專利名稱：光盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)旋轉(zhuǎn)的圓盤狀的信息載體(以下稱作“光盤”)進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)及再生被光盤記錄的數(shù)據(jù)中的至少一個(gè)的光盤裝置。
背景技術(shù)：
向旋轉(zhuǎn)的圓盤，照射一定光量的、比較弱的光束，檢出被光盤調(diào)制的反射光后，可以再生被光盤記錄的數(shù)據(jù)。
再生專用的光盤，在光盤的制造階段，預(yù)先螺旋狀地記錄了由坑構(gòu)成的信息。如此不同，在可以改寫的光盤中，在形成具有螺旋狀的島或槽的軌道的基材表面，采用蒸鍍等方法，堆積著能夠光學(xué)性地記錄/再生數(shù)據(jù)的記錄材料膜。在可以改寫的光盤上記錄數(shù)據(jù)時(shí)，按照需要記錄的數(shù)據(jù)，照射調(diào)制了光量的光束，使記錄材料膜的特性局部性地變化，從而寫入數(shù)據(jù)。
此外，坑的深度、軌道的深度及記錄材料膜的厚度，遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于光盤基材的厚度。因此，光盤中記錄著數(shù)據(jù)的部分，構(gòu)成二維性的面，有時(shí)被稱作“信息記錄面”。在本說(shuō)明書中，考慮到這種信息記錄面在深度方向上也具有物理性的大小，所以取代使用“信息記錄面”這一術(shù)語(yǔ)，而使用“信息記錄層”的術(shù)語(yǔ)。光盤至少具有一個(gè)這種信息記錄層。此外，在現(xiàn)實(shí)中，一個(gè)信息記錄層也可以包含相變化材料層及反射層等多層。
在可記錄光盤上記錄數(shù)據(jù)時(shí)，或者再生被這種光盤記錄的數(shù)據(jù)時(shí)，需要使光束在信息記錄層中的目標(biāo)軌道上始終成為給定的聚焦?fàn)顟B(tài)。因此，需要進(jìn)行“聚焦控制”及“跟蹤控制”。聚焦控制，是將物鏡的位置控制成為處于信息記錄面的法線方向(以下稱作“基板的深度方向”)上，以便使光束的焦點(diǎn)的位置始終位于信息記錄層上。另一方面，所謂“跟蹤控制”，是將物鏡的位置控制成為處于光盤的半徑方向(以下稱作“盤徑方向”)，以便使光束的點(diǎn)位于給定的軌道上。
在現(xiàn)有技術(shù)中，作為高密度·大容量的光盤，DVD(Digital Versatile Disc)-ROM、DVD-RAM、DVD-RW、DVD-R、DVD+RW、DVD+R等光盤，已經(jīng)實(shí)用化。另外，CD(Compact Disc)現(xiàn)在也正在普及。目前，比這些光盤更加高密度化·大容量化的藍(lán)激光盤(Blu-ray Disc；BD)等下一代的光盤的開發(fā)·實(shí)用化，正在穩(wěn)步地推進(jìn)。另外，為了提高一張光盤能夠記錄的數(shù)據(jù)的容量，正在開發(fā)具備層疊的多個(gè)信息記錄層的光盤。
在上述的光盤中，有的以未裝入光盤盒中的狀態(tài)即裸露的狀態(tài)使用。在這種光盤的表面，容易形成傷痕，附著灰塵或指紋。光盤表面上的傷痕、灰塵及指紋，對(duì)照射光盤的光束而言，成為光學(xué)性的障礙物，所以導(dǎo)致聚焦控制及跟蹤控制的伺服偏移，再生信號(hào)(RF信號(hào))的振幅變得過(guò)小。其結(jié)果，往往不能穩(wěn)定地實(shí)行數(shù)據(jù)的記錄·再生。
專利文獻(xiàn)1公布了檢知光盤上形成傷痕，在光束的反射受到傷痕影響的期間，使聚焦伺服及跟蹤伺服的增益變小的技術(shù)。降低伺服的增益后，能夠補(bǔ)償傷痕的影響。
在專利文獻(xiàn)1公布的技術(shù)中，采用3束法，利用主光束的超解象形成物引起的衍射現(xiàn)象所產(chǎn)生的旁瓣。在該技術(shù)中，旁瓣在光盤上先于主光束移動(dòng)。該旁瓣通過(guò)光盤上的傷痕時(shí)，其反射光的強(qiáng)度因傷痕而增加。檢知該強(qiáng)度變化后，在能夠在后續(xù)于旁瓣的主光束將要從傷痕上通過(guò)之前，減少增益。
專利文獻(xiàn)1日本國(guó)特開平8-23586號(hào)公報(bào)(段落2～18，圖6、圖2)
BD的記錄密度是DVD的記錄密度的5倍，BD的軌道間距及光束徑，則分別縮小到大約1/2及大約1/5。因此，如果不提高聚焦伺服及跟蹤伺服中的增益，減少光盤的盤面振動(dòng)及偏心帶來(lái)的剩余誤差，就難以獲得高質(zhì)量的RF信號(hào)。
另外，在具備2層以上的信息記錄層的光盤(以下稱作“多層光盤”)中，各信息記錄層的反射率，低于具備1層的信息記錄層的光盤(以下稱作“單層光盤”)中的信息記錄層的反射率。因此，在多層光盤中，RF信號(hào)的振幅變小，其結(jié)果導(dǎo)致SN(信號(hào)與噪聲之比)下降。特別是象BD那樣，在位于靠近光盤表面(光射入側(cè)表面)處存在信息記錄層的多層光盤，光盤表面存在傷痕及灰塵后，就正如后文所詳述的那樣，存在著信號(hào)質(zhì)量特別容易劣化的問(wèn)題。這個(gè)問(wèn)題在不使用光盤盒等的裸狀的BD時(shí)，尤為顯著。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是針對(duì)上述課題研制的，其主要目的在于提供對(duì)光盤表面的傷痕及污垢的耐受性強(qiáng)、能夠獲得高質(zhì)量的RF信號(hào)的光盤裝置。
本發(fā)明的光盤裝置，是能夠從具備包含到光盤表面的距離相對(duì)較小的第1信息記錄層和到光盤表面的距離相對(duì)較大的第2信息記錄層的許多信息記錄層的光盤中讀出數(shù)據(jù)的光盤裝置，包括射出光束的光源，將所述光源射出的光束聚焦的透鏡，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述光盤的任意的信息記錄層上的聚焦控制單元，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述信息記錄層中的給定的軌道的跟蹤控制單元，能夠使所述聚焦控制單元及跟蹤控制單元中的至少一個(gè)的增益特性變化的增益設(shè)定單元；所述增益設(shè)定單元，將從所述第1信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的增益交點(diǎn)頻率，設(shè)定成低于從所述第2信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的增益交點(diǎn)頻率的值。
在首選的實(shí)施方式中，使所述光束的聚焦點(diǎn)從現(xiàn)在的信息記錄層移動(dòng)到作為目的的其它的信息記錄層時(shí)，在所述聚焦點(diǎn)的移動(dòng)完畢之前，使所述增益交點(diǎn)頻率，從對(duì)所述現(xiàn)在的信息記錄層而言的值，變化成對(duì)作為所述目標(biāo)的其它的信息記錄層而言的值。
在首選的實(shí)施方式中，所述光盤表面和所述第2信息記錄層之間的距離，在100μm以下。
在首選的實(shí)施方式中，所述增益設(shè)定單元，存儲(chǔ)規(guī)定對(duì)所述多個(gè)信息記錄層而言的增益特性的參數(shù)。
