層)的記錄或再現(xiàn)。
另外，在上述圖9、圖10的聚焦偏置的學(xué)習(xí)及運(yùn)算 設(shè)定中，處理順序被設(shè)定為對(duì) 第一記錄層(LO層)進(jìn)行的處理，對(duì)第二記錄層(Ll層)進(jìn)行的處理，對(duì)第三記錄層(L2層) 進(jìn)行的處理，但是，處理順序不僅限于此。 對(duì)于光盤2的上述聚焦偏置處理，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321及聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定 單元322分別按照存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40的程序通過執(zhí)行上述步驟S1001 步驟S1007的一系 列動(dòng)作步驟來進(jìn)行。 根據(jù)作為本發(fā)明的第一實(shí)施例的光盤裝置la，能夠從推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的最大 振幅的學(xué)習(xí)結(jié)果直接運(yùn)算*設(shè)定相互鄰接的記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，因此，能 夠縮短對(duì)于光盤2的多個(gè)記錄層的聚焦偏置處理時(shí)間，能夠在短時(shí)間內(nèi)開始記錄或再現(xiàn)動(dòng) 作。另外，利用推挽信號(hào)和擺頻信號(hào)等記錄面的引導(dǎo)槽的槽信息進(jìn)行聚焦偏置的學(xué)習(xí)，因 此，在記錄結(jié)束狀態(tài)的記錄層(包括再現(xiàn)專用光盤)和未記錄狀態(tài)的記錄層中也能夠進(jìn)行 聚焦偏置的學(xué)習(xí)，能夠?qū)崿F(xiàn)聚焦偏置處理精度的提高。 另外，在上述實(shí)施例中，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322在將對(duì)于在光盤2內(nèi)相互 鄰接的第一記錄層(LO層)、第二記錄層(Ll層)共同的聚焦偏置作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的 聚焦偏置而運(yùn)算 設(shè)定時(shí)，聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321利用數(shù)學(xué)式1運(yùn)算且設(shè)定學(xué)習(xí)的聚焦偏 置4、 FA1的平均值(Fa。+FJ/2，但是，除此之外，也可以例如與光學(xué)単元5的特性對(duì)應(yīng)，利 用(mXFA。+nXFA1)/(m+n)運(yùn)算且設(shè)定該平均值以外的聚焦偏置即與各記錄層的最佳聚焦 偏置^。、Fm的差不同的共同的聚焦偏置。但是，m、n分別為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)而確 定的系數(shù)。另外，在圖7所示的實(shí)施例中，將第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦 偏置FQ1。作為聚焦偏置FQla、FQlb的平均值進(jìn)行了運(yùn)算并設(shè)定(步驟S809)，但是，除此之外， 也可以例如與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)，作為與聚焦偏置FQla、 FQlb的差不同的共同的聚焦偏 置運(yùn)算并設(shè)定該聚焦偏置FQ1。。 另外，在上述實(shí)施例中敘述了下述的例子，光盤2具有3層以上的記錄層的情況下，光盤裝置la對(duì)于該光盤2的至少第一、第二、第三記錄層實(shí)施的聚焦偏置處理，但是，光 盤裝置la還對(duì)光盤2的除此以外的記錄層進(jìn)行基本和這些同樣的聚焦偏置處理。S卩，對(duì)于 相互鄰接的記錄層，從基于來自形成于記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)光 學(xué)單元相對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏置，根據(jù)該學(xué)習(xí)結(jié)果，演算且設(shè)定記錄或再現(xiàn) 時(shí)用的聚焦偏置。 圖11 圖13是作為本發(fā)明的第二實(shí)施例的光盤裝置的說明圖。本第二實(shí)施例為 根據(jù)裝置內(nèi)的溫度變化運(yùn)算 設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的光學(xué)單元的聚焦偏置的構(gòu)成的情況。 圖ll是作為本發(fā)明的第二實(shí)施例的光盤裝置的構(gòu)成圖，圖12是表示光盤裝置的光學(xué)單元 的聚焦偏置的溫度特性例的圖，圖13是表示通過圖11的光盤裝置改善了圖12的溫度特性 時(shí)的狀態(tài)的圖。 另外，在以下的說明中應(yīng)用的"記錄層"和上述第一實(shí)施例時(shí)同樣，為信息被記錄 的層(記錄層)，即意味著是包括記錄有信息的記錄層(也包括再現(xiàn)專用盤的記錄層、可記 錄盤的記錄層)，另外，還有尚未記錄信息但是能夠記錄信息的記錄層(該情況為可記錄盤 的記錄層)。 在圖11中，lb是作為本發(fā)明實(shí)施例的光盤裝置；2是具有多個(gè)記錄層的0￥0+/-尺 DL等光盤；3是旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)光盤2的盤電動(dòng)機(jī)；4是光拾取器；5在光拾取器4內(nèi)，是含有物鏡 (未圖示)而構(gòu)成，將激光聚光，使該聚光了的激光向光盤2的記錄面照射的光學(xué)單元；6在 光拾取器4內(nèi)，是為了記錄或再現(xiàn)而產(chǎn)生規(guī)定的強(qiáng)度的激光的激光二極管；7在光拾取器4 內(nèi)，是驅(qū)動(dòng)激光二極管6的激光驅(qū)動(dòng)電路；8在光拾取器4內(nèi)，是經(jīng)由光學(xué)單元5接受來自 光盤2的記錄面(盤面)的反射光并切換為電信號(hào)(再現(xiàn)信號(hào))而輸出的受光部；9是改 變光學(xué)單元5中的物鏡(未圖示)的位置及姿勢(shì)的致動(dòng)器；20是作為檢測(cè)光盤裝置lb內(nèi) 