專利名稱：光盤裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種光盤裝置及其驅(qū)動方法，特別是光盤裝置的聚焦控制。
背景技術(shù)：
記錄在光盤中的數(shù)據(jù)，是通過讓比較弱的一定光量的光束照射旋轉(zhuǎn)的光盤上，檢測出被光盤所調(diào)制的反射光來進行再生的。
再生專用光盤中，在光盤的制造階段預先記錄有螺旋狀的凹坑信息。與此相對，可重寫光盤中，在形成了有螺旋狀的突起與凹槽的軌跡的基材的表面，通過蒸鍍等方法堆積有能夠光學進行數(shù)據(jù)的記錄/再生的記錄材料膜。在可重寫光盤中記錄數(shù)據(jù)的情況下，將根據(jù)應當記錄的數(shù)據(jù)而調(diào)制了光量的光束照射在光盤上，通過這樣來局部變化記錄材料膜的特性，進行數(shù)據(jù)的寫入。
另外，凹坑的深度、凹槽的深度以及記錄材料膜的厚度與光盤基材的厚度相比非常小。因此，光盤中記錄有數(shù)據(jù)的部分，構(gòu)成2維的面，有時稱作“信息記錄面”。本說明書中，考慮到這樣的信息記錄面在深度方向也有物理大小，使用“信息記錄層(information storage layer)”這一詞語來代替“信息記錄面”。光盤至少具有1個這樣的信息記錄層。另外，1個記錄層在現(xiàn)實中可以包括相變化材料層或反射層等多個層。
在可記錄光盤中記錄數(shù)據(jù)時，或再生這樣的的光盤中所記錄的數(shù)據(jù)時，需要讓光束在信息記錄層中的目標軌跡上常時處于給定的聚焦狀態(tài)。因此，需要“聚焦控制”以及“追蹤控制”?！熬劢箍刂啤笔窃谛畔⒂涗泴拥姆ň€方向(以下稱作“基板的深度方向”)上控制物鏡的位置，讓光束的焦點(聚焦點)的位置總是位于信息記錄層上。另外，追蹤控制是指在光盤的半徑方向(以下稱作“盤徑向”)控制物鏡的位置，使得光束的光點位于給定的軌道上。
近年來，作為高密度·大容量的記錄媒體，DVD-ROM、DVD-RAM、DVD-RW、DVD-R、+RW、+R等光盤已經(jīng)實用化了。對應于這些光盤的光盤裝置中，使用數(shù)值孔徑(NA)為0.6的光學透鏡(物鏡)。為了進行進一步的高密度化·大容量化，還開發(fā)出了例如BD(Blu-ray Disc)等下一代光盤，并且逐漸走向?qū)嵱没?。對于這樣的下一代光盤，有人討論采用NA為0.8以上的光學透鏡。例如專利文獻1中就公布了這樣的光盤裝置的以往例。
專利文獻1中公布了根據(jù)照射光盤的激光的強度，來變化聚焦誤差信號(FE信號)的大小，以及基于用反射光量除FE信號后的“歸一化FE信號”的聚焦伺服控制。根據(jù)專利文獻1，對應于再生、記錄以及刪除等各個動作模式，不同的電氣偏移產(chǎn)生歸一化FE信號。該偏移是用于歸一化的電路系統(tǒng)所引起的，在再生、記錄、刪除等各個模式下具有不同的大小。如果在再生模式下能夠完全校正該偏移，則在記錄以及刪除模式下就無法補償偏移，有可能會產(chǎn)生激光的散焦。
專利文獻1中所公布的聚焦伺服控制中，以再生模式下的偏移量為基準，求出與其他模式的偏移量之間的差，在記錄·刪除模式下也能夠適當?shù)难a償偏移，通過這樣，在所有的動作模式下都能夠抑制散焦的發(fā)生。
專利文獻1特開平11-273099號公報(第9～18、35～51段，圖1～9)。
根據(jù)上述以往技術(shù)，能夠消除再生、記錄以及刪除各自的電路系統(tǒng)的電氣偏移，但在再生、記錄以及刪除的各個模式下的最佳聚焦位置不同的情況下，就無法進行適當?shù)膶?br> 根據(jù)本發(fā)明人的討論，可以得知如果NA越大，則再生、記錄以及刪除等各個模式下的最佳聚焦位置便互不相同。關于其原因?qū)⒃诤竺嬲f明，但以前的光盤裝置，并不進行根據(jù)動作模式，將激光的聚焦位置變化到最佳位置的操作。
另外，在動作模式從再生切換到記錄，或從再生切換刪除時，如果簡單的切換聚焦位置，同時變化激光的強度，則不能夠進行可靠性高的聚焦控制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述以前的問題而提出，主要目的在于提供一種在動作模式從再生切換到記錄，或從再生切換刪除時、記錄開始時或刪除開始時，能夠執(zhí)行可靠性高的動作的光盤裝置。
本發(fā)明的光盤裝置，包括生成光束的光源；對上述光束進行聚光的物鏡；讓上述物鏡相對光盤移動的調(diào)節(jié)器；聚光狀態(tài)檢測機構(gòu)，其生成與上述光盤的信息記錄層上的上述光束的聚光狀態(tài)相對應的聚焦誤差信號；以及聚焦控制機構(gòu)，根據(jù)表示上述光束的目標聚焦位置的信息與上述聚焦誤差信號，控制上述調(diào)節(jié)器的動作，將上述光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到上述目標聚焦位置上；對應于再生模式與記錄模式之間的切換，進行上述光束的目標聚焦位置的變更。
作為優(yōu)選方式，上述光束的目標聚焦位置，包括上述再生模式下的第1目標聚焦位置以及上述記錄模式下的第2目標聚焦位置；上述聚焦控制機構(gòu)，將上述光束的聚焦位置，在上述再生模式下調(diào)節(jié)在上述第1目標聚焦位置，在上述記錄模式下調(diào)節(jié)在上述第2目標聚焦位置。
作為優(yōu)選方式，上述光束的目標聚焦位置，包括刪除模式下的第3目標聚焦位置；上述聚焦控制機構(gòu)，在上述刪除模式下將上述光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到上述第3目標聚焦位置。
作為優(yōu)選方式，在對應于上述再生模式與上述記錄模式之間的切換，進行上述目標聚焦位置的變更時，在用與上述目標聚焦位置的變更時刻不同的時刻，切換上述光束的光量。
作為優(yōu)選方式，具有聚焦位置變更機構(gòu)，對規(guī)定上述光束的目標聚焦位置的聚焦位置信息進行變更；以及切換上述光束的光量的光束光量切換機構(gòu)，上述聚焦位置變更機構(gòu)，對應于再生模式與記錄模式之間的切換，在與切換上述光束的光量的時刻不同的時刻，輸出對新模式的聚焦位置信息。