在首選的實(shí)施方式中，在起動(dòng)時(shí)，實(shí)行按照搭載的每個(gè)光盤，調(diào)整所述參數(shù)的學(xué)習(xí)。
采用本發(fā)明的其它光盤裝置，是能夠從具備包含到光盤表面的距離相對(duì)較小的第1信息記錄層和到光盤表面的距離相對(duì)較大的第2信息記錄層的許多信息記錄層的光盤中讀出數(shù)據(jù)的光盤裝置，包括射出光束的光源，將所述光源射出的光束聚焦的透鏡，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述光盤的任意的信息記錄層上的聚焦控制單元，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述信息記錄層中的給定的軌道的跟蹤控制單元，根據(jù)所述信息記錄層反射的光束生成再生信號(hào)的單元，截取所述再生信號(hào)的包含的特定頻帶的濾波單元，使所述濾波單元的頻率1MHz以上中的高域增益變化的增益設(shè)定單元；所述增益設(shè)定單元，將從所述第1信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的高域增益，設(shè)定成高于從所述第2信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的高域增益的值。
采用本發(fā)明的其它光盤裝置，是能夠從具備包含到光盤表面的距離相對(duì)較小的第1信息記錄層和到光盤表面的距離相對(duì)較大的第2信息記錄層的許多信息記錄層的光盤中讀出數(shù)據(jù)的光盤裝置，包括射出光束的光源，將所述光源射出的光束聚焦的透鏡，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述光盤的任意的信息記錄層上的聚焦控制單元，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述信息記錄層中的給定的軌道的跟蹤控制單元，根據(jù)所述信息記錄層反射的光束生成再生信號(hào)的單元，根據(jù)所述再生信號(hào)生成基準(zhǔn)時(shí)序信號(hào)的PLL電路；所述增益設(shè)定單元，將根據(jù)所述第1信息記錄層生成基準(zhǔn)時(shí)序信號(hào)時(shí)的所述PLL電路的增益，設(shè)定成高于根據(jù)所述第2信息記錄層生成基準(zhǔn)時(shí)序信號(hào)時(shí)的所述PLL電路的增益的值。
在首選的實(shí)施方式中，使所述光束的聚焦點(diǎn)從現(xiàn)在的信息記錄層移動(dòng)到作為目的的其它的信息記錄層時(shí)，在所述聚焦點(diǎn)的移動(dòng)之后，使所述高域增益，從對(duì)所述現(xiàn)在的信息記錄層而言的值，變化成對(duì)作為所述目標(biāo)的其它的信息記錄層而言的值。
在首選的實(shí)施方式中，所述光盤表面和所述第2信息記錄層之間的距離，在100μm以下。
在首選的實(shí)施方式中，所述增益設(shè)定單元，存儲(chǔ)規(guī)定對(duì)所述多個(gè)信息記錄層而言的增益特性的參數(shù)。
在首選的實(shí)施方式中，所述增益設(shè)定單元，按照搭載的每個(gè)光盤，將所述參數(shù)的初始值變更成新的設(shè)定值。
采用本發(fā)明后，即使在具備多個(gè)信息記錄層的光盤的表面存在傷痕或灰塵時(shí)，也能通過(guò)調(diào)節(jié)控制回路的增益交點(diǎn)頻率，降低各種信號(hào)的過(guò)度應(yīng)答，所以能夠避免出現(xiàn)控制回路偏移或者RF信號(hào)振幅下降的事態(tài)。因此，能夠提供確保再生信號(hào)質(zhì)量、與多層盤相應(yīng)的可靠性高的光盤裝置。


圖1(a)、(b)、(c)表示表面存在傷痕103的光盤102的斷面結(jié)構(gòu)和光束的聚焦點(diǎn)的位置關(guān)系。
圖2(a)、(b)、(c)分別示意性的表示在圖1(a)、(b)、(c)的狀態(tài)下進(jìn)行聚焦控制時(shí)獲得的FE信號(hào)和光盤表面的傷痕的關(guān)系。
圖3是示意性地表示被聚焦控制系統(tǒng)給予的FE信號(hào)的振幅(相當(dāng)于盤面擺動(dòng)等干擾的大小)受到伺服控制而減少的情況的圖形。
圖4是示意性地表示光盤裝置中的聚焦控制的增益特性的曲線圖。
圖5是表示對(duì)信息記錄層L0層、L1層的每一個(gè)，聚焦偏移(defocus)及盤面俯仰和再生信號(hào)質(zhì)量的關(guān)系的曲線圖。
圖6是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式中的光盤裝置的功能塊的圖形。
圖7是表示采用本發(fā)明的實(shí)施方式的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的圖形。
圖8(a)、(b)、(c)分別示意性的表示在圖1(a)、(b)、(c)的狀態(tài)下進(jìn)行聚焦控制時(shí)獲得的RF信號(hào)和光盤表面的傷痕的關(guān)系。
圖9是表示第2實(shí)施方式的光盤裝置具備的HPF182中的增益的頻率特性的圖形。
圖中100-光盤裝置；102-光盤；104-控制器；110-光頭；112-移動(dòng)部；114-聚焦檢出部；115-跟蹤檢出部；116-RF加法部；117-聚焦控制部；118-跟蹤控制部；119-均衡部；120-再生部。
具體實(shí)施例方式在講述本發(fā)明的實(shí)施方式之前，先講述信息記錄層的深度和光盤表面的傷痕的關(guān)系。
首先，參照?qǐng)D1(a)～(c)。圖1(a)～(c)都表示光盤102的斷面結(jié)構(gòu)和光束的聚焦點(diǎn)的位置關(guān)系。圖示的光盤(厚度1.2mm)102，具備基板(厚度1.1mm)180，被基板180支持的信息記錄層L0、L1、L2，覆蓋信息記錄層L2的保護(hù)膜188。信息記錄層L0、L1之間及信息記錄層L1、L2之間，都介有很薄的透明層。圖1(a)、(b)及(c)分別表示出光束的焦點(diǎn)位于信息記錄層L0、L1、L2上的狀態(tài)。
3層的信息記錄層L0～L2，在厚度100μm的范圍內(nèi)，以25μm的間隔層疊。就是說(shuō)，信息記錄層L0、L1、L2分別被配置成到保護(hù)膜(厚度大約50μm)188的表面(光盤表面)的深度為100μm、75μm、50μm的深度。保護(hù)膜188用透明的材料形成，從而使用聚焦透鏡126聚焦的光束透過(guò)，通過(guò)保護(hù)膜188做媒介，可以光學(xué)性地存取各信息記錄層L0～L2。存取3層的信息記錄層L0～L2中的哪個(gè)信息記錄層，只要調(diào)節(jié)聚焦透鏡126在光軸方向(垂直于光盤表面的方向)中的位置，使光束的聚焦點(diǎn)(焦點(diǎn))位于需要存取的目標(biāo)的信息記錄層上即可。