的溫度的溫度檢測(cè)模塊的溫度傳感器；10是將從受光部8輸出的再現(xiàn)信號(hào)作為RF信號(hào)進(jìn) 行增幅或解調(diào)等而進(jìn)行信號(hào)處理的再現(xiàn)信號(hào)處理部；11是具備直線狀的引導(dǎo)部件(未圖 示)和導(dǎo)向螺桿部件(未圖示)等而構(gòu)成，使光拾取器4向光盤2的大致半徑方向移動(dòng)的 移動(dòng) 引導(dǎo)機(jī)構(gòu)部12是在移動(dòng) 引導(dǎo)機(jī)構(gòu)部11內(nèi)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)導(dǎo)向螺桿部件(未圖示)的 滑動(dòng)電動(dòng)機(jī)；14是生成驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器9的驅(qū)動(dòng)信號(hào)的聚焦/跟蹤控制部；15是旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)盤電 動(dòng)機(jī)3和滑動(dòng)電動(dòng)機(jī)12的電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電路；30是控制該光盤裝置la整體的作為控制部的 系統(tǒng)控制器；31是在系統(tǒng)控制器30內(nèi)控制電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)電路15的電動(dòng)機(jī)控制部；32是系統(tǒng) 控制器30內(nèi)的微機(jī)；321是構(gòu)成在微機(jī)32內(nèi)，作為第一控制模塊的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元，上 述第一控制模塊由自再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出的信號(hào)學(xué)習(xí)(檢測(cè))上述光學(xué)單元5的最佳 聚焦偏置(在最適合范圍的聚焦偏置即在滿足有效構(gòu)成本發(fā)明的適當(dāng)范圍內(nèi)的聚焦偏置 的意思。以下的說明中的"最佳聚焦偏置"全部是該意思)；322構(gòu)成在微機(jī)32內(nèi)，是作為 第二控制模塊的聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元，上述第二控制模塊根據(jù)上述聚焦偏置學(xué)習(xí)單元 321學(xué)習(xí)了的最佳聚焦偏置和上述溫度傳感器20檢測(cè)出的溫度信息，運(yùn)算并設(shè)定記錄或再 現(xiàn)時(shí)用的上述光學(xué)單元5的聚焦偏置。作為上述第一控制模塊的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321在 上述最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)，根據(jù)自再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的信號(hào)即來自形成于光盤2的 多個(gè)記錄層中、相互鄰接的記錄層的各記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)(檢測(cè))光學(xué) 單元5對(duì)于各個(gè)該引導(dǎo)槽的最佳聚焦偏置。溫度傳感器20在光拾取器4內(nèi)配置于激光二 極管6的附近，將激光二極管6的周邊的溫度作為光盤裝置lb內(nèi)的溫度進(jìn)行檢測(cè)。
另外，在圖11中，33是生成并輸出用于驅(qū)動(dòng)激光二極管6的記錄用信號(hào)的記錄用 信號(hào)生成部；40是存儲(chǔ)器，其存儲(chǔ)光學(xué)單元5的特性信息、聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)了 的鄰接的各記錄層的最佳聚焦偏置的信息、聚焦偏置運(yùn)算，設(shè)定單元322運(yùn)算*設(shè)定的記錄 或再現(xiàn)時(shí)用的上述光學(xué)單元5的聚焦偏置的信息、在聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321上執(zhí)行上述學(xué) 習(xí)動(dòng)作的一系列步驟的程序、在上述聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322上執(zhí)行上述運(yùn)算 設(shè)定 動(dòng)作的一系列步驟的程序等。光學(xué)單元5的特性信息、上述學(xué)習(xí)動(dòng)作執(zhí)行用的程序、上述運(yùn) 算 設(shè)定動(dòng)作執(zhí)行用的程序在聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321進(jìn)行的最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)動(dòng)作前， 預(yù)先存儲(chǔ)于存儲(chǔ)器40。 在進(jìn)行聚焦偏置處理時(shí)，再現(xiàn)信號(hào)處理部10在上述最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)，作為 基于來自形成于相互鄰接的多個(gè)記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，輸出推挽信號(hào) 或擺頻信號(hào)。 作為第一控制模塊的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321構(gòu)成為，在最佳聚焦偏置的學(xué)習(xí)時(shí)， 應(yīng)用從上述再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)，作為相對(duì)于相互鄰接的多個(gè) 記錄層的各引導(dǎo)槽的各最佳聚焦偏置，學(xué)習(xí)(檢測(cè))上述推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為 最大(意味著處于實(shí)際的最大范圍內(nèi)的值的意思，含有真正的最大值，例如，意思是處于真 正的最大值95%以上的范圍的值。以下，推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅的"最大"或"最大值" 就是該意思)的聚焦偏置。利用推挽信號(hào)學(xué)習(xí)最佳聚焦偏置時(shí)，跟蹤控制成為關(guān)閉(OFF) 狀態(tài)，利用擺頻信號(hào)學(xué)習(xí)最佳聚焦偏置時(shí)，跟蹤控制成為開啟(ON)狀態(tài)。聚焦偏置學(xué)習(xí)單 元321根據(jù)從存儲(chǔ)器40讀出的程序，執(zhí)行最佳聚焦偏置學(xué)習(xí)動(dòng)作中的規(guī)定的步驟。