作為優(yōu)選方式，在上述光束光量切換機構(gòu)將上述光束的光量從再生用切換到記錄用或刪除用時，上述聚焦位置變更機構(gòu)，將上述聚焦位置信息從再生用切換到記錄用或刪除用；上述光束光量切換機構(gòu)，在上述聚焦位置信息的切換之后，切換上述光束的光量。
作為優(yōu)選方式，上述聚焦位置變更機構(gòu)具有保存再生用聚焦位置的第1存儲部、保存再生用聚焦位置相對于上述記錄用聚焦位置的第1差值的第2存儲部、及保存再生用聚焦位置相對于上述刪除用聚焦位置的第2差值的第3存儲部；在輸出上述再生用聚焦位置信息時，輸出上述再生用聚焦位置，在輸出上述記錄用聚焦位置信息時，在上述再生用聚焦位置中加上上述第1差值并輸出，在輸出上述刪除用聚焦位置信息時，在上述再生用聚焦位置中加上上述第2差值并輸出。
作為優(yōu)選方式，上述第1差值以及上述第2差值，具有對應于光盤的記錄特性而不同的值。
作為優(yōu)選方式，上述第1差值以及上述第2差值，根據(jù)光盤中所記錄的信息來更新。
作為優(yōu)選方式，還具有電路偏移去除部；上述電路偏移去除部，將對應于上述再生模式與記錄模式之間的切換而產(chǎn)生的電路偏移量，輸出給上述聚焦控制機構(gòu)。
作為優(yōu)選方式，上述聚焦位置變更機構(gòu)變更了聚焦位置信息之后，在上述光束的光量切換之前，讓上述物鏡移動到記錄目的位置上。
作為優(yōu)選方式，聚焦位置變更機構(gòu)，對規(guī)定上述光束的目標聚焦位置的聚焦位置信息進行變更；以及聚焦位置信息取得部，從光盤裝置的外部取得上述聚焦位置信息。
作為優(yōu)選方式，上述聚焦位置信息取得部，從上述光盤中所記錄的數(shù)據(jù)中取得上述聚焦位置信息。
作為優(yōu)選方式，上述聚焦位置信息取得部，通過由互聯(lián)網(wǎng)或電波所連接的基站的傳輸，取得上述聚焦位置信息。
作為優(yōu)選方式，具有聚焦位置變更機構(gòu)，對規(guī)定上述光束的目標聚焦位置的聚焦位置信息進行變更；通過學習來決定上述目標聚焦位置。
作為優(yōu)選方式，具有對上述光盤的信息記錄層進行邏輯初始化的初始化機構(gòu)；在通過上述初始化機構(gòu)初始化上述光盤的信息記錄層時，將通過上述學習所決定的目標聚焦位置，保存到上述光盤中。
本發(fā)明的光盤，記錄有表示在再生模式與記錄模式下互不相同的目標聚焦位置的信息。
本發(fā)明的光盤裝置的驅(qū)動方法，是一種具有生成光束的光源；對上述光束進行聚光的物鏡；讓上述物鏡相對光盤移動的調(diào)節(jié)器；聚光狀態(tài)檢測機構(gòu)，其生成與上述光盤的信息記錄層上的上述光束的聚光狀態(tài)相對應的聚焦誤差信號；以及聚焦控制機構(gòu)，其根據(jù)表示上述光束的目標聚焦位置的信息與上述聚焦誤差信號，控制上述調(diào)節(jié)器的動作，將上述光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到上述目標聚焦位置上的光盤裝置的驅(qū)動方法，包括在進行再生模式和記錄模式之間的切換時，將上述光束的目標聚焦位置，在再生模式下的值和記錄模式下的值之間進行切換的步驟；以及將上述光源所生成的光束的光量，在再生模式下的值和記錄模式下的值之間進行切換的步驟。
本發(fā)明的電子部件，是一種內(nèi)置有對光盤裝置進行驅(qū)動的程序的電子部件，上述光盤裝置備有對具有生成光束的光源；對上述光束進行聚光的物鏡；讓上述物鏡相對光盤移動的調(diào)節(jié)器；聚光狀態(tài)檢測機構(gòu)，其生成與上述光盤的信息記錄層上的上述光束的聚光狀態(tài)相對應的聚焦誤差信號；以及聚焦控制機構(gòu)，其根據(jù)表示上述光束的目標聚焦位置的信息與上述聚焦誤差信號，控制上述調(diào)節(jié)器的動作，將上述光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到上述目標聚焦位置上，上述程序讓上述光盤裝置執(zhí)行在進行再生模式和記錄模式之間的切換時，將上述光束的目標聚焦位置，在再生模式下的值和記錄模式下的值之間進行切換的步驟；以及將上述光源所生成的光束的光量，在再生模式下的值和記錄模式下的值之間進行切換的步驟。
發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，由于能夠?qū)⒐馐木劢刮恢谜{(diào)節(jié)到再生時的讀取性能以及記錄時的讀取性能分別為最佳的位置，因此能夠提供一種可靠性高的光盤裝置。


圖1為說明本發(fā)明的實施方式1的相關光盤裝置的方框圖。
圖2(a)為說明激光對光盤的信息記錄層的焦點，與物鏡的關系的時刻圖，(b)為說明歸一化FE信號的變化的時刻圖，(c)為說明聚焦位置變更部輸出的變化的時刻圖，(d)為說明電路偏移消除部輸出的變化的時刻圖，(e)為說明聚焦控制部輸入的變化的時刻圖，(f)為說明光量變更部輸出的變化的時刻圖。
圖3為說明聚焦位置變更部、電路偏移以及光量變更部的動作的流程圖。
圖4為說明聚焦位置變更部的詳細構(gòu)成的方框圖。
圖5為說明本發(fā)明的實施方式2的相關光盤裝置的方框圖。
圖6為說明聚焦位置信息取得部與聚焦位置變更部的詳細構(gòu)成的方框圖。
圖7為說明本發(fā)明的實施方式2的相關光盤裝置的變形例的方框圖。
圖8為說明本發(fā)明的實施方式2的相關光盤裝置的另一個變形例的方框圖。
圖9為說明本發(fā)明的實施方式3的相關光盤裝置的方框圖。
圖10為說明基本聚焦位置存儲部、聚焦位置信息取得部以及聚焦位置變更部的詳細構(gòu)成的方框圖。
圖11為說明本發(fā)明的實施方式4的相關光盤裝置的方框圖。
圖12為詳細說明受光部以及I/V變換器的方框圖。
圖13為表示再生模式與記錄模式下最佳聚焦位置不同的圖。