在圖1(a)的狀態(tài)中，光盤表面橫穿光束后形成的光束斷面的面積相對(duì)變大，傷痕103在該面積中所占的面積比例較小。與此不同，在圖1(c)所示的狀態(tài)中，光盤表面橫穿光束后形成的光束斷面的面積相對(duì)變小，傷痕103在該面積中所占的面積比例較大。這樣，光盤102的表面形成的傷痕103的影響，就隨著光束的焦點(diǎn)位于信息記錄層L0、L1、L2中的哪個(gè)信息記錄層上而不同。
圖2(a)、(b)、(c)分別示意性地表示在圖1(a)、(b)、(c)的狀態(tài)下進(jìn)行聚焦控制時(shí)獲得的RF信號(hào)和傷痕的關(guān)系。聚焦控制的增益，和現(xiàn)有技術(shù)一樣，無(wú)論在哪種情況下都設(shè)定成相同的大小。
光束的焦點(diǎn)位于信息記錄層L0上時(shí)，圖1(a)所示的傷痕103橫穿光束的時(shí)間相對(duì)變長(zhǎng)。圖2(a)表示在傷痕103的影響下不能獲得適當(dāng)?shù)腇E信號(hào)的期間較長(zhǎng)的情況。圖2(a)的上部所示的黑色的標(biāo)記，示意性地表示光盤表面?zhèn)墼斐傻挠绊懙拇笮『驮撚绊懏a(chǎn)生的期間。該期間因傷痕103而產(chǎn)生散焦(光束的焦點(diǎn)從作為目標(biāo)的信息記錄層上偏移的現(xiàn)象)，EF信號(hào)暫時(shí)性地衰減到約等于零為止。
圖2中的“FC動(dòng)作”，表示進(jìn)行聚焦控制，F(xiàn)E信號(hào)用較小的振幅振動(dòng)。例如在時(shí)刻A，由于進(jìn)行聚焦控制，所以光束的焦點(diǎn)位于信息記錄層L0上。這時(shí)，由于光盤旋轉(zhuǎn)，所以雖然產(chǎn)生光盤的盤面擺動(dòng)，但通過(guò)聚焦控制后，能夠使圖1(a)的聚焦透鏡126跟蹤光盤的盤面擺動(dòng)，從而使光束的焦點(diǎn)始終保持在信息記錄層L0上。但是，對(duì)于信息記錄層L0而言，由于光束的焦點(diǎn)略有偏移，所以即使在進(jìn)行FC動(dòng)作時(shí)，也如圖2(a)所示，F(xiàn)E信號(hào)成為較小地振動(dòng)。
在時(shí)刻C，光束開始橫穿光盤表面的傷痕，其結(jié)果，不能生成適當(dāng)?shù)腇E信號(hào)。光束繼續(xù)橫穿光盤表面的傷痕時(shí)，由于不能生成正確的FE信號(hào)，所以光束的焦點(diǎn)有可能與信息記錄層L0出現(xiàn)很大的偏移。
光束結(jié)束橫穿光盤表面的傷痕后，由于能夠生成適當(dāng)?shù)腇E信號(hào)，所以能夠重新開始FC動(dòng)作。這時(shí)，生成大小與光束的焦點(diǎn)和信息記錄層L0的位置偏移對(duì)應(yīng)的FE信號(hào)，控制聚焦透鏡126的位置，以便使該FE信號(hào)成為0。雖然在FE信號(hào)中產(chǎn)生較大的振幅變化，但是通過(guò)聚焦控制，能夠使光束的焦點(diǎn)位于信息記錄層L0上。
如上所述，向信息記錄層L0存取時(shí)，由于傷痕103在光束的斷面積中所占的面積比例較小，所以傷痕103的影響相對(duì)變小。圖2(a)上部中的黑色標(biāo)記，具有相對(duì)狹窄的寬度，它表示傷痕的影響較小。由于傷痕的影響較小，所以如圖2(a)所示，光束在通過(guò)傷痕103的前后，F(xiàn)E信號(hào)的變動(dòng)(擺動(dòng))變小。
另一方面，在圖1(b)的狀態(tài)中，光束通過(guò)光束的時(shí)間縮短，傷痕103產(chǎn)生散焦的期間也變短。在圖1(c)的狀態(tài)中，光束通過(guò)光束的時(shí)間進(jìn)一步縮短，傷痕103產(chǎn)生散焦的期間也進(jìn)一步變短。因此，在圖1(b)、(c)的狀態(tài)中，如圖2(b)、(c)所示，在光束通過(guò)傷痕103的前后，F(xiàn)E信號(hào)的變動(dòng)(擺動(dòng))變大。
這樣，將聚焦控制的增益設(shè)定成一定值時(shí)，成為記錄·再生的對(duì)象的信息記錄層的位置越淺，如圖2(a)～(c)所示，通過(guò)傷痕103前后的FE信號(hào)的紊亂就越大。特別是在圖2(c)的示例中，在光束通過(guò)傷痕103的前后，F(xiàn)E信號(hào)的變動(dòng)過(guò)度變大，其結(jié)果聚焦控制有可能出現(xiàn)偏移。

下面，參照?qǐng)D3及圖4，講述聚焦控制電路的增益特性。
圖3是示意性地表示被聚焦控制系統(tǒng)給予的FE信號(hào)的振幅(相當(dāng)于盤面擺動(dòng)等干擾的大小)受到伺服控制而減少的情況的圖形。設(shè)被聚焦控制系統(tǒng)輸入的FE信號(hào)的振幅為“X”，該振幅減少到“Y”(X＞Y)。這時(shí)，伺服控制的增益能夠用Y與X的比率(Y/X)表示。例如Y/X＝1/1000時(shí)，增益就成為60dB。例如存在300μm的盤面擺動(dòng)時(shí)，用增益60dB進(jìn)行聚焦控制后，F(xiàn)E信號(hào)的振幅減少到相當(dāng)于0.3μm的振幅。就是說(shuō)，光束的焦點(diǎn)和目標(biāo)的信息記錄層的偏移，保持在0.3μm以下的范圍。但是，實(shí)際的增益，由于具有頻率依存性，所以不象上述那樣單純。
圖4是示意性地表示光盤裝置中的聚焦控制電路的增益特性的曲線圖。由于增益具有頻率依存性，所以即使頻率50Hz時(shí)的增益為60dB，增益也隨著頻率的增高而降低。在本說(shuō)明書中，將增益成為零的頻率，稱作“增益交點(diǎn)頻率”。
在光盤裝置的聚焦控制中，可以用增益交點(diǎn)頻率規(guī)定伺服電路的增益特性。在圖4中，簡(jiǎn)要示出2種增益特性。虛線的增益特性，與實(shí)線的增益特性相比，在頻率高的區(qū)域，增益變高。由于在實(shí)際的光盤裝置的伺服控制中，顯示圖4所示的那種增益特性，所以可以取代嚴(yán)密地記述各頻率中的增益，只特定增益交點(diǎn)頻率，就能夠決定增益特性的概要。
在圖4的示例中，使具有實(shí)線的增益特性時(shí)的增益交點(diǎn)1的頻率為2KHz，具有虛線的增益特性時(shí)的增益交點(diǎn)2的頻率為3KHz。將增益交點(diǎn)頻率從3KHz減至2KHz后，增益就在比較大的頻率范圍中下降。
這樣，由于增益具有頻率依存性，所以例如即使在頻率50Hz中的增益為60dB，在頻率500Hz中的增益也要降至20dB。這時(shí)，起因于光盤的盤面擺動(dòng)等干擾，F(xiàn)E信號(hào)較大地振動(dòng)時(shí)，例如如果在頻率50Hz中的FE信號(hào)的振幅是當(dāng)初的300μm，那么伺服控制后的振幅就要減少到0.3μm左右。但是，對(duì)于FE信號(hào)包含的頻率更高的成分而言，由于增益相對(duì)變小，所以干擾振幅的減少率變低。有時(shí)，我們將伺服控制后下降的信號(hào)振幅的大小，稱作“控制剩余誤差”。在上述50Hz中存在振幅300μm的干擾時(shí)，頻率50Hz中的控制剩余誤差為0.3μm。即使在聚焦伺服控制之下，控制剩余誤差也不能成為零，F(xiàn)E信號(hào)以某個(gè)大小的振幅繼續(xù)振動(dòng)。