作為第二控制模塊的聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322，運(yùn)算*設(shè)定用于在相互鄰接的 多個(gè)記錄層上記錄或再現(xiàn)信息時(shí)的聚焦偏置時(shí)，根據(jù)上述溫度傳感器20檢測(cè)出的溫度，運(yùn) 算該多個(gè)記錄層的各最佳聚焦偏置即上述推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏 置的平均值(平均的聚焦偏置)，并將該計(jì)算到的平均值作為記錄或再現(xiàn)時(shí)的該兩個(gè)記錄 層共同的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定，或，運(yùn)算與聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)到的各記錄層的最佳 聚焦偏置的差成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置即與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)且 在每一個(gè)記錄層加權(quán)的聚焦偏置，并將該運(yùn)算的聚焦偏置作為上述相互鄰接的多個(gè)記錄層 的各層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置對(duì)每個(gè)該記錄層分別設(shè)定。 應(yīng)用聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的學(xué)習(xí)結(jié)果運(yùn)算且設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的上述平均 的聚焦偏置時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322如下進(jìn)行該聚焦偏置的設(shè)定。S卩，例如，在從 激光入射側(cè)(配置著光學(xué)單元5的側(cè))配置有第一記錄層(L0層)、第二記錄層(Ll層) 時(shí)，上述溫度傳感器20檢測(cè)出的溫度為相對(duì)的低溫(=第一溫度)時(shí)，例如，該溫度(第一 溫度)為0t: 25t:的范圍內(nèi)的溫度時(shí)，通過對(duì)于該第一記錄層(LO層)的聚焦偏置學(xué)習(xí) 單元的321的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏置而得到F^另外， 通過對(duì)于該第二記錄層(Ll層)的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦 偏置而得到FA1時(shí)，對(duì)第一記錄層(L0層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ。及第二記錄層 (Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置Fw，將按照
FQ。 = FQ1 = (FA。+FA1) /2 (數(shù)學(xué)式4) 進(jìn)行運(yùn)算后的值作為該第一記錄層(LO層)及該第二記錄層(Ll層)共同的聚焦 偏置(記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置)FQC(圖3)進(jìn)行設(shè)定。
另外，在上述溫度傳感器20檢測(cè)出的溫度為相對(duì)高溫(=第二溫度)時(shí)，例如，該溫度為5(TC 65t:范圍內(nèi)的溫度時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算，設(shè)定單元322應(yīng)用由聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321得到的學(xué)習(xí)結(jié)果且對(duì)應(yīng)于光學(xué)單元5的特性按照每一個(gè)鄰接記錄層的各個(gè)運(yùn)算并設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置。即，例如，在從激光入射側(cè)以第一記錄層(L0層)、第二記錄層(Ll層)的順序配置記錄層時(shí)，通過對(duì)于該第一記錄層(LO層)的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏置而得到F^另外，通過對(duì)于該第二記錄層(Ll層)的學(xué)習(xí)，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大的聚焦偏置而得到F^時(shí)，作為第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F。。，設(shè)定由
FQ0 = (3 X FA0+FA1) /4 (數(shù)學(xué)式2) 運(yùn)算的值，另外，作為第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置Fw，設(shè)定
由 FQ1 = (FA。+3 X FA1) /4 (數(shù)學(xué)式3)
