專利名稱:半導(dǎo)體裝置的制作方法
半導(dǎo)體裝置
技術(shù)區(qū)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置,特別是涉及含有靜態(tài)型半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的半 導(dǎo)體裝置。
背景技術(shù):
在低消耗功率用的半導(dǎo)體裝置中,存在設(shè)置切斷電源供給的待機(jī)模
式(睡眠模式)的情形。待機(jī)模式中,只對(duì)存儲(chǔ)器單元SRAM (Static Random Access Memory,靜態(tài)隨機(jī)訪問(wèn)存儲(chǔ)器)等的保持?jǐn)?shù)據(jù)所需要的 部分電路提供電源電壓。
例如,在特開(kāi)平11 - 219589號(hào)公報(bào)中所述的SRAM中,在進(jìn)行數(shù)據(jù) 保持的睡眠期間,切斷存儲(chǔ)器單元以及字線電位固定電路以外的電路的 電源電壓的供給。字線電位固定電路為了防止字線電位變得不穩(wěn)定而破 壞存儲(chǔ)器單元的數(shù)據(jù),在睡眠期間將字線固定于非選擇電平。
特開(kāi)2006 - 252718號(hào)公報(bào)公開(kāi)了在待機(jī)模式時(shí)能夠以更低的消耗電 力工作的半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置。該半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置使各字線驅(qū)動(dòng)器的輸出節(jié) 點(diǎn)成高阻抗?fàn)顟B(tài),以使得在待機(jī)模式時(shí)字線驅(qū)動(dòng)器中不流過(guò)柵極漏電 流。又,對(duì)于每一個(gè)字線,設(shè)有將字線固定于非有效電平用的半閉鎖電 路。
特開(kāi)平07 - 244982號(hào)公報(bào)公開(kāi)了在使半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置為非有效狀態(tài) 的情況下(待機(jī)模式時(shí))抑制過(guò)度流向字線的電流用的技術(shù)。該已有技 術(shù)中,設(shè)置將多輸入邏輯門(行譯碼器)的輸出設(shè)定為將表示非選擇狀 態(tài)的信號(hào)向字線輸出的邏輯電平用的設(shè)定裝置。而且設(shè)置切斷通過(guò)多輸 入邏輯門從電源電位向接地電位流動(dòng)的貫通電流的切斷裝置。
另一方面,特開(kāi)平07 - 254274號(hào)公報(bào)記載的已有技術(shù),是在存儲(chǔ)器 單元陣列與字線驅(qū)動(dòng)電路陣列之間設(shè)置字線噪聲抑制電路陣列的技術(shù)。 字線噪聲抑制電路抑制行解碼器的輸出節(jié)點(diǎn)的電位電平的變動(dòng)。
半導(dǎo)體裝置的工作模式從通常模式向待機(jī)模式轉(zhuǎn)換時(shí),或從待機(jī)模式向通常模式回歸時(shí),有伴隨電源電壓的下降或升高發(fā)生噪音的情況。 當(dāng)發(fā)生的噪音從字線驅(qū)動(dòng)器流向字線時(shí),有使存儲(chǔ)器單元的存取晶體管
導(dǎo)通而發(fā)生對(duì)存儲(chǔ)器單元的誤寫入的可能。上述已有技術(shù)不能夠完全防
止由于這樣的噪聲造成的對(duì)存儲(chǔ)器單元的誤寫入。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,在工作模式有通常模式與待機(jī)模式的半導(dǎo)體裝 置中,能夠防止工作模式切換時(shí)對(duì)存儲(chǔ)器單元的誤寫入。
簡(jiǎn)單地說(shuō),本發(fā)明是工作模式有通常模式和待機(jī)模式的半導(dǎo)體裝置, 它具備電源部、存儲(chǔ)器單元陣列、多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器、多個(gè)第l開(kāi)關(guān)、第
2開(kāi)關(guān)以及控制電路。在這里,電源部生成第1以及第2內(nèi)部電源電壓。 存儲(chǔ)器單元陣列含有設(shè)置為行列狀的、利用第1內(nèi)部電源電壓進(jìn)行驅(qū)動(dòng) 的多個(gè)存儲(chǔ)器單元;以及對(duì)應(yīng)于多個(gè)存儲(chǔ)器單元行而設(shè)置的多條字線。 多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器分別對(duì)應(yīng)于多條字線而設(shè)置,并且分別由第2內(nèi)部電源 電壓進(jìn)行驅(qū)動(dòng),使對(duì)應(yīng)的字線為有效狀態(tài)。多個(gè)第l開(kāi)關(guān)分別對(duì)應(yīng)于多 條字線設(shè)置,各開(kāi)關(guān)連接于對(duì)應(yīng)的字線與賦予基準(zhǔn)電壓的基準(zhǔn)節(jié)點(diǎn)之 間。第2開(kāi)關(guān)設(shè)置于對(duì)多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器提供第2內(nèi)部電源電壓用的電源 線上??刂齐娐吩诠ぷ髂J綇耐ǔDJ角袚Q為待機(jī)模式時(shí),使多個(gè)第1 開(kāi)關(guān)為導(dǎo)通狀態(tài),使第2開(kāi)關(guān)為非導(dǎo)通狀態(tài),而后停止第2內(nèi)部電源電 壓的供給。又,控制電路在工作模式從待機(jī)模式切換為通常模式時(shí),開(kāi) 始第2內(nèi)部電源電壓的供給,其后使多個(gè)第1開(kāi)關(guān)為非導(dǎo)通狀態(tài),第2 開(kāi)關(guān)為導(dǎo)通狀態(tài)。
如果采用本發(fā)明,在停止第2電源電壓的供給之前,預(yù)先使多條字 線的電壓固定于基本電壓,切斷字線驅(qū)動(dòng)器的電源線。又,在開(kāi)始第2 電源電壓的供給后,解除字線驅(qū)動(dòng)器的電壓的固定,連接字線驅(qū)動(dòng)器的 電源線。因此,本發(fā)明的主要優(yōu)點(diǎn)是能夠通過(guò)防止因通常模式與待機(jī)模 式的切換而發(fā)生的噪音流入字線,防止對(duì)存儲(chǔ)器單元的誤寫入。
本發(fā)明的上述目的以及其他目的、特征、形態(tài)以及優(yōu)點(diǎn)能夠從參照 附圖理解的有關(guān)本發(fā)明的下述詳細(xì)說(shuō)明了解。
圖l是表示本發(fā)明實(shí)施形態(tài)1的半導(dǎo)體裝置1的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖2是用于說(shuō)明待機(jī)模式的SRAM3的動(dòng)作的方框圖。 圖3是工作模式轉(zhuǎn)換時(shí)的內(nèi)部電源電壓SVDD、 VDD以及控制信號(hào) WLPD的時(shí)序圖。
圖4是表示實(shí)施形態(tài)1的SRAM3的結(jié)構(gòu)的方框圖。
圖5是更詳細(xì)表示圖4的SRAM3的結(jié)構(gòu)的電路圖。
圖6是表示半導(dǎo)體基板上的SRAM3的電路配置例的平面圖。
圖7是概略表示半導(dǎo)體基板上的存儲(chǔ)器單元MC的配置例的電路圖。
圖8是概略表示半導(dǎo)體基板上的存儲(chǔ)器單元MC的配置例的電路圖。
圖9是概略表示圖8所示的沿L9-L9的剖面結(jié)構(gòu)的圖。
圖IO是表示本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)2的SRAM3B的結(jié)構(gòu)的電路圖。
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。又,相同或相當(dāng) 部分標(biāo)以相同的符號(hào),不重復(fù)進(jìn)行說(shuō)明。 實(shí)施形態(tài)1
圖1是表示本發(fā)明實(shí)施形態(tài)1的半導(dǎo)體裝置1的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖 l是作為半導(dǎo)體裝置1的例子表示微電腦的圖。
參照?qǐng)D1,半導(dǎo)體裝置l含有微處理器單元(MPU) 2、 SRAM3、閃存 4、 VREF發(fā)生電路5、 VDD發(fā)生電路6、 SVDD發(fā)生電路7、控制電路8。 VREF發(fā)生電路5、 VDD發(fā)生電路6、以及SVDD發(fā)生電路7構(gòu)成電源部9。