由以上的講述可知增益交點(diǎn)頻率下降后，作為整體，增益就要下降。如圖2(c)所示，起因于光盤表面的傷痕，F(xiàn)E信號(hào)變大后，如前所述，容易產(chǎn)生聚焦控制偏移的問(wèn)題。為了解決這種問(wèn)題，抑制聚焦控制的應(yīng)答十分有效。聚焦控制中的應(yīng)答的抑制，可以通過(guò)減小控制電路的增益來(lái)實(shí)現(xiàn)。但是，減小增益后，聚焦控制的控制剩余誤差也要變大，所以光束的焦點(diǎn)和信息記錄層的位置偏移，就會(huì)平均性地變大。它有可能使再生信號(hào)的質(zhì)量劣化。
圖5是表示對(duì)深度不同的信息記錄層L0層、L1層的每一個(gè)，聚焦偏移(defocus)及盤面俯仰和再生信號(hào)質(zhì)量的關(guān)系的曲線圖。在這里，將再生信號(hào)質(zhì)量用“MLSE”表示。MLSE是規(guī)定PRML(部分·響應(yīng)·最大·近似)信號(hào)處理方式中的波形等值后的補(bǔ)償?shù)目煽慷鹊姆植嫉闹笜?biāo)，和跳動(dòng)一樣，能夠作為信號(hào)質(zhì)量指標(biāo)使用。MLSE的詳細(xì)內(nèi)容，例如在HarumitsuMiyashita，et.al.所著的《Signal Qualification Method for Partial-ResponseMaximum-Likelihood Read/Write Channel》(Japanese Journal of AppliedPhysics Vol.43，No.7B，2004，pp.4850-4851)中有詳細(xì)敘述，本說(shuō)明書將該文獻(xiàn)全文引用。此外，可以將光盤俯仰分作徑向俯仰(R-tilt)及切向俯仰(T-tilt)等兩個(gè)后，進(jìn)行評(píng)價(jià)。
如圖5所示，比較信息記錄層L0層和信息記錄層L1層的各參數(shù)的冗余量時(shí)，雖然其散焦范圍同等，都是±0.2μm，但徑向俯仰冗余量、切向俯仰冗余量的俯仰冗余量，卻在信息記錄層L1中的冗余量大。
一般來(lái)說(shuō)，慧差越小，俯仰冗余量就越大。在這里，設(shè)信息記錄層的深度為d、透鏡的開口率為NA、光束的波長(zhǎng)為λ時(shí)，慧差的大小就可以用d×NA3/λ表示。這樣，在使用NA大的透鏡的Blu-ray盤驅(qū)動(dòng)器中，由信息記錄層L0、L1的深度之差引起的俯仰冗余量之差，就比較顯著。
對(duì)于光盤表面的傷痕而言的聚焦控制的過(guò)度應(yīng)答，如圖2(a)～(c)所示，信息記錄層的位置越靠近光盤的表面就越厲害。與此不同，俯仰冗余量則如圖5所示，信息記錄層的位置越靠近光盤的表面就越大。這種傾向，就象BD那樣，信息記錄層存在于靠近光盤的表面的位置(到光盤表面的深度為100μm以下)時(shí)，非常顯著。
在本發(fā)明中，著眼于上述現(xiàn)象，為了緩解對(duì)于光盤表面的傷痕而言的過(guò)度應(yīng)答，使伺服控制電路的增益在各信息記錄層中變化。具體的說(shuō)，將增益交點(diǎn)頻率設(shè)定成相對(duì)低的值，以便使信息記錄層的位置越靠近光盤的表面其增益就越小。這樣，將對(duì)于較淺的信息記錄層而言的增益設(shè)定得較低后，雖然對(duì)于光盤的盤面擺動(dòng)等而言的跟蹤剩余誤差增加，但由于在較淺的信息記錄層中，俯仰冗余量相對(duì)變大，所以讀數(shù)錯(cuò)誤的發(fā)生率不會(huì)增加。因此，最好將各信息記錄層中的增益交點(diǎn)頻率的設(shè)定值，決定成相當(dāng)于俯仰冗余量的擴(kuò)大量的值。
(第1實(shí)施方式)下面，參照?qǐng)D6及圖7，講述采用本發(fā)明的光盤裝置的第1實(shí)施方式。
首先，參照?qǐng)D6講述本實(shí)施方式中的光盤裝置100的功能塊，然后具體講述其構(gòu)造。
如圖6所示，光盤裝置100具備向光盤102中所需的信息記錄層光學(xué)性地存取的光頭110。光盤102，例如如圖1所示，具有多個(gè)信息記錄層。光頭110將光束聚焦到光盤102的任意的信息記錄層上，再將信息記錄層反射的光變化成電信號(hào)。光頭110，具備例如半導(dǎo)體激光器等光源，和將光源發(fā)射的光束聚焦的透鏡(物鏡)。光頭110還可以具備發(fā)射不同的波長(zhǎng)的光束的多個(gè)光源，和分別將特定波長(zhǎng)的光束聚焦的多個(gè)透鏡。這時(shí)，能夠按照被光盤裝置搭載的光盤的種類，選擇適當(dāng)?shù)墓庠醇拔镧R。
此外，為了從DVD的信息記錄層讀出數(shù)據(jù)或者向DVD的信息記錄層寫入數(shù)據(jù)，需要將紅色激光(波長(zhǎng)660nm)聚焦，并將其焦點(diǎn)控制到位于信息記錄層上。為了將這時(shí)的激光聚焦而使用的物鏡的開口度(NA)，約為0.6。另一方面，為了從BD的信息記錄層讀出數(shù)據(jù)，需要將藍(lán)紫色激光(波長(zhǎng)405nm)聚焦，并將其焦點(diǎn)控制到位于信息記錄層上。為了將這時(shí)的激光聚焦而使用的物鏡的開口度(NA)，約為0.85。
移動(dòng)部112，具備調(diào)節(jié)上述的物鏡的位置的促動(dòng)器。該促動(dòng)器，不僅能夠使物鏡在垂直于光盤102的信息記錄層的方向上移動(dòng)，而且還能夠使物鏡在平行于信息記錄層的方向上移動(dòng)。利用物鏡的移動(dòng)，使光束的聚焦點(diǎn)移動(dòng)后，就能夠?qū)?shù)據(jù)寫入光盤的任意的信息記錄層中的任意的軌道中，或者從該軌道讀出數(shù)據(jù)。
聚焦檢出部114，根據(jù)光頭110輸出的電信號(hào)，生成表示光束的焦點(diǎn)和信息記錄層的位置偏移的FE信號(hào)。聚焦控制部117，對(duì)從聚焦檢出部114接收的FE信號(hào)，進(jìn)行濾波運(yùn)算，將驅(qū)動(dòng)信號(hào)供給移動(dòng)部112。聚焦控制時(shí)的移動(dòng)部112，根據(jù)從聚焦檢出部114接收的驅(qū)動(dòng)信號(hào)，控制光頭110中的物鏡的光軸方向位置，從而使光束的焦點(diǎn)位于光盤的信息記錄層上。
利用光頭110光學(xué)性地進(jìn)行存取的對(duì)象，從某個(gè)信息記錄層向其它的信息記錄層移動(dòng)時(shí)，需要使光束的焦點(diǎn)在信息記錄層之間向垂直方向移動(dòng)。在本說(shuō)明書中，有時(shí)將這種使光束的焦點(diǎn)在信息記錄層之間向垂直方向移動(dòng)的現(xiàn)象，稱作“層間移動(dòng)”或“焦點(diǎn)跳躍”。
聚焦控制部117，在進(jìn)行“層間移動(dòng)”之前，將聚焦控制斷開?？刂破?04驅(qū)動(dòng)移動(dòng)部112，使物鏡的位置沿著光軸方向發(fā)生很大的變化，使光束的焦點(diǎn)移動(dòng)到其它的信息記錄層。結(jié)束“層間移動(dòng)”后，聚焦控制部117將聚焦控制接通。
跟蹤檢出部115，根據(jù)光頭110輸出的電信號(hào)，生成跟蹤誤差信號(hào)(TE信號(hào))。跟蹤控制部118，對(duì)TE信號(hào)進(jìn)行濾波運(yùn)算，驅(qū)動(dòng)移動(dòng)部112。移動(dòng)部112，按照來(lái)自跟蹤控制部118的信號(hào)進(jìn)行跟蹤控制，從而使光束的焦點(diǎn)位于光盤102的所需的軌道上。