運(yùn)算的值。 聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322根據(jù)從存儲(chǔ)器40讀出的程序，執(zhí)行運(yùn)算 設(shè)定記錄或再現(xiàn)動(dòng)作用的上述光學(xué)單元5的上述聚焦偏置的動(dòng)作步驟。 在上述結(jié)構(gòu)的光盤裝置lb中，在對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤2進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)時(shí)，例如在光盤2被裝入裝置內(nèi)且以規(guī)定的速度旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，光拾取器4內(nèi)的激光二極管6產(chǎn)生的激光通過光學(xué)單元5向光盤2的多個(gè)記錄層的記錄面照射，進(jìn)行相對(duì)于多個(gè)記錄層的聚焦偏置處理。相互鄰接的記錄層的各層，利用形成于該各記錄層的引導(dǎo)槽的槽信息(表示槽的構(gòu)造和狀態(tài)的信息)來進(jìn)行聚焦偏置處理在。即，對(duì)于相互鄰接的記錄層的各層，用受光部8接受來自形成于記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光并切換為電信號(hào)(再現(xiàn)信號(hào))，作為推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出。聚焦偏置處理時(shí)，在形成從再現(xiàn)信號(hào)處理部IO輸出推挽信號(hào)的構(gòu)成的情況下，在光盤裝置lb中，不進(jìn)行跟蹤控制，而從聚焦/跟蹤控制部14只輸出聚焦控制信號(hào)。另一方面，在形成從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出擺頻信號(hào)的構(gòu)成的情況下，也進(jìn)行跟蹤控制，從聚焦/跟蹤控制部14輸出聚焦控制信號(hào)和跟蹤控制信號(hào)。作為相互鄰接的各記錄層的引導(dǎo)槽的槽信息，從再現(xiàn)信號(hào)處理部10輸出的該推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)被輸入微機(jī)32內(nèi)的聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321內(nèi)。聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321在相互鄰接的記錄層的各層中，將該輸入的推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大時(shí)的聚焦偏置作為最佳聚焦偏置進(jìn)行學(xué)習(xí)(檢測(cè))。微機(jī)32內(nèi)的聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322，根據(jù)來自溫度傳感器20的溫度信息，如上所述，運(yùn)算聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)到的相互鄰接的記錄層的各層的最佳聚焦偏置的平均值或與該學(xué)習(xí)到的各最佳聚焦偏置的差，成為與光學(xué)單元5的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置，作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的上述光學(xué)單元的聚焦偏置而設(shè)定。 在上述第二實(shí)施例中，在上述溫度傳感器20檢測(cè)出的溫度為相對(duì)高溫(=第二溫度)時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算"設(shè)定單元322，通過數(shù)學(xué)式2，運(yùn)算且設(shè)定光盤2內(nèi)的第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F。。作為在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán)(二相比于與聚焦偏置Fm的差減小了與聚焦偏置Fa。的差)的聚焦偏置，通過數(shù)學(xué)3，運(yùn)算且設(shè)定第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ1作為在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)(=相比于與聚焦偏置FA。的差減小了與聚焦偏置FA1的差)的聚焦偏置，但是，除此之外，也可以例如與光學(xué)單元5的特
24性對(duì)應(yīng)，利用(mXFA。+nXFA1)/(m+n)運(yùn)算且設(shè)定與各記錄層的最佳聚焦偏置FA。、FA1的差不同的共同的聚焦偏置。其中，m、n分別為與光學(xué)單元5的特性相對(duì)應(yīng)而確定的系數(shù)。
下面，對(duì)于說明中使用的圖11的光盤裝置lb的構(gòu)成要素標(biāo)記和圖11的情況同樣的符號(hào)。 圖12是表示光盤裝置lb的光學(xué)單元5的聚焦偏置的溫度特性的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖，為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322未進(jìn)行基于來自溫度傳感器20的溫度信息的處理動(dòng)作的情況(對(duì)溫度非對(duì)應(yīng)的情況)。 在圖12中，橫軸是在傳感器20的位置測(cè)定的光盤裝置lb的裝置內(nèi)溫度tCC )，縱軸是記錄或再現(xiàn)時(shí)用的光學(xué)單元5的聚焦偏置F(XO. 05 m)。在圖12中，F(xiàn)Q。為對(duì)溫度非對(duì)應(yīng)時(shí)的光盤2的第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，F(xiàn)w為對(duì)溫度非對(duì)應(yīng)時(shí)的光盤2的第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，F(xiàn)。。