半導(dǎo)體裝置1根據(jù)外部提供的待機(jī)信號(hào)STBY以及復(fù)位信號(hào)RES,在 通常模式與待機(jī)模式間切換工作模式。在待機(jī)信號(hào)STBY以及復(fù)位信號(hào) RES同為L(zhǎng)電平的待機(jī)模式中,為了降低消耗功率,除了保持?jǐn)?shù)據(jù)所必 需的一部分電路外,停止對(duì)電路的電源供給。
具體地說(shuō),VREF發(fā)生電路5利用由電池或開(kāi)關(guān)電源等提供的外部電 源電壓VCC (例如3V)進(jìn)行驅(qū)動(dòng),產(chǎn)生參照電壓VREF (例如1. 5V)。 VDD發(fā)生電路6由外部電源電壓VCC驅(qū)動(dòng),在半導(dǎo)體裝置1的通常模式 中產(chǎn)生與參照電壓VREF相同電平的內(nèi)部電源電壓VDD。又,VDD發(fā)生電 路6在半導(dǎo)體裝置1的待機(jī)模式中為了謀求降低待機(jī)電流,停止內(nèi)部電 源電壓VDD(第2內(nèi)部電源電壓)的供給。SVDD發(fā)生電路7由外部電源 電壓VCC驅(qū)動(dòng),產(chǎn)生與參照電壓VREF相同電平的內(nèi)部電源電壓SVDD(第 l內(nèi)部電源電壓)。內(nèi)部電源電壓SVDD在待機(jī)模式時(shí)也維持供給。控制電路8由外部電源電壓VCC驅(qū)動(dòng),根據(jù)待機(jī)信號(hào)STBY以及復(fù) 位信號(hào)RES,控制VDD發(fā)生電路6生成的內(nèi)部電源電壓VDD的供給的開(kāi) 始與停止。又,控制電路8相應(yīng)于工作模式輸出控制SRAM3用的控制信 號(hào)WLPD。這時(shí),在待機(jī)信號(hào)STBY以及復(fù)位信號(hào)RES同為H電平的通常 模式中,輸出非有效電平的L電平的控制信號(hào)WLPD。反之,在待機(jī)信 號(hào)STBY以及復(fù)位信號(hào)RES同為L(zhǎng)電平的待機(jī)模式中,輸出有效電平的 H電平的控制信號(hào)WLPD。
樣吏處理器單元2由內(nèi)部電源電壓VDD驅(qū)動(dòng),根據(jù)由外部提供的時(shí)鐘 信號(hào)CLK以及控制信號(hào)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。閃存4由時(shí)鐘信號(hào)CLK以及控制 信號(hào)進(jìn)行控制,存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。SRAM3是由內(nèi)部電源電壓VDD、 SVDD進(jìn)行驅(qū) 動(dòng)的易失性半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置,由時(shí)鐘信號(hào)CLK、控制信號(hào)以及控制信號(hào) WLPD等進(jìn)行控制,存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。圖1的半導(dǎo)體裝置1中,在待機(jī)模式中 停止對(duì)微處理器單元2、閃存4、以及SRAM3的一部分電路供給內(nèi)部電 源電壓VDD。
圖2是用于說(shuō)明待機(jī)模式的SRAM3的動(dòng)作的方框圖。
參照?qǐng)D2, SRAM3含有由內(nèi)部電源電壓SVDD驅(qū)動(dòng)的存儲(chǔ)器單元陣列 10以及由內(nèi)部電源電壓VDD驅(qū)動(dòng)的外圍電路20。
存儲(chǔ)器單元陣列10含有配置為行列狀的多個(gè)存儲(chǔ)器單元MC、對(duì)應(yīng) 于存儲(chǔ)器單元行設(shè)置的多條字線WL、以及對(duì)應(yīng)于存儲(chǔ)器單元列設(shè)置的 多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL。圖2中示意性地圖示了 1個(gè)存儲(chǔ)器單元MC、與 其連接的1條字線WL以及1對(duì)數(shù)據(jù)線DL、 /DL。
SRAM3的存儲(chǔ)器單元MC含有連接于存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1和ND2之間的2個(gè) 逆變器14、 15、連接于存儲(chǔ)器單元ND1和數(shù)據(jù)線DL之間的N溝道M0S (Metal Oxide Semiconductor)晶體管(存取晶體管)12、以及連接 于存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2和數(shù)據(jù)線/DL之間的N溝道M0S晶體管(存取晶體管) 13。
在這里,逆變器14將使存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1的信號(hào)的邏輯電平反轉(zhuǎn)后的 信號(hào)輸出到存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2。逆變器15將使存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2的信號(hào)的邏輯 電平反轉(zhuǎn)后的信號(hào)輸出到存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1。因此,例如,在存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1 的電壓為H電平(內(nèi)部電源電壓SVDD)時(shí),存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2的電壓為L(zhǎng) 電平(接地電壓VSS),該狀態(tài)得到維持。即逆變器14、 15作為保持 存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1、 ND2的數(shù)據(jù)的閂鎖電路(觸發(fā)器)起作用。為了改寫在存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1、 ND2保持的數(shù)據(jù),根據(jù)寫入數(shù)據(jù),使數(shù) 據(jù)線DL、 /DL的一方為H電平,使其另一方為L(zhǎng)電平。在該狀態(tài)下,當(dāng) 使字線WL有效化為H電平時(shí),存取晶體管12、 13成導(dǎo)通狀態(tài),因此根 據(jù)數(shù)據(jù)線DL、 /DL的電壓,變更存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1、 ND2的電壓。
圖2的外圍電路20具有根據(jù)地址信號(hào)選擇存儲(chǔ)器單元MC的解碼器、 以及在被選擇的存儲(chǔ)器單元MC中進(jìn)行數(shù)據(jù)讀出以及數(shù)據(jù)寫入用的電路 等。在這里,如圖2所示,外圍電路20含有對(duì)應(yīng)于各字線WL設(shè)置的字 線驅(qū)動(dòng)器WD。該字線驅(qū)動(dòng)器WD以內(nèi)部電源電壓VDD進(jìn)行驅(qū)動(dòng),將與被 選擇的存儲(chǔ)器單元MC對(duì)應(yīng)的字線WL有效化為H電平。
圖2的SRAM3進(jìn)一步含有連接于各字線WL與接地節(jié)點(diǎn)VSS之間的N 溝道MOS晶體管11 (第l開(kāi)關(guān))、以及設(shè)置于對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD供給內(nèi) 部電源電壓VDD用的電源線27上的P溝道MOS晶體管21(第2開(kāi)關(guān))。 又利用接地節(jié)點(diǎn)(基準(zhǔn)節(jié)點(diǎn))VSS對(duì)其賦予接地電壓(基準(zhǔn)電壓)VSS。
在半導(dǎo)體裝置1為待機(jī)模式時(shí),柵極11A (控制節(jié)點(diǎn)) 一旦接收到 從圖1所示的控制電路8輸出的H電平的控制信號(hào)WLPD, MOS晶體管 ll就變成導(dǎo)通狀態(tài)。其結(jié)果是,字線WL的電壓變成接地電壓VSS。這 樣,MOS晶體管11在待機(jī)模式時(shí)作為將字線固定于L電平的(非有效 電平)用的開(kāi)關(guān)起作用。其結(jié)果是,抑制了噪聲等引起的字線WL的電 壓變動(dòng),能夠在一定的程度上防止對(duì)存儲(chǔ)器單元MC的誤寫入。
