專利名稱：一種磁頭浮動輥定位機構(gòu)及采用該機構(gòu)的磁記錄裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及記錄介質(zhì)處理裝置，尤其涉及一種磁頭浮動輥的定位機 構(gòu)及采用該機構(gòu)的,茲記錄裝置。
背景技術(shù)：
具有磁道的記錄介質(zhì)，通常稱為磁記錄介質(zhì)，比如說磁卡、磁票、磁盤 等。用于向磁記錄介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)的裝置，稱為磁記錄裝置。磁記錄裝 置通常設(shè)置有將磁記錄介質(zhì)中的磁信號轉(zhuǎn)換為電信號或者將接收的電信號轉(zhuǎn) 化為磁介質(zhì)上的磁記錄信號的,茲頭，》茲頭工作時，需要一定的壓力將,茲記錄 介質(zhì)壓在;茲頭上，并且磁記錄介質(zhì)還需要以運動方式在》茲頭上移動。為此， 一般使用磁頭浮動輥對磁記錄介質(zhì)施加壓力。磁頭浮動輥是可繞其浮動支撐 軸旋轉(zhuǎn)的滾筒形的磁頭浮動輥，通過彈簧或其他施力元件向其施力，磁頭浮 動輥可以將磁記錄介質(zhì)壓在》茲頭上。
現(xiàn)有的磁記錄裝置的結(jié)構(gòu)如圖1所示，磁記錄裝置100包括上框架1和 下框架2，上框架1上浮動設(shè)置磁頭浮動輥3，下框架2上固定設(shè)置磁頭4。 其中，磁頭浮動輥3與磁頭4相對應(yīng)，當記錄介質(zhì)從磁頭4和磁頭浮動輥3 之間通過時，磁頭4可以向記錄介質(zhì)寫入或讀取數(shù)據(jù)。為了可靠的讀、寫磁 數(shù)據(jù)，需要在磁頭浮動輥3和磁頭4之間設(shè)置均勻的壓力。因此，在上框架 上設(shè)置沿豎直方向延伸的長孔10，磁頭浮動輥3兩支撐軸的軸端30安裝在 長孔10內(nèi)，同時，在磁頭浮動輥3與上框架l之間設(shè)置彈性元件5，當彈性 元件5 4齊壓》茲頭浮動輥3時，》茲頭浮動輥3在長孔10內(nèi)有一定的移動空間， 可以向磁頭4提供預(yù)定的壓力。同時，為了便于清洗磁頭，在上框架l和下 框架2之間設(shè)置樞軸6和開啟結(jié)構(gòu)7。開啟機構(gòu)7包括鎖緊軸70、拉簧71、 限位槽11,及鎖鉤20。限位槽11設(shè)置在上框架1上，鎖緊軸70穿過限位槽 11,拉簧71—端掛接在鎖緊軸70上，另外一端設(shè)置在上框架1上。鎖鉤20 設(shè)置在下框架2上。當上框架1與下框架2卡合時，鎖緊軸70卡接在鎖緊軸 20上，鎖緊軸70兩軸端支撐在下框架2的側(cè)面。在拉簧71的拉力作用下， 上框架1相對下框架2穩(wěn)定。當沿箭頭P方向拉動鎖緊軸70時，鎖緊軸70脫離鎖鉤20;同時逆時針旋轉(zhuǎn)上框架l,上框架1與下框架2分離。
但是，由于零件加工誤差和裝配誤差的存在，上框架1與下框架2卡合 后，磁頭浮動輥3與磁頭4配合位置不準確。如圖2所示，由于整體裝配誤 差，上框架1整體相對于下框架2傾斜a度，造成磁頭浮動輥3與磁頭4配 合間隙不一致。這樣，當》茲記錄介質(zhì)通過時，在彈性元件5的作用下，在記 錄介質(zhì)寬度方向上，引起磁頭浮動輥3與磁頭之間壓力不一致，從而可能造 成讀寫磁失敗。如圖3所示，由于上框架l存在的加工誤差使上框架1兩側(cè) 長孔10的最低點相差L毫米，磁頭浮動輥3與磁頭4配合間隙不一致，這 樣，當磁記錄介質(zhì)通過時，在彈性元件5的作用下，在記錄介質(zhì)寬度方向上， 引起磁頭浮動輥3與磁頭之間壓力不一致，從而可能造成讀寫磁失敗。
現(xiàn)有技術(shù)中，主要通過提高零件加工精度和裝配精度解決上述問題，但 是加工精度越高，加工成本越高；裝配精度越高，裝配效率越低，因此現(xiàn)有 技術(shù)中的方法不僅增加了產(chǎn)品成本，還降低了生產(chǎn)效率。
實用新型內(nèi)容