RF加法部116，將來(lái)自光頭110的信號(hào)相加，生成RF信號(hào)。高通濾波器(HPF)119A，從RF信號(hào)中除去低頻成分，確保必要的RF振幅。均衡部119B，將HPF119A輸出的中給定頻帶包含的信號(hào)成分放大，使不用的帶域的信號(hào)成分衰減。再生部119C，將來(lái)自均衡部119B的輸出2值化后，實(shí)施糾錯(cuò)及解調(diào)等數(shù)字信號(hào)處理。這樣，能夠再生被光盤102記錄的數(shù)據(jù)。
控制器104控制移動(dòng)部112，使光束的焦點(diǎn)在光盤102中的多個(gè)信息記錄層之間移動(dòng)“層間移動(dòng)”。但本實(shí)施方式的顯著特征，在于進(jìn)行聚焦控制部117中的增益切換。就是說(shuō)，在本實(shí)施方式中，使聚焦控制電路的增益變化，從而使光束的焦點(diǎn)所在的信息記錄層越靠近光盤表面(光射入側(cè)表面)，其增益交點(diǎn)頻率就越低。使增益交點(diǎn)頻率降低時(shí)，為了獲得本實(shí)施方式的效果，最好調(diào)節(jié)增益交點(diǎn)頻率的大小，以便使例如500Hz～5KHz中的增益下降3dB以上。
接著，參照?qǐng)D7講述本實(shí)施方式中的光盤裝置100的具體構(gòu)造。
圖示的光盤裝置，作為光頭的構(gòu)成要素，具備光源122，耦合透鏡123，聚焦促動(dòng)器124，物鏡126，跟蹤促動(dòng)器128，偏光束分離器130，聚光透鏡132，光檢出器134，前置放大器136、138、140、142，加法器144、146。
光源122，是射出光束的半導(dǎo)體激光器。為了簡(jiǎn)單起見，在圖7中示出單一的光源122，但實(shí)際的光源，可以由射出不同波長(zhǎng)的激光的例如3個(gè)半導(dǎo)體激光器芯片構(gòu)成。耦合透鏡123，將光源122射出的光束變成平行光。偏光束分離器130，將來(lái)自耦合透鏡123，將光源122的平行光反射到光盤102所在的一側(cè)。用偏光束分離器130反射的光，透過(guò)物鏡126后，射入光盤102。
聚焦促動(dòng)器124，使物鏡126的位置，在略垂直于光盤102的信息記錄層的方向上變化；跟蹤促動(dòng)器128，使物鏡126的位置，在略平行于光盤102的信息記錄層的方向上變化 物鏡126，將偏光束分離器130反射的光束聚光，使焦點(diǎn)位于光盤102的信息記錄層上。這時(shí)，在信息記錄層的上形成光束點(diǎn)。光盤102反射的激光，通過(guò)物鏡126及偏光束分離器130。
聚光透鏡132，使通過(guò)物鏡126及偏光束分離器130的、來(lái)自光盤102反射光，聚焦到光檢出器134上。光檢出器134，接收通過(guò)聚光透鏡132的光，將該光信號(hào)變換成電信號(hào)(電流信號(hào))。光檢出器134，例如具有4分割的受光區(qū)域。在圖7的示例中，由光檢出器134輸出的4種電信號(hào)，通過(guò)做前置放大器136、138、140、142媒介，射入加法器144、146。
圖7的光盤裝置，還具備比較器152、154，相位比較器156，差動(dòng)放大器158、180，數(shù)字信號(hào)處理器(DSP)162，增益切換電路164、166，模擬·數(shù)字(AD)變換器168、170。
差動(dòng)放大器158，接收來(lái)自加法器144、146的輸出，輸出聚焦誤差信號(hào)(FE信號(hào))。FE信號(hào)，是為了將光束控制成在光盤102的信息記錄層上成為給定的聚焦?fàn)顟B(tài)的信號(hào)。FE信號(hào)的檢出法，沒有特別的限定，既可以使用非點(diǎn)像差法，也可以使用刀口法，還可以使用SSD(光點(diǎn)·？1·方位)法?？梢园凑諜z出法，適當(dāng)變更電路結(jié)構(gòu)。
比較器152、154，分別將來(lái)自加法器144、146的信號(hào)2值化。相位比較器156，對(duì)比較器152、154輸出的信號(hào)，進(jìn)行相位比較。
差動(dòng)放大器160，接收來(lái)自相位比較器156的輸出，輸出跟蹤誤差信號(hào)(TE信號(hào))。TE信號(hào)，是旨在控制光束，以便使其在光盤102的軌道上正確地掃描的信號(hào)。TE信號(hào)的檢出法，沒有特別的限定，既可以使用推挽法，也可以使用3束法?？梢园凑諜z出法，適當(dāng)變更電路結(jié)構(gòu)。
相當(dāng)于圖6的控制器104的DSP162，按照TE信號(hào)，向驅(qū)動(dòng)電路150輸出跟蹤控制用的控制信號(hào)。另外，DSP162按照FE信號(hào)，向驅(qū)動(dòng)電路148輸出聚焦控制用的控制信號(hào)。驅(qū)動(dòng)電路150，按照來(lái)自DSP162的控制信號(hào)，驅(qū)動(dòng)跟蹤促動(dòng)器128。跟蹤促動(dòng)器128，使聚焦透鏡126向與光盤102的信息記錄層大致平行的方向移動(dòng)。驅(qū)動(dòng)電路148，按照來(lái)自DSP162的控制信號(hào)，驅(qū)動(dòng)聚焦促動(dòng)器124。聚焦促動(dòng)器124，使聚焦透鏡126向與光盤102的信息記錄層大致垂直的方向移動(dòng)。
增益切換電路164，調(diào)整聚焦控制的增益，以便使FE信號(hào)具有給定的振幅。AD變換器168，將來(lái)自增益切換電路164的信號(hào)變換成數(shù)字信號(hào)后，向DSP162輸出。另一方面，增益切換電路166，調(diào)整跟蹤控制的增益，以便使TE信號(hào)具有給定的振幅。AD變換器170，將來(lái)自增益切換電路166的信號(hào)變換成數(shù)字信號(hào)后，向DSP162輸出。
光檢出器134的輸出，還被輸入RF加法電路181。在RF加法電路181中，以保持頻帶的狀態(tài)，將加法電路144、146的輸出相加。RF信號(hào)，是與光盤102的信息記錄面的反射率的局部性的變化對(duì)應(yīng)的信號(hào)，用于再生地址信息及用戶數(shù)據(jù)。RF加法電路的輸出，通過(guò)旨在對(duì)記錄載體102的反射率下降及表面的傷痕、灰塵及污垢進(jìn)行振幅補(bǔ)償?shù)母咄V波器(HPF)182，輸入均衡器(EQ)183。EQ183是為了抽出RF信號(hào)包含的有效信號(hào)而例如用等脈動(dòng)濾波器等構(gòu)成的高次濾波器。EQ183強(qiáng)調(diào)必要的頻帶，衰減、除去不必要的頻率。用EQ183抽出的有效帶域的RF信號(hào)，被構(gòu)成圖6所示的再生部119C的二值化電路184數(shù)字化，從而經(jīng)由ECC/解調(diào)電路185后輸出。
光盤電動(dòng)機(jī)120，使光盤以給定的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。