MOS晶體管21是在工作模式切換時(shí),預(yù)先切斷對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD供 給的內(nèi)部電源電壓VDD用的開(kāi)關(guān)。待機(jī)模式中,利用所述MOS晶體管 11將字線WL設(shè)定為非有效狀態(tài),可是MOS晶體管11的大小與構(gòu)成字 線驅(qū)動(dòng)器WD的MOS晶體管的大小相比要小得多。從而,當(dāng)伴隨工作模 式切換時(shí)內(nèi)部電源電壓VDD的上升或下降發(fā)生噪音時(shí),發(fā)生的噪音從字 線驅(qū)動(dòng)器WD流過(guò)字線WL,所以有可能發(fā)生對(duì)存儲(chǔ)器單元MC的誤寫入。
因此,實(shí)施形態(tài)1的控制電路8在工作模式從通常模式轉(zhuǎn)換為待機(jī) 模式時(shí),在進(jìn)行內(nèi)部電源電壓VDD的供給停止前,使M0S晶體管21為 非導(dǎo)通狀態(tài),借助于此,預(yù)先切斷對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD的內(nèi)部電源電壓VDD 的供給。又,控制電路8在工作模式從待機(jī)模式回歸到通常模式時(shí),在 開(kāi)始供給內(nèi)部電源電壓VDD之后,使MOS晶體管21為導(dǎo)通狀態(tài),并將 字線驅(qū)動(dòng)器WD連接于內(nèi)部電源電壓VDD的電源線。
作為驅(qū)動(dòng)MOS晶體管21的柵極21A用的驅(qū)動(dòng)器,圖2的SRAM3還含有由內(nèi)部電源電壓VDD驅(qū)動(dòng)的逆變器22 (第1逆變器)、以及由內(nèi) 部電源電壓SVDD驅(qū)動(dòng)的逆變器23 (第2逆變器)。
逆變器22接受從圖1的控制電路8輸出的控制信號(hào)WLPD,將使邏 輯電平反轉(zhuǎn)后的信號(hào)輸出到逆變器23。又,逆變器23接受逆變器22 的輸出,將使邏輯電平再度反轉(zhuǎn)的信號(hào)(等同于控制信號(hào)WLPD的邏輯 電平的信號(hào))輸出到M0S晶體管21的柵極21A (控制節(jié)點(diǎn))。
如圖2所示,逆變器22、 23由CMOS ( Complementary Metal Oxide Semiconductor)逆變器構(gòu)成。具體地說(shuō),逆變器22含有串聯(lián)連接于電 源節(jié)點(diǎn)VDD (提供內(nèi)部電源電壓VDD的節(jié)點(diǎn))與接地節(jié)點(diǎn)VSS間的P溝 道M0S晶體管22A與N溝道M0S晶體管22B。又,逆變器23含有串聯(lián) 連接于電源節(jié)點(diǎn)SVDD(提供內(nèi)部電源電壓SVDD的節(jié)點(diǎn))與接地節(jié)點(diǎn)VSS 之間的P溝道M0S晶體管23A與N溝道M0S晶體管23B。在這里,向MOS 晶體管22A、 22B的柵極(逆變器22的輸入節(jié)點(diǎn))輸入控制信號(hào)WLPD。 MOS晶體管22A和22B的連接節(jié)點(diǎn)(逆變器22的輸出節(jié)點(diǎn))與MOS晶 體管23A、 23B的柵極(逆變器23的輸入節(jié)點(diǎn))連接。MOS晶體管23A 和23B的連接節(jié)點(diǎn)(逆變器23的輸出節(jié)點(diǎn))連接于MOS晶體管21的柵 極21A (控制節(jié)點(diǎn))。
又,逆變器22、 23不必一定由CM0S逆變器構(gòu)成。例如,也可以使 用電阻代替作為負(fù)栽晶體管的MOS晶體管22A、 23A。
在待機(jī)模式時(shí),當(dāng)控制信號(hào)WLPD為H電平時(shí),M0S晶體管22B以及 23A為導(dǎo)通狀態(tài)。在這種情況下,即使停止驅(qū)動(dòng)逆變器22的內(nèi)部電源 電壓VDD的供給,也能夠維持M0S晶體管22B以及23A的導(dǎo)通狀態(tài),因 此逆變器23的輸出電壓也繼續(xù)保持為H電平(內(nèi)部電源電壓SVDD)狀 態(tài)。因此,盡管內(nèi)部電源電壓VDD停止供給,也可以在待機(jī)模式期間使 MOS晶體管21為非導(dǎo)通狀態(tài)。
設(shè)置這些逆變器22、 23的理由如下所述。
第1 ,是為了確保驅(qū)動(dòng)MOS晶體管21的柵極21A所需要的電流。SRAM3 的電路規(guī)模變大時(shí),多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器WD的工作所需要的電流量增大。 隨之,將MOS晶體管21的柵極寬度加大,同時(shí)增加其個(gè)數(shù),還有必要 增加MOS晶體管21的柵極驅(qū)動(dòng)所需要的電流。如果采用如上所述的結(jié) 構(gòu),可以相應(yīng)于電路規(guī)模,變更MOS晶體管21以及逆變器23的個(gè)數(shù), 調(diào)節(jié)多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器WD的工作中需要的電流量。第2,是因?yàn)橄鄳?yīng)于控制信號(hào)WLPD的H電平的電壓值,使構(gòu)成前級(jí)逆變器22的M0S晶體管22A、 22B的柵極氧化膜形成得比構(gòu)成后級(jí)逆變器23的M0S晶體管23A、 23B的柵極氧化膜更厚。
從圖1的控制電路8輸出的控制信號(hào)WLPD的H電平的電壓值等于驅(qū)動(dòng)控制電路8的外部電源電壓VCC (例如3V),往往比內(nèi)部電源電壓SVDD、 VDD (例如1. 5V)高。因此,為了與該外部電源電壓VCC的電壓值對(duì)應(yīng),構(gòu)成逆變器22的M0S晶體管22A、 22B的柵極氧化膜的膜厚形成得比使用于存儲(chǔ)器單元MC等的MOS晶體管的柵極氧化膜更厚。
又,在圖2中,輸入控制信號(hào)WLPD的M0S晶體管11的柵極氧化膜也做得與構(gòu)成逆變器22的M0S晶體管22A、 22B的柵極氧化膜同樣厚。
圖3是工作模式轉(zhuǎn)換時(shí)的內(nèi)部電源電壓SVDD、 VDD以及控制信號(hào)WLPD的時(shí)序圖。圖3的縱軸按照從上往下的順序,表示內(nèi)部電源電壓SVDD、內(nèi)部電源電壓VDD、控制信號(hào)WLPD的邏輯電平。圖3的橫軸表示經(jīng)過(guò)時(shí)間。在時(shí)刻U t2執(zhí)行內(nèi)部電源電壓VDD的切斷序列,在時(shí)刻t3~ t4執(zhí)行內(nèi)部電源電壓VDD的復(fù)位序列。
參照?qǐng)D3,在時(shí)刻tl之前的通常模式時(shí),作為內(nèi)部電源電壓SVDD、VDD,將1. 5V的電壓提供給半導(dǎo)體裝置1的負(fù)栽電路。又,提供給SRAM3的控制信號(hào)WLPD的電壓為L(zhǎng)電平(非有效電平)。
在從通常模式轉(zhuǎn)為待機(jī)模式的切斷序列中,首先,在時(shí)刻tl控制信號(hào)WLPD切換為H電平的有效狀態(tài)。其結(jié)果是,如圖2說(shuō)明的那樣,圖2的M0S晶體管11變成導(dǎo)通狀態(tài),字線WL的電壓固定為L(zhǎng)電平(接地電壓VSS)的非有效狀態(tài)。還有,圖2的M0S晶體管21變成非導(dǎo)通狀態(tài),將對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD提供的內(nèi)部電源電壓VDD切斷。
在接著的時(shí)刻t2,停止內(nèi)部電源電壓VDD的供給,圖1的VDD發(fā)生電路6的輸出電壓從1.5V下降到0V。這時(shí),即使是因輸出電壓的下降而發(fā)生噪聲,也因預(yù)先切斷字線驅(qū)動(dòng)器WD的電源線27,因此發(fā)生的噪聲不會(huì)通過(guò)字線驅(qū)動(dòng)器WD流向字線WL。
接著,在從待機(jī)模式轉(zhuǎn)換到通常模式的復(fù)歸序列中,首先,在時(shí)刻t3,開(kāi)始內(nèi)部電源電壓VDD的供給,圖1的VDD發(fā)生電路6的輸出電壓從OV上升到1. 5V。這時(shí),即使是由于輸出電壓的上升而導(dǎo)致噪聲發(fā)生,也由于切斷字線驅(qū)動(dòng)器WD的電源線27,因此產(chǎn)生4的噪音不會(huì)流入字線WL。在接著的時(shí)刻t4,控制信號(hào)WLPD切換為L(zhǎng)電平的非有效狀態(tài)。于是,如圖2中說(shuō)明的那樣,圖2的M0S晶體管11形成非導(dǎo)通狀態(tài),字線WL在非有效電平上固定的狀態(tài)被解除。又,圖2的M0S晶體管21形成導(dǎo)通狀態(tài),對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD提供內(nèi)部電源電壓VDD。這樣一來(lái),半導(dǎo)體裝置1的工作模式恢復(fù)為通常模式。
圖4是表示實(shí)施形態(tài)1的SRAM3的結(jié)構(gòu)的方框圖。