為常溫(25°C)時(shí)，根據(jù)聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)到的最佳聚焦偏置，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322利用數(shù)學(xué)式2進(jìn)行運(yùn)算'設(shè)定的聚焦偏置，F(xiàn)w為常溫(25°C)時(shí)，根據(jù)聚焦偏置學(xué)習(xí)單元321學(xué)習(xí)到的最佳聚焦偏置，聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322利用數(shù)學(xué)式3進(jìn)行運(yùn)算 設(shè)定的聚焦偏置。其結(jié)果是，在裝置內(nèi)溫度t從常溫(25°C)降低且成為Ot:時(shí)，聚焦偏置F中F。。、Fw都增大，尤其是F。。，與基準(zhǔn)值(F = 0)的偏差量大，約為4X0.05ym。另外，裝置內(nèi)溫度t從常溫(25°C )上升且成為55t:時(shí)，聚焦偏置F中FQ。減少，F(xiàn)w增大，F(xiàn)。。、F^都與基準(zhǔn)值(F =0)進(jìn)一步接近，F(xiàn)Q。、FQ1間的差也縮小。 圖13是表示光盤裝置lb的光學(xué)單元5的聚焦偏置的溫度特性的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖，為聚焦偏置運(yùn)算 設(shè)定單元322基于來自溫度傳感器20的溫度信息進(jìn)行處理動(dòng)作的情況(對(duì)溫度非對(duì)應(yīng)的情況)。 在圖13中，橫軸及縱軸與圖12的情況同樣。在圖13中，F(xiàn)。。為對(duì)溫度對(duì)應(yīng)時(shí)的光盤2的第一記錄層(L0層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，F(xiàn)w為對(duì)溫度對(duì)應(yīng)時(shí)的光盤2的第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置。聚焦偏置運(yùn)算"殳定單元322作為基于來自溫度傳感器20的溫度信息的處理動(dòng)作，在裝置內(nèi)溫度為包括常溫的相對(duì)的低溫(=第一溫度)時(shí)，例如在0°C 25t:時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算*設(shè)定單元322利用數(shù)學(xué)式4運(yùn)算光盤2內(nèi)的第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F。。和第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置Fw，將該計(jì)算到的值作為第一記錄層(LO層)及第二記錄層(Ll層)的共同的聚焦偏置(記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置)F。c(圖3)進(jìn)行設(shè)定。另外，在裝置內(nèi)溫度為相對(duì)的高溫(=第二溫度)時(shí)，例如在55t:時(shí)，聚焦偏置運(yùn)算'設(shè)定單元322利用數(shù)學(xué)式2運(yùn)算光盤2內(nèi)的第一記錄層(LO層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置F。。，作為在聚焦偏置FA。側(cè)加權(quán)了的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算且設(shè)定，利用數(shù)學(xué)式3運(yùn)算第二記錄層(Ll層)的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置FQ1，作為在聚焦偏置FA1側(cè)加權(quán)了的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算且設(shè)定。其結(jié)果是，在裝置內(nèi)溫度t從常溫(25°C)降低且成為Ot:時(shí)，聚焦偏置F中F。。、Fw都增大，但是，與基準(zhǔn)值(F = 0)的偏差的量小，約為2X0.05ym。另外，裝置內(nèi)溫度t從常溫(25°C )上升且成為55t:時(shí)，聚焦偏置F與常溫(25°C)時(shí)相比，F(xiàn)。。增大，F(xiàn)w不變，F(xiàn)。。、F^與基準(zhǔn)值(F = 0)的偏差量都小，約為0 1X0. 05iim。因此，裝置內(nèi)溫度t向低溫側(cè)變化時(shí)，或，向高溫側(cè)變化時(shí)，F(xiàn)。。、Fw也都能夠?qū)⑴c基準(zhǔn)值(F = 0)的偏差量設(shè)定為約2X0.05ym以內(nèi)，能夠抑制裝置內(nèi)溫度t對(duì)聚焦偏置F的影響。另外，作為光學(xué)單元5的聚焦偏置的溫度特
25性的主要原因，可以考慮光學(xué)單元5自身的溫度特性、光學(xué)單元5的支承部的溫度特性、光盤2的溫度特性、光盤2的支承部的溫度特性等，但尚未確認(rèn)。 另外，在上述說明中，將上述第一溫度范圍設(shè)為0°C 25t:，將上述第二溫度范圍設(shè)為50°C 65t:，但是，在上述光盤裝置lb中，該第一溫度的溫度范圍和該第二溫度的溫度范圍對(duì)應(yīng)于光學(xué)單元5的聚焦偏置的溫度特性進(jìn)行預(yù)先設(shè)定。 根據(jù)作為本發(fā)明的第二實(shí)施例的光盤裝置lb，從推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的最大振幅的學(xué)習(xí)結(jié)果能夠直接地運(yùn)算*設(shè)定相互鄰接的記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，因此，能夠縮短對(duì)光盤2的多個(gè)記錄層的聚焦偏置的處理時(shí)間，能夠在短時(shí)間內(nèi)開始記錄或再現(xiàn)動(dòng)作。另外，能夠抑制裝置內(nèi)溫度對(duì)聚焦偏置的影響。另外，利用推挽信號(hào)和擺頻信號(hào)等記錄面的引導(dǎo)槽的槽信息進(jìn)行聚焦偏置的學(xué)習(xí)，因此，在記錄結(jié)束狀態(tài)的記錄層(包括再現(xiàn)專用光盤)和未記錄狀態(tài)的記錄層中也能夠進(jìn)行聚焦偏置的學(xué)習(xí)，能夠?qū)崿F(xiàn)聚焦偏置處理精度的提高。 以上，對(duì)本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行了列舉和說明，但是需要理解的是，對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行允許的變更和改進(jìn)將不會(huì)脫離本發(fā)明的范圍。因此，本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，所有落入附屬權(quán)利要求書的范圍內(nèi)的變更和改進(jìn)均將被本發(fā)明所覆蓋。