本實(shí)施方式中的光檢出器134、前置放大器136、138、140、142、加法器144、146、比較器152、154、相位比較器156、差動(dòng)放大器160、增益切換電路166、AD變換器170、DSP162、驅(qū)動(dòng)電路150和跟蹤促動(dòng)器128，構(gòu)成權(quán)利要求中的跟蹤控制單元。另外，光檢出器134、前置放大器136～142、加法器144、146、差動(dòng)放大器158、增益切換電路164、AD變換器168、DSP162、驅(qū)動(dòng)電路148和聚焦促動(dòng)器124，構(gòu)成權(quán)利要求中的聚焦控制單元。
接著，講述本實(shí)施方式中的光盤裝置的基本動(dòng)作。
首先，假設(shè)需要進(jìn)行由向信息記錄層L0存取的狀態(tài)變成向信息記錄層L1存取的狀態(tài)的層間移動(dòng)。這時(shí)，在DSP162及驅(qū)動(dòng)電路148的作用下，光束的焦點(diǎn)從信息記錄層L0移動(dòng)到信息記錄層L1。在本實(shí)施方式中，控制增益切換電路164，從而使移動(dòng)到信息記錄層L1后的增益交點(diǎn)頻率，與值GF1相等。然后，光束的焦點(diǎn)到達(dá)信息記錄層L1后，閉合聚焦控制、跟蹤控制的伺服電路。這時(shí)的增益交點(diǎn)頻率GF1，是低于信息記錄層L0的增益交點(diǎn)頻率GF0的值。
進(jìn)而，需要進(jìn)行由信息記錄層L1向信息記錄層L2的層間移動(dòng)時(shí)，在DSP162及驅(qū)動(dòng)電路148的作用下，光束的焦點(diǎn)從信息記錄層L1移動(dòng)到離得最近的信息記錄層L2。在本實(shí)施方式中，這時(shí)也控制增益切換電路164，從而使移動(dòng)到信息記錄層L2后的增益交點(diǎn)頻率，與值GF2相等。然后，光束的焦點(diǎn)到達(dá)信息記錄層L2后，閉合聚焦控制、跟蹤控制的伺服電路。
這樣，本實(shí)施方式中的與信息記錄層L0、L1、L2有關(guān)的增益交點(diǎn)頻率的值，就滿足GF0＞GF1＞GF2的關(guān)系。規(guī)定增益的設(shè)定值或增益特性的參數(shù)，作為表格值，被預(yù)先存入DSP162內(nèi)置的存儲(chǔ)器(未圖示)。
此外，在本實(shí)施方式中，在層間移動(dòng)之前，進(jìn)行規(guī)定增益的各種參數(shù)的切換。聚焦伺服及跟蹤伺服中的增益的切換，由于即使在層間移動(dòng)之前進(jìn)行也不會(huì)不穩(wěn)定，所以最好在開始實(shí)際的層間移動(dòng)之前進(jìn)行。因?yàn)樵诰劢顾欧案櫵欧?dòng)作穩(wěn)定的狀態(tài)下，即使在層間移動(dòng)之前切換增益，伺服也不會(huì)受其影響偏移。而反之，信息記錄層的反射率、跟蹤信號(hào)的調(diào)制率在各信息記錄層中存在離差時(shí)，在層間移動(dòng)后，不能獲得適當(dāng)?shù)脑鲆嫣匦?，難以閉合伺服電路。所以，為了在層間移動(dòng)后獲得迅速切換增益的效果，最好在即將開始層間移動(dòng)之前切換增益。
此外，各信息記錄層的不同的增益特性，最好按照各個(gè)光盤的差異最佳化。下面，簡(jiǎn)單講述通過(guò)起動(dòng)時(shí)的學(xué)習(xí)，調(diào)整增益特性的方法。
首先，將光盤裝置的電源置為ON狀態(tài)后，聚焦促動(dòng)器124動(dòng)作，從而在被光盤裝置搭載的光盤102的信息記錄層中離物鏡126最遠(yuǎn)的信息記錄層L0上形成焦點(diǎn)。這時(shí)，增益切換電路164被調(diào)整，聚焦伺服的增益特性被從初始值修正，從而使聚焦控制的增益交點(diǎn)頻率，與值GF0相等。
接著，在DSP162及驅(qū)動(dòng)電路148的作用下，光束的焦點(diǎn)從信息記錄層L0移動(dòng)到信息記錄層L1。光束的焦點(diǎn)到達(dá)信息記錄層L1后，閉合聚焦控制的伺服電路，控制增益切換電路164，以便使其增益交點(diǎn)頻率與GF1相等。信息記錄層L1的增益調(diào)整結(jié)束后，在DSP162及驅(qū)動(dòng)電路148的作用下，光束的焦點(diǎn)從信息記錄層L1移動(dòng)到離得最近的信息記錄層L2。這時(shí)，聚焦控制的初始增益最好采用在信息記錄層L1值。光束的焦點(diǎn)到達(dá)信息記錄層L2后，閉合跟蹤控制的伺服電路，控制增益切換電路164，以便使其增益交點(diǎn)頻率與值GF2相等。該增益交點(diǎn)頻率GF2，是比信息記錄層L1的增益交點(diǎn)頻率GF1低的值。規(guī)定調(diào)整后的增益的參數(shù)，作為表格值，被存入DSP162內(nèi)置的存儲(chǔ)器(未圖示)。

聚焦促動(dòng)器124的靈敏度特性存在的離差，使初始的增益變動(dòng)較大。因此，最好在出廠前的工序調(diào)整中，使用沒有光盤的盤面擺動(dòng)及偏心等的穩(wěn)定的光盤，獲得吸收該靈敏度離差的調(diào)整值，寫入光盤裝置的非易失性存儲(chǔ)器。
光盤的信息記錄層的反射率，也因光盤而變，所以起因于反射率的變動(dòng)，最好調(diào)整規(guī)定增益的參數(shù)。這種增益參數(shù)的調(diào)整，如上所述，最好在光盤裝置的起動(dòng)時(shí)進(jìn)行。
此外，在本實(shí)施方式中，按照信息記錄層，調(diào)節(jié)聚焦控制的增益。但也可以按照信息記錄層，調(diào)節(jié)跟蹤控制的增益。跟蹤控制的增益、起因于光盤表面?zhèn)鄣腡E信號(hào)的應(yīng)答特性及俯仰冗余量的關(guān)系，也和聚焦控制時(shí)一樣。
采用本實(shí)施方式的光盤裝置后，即使在具有層疊著的多個(gè)信息記錄層的多層光盤的表面存在傷痕，也能同時(shí)實(shí)現(xiàn)光盤裝置的穩(wěn)定性和高質(zhì)量的記錄再生，能夠提供可靠性高的裝置。
(第2實(shí)施方式)接著，講述采用本發(fā)明的光盤裝置的第2實(shí)施方式。在本實(shí)施方式中的光盤裝置的基本結(jié)構(gòu)，如圖7所示。本實(shí)施方式的光盤裝置，和上述第1實(shí)施方式中的光盤裝置中的不同之處是按照光盤102具備的信息記錄層的深度，使EQ183的頻率特性變化。
下面，講述本實(shí)施方式中的HPF182的增益設(shè)定 圖8(a)、(b)、(c)分別示意性地表示在圖1(a)、(b)、(c)的狀態(tài)下進(jìn)行聚焦控制時(shí)獲得的RF信號(hào)和傷痕的關(guān)系。HPF182中的增益，和現(xiàn)有技術(shù)一樣，無(wú)論在哪種情況下都設(shè)定成相同的大小。

如圖1(a)所示，光束的焦點(diǎn)位于信息記錄層L0上時(shí)，傷痕103橫穿光束的時(shí)間相對(duì)變長(zhǎng)。圖8(a)表示在傷痕103的影響下不能獲得適當(dāng)?shù)腞E信號(hào)的期間較長(zhǎng)的情況。就是說(shuō)，因傷痕103而產(chǎn)生散焦，RF信號(hào)暫時(shí)性地衰減變長(zhǎng)。但是，如前所述，由于傷痕103在光束的斷面積中所占的面積比例較小，所以傷痕103的影響相對(duì)變小。因此，光束在通過(guò)傷痕103的前后，RE信號(hào)的變動(dòng)(擺動(dòng))變小。