又,圖5是更詳細(xì)表示圖4的SRAM3的結(jié)構(gòu)的電路圖。
參照?qǐng)D4、圖5, SRAM3含有存儲(chǔ)器單元陣列10、行解碼器30以及字線驅(qū)動(dòng)器部26。
存儲(chǔ)器單元陣列IO含有配置為多行多列的多個(gè)存儲(chǔ)器單元MC、分別對(duì)應(yīng)多個(gè)行設(shè)置的多條字線WL、分別對(duì)應(yīng)多個(gè)列設(shè)置的多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL。又,實(shí)際上設(shè)置多個(gè)存儲(chǔ)器單元MC,但圖4中為了簡(jiǎn)化畫面只表示出4個(gè)存儲(chǔ)器單元MC,圖5中僅表示出1個(gè)存儲(chǔ)器單元MC。
存儲(chǔ)器單元MC如圖5所示,含有對(duì)應(yīng)于圖2的逆變器14的P溝道M0S晶體管14A與N溝道M0S晶體管14B、以及對(duì)應(yīng)于逆變器15的P溝道M0S晶體管15A與N溝道M0S晶體管15B。 M0S型晶體管14A、 15A的源極以及背柵極連接于電源節(jié)點(diǎn)SVDD, MOS晶體管14B、 15B的源極以及背柵極連接于接地節(jié)點(diǎn)VSS。 MOS晶體管14A、 l化的漏極連接于存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2, MOS晶體管15A、 15B的漏極連接于存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1。又,MOS晶體管14A、 14B的柵極連接于存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1, MOS晶體管15A、 15B的柵極連接于存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2。
行解碼器30利用內(nèi)部電源電壓VDD進(jìn)行驅(qū)動(dòng),在通常工作時(shí),根據(jù)行地址信號(hào)RA選擇字線WL。行解碼器30將有效化為L(zhǎng)電平的行選擇信號(hào)輸出到對(duì)應(yīng)于選擇的字線WL的字線驅(qū)動(dòng)器WD中。
字線驅(qū)動(dòng)器部26如圖4所示,含有分別連接于多行字線WL的多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器WD。各字線驅(qū)動(dòng)器WD如圖5所示,含有由P溝道MOS晶體管26A以及N溝道MOS晶體管26B構(gòu)成的逆變器。各MOS晶體管26A的源極連接于提供內(nèi)部電源電壓VDD的電源線27。各MOS晶體管26B的源極連接于接地節(jié)點(diǎn)VSS。向MOS晶體管26A、 26B的柵極輸入來(lái)自行解碼器30的行選擇信號(hào)。MOS晶體管26A、 26B的漏極連接于對(duì)應(yīng)的字線WL。
SRAM3還如圖2中說(shuō)明的那樣,含有分別對(duì)應(yīng)于多條字線WL設(shè)置的多個(gè)M0S晶體管11、連接于字線驅(qū)動(dòng)器WD的電源線27上的M0S晶體管21、以及驅(qū)動(dòng)M0S晶體管21的柵極用的逆變器22、 23。 N溝道M0S晶體管11、 22B、 23B的背柵極連接于接地節(jié)點(diǎn)VSS。又,P溝道M0S晶體管23A的背柵極被賦予內(nèi)部電源電壓SVDD, P溝道MOS晶體管21、22A的背柵極被賦予內(nèi)部電源電壓VDD。其他方面與圖2所示相同,因此不再重復(fù)說(shuō)明。
SRAM3還包含連接于比MOS晶體管21更靠近字線驅(qū)動(dòng)器的位置的電源線27 (MOS晶體管21的漏極)與接地節(jié)點(diǎn)之間的N溝道MOS晶體管24。 MOS晶體管24的柵極24A (控制節(jié)點(diǎn))上連接逆變器23的輸出節(jié)點(diǎn)。MOS晶體管24的背柵極連接于接地節(jié)點(diǎn)VSS。其結(jié)果是,MOS晶體管24在待機(jī)模式中使控制信號(hào)WLPD有效化為H電平時(shí)形成導(dǎo)通狀態(tài)。即MOS晶體管24作為根據(jù)控制信號(hào)WLPD將電源線27的電壓固定為接地電壓VSS用的開(kāi)關(guān)發(fā)揮作用。通過(guò)這樣將電源線27的電壓固定為接地電壓VSS,能夠在待機(jī)模式時(shí)使字線驅(qū)動(dòng)器WD的輸出信號(hào)確實(shí)為0V。
在這里,逆變器23與存儲(chǔ)器單元陣列10 —樣由內(nèi)部電源電壓SVDD驅(qū)動(dòng),因此配置于比由內(nèi)部電源電壓VDD驅(qū)動(dòng)的逆變器22更接近存儲(chǔ)器單元陣列10的位置上。實(shí)際電路配置中,M0S晶體管21、 24以及逆變器23作為字線驅(qū)動(dòng)器用的電源供給電路部25相互接近配置。
SRAM3還包含控制電路35、對(duì)應(yīng)于各數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL設(shè)置的均衡器31、寫入驅(qū)動(dòng)器32、以及列選擇柵極33、共同設(shè)置于多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL上的公共線對(duì)CM、 /CM以及讀出放大器34??刂齐娐?5由內(nèi)部電源電壓VDD驅(qū)動(dòng),按照列地址信號(hào)CA、寫入數(shù)據(jù)信號(hào)DI、寫入控制信號(hào)WE、以及讀出控制信號(hào)RE控制均衡器31、寫入驅(qū)動(dòng)器32、列選擇柵極33、以及讀出放大器34。
均衡器31如圖5所示,包含由控制電路35進(jìn)行控制的P溝道M0S晶體管31A。 P溝道M0S晶體管31A連接于對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線DL、 /DL之間,其背柵極接受內(nèi)部電源電壓VDD。 P溝道M0S晶體管31A導(dǎo)通時(shí),數(shù)據(jù)線DL與/DL連接,使數(shù)據(jù)線DL與/DL的電壓均衡。
寫入驅(qū)動(dòng)器32 (圖5的32A、 32B)包含由控制電路35進(jìn)行控制的P溝道M0S晶體管71A、 72A以及N溝道M0S晶體管71B、 72B。 P溝道M0S晶體管71A、 72A的源極同時(shí)接受內(nèi)部電源電壓VDD,這些晶體管的漏極連接于分別對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線DL、 /DL,這些晶體管的背柵極同時(shí)接受內(nèi)部電源電壓VDD。 N溝道MOS晶體管71B、 72B的源極同時(shí)接受接地電壓VSS,這些晶體管的漏極分別連接于對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線DL、 /DL,這些晶體管的背柵極同時(shí)接受接地電壓VSS。
在字線WL為有效(被激活)的狀態(tài)下晶體管71A、 72B導(dǎo)通時(shí),通過(guò)數(shù)據(jù)線DL、 /DL分別將H電平(內(nèi)部電源電壓VDD)以及L電平(接地電壓VSS)的數(shù)據(jù)寫入存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1、 ND2。在字線WL為有效(被激活)的狀態(tài)下晶體管71B、 72A導(dǎo)通時(shí),通過(guò)數(shù)據(jù)線DL、 /DL分別將L電平(接地電壓VSS)以及H電平(內(nèi)部電源電壓VDD)的數(shù)據(jù)寫入存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1、 ND2。
列選擇柵極33含有由控制電路35控制的P溝道MOS晶體管33A、33B。 P溝道MOS晶體管33A連接于對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線DL與公共線CM之間,其背柵極接受內(nèi)部電源電壓VDD,其柵極連接于控制電路35。P溝道MOS晶體管33B連接于對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線/DL與公共線/CM之間,其背柵極接受內(nèi)部電源電壓VDD,其柵極連接于P溝道MOS晶體管33A的柵極。P溝道MOS晶體管33A、 33B導(dǎo)通時(shí),數(shù)據(jù)線DL、 /DL的電壓分別傳送到公共線CM、 /CM。