圖中1一物鏡，2-聚焦調(diào)節(jié)器，3-光源，4-受光部，5-I/V變換器，6-前置放大器，7-聚焦誤差生成器，8-微計算機，9-聚焦調(diào)節(jié)器驅(qū)動電路，10-盤馬達，11-光量檢測器，12-聚焦誤差歸一化電路，13-電路偏移去除部，14-光量變更部，15-聚焦位置變更部，17-聚焦控制部，20-光盤，25-RF信號檢測器，26-RF信號解碼部，27-聚焦位置信息取得部，28-基本聚焦位置存儲部，29-信息記錄層，30-再生用聚焦位置存儲部，31-記錄用聚焦位置相加量存儲部，32-刪除用聚焦位置相交存儲部，35-半導體存儲器讀取部，36-互聯(lián)網(wǎng)傳輸接收部，37-數(shù)據(jù)編碼部，38-記錄波形生成部，39-初始化數(shù)據(jù)生成部。
具體實施例方式
首先對光盤裝置中的物鏡的NA變大，再生、記錄以及刪除的各個動作模式下的最佳聚焦位置便各不相同進行說明。
圖13為對具有2層信息記錄層的BD所求出的聚焦位置(FC)與再生狀態(tài)之間的關系，以及聚焦位置與記錄狀態(tài)之間的關系的曲線圖。再生狀態(tài)的評價通過再生信號的抖動來進行，為了得到與記錄狀態(tài)的評價同一水平的再生信號，通過必要的記錄用激光的功率(記錄LD功率)來進行。
測定中所使用的BD中，讓再生狀態(tài)最佳化的聚焦位置位于距離基準點0.045μm處，讓記錄狀態(tài)最佳化的聚焦位置位于距離基準點0.090μm處。也即，兩者之間存在0.045μm的差。這種情況下，如果在讓再生狀態(tài)最佳化的聚焦位置上進行數(shù)據(jù)記錄，則需要將激光的功率設為12mW左右。但是，如果在讓記錄狀態(tài)最佳化的聚焦位置上進行數(shù)據(jù)記錄，則能夠?qū)⒂涗浰枰募す獾墓β氏陆档?0mW左右。如果能夠?qū)⒂涗浖す獾墓β氏陆?成左右，就能夠減輕用作BD用激光光源的青紫半導體激光器的負擔，從而能夠起動延長其壽命的效果。青紫半導體激光器，由GaN類半導體形成，與波長較長的半導體激光器相比，還具有改善可靠性或壽命的余地。因此，能夠降低數(shù)據(jù)記錄時的功率，對提高光盤裝置的可靠性具有非常重要的貢獻。
另外，數(shù)據(jù)記錄時的聚焦位置的最佳化，還具有讓記錄層中所形成的標記的形狀以及大小最佳的效果。如果標記的形狀惡化，則在光盤上相鄰的軌跡之間就會產(chǎn)生信號的串擾，使得再生性能惡化，通過讓聚焦位置最佳化，能夠得到降低這樣的惡化的效果。
通過像這樣變更再生模式與其他模式之間的聚焦位置所得到的效果，在采用NA較高，聚焦較短的光學系統(tǒng)的情況下非常顯著，在DVD用光盤裝置中，這樣的效果并不特別重要。
下面對照附圖，對本發(fā)明的光盤裝置的實施方式進行說明。另外，本實施方式并不對本發(fā)明構(gòu)成限定。
(實施方式1)對照圖1至圖3，以及圖12，對本發(fā)明的光盤裝置的第1實施方式進行說明。首先參照圖1，圖1為說明本實施方式的光盤裝置的方框圖。
本實施方式的光盤裝置，如圖1所示，具有將光束聚光在作為信息載體的光盤20的信息記錄層中的物鏡1、在與信息記錄層大致垂直的方向移動物鏡1的聚焦調(diào)節(jié)器2、生成激光束的半導體激光器等光源3、接收來自光盤20的反射光并生成對應于反射光的光量的光電流的受光部4、及將光電流變換成電壓信號的前置放大器6。
從光源3所發(fā)射的光束被物鏡1所聚光，在光盤20中形成光束點。被光盤20的信息記錄層所反射的光束，通過物鏡1，照射到被分割成4個區(qū)域的受光部4。受光部4生成對應于在所分割的各個區(qū)域中所檢測出的光量的大小的光電流，輸出給前置放大器6。前置放大器6通過I/V變換器，將所輸入的光電流變換成電壓信號。從前置放大器6所輸出的電壓信號，被發(fā)送給聚焦誤差生成器7以及光量檢測器11。
受光部4如圖12所示，被分割成4個區(qū)域A、B、C以及D。前置放大器6包含有I/V變換器5，具有分別與4個區(qū)域A、B、C以及D相連接的4個IV變換器5a、5b、5c及5d。在受光部4的區(qū)域A、B、C以及D所檢測出的光量，分別相當于I/V變換器5a、5b、5c及5d的輸出。I/V變換器5，生成對應于光量的大小的電壓信號。
本實施方式的光盤裝置，還具有生成對應于信息記錄層上的光束的聚焦狀態(tài)的聚焦誤差信號的聚焦誤差生成器7、檢測出來自光盤20的反射光的量的光量檢測器11、及通過反射光量對聚焦誤差信號進行歸一化并生成歸一化聚焦誤差信號的聚焦誤差歸一化電路12。
聚焦誤差生成器7還具有作為聚焦狀態(tài)檢測機構(gòu)的功能，生成對應于光束的聚焦位置與光盤20的信息記錄層之間的距離的聚焦誤差信號。聚焦誤差生成器7，接收I/V變換器5a、5b、5c及5d所輸出的電壓信號，執(zhí)行以下的運算。為了簡單起見，將IV變換器5a、5b、5c及5d所輸出的電壓信號，分別表示為V5a、V5b、V5c及V5d。這種情況下，聚焦誤差生成器7進行(V5a+V5c)-(V5b+V5d)的運算，將該運算結(jié)果作為非點像差法的聚焦誤差信號輸出。
光量檢測器11生成對應于光盤20所反射的光束的光量的大小的反射光量信號。具體的說，光量檢測器11接收I/V變換器5a、5b、5c及5d所輸出的電壓信號，進行V5a+V5c+V5b+V5d的運算，將該運算結(jié)果作為反射光量信號輸出。
聚焦誤差歸一化電路12，根據(jù)光量檢測電路11所輸出的反射光量信號，對聚焦誤差生成器7所輸出的聚焦誤差信號進行歸一化。也即，進行聚焦誤差信號/反射光量信號的運算，將該運算結(jié)果作為歸一化聚焦誤差信號(歸一化FE信號)輸出。
本實施方式的光盤裝置，還具有去除歸一化FE信號中所包含的電路偏移的電路偏移去除部13、變更歸一化焦點控制的目標聚焦位置的聚焦位置變更部15、進行對歸一化FE信號的濾波運算的聚焦控制部17。
電路偏移去除部13將用來抵消歸一化FE信號中所包含的電路偏移的偏移加載給歸一化FE信號。偏移的大小根據(jù)微計算機8的指令，對記錄模式、再生模式及刪除模式分別設定適當?shù)闹怠?br> 聚焦位置變更部15，在從再生模式切換到記錄或刪除模式時，按照微計算機8的指令，在聚焦誤差歸一化電路12所輸出的歸一化FE信號中加上聚焦位置變更量。