在不增加產(chǎn)品成本和降低生產(chǎn)效率的前提下，為了解決零件加工誤差或 裝配誤差造成的磁頭浮動輥與磁頭配合間隙不一致的問題，本實用新型提供 了 一種^茲頭浮動輥的定位才幾構(gòu)及采用該機構(gòu)的-茲記錄裝置。
一種石茲頭浮動輥定位^/L構(gòu)，在^f茲記錄裝置下框架的兩側(cè)各^:置一個定位 邊，所述下框架兩側(cè)的定位邊相對于下框架上的磁頭的垂直高度相等，工作 狀態(tài)下，所述^f茲頭浮動輥的兩浮動支撐軸的軸端搭^接在所述定位邊上。
優(yōu)選地，所述定位邊高于磁頭浮動輥軸端上下浮動的最低點。
優(yōu)選地，所述定位邊為槽形，所述定位邊的寬度不小于所述磁頭浮動輥 支撐軸的軸端的寬度。
優(yōu)選地，所述定位邊為長條形。
一種磁記錄裝置，包括上框架、下框架、磁頭浮動輥、磁頭、彈性元件； 所述上框架的兩側(cè)設(shè)置有沿豎直方向延伸的長孔，所述^f茲頭浮動輥的兩個支 撐軸的軸端安裝在所述長孔內(nèi)；所述磁頭固定在下框架上；所述磁頭浮動輥 和所述磁頭相對應(yīng)，所述石茲頭浮動輥與所述,茲頭之間形成記錄介質(zhì)輸送通道； 所述上框架和所述磁頭浮動輥之間設(shè)置有彈性元件；在下框架上安裝有以上
4所述的定位才幾構(gòu)。
優(yōu)選地，所述定位邊高于所述長孔的最低點。
本實用新型通過在磁記錄裝置的下框架的兩側(cè)相對于上框架兩側(cè)的長孔 的位置設(shè)置限位邊，下框架兩側(cè)的限位邊相對于下框架上的磁頭的垂直高度 相等，浮動輥的兩支撐軸的軸端^^接在限位邊上，限定了》茲頭浮動輥相對于 磁頭的垂直位置。這樣即使上框架兩側(cè)的長孔的最低點不一致，或者上框架 與下框架裝配不平行都不會影響磁頭浮動輥相對于磁頭的垂直位置。這樣在 既不增加產(chǎn)品成本，又不降低生產(chǎn)效率的情況下，解決了磁頭浮動輥與磁頭 配合間隙不一致的問題。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)磁記錄裝置示意圖2為現(xiàn)有技術(shù)存在裝配誤差時磁頭浮動輥與磁頭的配合狀態(tài)示意圖； 圖3為現(xiàn)有技術(shù)存在加工誤差時磁頭浮動輥與磁頭的配合狀態(tài)示意圖； 圖4為本實用新型磁記錄裝置局部示意圖； 圖5為本實用新型磁記錄裝置的剖視圖； 圖1-圖5中
磁記錄裝置100、上框架l、下框架2、磁頭浮動輥3、磁頭4、彈性元 件5、片區(qū)軸6、開啟4幾構(gòu)7、長孔IO、鎖鉤20、》茲頭浮動輥的軸端30、限位 槽ll、鎖緊軸70、拉簧71、限位邊21、長孔最低點S。
具體實施方式

針對零件加工誤差或裝配誤差造成的磁頭浮動輥與磁頭配合間隙不一致 的問題，本實用新型提供了一種浮動輥的定位機構(gòu)及采用該機構(gòu)的磁記錄裝 置。通過在下框架的兩個側(cè)面相對于上框架長孔的位置設(shè)置限位邊，限定了 磁頭浮動輥相對于磁頭的垂直位置。這樣即使上框架兩側(cè)的長孔的最低點不 一致，或者上框架與下框架裝配不平行都不會影響磁頭浮動輥相對于磁頭的 垂直4立置。
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的內(nèi)容進行描述，以下的描述僅是示范性和解釋 性的，不應(yīng)對本發(fā)明的保護范圍有任何的限制作用。
第一個實施例提供了一種磁頭浮動輥的定位機構(gòu)。磁記錄裝置的上框體的兩側(cè)各設(shè)置一個沿豎直方向延伸的長孔10, ^磁頭浮動輥的兩個軸端30安 裝在長孔10內(nèi)，并可在長孔10內(nèi)上下移動；磁頭浮動輥3與上框架之間設(shè) 置有彈性元件5,磁記錄裝置的下框架上固定安裝一個磁頭，磁頭浮動輥和 磁頭向?qū)?yīng)，二者之間形成記錄介質(zhì)輸送通道，當磁介質(zhì)從磁頭浮動輥3和 磁頭之間通過時，磁頭可以向,茲介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