讀出放大器34含有P溝道MOS晶體管73A、 74A以及N溝道MOS晶體管73B、 74B、 75。 P溝道MOS晶體管73A、 74A的源極一起接受內(nèi)部電源電壓VDD,他們的漏極分別連接于輸入輸出(1/0)節(jié)點(diǎn)ND3、 ND4,他們的柵極分別連接于輸入輸出節(jié)點(diǎn)ND4、 ND3。
N溝道MOS晶體管73B、 74B的源極一起連接于節(jié)點(diǎn)ND5,他們的漏極分別連接于輸入輸出節(jié)點(diǎn)ND3、 ND4,他們的柵極分別連接于輸入輸出節(jié)點(diǎn)ND4、 ND3。 N溝道MOS晶體管75連接于節(jié)點(diǎn)ND5與接地節(jié)點(diǎn)VSS之間,其柵極接受從控制電路35輸出的控制信號(hào)SE。輸入輸出節(jié)點(diǎn)ND3、ND4分別連接于公共線CM、 /CM。
在控制信號(hào)SE為非有效電平的L電平(接地電影VSS)的情況下,N溝道MOS晶體管75成非導(dǎo)通,讀出放大器34激活??刂菩盘?hào)SE成有效電平的H電平(內(nèi)部電源電壓VDD)時(shí),N溝道MOS晶體管75導(dǎo)通,讀出放大器34激活。
下面對(duì)該SRAM的讀出以及寫入動(dòng)作進(jìn)行簡(jiǎn)單說(shuō)明。
寫入動(dòng)作是在控制信號(hào)WE為有效電平時(shí)實(shí)行的。行解碼器30將相應(yīng)于行地址信號(hào)RA的行選擇信號(hào)傳送到字線驅(qū)動(dòng)器WD,使被選擇的字線有效化為H電平。借助于此,對(duì)應(yīng)于被選擇的字線WL的各存儲(chǔ)器單元MC的存取晶體管12、 13導(dǎo)通。
控制電路35在例如寫入數(shù)據(jù)信號(hào)DI為H電平的情況下,使對(duì)應(yīng)于由列地址信號(hào)CA指定的列的晶體管71A、 71B、 72A、 72B中的晶體管71A、 72B導(dǎo)通,分別使數(shù)據(jù)線DL、 /DL為H電平以及L電平。反之,在寫入數(shù)據(jù)信號(hào)DI為L(zhǎng)電平的情況下,控制電路35使晶體管71A、71B、72A、 72B中的晶體管71B、 72A導(dǎo)通,分別使數(shù)據(jù)線DL、 /DL為L(zhǎng)電平與H電平。借助于此,將數(shù)據(jù)信號(hào)DI寫入由地址信號(hào)RA、 CA指定的存儲(chǔ)器單元MC中。
讀出動(dòng)作是在讀出控制信號(hào)RE變?yōu)橛行щ娖綍r(shí)實(shí)行的??刂齐娐?5使全列的晶體管71A、 72A導(dǎo)通,將數(shù)據(jù)線DL、 /DL預(yù)先充電到內(nèi)部電源電壓VDD,同時(shí)使晶體管31A導(dǎo)通,使數(shù)據(jù)線DL、 /DL的電壓平均化。行解碼器30將相應(yīng)于行地址信號(hào)RA的行選擇信號(hào)傳送到字線驅(qū)動(dòng)器WD,被選擇的字線WL有效化為H電平。借助于此,各數(shù)據(jù)線對(duì)DL、/DL的電壓相應(yīng)于連接到被選擇的字線的各存儲(chǔ)器單元MC的存儲(chǔ)數(shù)據(jù)變化。
控制電路35使由列地址信號(hào)CA指定的列的晶體管33A、 33B導(dǎo)通,將該列的數(shù)據(jù)線DL、 /DL的電壓分別傳送到公共線CM、 /CM,還使控制信號(hào)SE變?yōu)橛行щ娖降腍電平,使讀出放大器34激活。借助于此,數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL間的電壓被讀出放大器34放大,數(shù)據(jù)線DL的電壓作為讀出數(shù)據(jù)信號(hào)DO輸出。
圖6是表示半導(dǎo)體基板上的SRAM3的電路配置例的平面圖。存儲(chǔ)器單元陣列10的行方向X對(duì)應(yīng)于圖6的左右方向,存儲(chǔ)器單元陣列10的列方向Y對(duì)應(yīng)于圖6的上下方向。
參照?qǐng)D6,配置SRAM3的半導(dǎo)體基板上的區(qū)域區(qū)分為多個(gè)區(qū)域。以列方向Y區(qū)分,在列方向Y的一側(cè)(圖6的下側(cè))配置控制帶90??刂茙?0中設(shè)有圖4的均衡器31、寫入驅(qū)動(dòng)器32、列選擇柵極33、讀出放大器34、控制電路35以及逆變器22等。
列方向Y的另一側(cè)(圖6的上側(cè))配置設(shè)有存儲(chǔ)器單元陣列10、行解碼器30以及字線驅(qū)動(dòng)器部26等的區(qū)域91 ~ 96。在這些區(qū)域91 ~ 96中,行方向X的中央?yún)^(qū)域96中設(shè)有行解碼器30。行方向X上比行解碼器30更外側(cè)的區(qū)域93~95中設(shè)置字線驅(qū)動(dòng)器WD以及電源供給電路25(M0S晶體管21、 24以及逆變器23)。還在其外側(cè)區(qū)域91、 92中設(shè)置 存儲(chǔ)器單元陣列10。
下面進(jìn)一步對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD、電源供給電路部25以及存儲(chǔ)器單元 陣列IO的配置進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。配置這些部件的區(qū)域可以區(qū)分為第1區(qū) 域(存儲(chǔ)器單元區(qū)域)91、第2區(qū)域(TAP區(qū)域)92、第3區(qū)域95、以 及第4區(qū)域93、 94。如圖6所示,各第1區(qū)域91以及各第2區(qū)域92 沿列方向Y交替配置。各第3區(qū)域95以及各第4區(qū)域93、 94沿著列方 向Y交替配置。各第1區(qū)域91與各第3區(qū)域95的一個(gè)在行方向X上鄰 接。各第2區(qū)域92與各第4區(qū)域93、 94的1個(gè)在行方向X上鄰接。
而且,在各第1區(qū)域(存儲(chǔ)器單元區(qū)域)91中,存儲(chǔ)器單元陣列 10被分割為多個(gè)進(jìn)行配置。各第2區(qū)域(TAP區(qū)域)92中,設(shè)有固定
形成于半導(dǎo)體基板上的多個(gè)勢(shì)阱的電位用的多個(gè)勢(shì)阱分接頭(well tap)(即,勢(shì)阱接頭,well contact)。各第3區(qū)域95內(nèi)配置對(duì)應(yīng)于 設(shè)置在鄰接的第1區(qū)域91內(nèi)的字線WL的字線驅(qū)動(dòng)器WD。各第4區(qū)域 93、 94內(nèi)設(shè)有電源供給電路部25 (MOS晶體管21、 24以及逆變器23)。
設(shè)置第2區(qū)域(TAP區(qū)域)92的理由是,為了考慮勢(shì)阱的電阻使勢(shì) 阱內(nèi)的電位相同,有必要在規(guī)定行數(shù)的存儲(chǔ)器單元行的每一行設(shè)置勢(shì)阱 分接頭(well tap)。這時(shí),與勢(shì)阱分接頭區(qū)域92在行方向X上鄰接 的第4區(qū)域93、 94中沒(méi)必要設(shè)置字線驅(qū)動(dòng)器WD。因此,有效利用這些 區(qū)域93、 94,配置圖4、圖5的電源供給電路部25(逆變器23以及M0S 晶體管21、 24)。這樣,幾乎不增加SRAM3整體的電路面積,就能夠 設(shè)置電源供給電路部25。
在這里,為了抑制電路面積的增加,第4區(qū)域93、 94中設(shè)置的M0S 晶體管23A、 23B、 21、 24的尺寸由第2區(qū)域(TAP區(qū)域)92的列方向 Y的寬度限制。但是,隨著存儲(chǔ)器單元行的行數(shù)的增加,第2區(qū)域(TAP 區(qū)域)92的數(shù)量也增加,因此第4區(qū)域94的數(shù)量也增加。其結(jié)果是, M0S晶體管23A、 23B、 21、 24的個(gè)數(shù)也可以增加,能夠相應(yīng)于電路規(guī) 模確保字線驅(qū)動(dòng)器WD的驅(qū)動(dòng)所需要的電流量。
又,位于列方向Y的兩端的第4區(qū)域93在空間中有空余的地方。 因此,可以將在該區(qū)域93中設(shè)置的M0S晶體管21、 24、 23A、 23B的尺 寸做得比第3區(qū)域95中夾著的第4區(qū)域94中設(shè)置的M0S晶體管21、 24、 23A、 23B的尺寸大,增加對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器WD提供的電流量。圖7是概略表示在半導(dǎo)體基板上的存儲(chǔ)器單元MC的配置例的電路 圖。圖7中,以虛線表示的矩形所圍繞的區(qū)域?qū)?yīng)于各存儲(chǔ)器單元MC。
參照?qǐng)D7,構(gòu)成各存儲(chǔ)器單元MC的P溝道M0S晶體管14A、 15A沿 列方向Y配置。又,N溝道M0S晶體管12、 15B沿列方向Y配置,N溝 道M0S晶體管13、 14B沿列方向Y配置。其結(jié)果是,PM0S區(qū)域41、 67、 66與NMOS區(qū)域40、 42在行方向X上形成交替配置。