另一方面，在圖1(b)的狀態(tài)中，光束通過(guò)光束的時(shí)間縮短，傷痕103產(chǎn)生散焦的期間也變短。在圖1(c)的狀態(tài)中，光束通過(guò)光束的時(shí)間進(jìn)一步縮短，傷痕103產(chǎn)生散焦的期間也進(jìn)一步變短。因此，在圖1(b)、(c)的狀態(tài)中，如圖8(b)、(c)所示，在光束通過(guò)傷痕103的前后，RE信號(hào)的變動(dòng)(擺動(dòng))變大。
這樣，將HPF182的增益交點(diǎn)頻率設(shè)定成一定值時(shí)，成為記錄·再生的對(duì)象的信息記錄層的位置越淺，傷痕的影響就越集中，所以影響度變大，通過(guò)傷痕時(shí)的RE信號(hào)的衰減變大，振幅劣化嚴(yán)重。RE信號(hào)的振幅劣化嚴(yán)重時(shí)，數(shù)據(jù)限幅的反饋電路也偏移，不能進(jìn)行二值化。
在本實(shí)施方式的光盤裝置中，比較信息記錄層L0、L1的信息特性后，也可以獲得圖5所示的結(jié)果。所以，散焦冗余量同等，都是±0.2μm。但徑向俯仰冗余量、切向俯仰冗余量的俯仰冗余量，卻在信息記錄層L1中的冗余量大。
在本實(shí)施方式中，按照信息記錄層，如圖9所示，使HPF182的高域增益(在頻率1MHz以上的RF頻帶的增益)在值GH0、GH1、GH2的3個(gè)階段中變化。圖9表示出增益的頻率依存性，用BD的標(biāo)準(zhǔn)再生速度時(shí)，規(guī)定RF頻帶的范圍F1約4MHz，F(xiàn)2約16MHz。
更詳細(xì)地說(shuō)，在本實(shí)施方式中，對(duì)信息記錄層L0而言，將高域增益設(shè)定成值GH0；對(duì)信息記錄層L1而言，將高域增益設(shè)定成值GH1；對(duì)信息記錄層L2而言，將高域增益設(shè)定成值GH2。信息記錄層的位置越淺，將高域增益設(shè)定的值就越高。這樣，可以在各信息記錄層中，使起因于光盤表面的傷痕的RF信號(hào)的衰減成為大致相同的水平。
提高HPF182的高域增益后，高域噪聲增加，信號(hào)質(zhì)量劣化，其結(jié)果導(dǎo)致跳動(dòng)及MLSE等的指標(biāo)增高，可是，如參照?qǐng)D5所講述的那樣，由于信息記錄層的位置越淺俯仰冗余量就越大，所以不產(chǎn)生讀數(shù)錯(cuò)誤。與各信息記錄層有關(guān)的高域增益的值，最好設(shè)定成相當(dāng)于俯仰冗余量的擴(kuò)大量的值。
此外，HPF182中的高域增益的設(shè)定值，可以使光頭的分辨率及光圈的離差一致，在制造工序等中個(gè)別調(diào)整，按照各層寫入EEPROM。或者，在光盤裝置的起動(dòng)時(shí)，向光盤的內(nèi)周區(qū)域存在的著作權(quán)保護(hù)及為了賦予盤ID的BCA(Burst Cutting Area)的區(qū)域移動(dòng)，把該BCA的部分看做傷痕，進(jìn)行調(diào)整，從而使HPF的增益對(duì)于傷痕具有很強(qiáng)的耐受性，RF振幅及跳動(dòng)成為最佳。調(diào)整后的增益設(shè)定值，作為表格值，例如存入DSP162內(nèi)置的RAM(未圖示)。
根據(jù)存入EEPROM(未圖示)及RAM的增益設(shè)定值，進(jìn)行層間移動(dòng)時(shí)，光束的焦點(diǎn)剛移動(dòng)到作為目標(biāo)的信息記錄層后，就更新成為該信息記錄層的增益設(shè)定值。數(shù)據(jù)的記錄再生，從增益設(shè)定值的更新完畢后開始。
在本實(shí)施方式中，不在層間移動(dòng)之前而在剛層間移動(dòng)后進(jìn)行增益的切換。如果在移動(dòng)前切換HPF即均衡器的增益設(shè)定，那么在該時(shí)刻就不能讀出軌道地址及扇區(qū)地址，所以有可能誤判成聚焦伺服等偏移。出現(xiàn)這種誤判后，就有可能進(jìn)行聚焦輸入的再試等，而不能進(jìn)行預(yù)定的層間移動(dòng)。因此，增益切換最好在層間移動(dòng)之后進(jìn)行，但也可以在層間移動(dòng)之前進(jìn)行。
這樣，采用本實(shí)施方式后，來(lái)自存在于多層盤的較淺的位置的信息記錄層的RF信號(hào)，即使在光盤表面的傷痕等的影響下極大地衰減后，通過(guò)調(diào)節(jié)伺服控制的增益交點(diǎn)頻率，也能夠獲得很好的信號(hào)質(zhì)量。因此，無(wú)論在哪個(gè)信息記錄層，都能同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)于光盤的傷痕而言的穩(wěn)定性和記錄再生的質(zhì)量，可以提供可靠性高的裝置。
此外，按照信息記錄層，不僅使HPF182的高域增益變化，而且還使二值化電路184的數(shù)據(jù)限幅系統(tǒng)的反饋增益及PLL電路增益也變化。這時(shí)，就象聚焦伺服及跟蹤伺服那樣，和應(yīng)答帶域低的伺服系統(tǒng)相反，信息記錄層的位置越淺，在光盤表面的傷痕的作用下，RF振幅就越低。因此，對(duì)于這些增益，最好信息記錄層越淺，就將其值設(shè)定得越高，提高對(duì)于傷痕的應(yīng)答特性。另外，提高這些增益后，即使起因于傷痕例如PLL的回路偏移時(shí)，也能夠在通過(guò)盤表面的傷痕后，迅速進(jìn)行PLL的輸入。提高這些增益后，跳動(dòng)等雖然劣化，但該劣化卻可以被俯仰冗余量的擴(kuò)大抵消。
(第3實(shí)施方式)如參照?qǐng)D6所講述的那樣，信息記錄層的位置越靠近光盤的表面，起因于光盤表面的傷痕的RF信號(hào)的振幅衰減的比例就越大。它也影響PLL(Phase Locked Loop鎖相回線)。PLL是眾所周知的使輸入信號(hào)或基準(zhǔn)頻率和輸出信號(hào)的頻率一致的電路。能夠檢出輸入信號(hào)和輸出信號(hào)的相位差，利用電壓控制發(fā)送器(VCOVoltage Controlled Oscillator)，產(chǎn)生與基準(zhǔn)頻率正確地同步的信號(hào)。
光盤裝置的PLL，根據(jù)RF信號(hào)動(dòng)作，所以光盤表面有了傷痕后，在靠近光盤表面的信息記錄層中，有時(shí)不能正確地進(jìn)行PLL動(dòng)作。因此，也最好是信息記錄層越淺，就將PLL增益設(shè)定成越大的值。在向位于相對(duì)較淺的信息記錄層進(jìn)行存取時(shí)，即使由于光盤表面的傷痕導(dǎo)致RF信號(hào)的振幅極大地衰減，只要能夠二值化，能夠抽出時(shí)鐘脈沖，就不容易偏移，進(jìn)而即使PLL偏移，也由于提高增益后，提高了輸入的性能，所以能夠在通過(guò)傷痕后迅速地重新輸入。
此外，提高PLL的增益后，一般來(lái)說(shuō)，容易應(yīng)答噪聲等。因此，在正常狀態(tài)中產(chǎn)生的隨機(jī)噪聲等的作用下，數(shù)據(jù)抽出時(shí)鐘脈沖的跳動(dòng)變大?？墒?，隨著信息記錄層的位置變得較淺，俯仰冗余量擴(kuò)大，所以這時(shí)也能抑制讀數(shù)誤差的產(chǎn)生。