聚焦位置變更部15，用作控制目標切換機構(gòu)的第1級部分，電路偏移去除部13，用作控制目標切換機構(gòu)的第2級部分。偏移調(diào)整后的歸一化FE信號，在聚焦控制部17中接受相位補償、增益補償?shù)葹V波運算處理，之后，輸入給聚焦調(diào)節(jié)器控制電路9。
聚焦控制部17控制聚焦調(diào)節(jié)器2的動作，將光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到目標聚焦位置上。具體的說，經(jīng)聚焦調(diào)節(jié)器驅(qū)動電路9對聚焦調(diào)節(jié)器2的動作進行控制。其結(jié)果是，在大致垂直于光盤20的信息記錄層的方向上移動物鏡1，讓光盤20的信息記錄層上所形成的光束點變成給定的聚焦狀態(tài)。聚焦調(diào)節(jié)器驅(qū)動電路9，向聚焦調(diào)節(jié)器2輸出驅(qū)動信號(例如電壓信號)。聚焦調(diào)節(jié)器2根據(jù)該驅(qū)動信號變化物鏡1的位置。
本實施方式的光盤裝置還具有讓光盤20旋轉(zhuǎn)的盤馬達10以及微計算機8。微計算機8對電路偏移去除部13、光量變更部14、聚焦位置變更部15、及聚焦控制部17進行控制。用作光束光量切換機構(gòu)的光量變更部14，按照微計算機8的指令，對光源3的光量進行變更。
接下來，對照圖1與圖2，對從再生模式向記錄模式切換時的動作進行詳細說明。
圖2(a)為模式說明再生、光束點的移動、及記錄的各個動作時的光盤20的信息記錄層29與物鏡1之間的位置關系的剖面圖，圖2(b)～(f)是說明與這些動作相關聯(lián)的信號的波形的圖。
再生模式下，如圖2(a)所示，物鏡1位于相對靠近光盤20的位置上。此時，歸一化FE信號，具有如圖2(b)所示的波形。聚焦位置變更部15，按照微計算機8的指令，選擇讓再生性能最佳的聚焦位置(再生用聚焦位置)。圖2(c)中顯示了對應于再生用聚焦位置的信號。
另外，F(xiàn)E信號以及反射光量信號中，包括與本來應當檢測出的信號不同的電路系統(tǒng)的電氣偏移。為了消除該電路系統(tǒng)的電氣偏移所帶來的影響，再生模式下，按照微計算機8的指令，電路偏移去除部13選擇再生用偏移，光量變更部14選擇再生用光量。電路偏移去除部13的輸出，如圖2(d)所示，光量變更部14的輸出如圖2(f)所示。另外，圖2(e)表示輸入給圖1的聚焦控制部17的信號的波形。
在記錄開始之前的時刻t1，微計算機8向聚焦位置變更部15輸出指示選擇記錄用聚焦位置的指令。其結(jié)果如圖2(c)所示，聚焦位置變更部15的輸出發(fā)生變化。通過這樣，如圖2(a)所示，物鏡1的位置從再生用聚焦位置移動到記錄用聚焦位置上。也即，光束對信息記錄層29的聚焦位置，也從再生用聚焦位置移動到記錄用聚焦位置上。此時，聚焦控制部17如圖2(e)所示，進行反饋控制，讓聚焦控制部輸入大致變?yōu)?。因此，聚焦控制部輸入在時刻t1的前后大致為0，而歸一化FE信號，如圖2(b)所示，在時刻t1的前后，偏移再生用聚焦位置與記錄用聚焦位置的差。
接下來，微計算機8，將光束點的位置移動到信息記錄層29上的目標軌跡上。之后，在記錄開始的同時，向光量變更部14以及電路偏移去除部13輸出指示其變更記錄用設定的指令。
光量變更部14按照微計算機8的指令，如圖2(f)所示，在時刻t2將光源3所發(fā)生的光束的光量，從再生用設定值增加到記錄用設定值。光束的光量增加之后，歸一化FE信號中所包含的電路偏移也會變動。因此，如圖2(d)所示，電路偏移去除部13，在按照微計算機8的指令變更光束的光量的同時，將電路偏移量從再生用切換到記錄用。此時，如圖2(a)所示，物鏡1的位置在記錄開始前后(時刻t2的前后)不發(fā)生變化。其結(jié)果是，能夠從記錄剛剛開始之后，在穩(wěn)定的聚焦位置上進行記錄。
根據(jù)本實施方式，從圖2(e)可以得知，聚焦控制部輸入，在時刻t2對聚焦控制并不是步進輸入，因此也不會發(fā)生聚焦控制所引起的超調(diào)。
通過“t2-t1”所表示的期間，被設定為在物鏡1在光軸方向上移動時，能夠充分衰減聚焦調(diào)節(jié)器2的彈性振動。t2-t1例如在10m秒以上1000m秒以下的范圍內(nèi)進行設定。
接下來，對照圖3的流程圖，對模式切換的順序進行說明。
在從再生模式切換到記錄模式時，首先在圖3中所示的步驟S1，微計算機8向聚焦位置變更部15輸出指示其將聚焦位置從再生用切換到記錄用的指令。其結(jié)果是，聚焦位置變更部15將聚焦位置從再生用切換到記錄用(時刻t1)。
接下來，在步驟S2中，微計算機指示將光束的焦點移動到信息記錄層29上的目的軌跡上。步驟S3中，在光束的焦點到達目的軌跡的同時，微計算機8指示光量變更部14將光源3所輸出的光量從再生用切換到記錄用，開始記錄(時刻t2)。
步驟S4中，指示電路偏移去除部13將電路偏移量從再生用切換到記錄用。通過這樣，能夠穩(wěn)定在記錄剛剛開始之后(時刻t2之后)的聚焦控制，從記錄剛剛開始之后，將可靠性高的信號記錄在光盤20中。
另外，從再生模式向刪除模式切換時的動作，也和從再生模式向記錄模式切換時的動作相同。也控制不區(qū)分記錄模式與刪除模式，而使其共通。
根據(jù)本實施方式，能夠抑制記錄開始時所產(chǎn)生的聚焦位置偏移的產(chǎn)生，在記錄性能最佳的聚焦位置進行記錄或刪除。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)可靠性高的讀取性能，與可靠性高的信號品質(zhì)的記錄性能以及刪除性能之間的兩全。
另外，通過讓聚焦位置變更部15的記錄用聚焦位置以及刪除用聚焦位置，是根據(jù)再生用聚焦位置基準所輸出的構(gòu)成，能夠讓聚焦位置變更部15所進行的聚焦位置的校準只是再生聚焦位置，從而能夠?qū)崿F(xiàn)校準處理的簡單化以及高速化。