圖8是概略表示半導(dǎo)體基板上的存儲(chǔ)器單元MC的配置例的電路圖。
參照?qǐng)D8,在形成P溝道MOS晶體管用的PMOS區(qū)域41的兩側(cè)配置 形成N溝道MOS晶體管用的NMOS區(qū)域40以及42。這些MOS區(qū)域40 ~ 42在列方向上成直線地連續(xù)延伸配置,這些MOS區(qū)域40~ 42中,成一 整列地形成存儲(chǔ)器單元MC。
在PMOS區(qū)域41中,形成P溝道MOS晶體管用的有源區(qū)域52以及 55形成矩形形狀。該有源區(qū)域52以及55分別由在列方向上鄰接的存 儲(chǔ)器單元MC共有。
NMOS區(qū)域40中,形成N溝道MOS晶體管用的N型有源區(qū)域50以及 51成直線狀延續(xù)。又,NM0S區(qū)域42中,形成N溝道MOS晶體管用的N 型有源區(qū)域53以及54保持間距在列方向上直線狀延伸。圖8中虛線所 示的矩形區(qū)域45表示1位的存儲(chǔ)器單元MC的區(qū)域。
該1位存儲(chǔ)器單元MC區(qū)域45中,柵極60在行方向上延伸配置以 使其橫切有源區(qū)域51以及55,并且有源區(qū)域通過(guò)接觸點(diǎn)CN1連接于有 源區(qū)域52。利用柵極電極60與有源區(qū)域51形成圖7所示的MOS晶體 管15B,利用柵極電極60與有源區(qū)域55形成圖7所示的M0S晶體管15A。 同樣,在位于與柵極電極60中心對(duì)稱的位置上,在行方向上延伸配置 柵極61,使其橫切有源區(qū)域52與53,并且通過(guò)接觸點(diǎn)CN2將其與有源 區(qū)域55連接。利用柵極61與有源區(qū)域52形成圖7的MOS晶體管14A, 利用柵極61與有源區(qū)域53形成圖7的MOS晶體管14B。
接觸點(diǎn)CN2與設(shè)置于有源區(qū)域51的接觸點(diǎn)CN3利用在行方向上延 伸的上層的金屬配線層進(jìn)行連接,借助于此形成存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND1,又,接 觸點(diǎn)CN1與設(shè)置于有源區(qū)域53的接觸點(diǎn)CN4利用在行方向上延伸的上 層的金屬配線層進(jìn)行連接,借助于此形成存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)ND2。
夾著柵極60在接觸點(diǎn)CN2的相反側(cè)的有源區(qū)域55,設(shè)置接觸點(diǎn)CN5。 接觸點(diǎn)CN5連接于上層的內(nèi)部電源電壓SVDD的提供用的線上。同樣,夾著柵極61在接觸點(diǎn)CN1的相反側(cè)的有源區(qū)域52,設(shè)置接觸點(diǎn)CN6。 接觸點(diǎn)CN6連接于上層的內(nèi)部電源電壓SVDD的提供用的線上。
又,夾著柵極60在接觸點(diǎn)CN3的相反側(cè)的有源區(qū)域51,設(shè)置接觸 點(diǎn)CN9。接觸點(diǎn)CN9連接于上層的接地電壓VSS的線上。同樣,夾著柵 極61在接觸點(diǎn)CN4的相反側(cè)的有源區(qū)域53,設(shè)置接觸點(diǎn)CNIO。接觸點(diǎn) CN10連接于上層的接地電壓VSS的線上。
柵極62在夾著接觸點(diǎn)CN3與柵極60對(duì)向的位置上形成,并橫切有 源區(qū)域51。又,柵極63在夾著接觸點(diǎn)CN4與柵極61對(duì)向的位置上形 成,并橫切有源區(qū)域53。這些柵極62與63通過(guò)接觸點(diǎn)CNll、 CN12分 別連接于上層字線上,分別構(gòu)成圖7的存取晶體管12、 13。柵極62及 63分別由在行方向上鄰接的存儲(chǔ)器單元MC共有。
夾著柵極62在接觸點(diǎn)CN3的相反側(cè)的有源區(qū)域51設(shè)置接觸點(diǎn)CN7。 接觸點(diǎn)CN7連接于在列方向上延伸的上層的數(shù)據(jù)線DL。同樣,夾著柵 極63在接觸點(diǎn)CN4的相反側(cè)的有源區(qū)域53,設(shè)置接觸點(diǎn)CN8。接觸點(diǎn) CN8連接于于在列方向上延伸的上層數(shù)據(jù)線/DL。
這樣的1位存儲(chǔ)器單元MC區(qū)域45的布局以在行方向和列方向鏡面 對(duì)稱的形狀反復(fù)進(jìn)行配設(shè)。這時(shí),借助于使NM0S區(qū)域40、 42與PM0S 區(qū)域41在列方向直線延伸,能夠以列為單位控制NM0S區(qū)域40、 42以 及PM0S區(qū)域41的勢(shì)阱電位。從而,勢(shì)阱分接點(diǎn)區(qū)域92如圖6所示在 行方向延伸設(shè)置。
圖9是概略表示圖8所示的沿L9-L9的剖面結(jié)構(gòu)的圖。圖9中,存 儲(chǔ)器單元MC在P型(硅)基板69上形成。畫0S區(qū)域40由P勢(shì)阱規(guī)定, PM0S區(qū)域41由N勢(shì)阱規(guī)定,NM0S區(qū)域42由P勢(shì)阱規(guī)定。與這些M0S 區(qū)域?qū)?yīng)的勢(shì)阱區(qū)域以相同符號(hào)表示。在P勢(shì)阱40與P勢(shì)阱42的外側(cè) 分別形成用于形成相鄰存儲(chǔ)器單元MC的P溝道M0S晶體管的N勢(shì)阱66 及67。
為了在這些勢(shì)阱40~ 42、 66、 67中進(jìn)行元件分離,形成槽區(qū)域100 ~ 103。該槽區(qū)域100~ 103分別為淺槽隔離(STI)區(qū)域,分別在勢(shì)阱表 面上形成的槽區(qū)域中充填絕緣膜而形成。有源區(qū)域50~ 54分別為雜質(zhì) 區(qū)域。圖9表示沿著圖8所示的柵極61的剖面結(jié)構(gòu),為了形成頻道區(qū) 域,在圖9中不表示出形成該有源區(qū)域的雜質(zhì)區(qū)域。
柵極61跨越N勢(shì)阱41與P勢(shì)阱42延伸配置,柵極62在P勢(shì)阱40上跨越槽區(qū)域101上形成。因此,為了該晶體管的分離,預(yù)先使用STI 膜,有源區(qū)域50~54分別利用STI區(qū)域分離。 實(shí)施形態(tài)2
實(shí)施形態(tài)2中,表示出利用從圖1的控制電路8輸出的控制信號(hào) WLPD,以與實(shí)施形態(tài)1不同的手段,防止在待機(jī)模式時(shí)發(fā)生數(shù)據(jù)的誤寫 入的方法。實(shí)施形態(tài)2的方法也可以與實(shí)施形態(tài)1組合實(shí)施,也可以獨(dú) 立于實(shí)施形態(tài)1實(shí)施。
圖IO是表示本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)2的SRAM3B的結(jié)構(gòu)的電路圖。
參照?qǐng)D10,實(shí)施形態(tài)2的SRAM3B在還含有將數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL的 電壓設(shè)定為內(nèi)部電源電壓VDD用的電壓設(shè)定電路80以及CMOS逆變器 84、 85這一點(diǎn)上與圖5所示的實(shí)施形態(tài)1的SRAM3不同。
電壓設(shè)定電路80含有P溝道M0S晶體管80A、 80B、 80C。對(duì)其中的 M0S晶體管80A、 80B的源極以及背柵極,提供內(nèi)部電源電壓VDD。 MOS 晶體管80A、 80B的漏極分別連接于數(shù)據(jù)線DL、 /DL。 MOS晶體管80C 連接于數(shù)據(jù)線DL以及/DL之間。對(duì)MOS晶體管80C的背柵極提供電源 電壓VDD。
實(shí)施形態(tài)2的SRAM3B中,對(duì)這些MOS晶體管80A、 80B、 80C的柵 極,通過(guò)逆變器22、 84、 85提供控制信號(hào)WLPD信號(hào)。如實(shí)施形態(tài)1 中說(shuō)明的那樣,逆變器22含有在電源節(jié)點(diǎn)VDD與接地節(jié)點(diǎn)VSS間串聯(lián) 連接的P溝道MOS晶體管22A以及N溝道MOS晶體管22B。向這些MOS 晶體管22A、 22B的柵極輸入控制信號(hào)WLPD。
逆變器84含有在電源節(jié)點(diǎn)SVDD與接地節(jié)點(diǎn)VSS間串聯(lián)連接的P溝 道MOS晶體管84A以及N溝道MOS晶體管84B。這些MOS晶體管84A、 84B的柵極上連接作為逆變器22的輸出節(jié)點(diǎn)的MOS晶體管22A、 22B的 漏極。向MOS晶體管84A的背柵極提供內(nèi)部電源電壓SVDD,向MOS晶 體管84B的背柵極提供接地電壓VSS。