如圖5所示，為了保證磁頭浮動輥3和磁頭4垂直裝配的精度，進而保 證磁頭浮動輥3和磁頭4之間的間隙一致，在下框架2的兩側(cè)相對于上框架 1的長孔10的位置各設(shè)置一個限位邊，限位邊的高度高于長孔10的最低點S 的高度，且下框架2兩側(cè)面的限位邊相對于磁頭4的垂直高度相等。當上框 架1與下框架2閉合時，磁頭浮動輥的軸端30搭接在限位邊21上。因此， 在裝配狀態(tài)下，只有限位邊21限定了磁頭浮動輥3相對于磁頭4的垂直位置。 由于上框架2兩側(cè)面的限位邊相對于磁頭4的高度相等且限位邊的高度高于 長孔最低點的高度，即使上框架1與下框架2裝配不平行，或者上框架1兩 側(cè)的長孔10最低點位置不一致都會不會影響磁頭浮動輥3相對于磁頭4的垂 直位置。這樣就能保證磁頭浮動輥3和磁頭4之間的間隙一致，當磁介質(zhì)從 磁頭浮動輥3和磁頭4之間通過時，在彈性元件5的作用下，磁頭浮動輥3 和磁頭4之間的壓力一致，磁頭4就可以可靠地向磁介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
其中，限位邊只限制磁頭浮動輥3相對于磁頭4的垂直方向的位置，只 需相對于磁頭的垂直方向上保證磁記錄裝置下框架兩側(cè)的限位邊高度相等， 而限位邊的形狀尺寸則無限定。如圖4所示，限位邊可以為槽形， >磁頭浮動 輥的軸端30正好可以搭接在槽內(nèi)，槽形限位邊的底邊高于上框架上長孔10 的最低點S。限位邊還可以為長條形，只要能保證磁頭浮動輥的軸端30能搭 接在限位邊上即可，就能限定》茲頭浮動輥3相對于/f茲頭4垂直位置。
本實用新型還提供了 一種采用上述磁頭浮動輥定位機構(gòu)的磁記錄裝置。 第二個實施例，簡單介紹下這種磁記錄裝置。磁記錄裝置100包括上框架1 和下框架2,上框架1上浮動設(shè)置磁頭浮動輥3,下框架上固定設(shè)置磁頭4。 上框架1和下框架2之間設(shè)置有開啟、鎖緊裝置，使得上框架可以相對于下 框架閉合或分離。上框體的兩側(cè)各設(shè)置一個沿豎直方向延伸的長孔10，磁頭 浮動輥的兩個軸端30安裝在長孔10內(nèi)，》茲頭浮動輥的軸端30可以在長孔10里上下浮動，長孔的上下頂點為磁頭浮動輥軸端浮動的最高點和最低點， 磁頭浮動輥3與上框架1之間設(shè)置有彈性元件5,磁頭4固定在下框架體上， 磁頭浮動輥和磁頭相對應(yīng)，二者之間形成記錄介質(zhì)輸送通道。這樣，當上框 架與下框架閉合時，利用彈性元件5擠壓磁頭浮動輥3可以向磁頭提供預(yù)定 的壓力。當記錄介質(zhì)從磁頭4和磁頭浮動輥3之間通過時，磁頭可以向記錄 介質(zhì)寫入或讀取數(shù)據(jù)。
如圖5所示，為了保證磁頭浮動輥3和磁頭4垂直裝配的精度，進而保 證磁頭浮動輥3和磁頭4之間的間隙一致，在下框架2的兩側(cè)相對于上框架 1的長孔10的位置各設(shè)置一個限位邊，限位邊的高度高于長孔10的最低點S 的高度，且下框架2兩側(cè)面的限位邊相對于磁頭4的垂直高度相等。當上框 架1與下框架2閉合時，磁頭浮動輥的軸端30搭接在限位邊21上。因此， 在裝配狀態(tài)下，只有限位邊21限定了磁頭浮動輥3相對于磁頭4的垂直位置。 由于上框架2兩側(cè)面的限位邊相對于磁頭4的高度相等且限位邊的高度高于 長孔最低點的高度，即使上框架1與下框架2裝配不平行，或者上框架l兩 側(cè)的長孔10最低點位置不一致都會不會影響磁頭浮動輥3相對于磁頭4的垂 直位置。這樣就能保證磁頭浮動輥3和磁頭4之間的間隙一致，當磁介質(zhì)從 磁頭浮動輥3和磁頭4之間通過時，在彈性元件5的作用下，磁頭浮動輥3 和磁頭4之間的壓力一致，磁頭4就可以可靠地向磁介質(zhì)讀取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
其中，卩艮位邊只限制磁頭浮動輥3相對于磁頭4的垂直方向的位置，只 需相對于磁頭的垂直方向上保證磁記錄裝置下框架兩側(cè)的限位邊高度相等， 而限位邊的形狀尺寸則無限定。如圖4所示，限位邊可以為槽形，磁頭浮動 輥的軸端30正好可以搭接在槽內(nèi)，槽形限位邊的底邊高于上框架上長孔10 的最低點S。限位邊還可以為長條形，只要能保證磁頭浮動輥的軸端30能搭 接在限位邊上即可，就能限定石茲頭浮動輥3相對于磁頭4垂直位置。