接下來，對照圖4，對聚焦位置變更部15的構(gòu)成詳細進行說明。圖4為說明聚焦位置變更部的詳細構(gòu)成的方框圖。
聚焦位置變更部15，如圖4所示，具有再生用聚焦位置存儲部30、記錄用聚焦位置加值存儲部31、及刪除用聚焦位置加值存儲部32。這些可以是1個存儲器的不同區(qū)域。
再生用聚焦位置存儲部30，存儲作為最適于再生的聚焦位置的再生用聚焦位置。記錄用聚焦位置加值存儲部31，存儲作為最適于記錄的聚焦位置的記錄用聚焦位置與再生用聚焦位置之間的差值。刪除用聚焦位置加值存儲部32，存儲作為最適于刪除的聚焦位置的刪除用聚焦位置與再生用聚焦位置之間的差值。這些差值的絕對值的大小例如為0～0.2μm左右。
再生時，聚焦位置變更部15的SW1以及SW2處于斷開狀態(tài)，從聚焦位置變更部15輸出作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置。
記錄時，聚焦位置變更部15的SW1為接通狀態(tài)，SW2為斷開狀態(tài)，將作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置，與記錄用聚焦位置加值存儲部31的存儲量相加，作為記錄用聚焦位置，從聚焦位置變更部15輸出。
刪除時，聚焦位置變更部15的SW1為斷開狀態(tài)，SW2為接通狀態(tài)，將作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置，與刪除用聚焦位置加值存儲部32的存儲量相加，作為刪除用聚焦位置，從聚焦位置變更部15輸出。這里，可以省略記錄用聚焦位置加值存儲部31與刪除用聚焦位置加值存儲部32中的單方，而作為共同的聚焦位置加值存儲部。
通過這樣，只對作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置進行校準，就能夠與再生用聚焦位置的變化連動，規(guī)定記錄用聚焦位置以及刪除用聚焦位置，高速執(zhí)行聚焦位置的校準處理。
讓再生性能最佳的聚焦位置與讓記錄性能最佳的聚焦位置的關系，根據(jù)生成光盤20的材料以及構(gòu)成而變化，因此，既可以切換材料或構(gòu)成不同的光盤每一個的記錄用聚焦位置加值存儲部31的存儲量，以及刪除用聚焦位置加值存儲部32的存儲量，又可以采用通過代表性的光盤20所調(diào)整的固定值。
在光盤20為BD的情況下，讓記錄性能最佳的聚焦位置，相對讓再生性能最佳的聚焦位置，要靠近光盤20的光入射側(cè)表面0～0.2μm左右。這樣的最佳聚焦位置的變更，在本實施方式中通過輸入給聚焦控制部17的歸一化FE信號的校準來執(zhí)行。因此，能夠容易的通過軟件程序的變更，來執(zhí)行聚焦位置的校準。
另外，可以根據(jù)光盤20的信息記錄層29上的擺動(軌跡的彎曲)、凹坑(凹陷)的信息，間接檢測出光盤20的材料以及構(gòu)成不同，切換記錄用聚焦位置加值存儲部31的存儲量，以及刪除用聚焦位置加值存儲部32的存儲量。例如，一般的可重寫光盤的內(nèi)周的盤信息區(qū)域中，通過擺動或凹坑信息存儲有在該盤中進行寫入時的代表性記錄波形(寫入策略)，通過檢測出該所保存的記錄波形，來確定盤，切換預先決定用于該盤的記錄用聚焦位置加值存儲部31的存儲量，以及刪除用聚焦位置加值存儲部32的存儲量。通過這樣，能夠提供一種即使在生成光盤20的材料或構(gòu)成發(fā)生變化的情況下，也能夠恰當且高速地設定記錄用聚焦位置以及刪除用聚焦位置的光盤裝置。
另外，還可以采用與光量變更部14所進行的光源3所輸出的光束的光量變化連動，而變化前置放大器6內(nèi)部的I/V變換器5的變換增益的構(gòu)成。通過這樣，能夠?qū)⑶爸梅糯笃?的輸出信號限定在給定的范圍內(nèi)，從而能夠降低D/A變換器等能夠檢測的范圍內(nèi)。另外，還能夠?qū)⒛M電路的驅(qū)動電壓設計的較低，從而能夠提供一種能夠降低費用或省電的光盤裝置。
(實施方式2)接下來，對照圖5至圖6，對基于本發(fā)明的光盤裝置的第2實施方式進行說明。
首先參照圖5。圖5為說明本實施方式的相關光盤裝置的方框圖。圖5中，給和實施方式1的光盤裝置共同的構(gòu)成要素標上相同的參考符號，省略其說明。
本實施方式的光盤裝置，如圖5所示，具有RF信號檢測器25、RF信號編碼部26以及聚焦位置信息取得部27。
RF信號檢測器25，檢測出作為光盤的信息記錄層中所記錄的信息的RF信號。RF信號編碼部26對RF信號進行解碼，變換成信息。聚焦位置信息取得部27取得記錄用及刪除用聚焦位置的單方或雙方，更新記錄用及刪除用聚焦位置。
接下來，參照圖6。圖6為說明聚焦位置信息取得部27與聚焦維護變更部15的詳細構(gòu)成的方框圖。
如圖6所示，再生用聚焦位置存儲部30存儲作為最適于再生的聚焦位置的再生用聚焦位置。記錄用聚焦位置加值存儲部31，存儲作為最適于記錄的聚焦位置的記錄用聚焦位置與再生用聚焦位置之間的差值。刪除用聚焦位置加值存儲部32，存儲作為最適于刪除的聚焦位置的刪除用聚焦位置與再生用聚焦位置之間的差值。
再次參照圖5。
由光源3所生成的光束被物鏡1聚光，在光盤20的信息記錄層上形成光束點。該光束點被光盤20所反射的光，再次經(jīng)物鏡1照射到受光部4。受光部4、前置放大器6、聚焦誤差生成器7、光量檢測器11、聚焦誤差歸一化電路12、聚焦控制部17、物鏡1、聚焦調(diào)節(jié)器驅(qū)動電路9、及聚焦調(diào)節(jié)器2的動作，與實施方式1中所說明的相同。
RF信號檢測器25，根據(jù)I/V變換器5a、5b、5c及5d所輸出的電壓信號，進行V5a+V5c+V5b+V5d的運算。此時，通過去除比所使用的頻帶頻率低的信號(例如50KHz以下的信號)，生成RF信號。
RF信號解碼部26接收RF信號，進行2值化以及誤差修正處理之后，將RF信號變換成數(shù)字信息。聚焦位置信息取得部27按照微計算機8的指令，取得RF信號解碼部26所輸出的數(shù)字信息中所包含的聚焦位置信息。之后，根據(jù)該信息，更新聚焦位置變更部15的記錄時及刪除時的聚焦位置變更量。