逆變器85含有在電源節(jié)點(diǎn)VDD與接地節(jié)點(diǎn)VSS間串聯(lián)連接的P溝 道MOS晶體管85A以及N溝道MOS晶體管85B。對(duì)這些MOS晶體管85A 的背柵極提供內(nèi)部電源電壓VDD,對(duì)MOS晶體管85B的背柵極提供接地 電壓VSS。 MOS晶體管85A、 85B的柵極上連接作為逆變器84的輸出節(jié) 點(diǎn)的M0S晶體管84A、 84B的漏極。而且,MOS晶體管85A、 85B的漏極 連接于MOS晶體管80A、 80B、 80C的柵極上。如果采用上述結(jié)構(gòu),當(dāng)從通常模式向待機(jī)模式轉(zhuǎn)換時(shí)使控制信號(hào)
WLPD有效化為H電平時(shí),構(gòu)成逆變器22、 84、 85的M0S晶體管22B、 84A、 85B成導(dǎo)通狀態(tài)。 一旦如此,L電平(接地電壓VSS)的信號(hào)被輸 入到M0S晶體管80A、 80B、 80C的柵極,因此MOS晶體管80A、 80B、 80C成導(dǎo)通狀態(tài)。其結(jié)果是,數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL都充電到內(nèi)部電源電壓 VDD。這樣,在數(shù)據(jù)線對(duì)DL、 /DL預(yù)先充電到內(nèi)部電源電壓VDD的狀態(tài) 下,內(nèi)部電源電壓VDD的供給停止,因此即使在圖1的VDD發(fā)生電路6 的輸出電壓下降導(dǎo)致發(fā)生噪音,也能夠防止對(duì)存儲(chǔ)器單元MC的數(shù)據(jù)誤 寫入。
再者,實(shí)施形態(tài)2的讀出放大器34B在還含有驅(qū)動(dòng)P溝道MOS晶體 管81、 N溝道MOS晶體管82、以及MOS晶體管81、 82的柵極用的CMOS 逆變器83這一點(diǎn)上,與圖5所示的實(shí)施形態(tài)1的讀出放大器34不同。
MOS晶體管81連接于電源節(jié)點(diǎn)VDD與MOS晶體管73A、 74A的源極 之間。對(duì)MOS晶體管81的背柵極,提供內(nèi)部電源電壓VDD。又,MOS 晶體管82連接于接地電極VSS與MOS晶體管73A、 74A的源極之間。對(duì) MOS晶體管82的背柵極提供接地電壓VSS。
逆變器83含有串聯(lián)連接電源節(jié)點(diǎn)SVDD與接地節(jié)點(diǎn)VSS之間的P溝 道MOS晶體管83A與N溝道MOS晶體管83B。這些MOS晶體管83A、 83B 的柵極上連接作為逆變器22的輸出節(jié)點(diǎn)的M0S晶體管22A、22B的漏極。 對(duì)MOS晶體管83A的背柵極提供內(nèi)部電源電壓SVDD,對(duì)MOS晶體管83B 的背柵極提供接地電壓VSS。 MOS晶體管83A、 83B的漏極連接于MOS 晶體管81、 82的柵極。
如果采用上述結(jié)構(gòu),在待機(jī)模式中使控制信號(hào)WLPD有效化為H電 平時(shí),構(gòu)成逆變器22、 83的MOS晶體管22B、 83A成導(dǎo)通狀態(tài)。 一旦如 此,就將H電平(內(nèi)部電源電壓SVDD)的信號(hào)輸入到MOS晶體管81、 82的柵極,因此MOS晶體管81成非導(dǎo)通狀態(tài),MOS晶體管82成導(dǎo)通狀 態(tài)。其結(jié)果是,切斷對(duì)構(gòu)成讀出放大器34B的MOS晶體管73A、 74A的 源極提供的內(nèi)部電源電壓VDD的供給。還有,MOS晶體管73A、 74A的 源極的電壓通過(guò)MOS晶體管82固定為接地電壓VSS。因此,在向待機(jī) 模式轉(zhuǎn)換時(shí),在內(nèi)部電源電壓VDD的供給停止前使控制信號(hào)WLPD有效 化為H電平,在恢復(fù)通常模式時(shí),如果在內(nèi)部電源電壓VDD的供給開(kāi)始 后使控制信號(hào)WLPD非有效化為L(zhǎng)電平,則能夠防止因?yàn)閯?dòng)作模式切換而產(chǎn)生的噪音而導(dǎo)致的讀出放大器的錯(cuò)誤動(dòng)作。
又,其他SRAM3B的結(jié)構(gòu)與圖5所示的實(shí)施形態(tài)1的SRAM3相同, 因此對(duì)于相同部分賦予相同的參考符號(hào)而且不重復(fù)說(shuō)明。
上面對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明,但是這只是一個(gè)例子,并且不限于 這個(gè)例子,本發(fā)明的范圍由附屬的權(quán)利要求書進(jìn)行解釋,這是能夠理解 的。
權(quán)利要求
1.一種半導(dǎo)體裝置,作為工作模式包含普通模式和待機(jī)模式,該半導(dǎo)體裝置具備電源部,生成第1以及第2內(nèi)部電源電壓;存儲(chǔ)器單元陣列,包含設(shè)置為行列狀且由所述第1內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng)的多個(gè)存儲(chǔ)器單元、以及分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)存儲(chǔ)器單元的行設(shè)置的多條字線;多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器,分別對(duì)應(yīng)所述多條字線設(shè)置,分別由所述第2內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng),用于使對(duì)應(yīng)的字線成有效狀態(tài);多個(gè)第1開(kāi)關(guān),分別對(duì)應(yīng)于所述多條字線設(shè)置,分別連接于對(duì)應(yīng)的字線和賦予基準(zhǔn)電壓的基準(zhǔn)節(jié)點(diǎn)之間;第2開(kāi)關(guān),設(shè)置于對(duì)所述多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器提供所述第2內(nèi)部電源電壓用的電源線上;以及控制電路,其中,所述控制電路在所述工作模式從所述通常模式切換到所述待機(jī)模式時(shí),使所述多個(gè)第1開(kāi)關(guān)為導(dǎo)通狀態(tài),使所述第2開(kāi)關(guān)為非導(dǎo)通狀態(tài),此后停止所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,所述控制電路在所述工作模式從所述待機(jī)模式切換到所述通常模式時(shí),開(kāi)始所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,此后使所述多個(gè)第1開(kāi)關(guān)成非導(dǎo)通狀態(tài),使所述第2開(kāi)關(guān)成導(dǎo)通狀態(tài)。
2. 權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述控制電路在通常模式時(shí)輸出對(duì)應(yīng)于所述基準(zhǔn)電壓的第1邏輯電平信號(hào),在所迷待機(jī)模式時(shí)輸出使所述第l邏輯電平反轉(zhuǎn)后的第2邏輯 電平信號(hào);所述半導(dǎo)體裝置還具備第1逆變器,由所述第2內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng),接受所述控制電路的 輸出信號(hào),輸出使邏輯電平反轉(zhuǎn)后的信號(hào);以及第2逆變器,由所迷第1內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng),接受所述第l逆變器 的輸出信號(hào),輸出使邏輯電平反轉(zhuǎn)后的信號(hào),所述第2開(kāi)關(guān)相應(yīng)于所述第2逆變器的輸出信號(hào)切換為導(dǎo)通或非導(dǎo)通。
3. 權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述第1以及第2逆變器為CMOS逆變器。