權(quán)利要求
一種光盤裝置，對(duì)于具有三層以上的多個(gè)記錄層的光盤能夠進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)，其特征在于，包括光學(xué)單元，將激光聚光而照射在所述記錄層；和控制部，對(duì)于所述光盤的相互鄰接的記錄層即從所述光學(xué)單元側(cè)以第一記錄層、第二記錄層、第三記錄層的順序配置的各記錄層，從根據(jù)來自形成于記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)學(xué)習(xí)所述光學(xué)單元對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏置，所述第一記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，從所述學(xué)習(xí)的第一、第二記錄層的聚焦偏置運(yùn)算與該學(xué)習(xí)的第一記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置，所述第三記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，從所述學(xué)習(xí)的第二、第三記錄層的聚焦偏置運(yùn)算與該學(xué)習(xí)的第三記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置，所述第二記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，運(yùn)算所述學(xué)習(xí)的第一、第二及第三記錄層的聚焦偏置的平均值或從所述學(xué)習(xí)的第二、第三記錄層的聚焦偏置運(yùn)算與該學(xué)習(xí)的第二記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置，設(shè)定各運(yùn)算結(jié)果。
2. —種光盤裝置，對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤能夠進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)，其特征在 于，包括光學(xué)單元，將激光聚光而照射在所述記錄層；第一控制模塊，對(duì)于所述光盤的相互鄰接的記錄層的各層，從根據(jù)來自形成于記錄層 的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)所述光學(xué)單元對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏 置；和第二控制模塊，根據(jù)所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置，運(yùn)算并設(shè)定記錄 或再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置， 所述第二控制模塊中，在所述多個(gè)記錄層從所述光學(xué)單元側(cè)以第一記錄層、第二記錄層、第三記錄層的順序 配置時(shí)，從學(xué)習(xí)的所述第一記錄層的聚焦偏置和學(xué)習(xí)的所述第二記錄層的聚焦偏置，運(yùn)算與該 第一記錄層的該學(xué)習(xí)的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的第一聚焦偏 置、和與該第二記錄層的該學(xué)習(xí)的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的第 二聚焦偏置，并且，從所述學(xué)習(xí)的所述第二記錄層的所述聚焦偏置和所述學(xué)習(xí)的所述第三記錄層的 聚焦偏置，運(yùn)算與該第二記錄層的該學(xué)習(xí)的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng) 的值的第三聚焦偏置、和與該第三記錄層的該學(xué)習(xí)的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的 特性對(duì)應(yīng)的值的第四聚焦偏置，進(jìn)而，從所述運(yùn)算的第二聚焦偏置和第三聚焦偏置，運(yùn)算該兩個(gè)聚焦偏置的平均值即 第五聚焦偏置或與該兩個(gè)聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的第六聚焦 偏置，作為記錄或再現(xiàn)時(shí)的聚焦偏置，對(duì)于所述第一記錄層設(shè)定所述第一聚焦偏置，對(duì)于所 述第二記錄層設(shè)定所述第五聚焦偏置或所述第六聚焦偏置，對(duì)于所述第三記錄層設(shè)定所述 第四聚焦偏置。