接下來，再次參照圖6。
聚焦位置信息取得部27，按照微計算機8的聚焦位置信息取得指令，從RF信號解碼部26取得聚焦位置信息。之后，將聚焦位置變更部15中所包含的記錄用聚焦位置信息加值存儲部31的記錄用聚焦位置加值，與刪除用聚焦位置加值存儲部32的刪除用聚焦位置加值更新。這里，為了簡化記錄用與刪除用聚焦位置，也可以合并成1個。
如圖6所示，再生時，聚焦位置變更部15的SW1以及SW2處于斷開狀態(tài)，從聚焦位置變更部15輸出作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置。
記錄時，聚焦位置變更部15的SW1為接通狀態(tài)，SW2為斷開狀態(tài)，將作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置，與記錄用聚焦位置加值存儲部31的存儲量相加，作為記錄用聚焦位置，從聚焦位置變更部15輸出。
刪除時，聚焦位置變更部15的SW1為斷開狀態(tài)，SW2為接通狀態(tài)，將作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置，與刪除用聚焦位置加值存儲部32的存儲量相加，作為刪除用聚焦位置，從聚焦位置變更部15輸出。這里，可以省略記錄用聚焦位置加值存儲部31與刪除用聚焦位置加值存儲部32中的單方，而作為共同的聚焦位置加值存儲部。
通過這樣，通過使用記錄有更新用數(shù)據(jù)的光盤，能夠?qū)⒂涗浻没騽h除用聚焦位置，隨時更新成最新信息。能夠提供一種讓光盤裝置的提供者，即使對于新出現(xiàn)的光盤，通過提供記錄有更新數(shù)據(jù)的光盤，也能夠進行對應的光盤裝置。用戶通過獲取光盤提供者所提供的記錄有更新用數(shù)據(jù)的光盤，能夠在低價且容易地與多種光盤對應的光盤裝置中進行更新。
(實施方式2的變形例)圖7為說明將實施方式2的光盤裝置變形為采用能夠通過半導體存儲器進行更新的構(gòu)成的光盤裝置的方框圖。
圖7的光盤裝置，具有半導體存儲器讀取部35。通過采用這樣的構(gòu)成，能夠進行半導體存儲器的記錄或刪除用聚焦位置的更新。
圖7的光盤裝置中，半導體存儲器的讀取部35，按照微計算機8的指令，讀取半導體存儲器(未圖示)中所保存的信息。聚焦位置信息取得部27，按照微計算機8的指令，從半導體存儲器讀取部35驅(qū)動聚焦位置信息，更新聚焦位置變更部15的記錄時以及刪除時的聚焦位置變更量。
通過這樣，能夠通過符合用戶的需要的信息媒體，來更新記錄用或刪除用聚焦位置，隨時對應最新的光盤。另外，還能夠?qū)雽w存儲器讀取部35，替換成其他的信息媒體讀取部，通過對應的信息媒體來進行記錄用或刪除用聚焦位置的更新。
圖8中顯示了另一個變形例。
圖8的光盤裝置具有互聯(lián)網(wǎng)傳輸接收部36。互聯(lián)網(wǎng)傳輸接收部36按照微計算機8的指令，通過互聯(lián)網(wǎng)從基站獲得信息。聚焦位置信息取得部27，按照微計算機8的指令，從互聯(lián)網(wǎng)傳輸接收部36取得聚焦位置信息，更新聚焦位置變更部15的記錄時以及刪除時的聚焦位置變更量。
通過這樣，能夠不使用光盤而更新記錄用或刪除用聚焦位置，從而不需要記錄用或刪除用聚焦位置的更新用信息媒體。另外，用戶也能夠削減記錄用及刪除用聚焦位置的更新用信息媒體的購買以及保管的花費。
圖8的互聯(lián)網(wǎng)傳輸接收部36，還可以變更成接收來自地面波或衛(wèi)星的電波的電波接收部，通過電波與電磁波，提供一種能夠更新記錄用或刪除用聚焦位置的光盤裝置。
上述聚焦位置信息可以作為包括其他數(shù)據(jù)的控制數(shù)據(jù)，從半導體存儲器或互聯(lián)網(wǎng)等中獲取。另外，這樣的控制數(shù)據(jù)，可以在通過其他記錄媒體、互聯(lián)網(wǎng)或通過電波所連接的基站的傳輸來取得光盤裝置的固件時，與該固件的程序同時獲取。
(實施方式3)對照圖9以及圖10，對基于本發(fā)明的光盤裝置的實施方式3進行說明。
圖9為說明本實施方式的相關光盤裝置的方框圖。如圖9所示，本實施方式的光盤裝置具有基本聚焦位置存儲部28。該基本聚焦位置存儲部28，保存記錄用或刪除用聚焦位置的基本值。圖10為說明基本聚焦位置存儲部28、聚焦位置信息取得部27以及聚焦位置變更部15的詳細構(gòu)成的方框圖。
首先參照圖9?；揪劢刮恢么鎯Σ?8，只在光盤裝置起動時或光盤20放入時，進行一次在聚焦位置變更部15中設定記錄用以及刪除用聚焦位置的操作。
通過光源3所生成的光束，在光盤20的信息記錄層中被物鏡1所聚光，形成光束點。該光束點被光盤20所反射的光，再次經(jīng)物鏡1照射到受光部4。受光部4被分割成4個區(qū)域，對應于各個區(qū)域所檢測出的光量，生成光電流，輸出給前置放大器6。前置放大器6通過I/V變換器將輸入的光電信號變換為電壓信號。變換后的各個電壓信號發(fā)送到聚焦誤差生成器7和光量檢測器11。
受光部4、前置放大器6、聚焦誤差生成器7、光量檢測器11、聚焦誤差歸一化電路12、聚焦控制部17、物鏡1、聚焦調(diào)節(jié)器驅(qū)動電路9、聚焦調(diào)節(jié)器2、RF信號檢測器25、RF信號解碼部26、及聚焦位置信息取得部27的構(gòu)成與動作，與上述實施方式中所說明的相同。
接下來，對照圖10，對基本聚焦位置存儲部28、聚焦位置信息取得部27、及聚焦位置變更部15進行說明。
基本聚焦位置存儲部28，只在光盤裝置起動時或光盤20放入時，進行一次在聚焦位置變更部15的記錄用聚焦位置加值存儲部31以及刪除用聚焦位置加值存儲部32中分別設定記錄用及刪除用聚焦位置的操作。