4. 權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述第2開(kāi)關(guān)以及所述第2逆變器分別設(shè)置多個(gè), 形成所述半導(dǎo)體裝置的半導(dǎo)體基板上的區(qū)域含有多個(gè)第1~第4區(qū)域,所述多個(gè)第1區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域以及所述多個(gè)第2區(qū)域的每一個(gè)區(qū) 域沿著所述多個(gè)存儲(chǔ)器單元的列方向交替配置,所述多個(gè)第3區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域以及所述多個(gè)第4區(qū)域的每一個(gè)區(qū) 域沿著所述列方向交替配置,所述多個(gè)第1區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域與所述多個(gè)第3區(qū)域的1個(gè)區(qū)域在 所述多個(gè)存儲(chǔ)器單元的行方向上鄰接,所述多個(gè)第2區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域與所述多個(gè)第4區(qū)域的1個(gè)區(qū)域在 所述行方向上鄰接,將所述存儲(chǔ)器單元陣列分割為多個(gè)分別配置在所述多個(gè)第1區(qū)域中,在所述多個(gè)第2區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域中,設(shè)有用于固定所述半導(dǎo)體基 板上形成的多個(gè)勢(shì)阱的電位的多個(gè)勢(shì)阱分接頭,所述多個(gè)第3區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域中,配置對(duì)應(yīng)于設(shè)置在相鄰的第1 區(qū)域上的字線的字線驅(qū)動(dòng)器,所述多個(gè)第4區(qū)域的每一個(gè)區(qū)域中,配置多個(gè)所述第2開(kāi)關(guān)的至少 一個(gè)以及多個(gè)所述第2逆變器的至少一個(gè)。
5. 權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述半導(dǎo)體裝置還具備第3開(kāi)關(guān),該第3開(kāi)關(guān)連接在比所述第2開(kāi)關(guān)更靠近所述多個(gè)字線驅(qū)動(dòng)器的位置的所述電源線和所述基準(zhǔn)節(jié)點(diǎn)之 間,所述控制電路在所述工作模式從所述通常模式切換為待機(jī)模式時(shí), 使所述第3開(kāi)關(guān)成導(dǎo)通狀態(tài),此后停止所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,所述控制電路在所述工作模式從所述待機(jī)模式切換為所述通常模式 時(shí),開(kāi)始所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,其后使所述第3開(kāi)關(guān)為非導(dǎo)通 狀態(tài)。
6. 權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述控制電路在所述通常模式時(shí)輸出對(duì)應(yīng)于所述基準(zhǔn)電壓的第1邏輯電平的信號(hào),在所述待機(jī)模式時(shí)輸出使所述第1邏輯電平反轉(zhuǎn)后的第2邏輯電平信號(hào);所述半導(dǎo)體裝置具還備第1逆變器,由所述第2內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng),接受所述控制電路的 輸出信號(hào),輸出使邏輯電平反轉(zhuǎn)后的信號(hào),以及第2逆變器,由所述第1內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng),接受所述第l逆變器 的輸出信號(hào),輸出使邏輯電平反轉(zhuǎn)后的信號(hào),所述第2以及第3開(kāi)關(guān)相應(yīng)于所述第2逆變器的輸出信號(hào)切換為導(dǎo) 通或非導(dǎo)通。
7. 權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述第1以及第2逆變器為CMOS逆變器。
8. 權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述存儲(chǔ)器單元陣列還含有分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)存儲(chǔ)器單元的列設(shè)置的多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì),所述半導(dǎo)體裝置還具備多個(gè)電壓設(shè)定電路,該多個(gè)電壓設(shè)定電路分 別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì)設(shè)置,根據(jù)來(lái)自所述控制電路的指令,將分 別對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)線對(duì)的電壓設(shè)定為所述第2內(nèi)部電源電壓,所述控制電路在所述工作模式從所述通常模式切換為所述待機(jī)模式 時(shí),利用所述多個(gè)電壓設(shè)定電路將所述多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì)的電壓設(shè)定為等于 所述第2內(nèi)部電源電壓,此后停止所述第2內(nèi)部電源電壓的供給。
9. 權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 所述存儲(chǔ)器單元陣列還含有分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)存儲(chǔ)器單元的列設(shè)置的多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì);所述半導(dǎo)體裝置還具備讀出放大器,由所述第2內(nèi)部電源電壓驅(qū)動(dòng),與所述多個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì) 的各個(gè)數(shù)據(jù)線對(duì)分別連接;以及第4開(kāi)關(guān),連接于所述讀出放大器,根據(jù)來(lái)自所述控制電路的指令, 切斷對(duì)所述讀出放大器的所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,所述控制電路在所述工作模式從所述通常模式切換為所述待機(jī)模式 時(shí),使所述第4開(kāi)關(guān)為非導(dǎo)通狀態(tài),其后停止所述第2內(nèi)部電源電壓的 供給,所述控制電路在所述工作模式從所述待機(jī)模式切換為所述通常模式時(shí),開(kāi)始所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,此后使所述第4開(kāi)關(guān)為導(dǎo)通狀 態(tài)。
10.權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,所述半導(dǎo)體裝置還具備第5開(kāi)關(guān),該第5開(kāi)關(guān)連接于所述笫4開(kāi)關(guān) 與所述讀出放大器的連接節(jié)點(diǎn)、與所述基準(zhǔn)節(jié)點(diǎn)之間,所述控制電路在所述工作模式從所述通常模式切換為所述待機(jī)模式 時(shí),使所述第5開(kāi)關(guān)成導(dǎo)通狀態(tài),此后停止所述第2內(nèi)部電源電壓的供 給,所述控制電路在所述工作模式從所述待機(jī)模式切換為所述通常模式 時(shí),開(kāi)始所述第2內(nèi)部電源電壓的供給,此后使所述第5開(kāi)關(guān)成非導(dǎo)通 狀態(tài)。
全文摘要
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置。在向待機(jī)模式轉(zhuǎn)換時(shí),利用控制信號(hào)(WLPD)使第1晶體管(11)成導(dǎo)通狀態(tài),將字線(WL)固定為接地電壓(VSS)。還有,使第2晶體管(21)成非導(dǎo)通狀態(tài),切斷對(duì)字線驅(qū)動(dòng)器(WD)的內(nèi)部電源電壓(VDD)的供給。其后,為節(jié)約電力停止內(nèi)部電源電壓(VDD)的供給。在向通常模式回歸時(shí),開(kāi)始內(nèi)部電源電壓(VDD)的供給之后,利用控制信號(hào)(WLPD)使第1晶體管(11)為非導(dǎo)通狀態(tài),使第2晶體管(21)為導(dǎo)通狀態(tài)。
文檔編號(hào)G11C11/413GK101540196SQ200910007019
公開(kāi)日2009年9月23日 申請(qǐng)日期2009年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月5日
發(fā)明者上利武, 中井宏明, 佐藤?gòu)V利, 千田稔, 赤井清恭 申請(qǐng)人:株式會(huì)社瑞薩科技