3. —種光盤裝置，對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤能夠進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)，其特征在于，包括光學(xué)單元，將激光聚光而照射在所述記錄層；第一控制模塊，對(duì)于所述光盤的相互鄰接的記錄層的各層，從根據(jù)來自形成于記錄層 的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)所述光學(xué)單元對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏 置；第二控制模塊，根據(jù)所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置，運(yùn)算并設(shè)定記錄 或再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置，在所述光盤內(nèi)，多個(gè)記錄層從所述光學(xué)單元側(cè)以第一記錄層、第二記錄層、第三記錄層 的順序進(jìn)行配置時(shí)，所述第二控制模塊中，從學(xué)習(xí)的所述第一記錄層的聚焦偏置和學(xué)習(xí)的所述第二記錄層的聚焦偏置，運(yùn)算與所 述學(xué)習(xí)的第一記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的第一聚焦偏 置，將該運(yùn)算的第一聚焦偏置設(shè)定為第一記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置，并且，從學(xué)習(xí)的所述第二記錄層的聚焦偏置和學(xué)習(xí)的所述第三記錄層的聚焦偏置，運(yùn) 算與所述學(xué)習(xí)的第二記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的第二 聚焦偏置、和與所述學(xué)習(xí)的第三記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的 值的第三聚焦偏置，將該運(yùn)算的第二聚焦偏置設(shè)定為第二記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦 偏置，將該運(yùn)算的第三聚焦偏置設(shè)定為第三記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置。
4. 如權(quán)利要求2所述的光盤裝置，其特征在于，將所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的所述鄰接的記錄層中的第一記錄層的聚焦偏置設(shè)為F^將 第二記錄層的聚焦偏置設(shè)為F『將第三記錄層的聚焦偏置設(shè)為F『將所述第二控制模塊的 作為所述第一記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為F。。、同 樣將作為所述第二記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為 F^、同樣將作為所述第三記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算且設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為Fq2吋，所述第二控制模塊通過 FQ0= (3XFA0+FA1)/4FQlc = {(FA。+3 X FA1) /4+ (3 X FA1+FA2) /4} /2 FQ2= (FA1+3XFA2)/4 運(yùn)算并設(shè)定FQ。、FQ1。、FQ2。
5. 如權(quán)利要求3所述的光盤裝置，其特征在于，將所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的所述鄰接的記錄層中的第一記錄層的聚焦偏置設(shè)為F^將 第二記錄層的聚焦偏置設(shè)為F『將第三記錄層的聚焦偏置設(shè)為F『將所述第二控制模塊的 作為所述第一記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為F。。、同 樣將作為所述第二記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為 F心、同樣將作為所述第三記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為Fq2吋，所述第二控制模塊通過 FQ0= (3XFA0+FA1)/4FQlb= (3XFA1+FA2)/4 FQ2= (FA1+3XFA2)/4 運(yùn)算并設(shè)定FQ。、FQlb、FQ2。
6. —種光盤裝置，對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤能夠進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)，其特征在 于，包括光學(xué)單元，將激光聚光而照射在所述記錄層； 溫度檢測(cè)模塊，檢測(cè)該光盤裝置內(nèi)的溫度；控制部，對(duì)于所述光盤的相互鄰接的記錄層的各層，從根據(jù)來自形成于記錄層的記錄 面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)所述光學(xué)單元對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏置，根 據(jù)該學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置和所述溫度檢測(cè)模塊檢測(cè)出的溫度信息，運(yùn)算并設(shè)定記錄 或再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置。
7. —種光盤裝置，對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤能夠進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)，其特征在 于，包括光學(xué)單元，將激光聚光而照射在所述記錄層； 溫度檢測(cè)模塊，檢測(cè)該光盤裝置內(nèi)的溫度；第一控制模塊，對(duì)于所述光盤的相互鄰接的記錄層的各層，從根據(jù)來自形成于記錄層 的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)所述光學(xué)單元對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏 置；第二控制模塊，根據(jù)所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置和所述溫度檢測(cè)模 塊檢測(cè)出的溫度信息，運(yùn)算并設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置。