接下來，再生光盤20的信息記錄層29，在信息記錄層29中保存有記錄用或刪除用聚焦位置信息的情況下，聚焦位置信息取得部27，按照微計算機8的聚焦位置信息取得指令，從RF信號解碼部26取得聚焦位置信息。之后，聚焦位置信息取得部27，將聚焦位置變更部15的記錄用聚焦位置信息加值存儲部31的記錄用聚焦位置加值，與刪除用聚焦位置加值存儲部32的刪除用聚焦位置加值更新。這里，為了簡化記錄用與刪除用聚焦位置，也可以合并成1個。
再生時，聚焦位置變更部15的SW1以及SW2處于斷開狀態(tài)，從聚焦位置變更部15輸出作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置。
記錄時，聚焦位置變更部15的SW1為接通狀態(tài)，SW2為斷開狀態(tài)，將作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置，與記錄用聚焦位置加值存儲部31的存儲量相加，作為記錄用聚焦位置，從聚焦位置變更部15輸出。
刪除時，聚焦位置變更部15的SW1為斷開狀態(tài)，SW2為接通狀態(tài)，將作為再生用聚焦位置存儲部30的存儲量的再生用聚焦位置，與刪除用聚焦位置加值存儲部32的存儲量相加，作為刪除用聚焦位置，從聚焦位置變更部15輸出。這里，可以省略記錄用聚焦位置加值存儲部31與刪除用聚焦位置加值存儲部32中的單方，而作為共同的聚焦位置加值存儲部。
通過這樣，對記錄有更新用數(shù)據(jù)的光盤，能夠使用所保存的記錄用及刪除用聚焦位置信息。因此，不需要進行通過反復進行對光盤的試寫與再生來進行調(diào)整的這種操作，也能夠?qū)⒂涗浻眉皠h除用聚焦位置調(diào)整為適當?shù)闹怠?br> 特別是，對于只能夠?qū)懭?次的一次寫入媒體來說，由于不會引起可記錄區(qū)域的消耗，因此是非常有效的機構(gòu)。這樣，能夠提供一種不進行試寫，就能夠調(diào)整為各個盤各自的最佳記錄用及刪除用聚焦位置的光盤裝置。
(實施方式4)對照圖11，對基于本發(fā)明的光盤裝置的實施方式4進行說明。
圖11為說明本實施方式的相關光盤裝置的方框圖。
圖11中所示的數(shù)據(jù)編碼部37，對聚焦位置信息進行編碼，增加誤差修訂信息。記錄波形生成部38，根據(jù)數(shù)據(jù)生成記錄波形，對光源進行控制。
基本聚焦位置存儲部28，只在光盤裝置起動時或光盤20放入時，進行一次在聚焦位置變更部15中設定記錄用以及刪除用聚焦位置的操作。此時，基本聚焦位置存儲部28，可以一邊變化聚焦位置，一邊進行對光盤的測試寫入，根據(jù)再生信號學習最佳聚焦位置，通過這樣來進行決定動作。在所設置的光盤中預先記錄有聚焦位置信息的情況下，則不需要進行這樣的學習動作?；揪劢刮恢么鎯Σ?8，可以根據(jù)實施方式2中的從半導體存儲器或互聯(lián)網(wǎng)所取得的最新聚焦位置信息，更新聚焦位置信息。
初始化數(shù)據(jù)生成部39，生成用來對光盤的信息記錄層進行邏輯初始化的數(shù)據(jù)。
通過光源3所生成的光束，在光盤20的信息記錄層中被物鏡1所聚光，形成光束點。該光束點被光盤20所反射的光，再次經(jīng)物鏡1照射到受光部4。
受光部4被分割成4個區(qū)域，對應于各個區(qū)域所檢測出的光量，生成光電流，輸出給前置放大器6。前置放大器6，通過I/V變換器將所輸入的光電流變換成電壓。所變換的各個信號被發(fā)送給聚焦誤差生成器7以及光量檢測器11。
關于受光部4、前置放大器6、聚焦誤差生成器7、光量檢測器11、聚焦誤差歸一化電路12、聚焦控制部17、物鏡1、聚焦調(diào)節(jié)器驅(qū)動電路9、聚焦調(diào)節(jié)器2的動作，以及在實施方式1中進行了詳細說明，因此這里省略其說明。
微計算機8，為了將表示現(xiàn)在的記錄用以及刪除用聚焦位置的信息，保存到光盤20中，向數(shù)據(jù)編碼部37輸出聚焦位置保存指令。數(shù)據(jù)編碼部37，從聚焦位置變更部15取得記錄用以及刪除用聚焦位置，并給取得信息添加編碼以及誤差修正信息。記錄波形生成部38，按照所生成的記錄波形，讓光源3發(fā)光，通過這樣，將現(xiàn)在的記錄用以及刪除用聚焦位置保存到光盤20中。
這里，微計算機8，在記錄波形生成部38讓光源3發(fā)光的同時，向光量變更部14輸出指示其變更記錄用光量的指令。光量變更部14按照微計算機8的指令，將光源3的光量變更為記錄用，開始記錄。
通過這樣，能夠?qū)⑦M行記錄以及刪除時的聚焦位置信息，保存到光盤20中。因此，在使用已經(jīng)記錄有記錄以及刪除用聚焦位置信息的光盤的情況下，將這樣的光盤裝載在光盤裝置中，能夠從光盤直接讀取聚焦位置信息。這樣，如果能夠從光盤取得聚焦位置信息，每次將光盤裝載到光盤裝置中時，可以不進行對光盤反復進行試寫與再生，用來決定聚焦位置信息的操作。
特別是只能夠?qū)懭?次的一次寫入光盤的情況下，如果進行用來決定聚焦位置的試寫(測試寫入)，則存在用于用戶數(shù)據(jù)的記錄區(qū)域會被消耗從而減少的問題，但根據(jù)本實施方式，能夠避免這樣的問題。本實施方式中，不但能夠得到減少試寫的次數(shù)的效果，在使用記錄有聚焦位置信息的光盤的情況下，還能夠簡化起動處理，縮短起動時間。另外，不需要將記錄以及刪除用聚焦位置信息設定為不同的值，可以將它們共同設為1個。
另外，微計算機8在進行光盤20的初始化時，首先向作為初始化激光的初始化數(shù)據(jù)生成部39輸出初始化命令。這里，初始化是指為了讓光盤20能夠在文件系統(tǒng)中使用而在其中寫入必要的數(shù)據(jù)的操作。
初始化數(shù)據(jù)生成部39將所生成的初始化數(shù)據(jù)，輸出給數(shù)據(jù)編碼部37。數(shù)據(jù)編碼部37，給所取得的初始化數(shù)據(jù)添加編碼以及誤差修訂信息。記錄波形生成部38，從數(shù)據(jù)編碼部37取得處理后的初始化數(shù)據(jù)，生成記錄波形。
記錄波形生成部38，按照所生成的記錄波形讓光源3發(fā)光，從而在光盤20中保存現(xiàn)在的記錄用以及刪除用聚焦位置。