本發(fā)明的光盤裝置，也可以具有任意組合第1～第3實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)。例如可以使聚焦控制的增益及PLL的增益兩者，按照信息記錄層變化。
在上述的各實(shí)施方式中，一個(gè)光盤具有3個(gè)信息記錄層L0～L2。但光盤也可以具有2層信息記錄層或4層以上的信息記錄層。另外，不需要使增益特性在所有的信息記錄層中變化。例如，可以在信息記錄層L0、L1中，設(shè)定成相同的增益特性(相同的增益交點(diǎn)頻率或高域增益)，只使位于最表面?zhèn)鹊男畔⒂涗泴覮2中的增益特性變化。
本發(fā)明的光盤裝置，能夠?qū)⒍鄬庸獗P作為對(duì)象，穩(wěn)定地進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄再生。特別是光學(xué)性地向靠近光盤的表面的信息記錄層進(jìn)行存取時(shí)，光盤表面形成的傷痕等容易給RF信號(hào)及FE信號(hào)帶來(lái)不良的影響但。但是采用本發(fā)明的光盤裝置后，能夠降低這種影響，提高信號(hào)質(zhì)量。
本發(fā)明在對(duì)裸裝的BD進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄再生時(shí)，特別有效。
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置，能夠從具備多個(gè)信息記錄層的光盤中讀出數(shù)據(jù)，所述多個(gè)信息記錄層包含到盤表面的距離相對(duì)較小的第1信息記錄層和到所述盤表面的距離相對(duì)較大的第2信息記錄層，所述光盤裝置，包括射出光束的光源，將所述光源射出的光束聚焦的透鏡，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述光盤的任意的信息記錄層上的聚焦控制單元，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述信息記錄層中的給定的軌道的跟蹤控制單元，以及能夠使所述聚焦控制單元及跟蹤控制單元中的至少一個(gè)的增益特性產(chǎn)生變化的增益設(shè)定單元；所述增益設(shè)定單元，將從所述第1信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的增益交點(diǎn)頻率，設(shè)定成低于從所述第2信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的增益交點(diǎn)頻率的值。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于當(dāng)使所述光束的聚焦點(diǎn)從現(xiàn)在的信息記錄層移動(dòng)到作為目的的其它的信息記錄層時(shí)，在所述聚焦點(diǎn)的移動(dòng)完畢之前，使所述增益交點(diǎn)頻率，從對(duì)所述現(xiàn)在的信息記錄層而言的值，變化成對(duì)作為所述目標(biāo)的其它的信息記錄層而言的值。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于所述盤表面與所述第2信息記錄層之間的距離，在100μm以下。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于所述增益設(shè)定單元，存儲(chǔ)規(guī)定對(duì)所述多個(gè)信息記錄層而言的各增益特性的參數(shù)。
5.如權(quán)利要求4所述的光盤裝置，其特征在于所述增益設(shè)定單元，在起動(dòng)時(shí)，執(zhí)行按照搭載的每個(gè)光盤來(lái)調(diào)整所述參數(shù)的學(xué)習(xí)。
6.一種光盤裝置，能夠從具備多個(gè)信息記錄層的光盤中讀出數(shù)據(jù)，所述多個(gè)信息記錄層包含到盤表面的距離相對(duì)較小的第1信息記錄層和到所述盤表面的距離相對(duì)較大的第2信息記錄層，所述光盤裝置，包括射出光束的光源，將所述光源射出的光束聚焦的透鏡，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述光盤的任意的信息記錄層上的聚焦控制單元，使所述光束的聚焦點(diǎn)位于所述信息記錄層中的給定的軌道的跟蹤控制單元，根據(jù)所述信息記錄層反射的光束生成再生信號(hào)的單元，截去所述再生信號(hào)中包含的特定頻帶的濾波單元，以及使所述濾波單元的頻率1MHz以上的RF頻帶中的高域增益產(chǎn)生變化的增益設(shè)定單元；所述增益設(shè)定單元，將從所述第1信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的高域增益，設(shè)定成高于從所述第2信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的高域增益的值。
7.如權(quán)利要求6所述的光盤裝置，其特征在于當(dāng)使所述光束的聚焦點(diǎn)從現(xiàn)在的信息記錄層移動(dòng)到作為目的的其它的信息記錄層時(shí)，在所述聚焦點(diǎn)的移動(dòng)之后，使所述高域增益，從對(duì)所述現(xiàn)在的信息記錄層而言的值，變化成對(duì)作為所述目標(biāo)的其它的信息記錄層而言的值。
8.如權(quán)利要求6所述的光盤裝置，其特征在于所述盤表面與所述第2信息記錄層之間的距離，在100μm以下。
9.如權(quán)利要求6所述的光盤裝置，其特征在于所述增益設(shè)定單元，存儲(chǔ)規(guī)定對(duì)所述多個(gè)信息記錄層而言的增益特性的參數(shù)。
10.如權(quán)利要求9所述的光盤裝置，其特征在于所述增益設(shè)定單元，按照搭載的每個(gè)光盤，將所述參數(shù)的初始值變更成新的設(shè)定值。
全文摘要
本發(fā)明的光盤裝置，能夠從具備包含到光盤表面的距離相對(duì)較小的第1信息記錄層和到光盤表面的距離相對(duì)較大的第2信息記錄層的許多信息記錄層的光盤(102)中讀出數(shù)據(jù)。該光盤裝置，包括使光束的聚焦點(diǎn)位于光盤(102)的任意的信息記錄層上的聚焦控制單元(117)，使光束的聚焦點(diǎn)位于信息記錄層中的給定的軌道的跟蹤控制單元(118)，能夠使聚焦控制單元(117)及跟蹤控制單元(118)中的至少一個(gè)的增益特性變化的增益切換部(108)。增益切換部(108)，將從第1信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的增益交點(diǎn)頻率，設(shè)定成低于從第2信息記錄層讀出數(shù)據(jù)時(shí)的增益交點(diǎn)頻率的值。
文檔編號(hào)G11B7/005GK1918637SQ20058000441
公開日2007年2月21日 申請(qǐng)日期2005年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月25日
發(fā)明者渡邊克也, 吉川昭, 山田真一, 南野順一 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社