8. 如權(quán)利要求7所述的光盤裝置，其特征在于所述第一控制模塊使用推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)作為基于所述反射光的信號(hào)，作為對(duì)于所 述各引導(dǎo)槽的各聚焦偏置，學(xué)習(xí)所述推挽信號(hào)或擺頻信號(hào)的振幅成為最大范圍的振幅的聚 焦偏置。
9. 如權(quán)利要求7所述的光盤裝置，其特征在于在所述溫度檢測(cè)模塊檢測(cè)出的溫度為相對(duì)低溫的第一溫度時(shí)，所述第二控制模塊運(yùn)算 所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的平均值，在所述溫度檢測(cè)模塊檢測(cè)出的溫 度為相對(duì)高溫的第二溫度時(shí)，所述第二控制模塊運(yùn)算與所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的各記錄層 的聚焦偏置的差不同的聚焦偏置，并將該運(yùn)算的聚焦偏置作為該兩個(gè)記錄層共同的記錄或 再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置而設(shè)定，或，運(yùn)算與所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的各記錄 層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置，將該運(yùn)算的聚焦偏置 作為所述各記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置而設(shè)定。
10. 如權(quán)利要求9所述的光盤裝置，其特征在于將所述第一控制模塊學(xué)習(xí)的所述鄰接的記錄層中的第一記錄層的聚焦偏置設(shè)為F^將 第二記錄層的聚焦偏置設(shè)為F『將所述第二控制模塊的作為所述第一記錄層的記錄或再現(xiàn) 時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為F。。、同樣將作為所述第二記錄層的記錄或 再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置進(jìn)行運(yùn)算并設(shè)定的聚焦偏置設(shè)為FQ1時(shí)，在所述第一溫度為0°C 25t:范圍的溫度時(shí)，所述第二控制模塊通過FQ0 = FQ1= (FA0+FA1)/2在所述第二溫度為50°C 65t:范圍的溫度時(shí)，所述第二控制模塊通過 FQ0= (3XFA0+FA1)/4 FQ1 = (FA0+3XFA1)/4 運(yùn)算并設(shè)定FQ。、FQ1。
11. 一種光盤裝置的聚焦偏置設(shè)定方法，對(duì)于具有多個(gè)記錄層的光盤通過光學(xué)單元將 激光聚光并照射在所述記錄層而能夠進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)，該方法的特征在于，包括第一步驟，對(duì)于所述光盤的相互鄰接的各記錄層，從根據(jù)來自形成于記錄層的記錄面 的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)所述光學(xué)單元對(duì)于各記錄層的該引導(dǎo)槽的聚焦偏置，并且 檢測(cè)該光盤裝置內(nèi)的溫度；第二步驟，根據(jù)所述學(xué)習(xí)的各聚焦偏置和所述檢測(cè)出的溫度信息，運(yùn)算并設(shè)定記錄或 再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的聚焦偏置。
12. 如權(quán)利要求11所述的光盤裝置的聚焦偏置設(shè)定方法，其特征在于 在所述檢測(cè)出的溫度為相對(duì)低溫的第一溫度時(shí)，在所述第二步驟中，運(yùn)算在所述第一步驟中學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的平均值，將該平均值作為記錄或再現(xiàn)時(shí)用的該兩個(gè)記 錄層共同的聚焦偏置而設(shè)定。
13. 如權(quán)利要求11所述的光盤裝置的聚焦偏置設(shè)定方法，其特征在于 在所述檢測(cè)出的裝置內(nèi)的溫度為相對(duì)高溫的第二溫度時(shí)，在所述第二步驟中，運(yùn)算與在所述第一步驟中學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值 的聚焦偏置，將該運(yùn)算的聚焦偏置作為所述各記錄層的記錄或再現(xiàn)時(shí)用的所述光學(xué)單元的 聚焦偏置而設(shè)定。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光盤裝置及其聚焦偏置設(shè)定方法，根據(jù)本發(fā)明，在多個(gè)記錄層的聚焦偏置處理時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)處理時(shí)間的縮短和確保處理精度。對(duì)于相互鄰接的記錄層的各層，根據(jù)來自形成于記錄層的記錄面的引導(dǎo)槽的反射光的信號(hào)，學(xué)習(xí)光學(xué)單元相對(duì)于該引導(dǎo)槽的聚焦偏置，根據(jù)該學(xué)習(xí)到的各記錄層的聚焦偏置，運(yùn)算且設(shè)定記錄或再現(xiàn)時(shí)用的聚焦偏置。在三層以上的記錄層時(shí)，將與所述學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的差成為與光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置作為各記錄層的或各記錄層共同的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定，或，將與該學(xué)習(xí)的各記錄層的聚焦偏置的差成為與所述光學(xué)單元的特性對(duì)應(yīng)的值的聚焦偏置的平均值作為一個(gè)記錄層的聚焦偏置進(jìn)行設(shè)定。
文檔編號(hào)G11B7/09GK101751944SQ20091020795
公開日2010年6月23日 申請(qǐng)日期2009年11月2日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月27日
發(fā)明者佐佐木真由美, 戶田剛 申請(qǐng)人:日立樂金資料儲(chǔ)存股份有限公司