本實施例是通過在現(xiàn)有的磁記錄裝置的下框架上安裝了磁頭浮動輥的定 位才幾構(gòu)，來完成對上框架上的-茲頭浮動輥相對于,茲頭在垂直方向上的定位， 從而保證了》茲頭浮動輥和磁頭之間的間隙一致，當石茲記錄介質(zhì)從磁頭浮動輥 和磁頭之間通過時，在彈性元件的作用下，磁頭可以可靠地向磁記錄介質(zhì)讀 取或?qū)懭霐?shù)據(jù)。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式的描述，應(yīng)當指出，由于文字 表達的有限性，而在客觀上存在無限的具體結(jié)構(gòu)，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技 術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以做出若干改進和潤 飾，這些改進和潤飾也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1. 一種磁頭浮動輥定位機構(gòu)，其特征在于，在磁記錄裝置下框架的兩側(cè)各設(shè)置一個定位邊，所述下框架兩側(cè)的定位邊相對于下框架上的磁頭的垂直高度相等，工作狀態(tài)下，所述磁頭浮動輥的兩浮動支撐軸的軸端搭接在所述定位邊上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位機構(gòu)，其特征在于，所述定位邊高于^f茲頭浮 動輥軸端上下浮動的最低點。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位機構(gòu)，其特征在于，所述定位邊為槽形，所 述定位邊的寬度不小于所述磁頭浮動輥支撐軸的軸端的寬度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位機構(gòu)，其特征在于，所述定位邊為長條形。
5. —種磁記錄裝置，包括上框架、下框架、磁頭浮動輥、磁頭、彈性元件； 所述上框架的兩側(cè)設(shè)置有沿豎直方向延伸的長孔，所述磁頭浮動輥的兩個支撐 軸的軸端安裝在所述長孔內(nèi)；所述磁頭固定在下框架上；所述磁頭浮動輥和所 述》茲頭相對應(yīng)，所述石茲頭浮動輥與所述i茲頭之間形成記錄介質(zhì)輸送通道；所述 上框架和所述磁頭浮動輥之間設(shè)置有彈性元件；其特征在于，在下框架上安裝 有權(quán)利要求1-4所述的定位機構(gòu)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁記錄裝置，其特征在于，所述定位邊高于所述 長孔的最低點。
專利摘要本實用新型公開了一種磁頭浮動輥定位機構(gòu)。在磁記錄裝置的下框架的兩側(cè)相對于上框架兩側(cè)的長孔的位置各設(shè)置一個限位邊，下框架兩側(cè)的限位邊相對于下框架上的磁頭的垂直高度相等，磁頭浮動輥的兩支撐軸的軸端搭接在限位邊上，限定了磁頭浮動輥相對于磁頭的垂直位置。這樣即使上框架兩側(cè)的長孔的最低點不一致，或者上框架與下框架裝配不平行都不會影響磁頭浮動輥相對于磁頭的垂直位置。這樣在既不增加產(chǎn)品成本，又不降低生產(chǎn)效率的情況下，解決了磁頭浮動輥與磁頭配合間隙不一致的問題。本實用新型還公開了一種采用上述磁頭浮動輥的定位機構(gòu)的磁記錄裝置。
文檔編號G11B5/48GK201237900SQ200820115798
公開日2009年5月13日 申請日期2008年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月5日
發(fā)明者孫嘉嶺, 明 高, 濤 高 申請人:山東新北洋信息技術(shù)股份有限公司