通過這樣，對應于盤的初始化，進行記錄以及刪除用聚焦位置信息的保存，因此，與在光盤的再生中或記錄中進行記錄及刪除用聚焦位置信息的保存的情況相比，能夠執(zhí)行比較簡單的處理。
另外，還可以與記錄以及刪除用聚焦位置信息一起，添加記錄光盤裝置的個體識別信息。通過這樣，能夠提供一種即使在多個光盤裝置中使用1個光盤的情況下，通過讀出個體識別信息，也能夠從多個記錄以及刪除用聚焦位置信息中取出必要的信息的光盤裝置。
另外，還可以與記錄以及刪除用聚焦位置信息一起，添加記錄進行信息的保存的時刻。通過這樣，能夠提供一種能夠從多個記錄以及刪除用聚焦位置信息中取得最新的記錄以及刪除用聚焦位置信息的光盤裝置。
另外，還可以與記錄以及刪除用聚焦位置信息一起，添加記錄進行信息的保存時的溫度。通過這樣，能夠提供一種能夠從多個記錄以及刪除用聚焦位置信息中取得最適于現(xiàn)在的環(huán)境溫度的記錄以及刪除用聚焦位置信息的光盤裝置。
另外，本發(fā)明的光盤裝置中的聚焦位置信息取得部以及聚焦控制部等構(gòu)成要素，既可以通過硬盤來實現(xiàn)，又可以提供軟件或硬件與軟件的組合來實現(xiàn)。
本發(fā)明可以通過對控制光盤裝置的驅(qū)動的軟件程序的一部分進行修改來實現(xiàn)。內(nèi)置有這樣的軟件程序的電子部件，可以作為光盤裝置用處理器來適當?shù)闹圃觳N售。
產(chǎn)業(yè)應用本發(fā)明的光盤裝置中，在與切換光束的光量時刻不同的時刻，進行聚焦位置的變更，因此能夠抑制記錄開始時所產(chǎn)生的聚焦位置偏差的產(chǎn)生，在記錄性能最佳的聚焦位置進行記錄或刪除。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)可靠性高的讀取性能，與可靠性高的信號品質(zhì)的記錄性能以及刪除性能的并立。
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置，其特征在于，包括生成光束的光源；對上述光束進行聚光的物鏡；讓上述物鏡相對光盤移動的調(diào)節(jié)器；聚光狀態(tài)檢測機構(gòu)，其生成與上述光盤的信息記錄層上的上述光束的聚光狀態(tài)相對應的聚焦誤差信號；聚焦位置變更機構(gòu)，其在再生用聚焦位置和記錄用聚焦位置變更聚焦位置信息，該聚焦位置信息用于規(guī)定上述光束對于上述光盤的信息記錄層的目標聚焦位置；以及聚焦控制機構(gòu)，其根據(jù)上述目標聚焦位置信息與上述聚焦誤差信號，控制上述調(diào)節(jié)器的動作，將上述光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到上述目標聚焦位置，對應于再生模式與記錄模式之間的切換，進行上述光束的目標聚焦位置的變更。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于上述聚焦位置變更機構(gòu)具有保存再生用聚焦位置的第1存儲部、保存再生用聚焦位置相對于上述記錄用聚焦位置的第1差值的第2存儲部，在輸出上述再生用聚焦位置信息時，輸出上述再生用聚焦位置，在輸出上述記錄用聚焦位置信息時，在上述再生用聚焦位置中加上上述第1差值并輸出。
3.如權(quán)利要求2所述的光盤裝置，其特征在于上述聚焦位置變更機構(gòu)還具有用于保存再生用聚焦位置相對于上述刪除用聚焦位置的第2差值的第3存儲部，在輸出上述刪除用聚焦位置信息時，在上述再生用聚焦位置中加上上述第2差值并輸出。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于上述聚焦位置變更機構(gòu)，根據(jù)用戶選擇的光盤更新上述聚焦位置信息。
5.如權(quán)利要求4所述的光盤裝置，其特征在于上述聚焦位置信息的更新根據(jù)上述光盤中記錄的數(shù)據(jù)進行。
6.如權(quán)利要求4所述的光盤裝置，其特征在于上述聚焦位置信息的更新根據(jù)上述光盤之外的存儲器中記錄的數(shù)據(jù)進行。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于，還具備光束光量切換機構(gòu)，其切換上述光束的光量，上述聚焦位置變更機構(gòu)，按照再生模式和記錄模式之間的切換，在與切換上述光束的光量的時刻不同的時刻，輸出針對新模式的聚焦位置信息。
8.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于上述聚焦位置變更機構(gòu)，使用按照光盤預先決定的值，決定上述模式下的目標聚焦位置。
9.如權(quán)利要求8所述的光盤裝置，其特征在于與上述光盤對應而預先決定的值，表示上述再生用聚焦位置和上述記錄用聚焦位置之間的差值。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種能夠?qū)⒐獗P的信息記錄層上的光束的聚光狀態(tài)，分別在再生模式與記錄模式下進行最佳化的光盤裝置，其包括生成光束的光源(3)；物鏡(1)；讓物鏡(1)相對光盤(20)移動的聚焦調(diào)節(jié)器(2)；聚光狀態(tài)檢測機構(gòu)(12)，其生成與光盤(20)的信息記錄層上的光束的聚光狀態(tài)相對應的聚焦誤差信號；聚焦控制機構(gòu)(14)，其根據(jù)表示光束的目標聚焦位置的信息與聚焦誤差信號，控制調(diào)節(jié)器的動作，將光束的聚焦位置調(diào)節(jié)到目標聚焦位置上。本發(fā)明的光盤裝置中，對應于再生模式與記錄模式之間的切換，進行上述光束的目標聚焦位置的變更。
文檔編號G11B19/02GK101059970SQ20071010875
公開日2007年10月24日 申請日期2005年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月29日
發(fā)明者久世雄一, 渡邊克也 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社