專利名稱：光學(xué)記錄設(shè)備以及操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及到光學(xué)記錄設(shè)備的領(lǐng)域，更具體來(lái)說(shuō)，本發(fā)明涉及到 記錄功能以及在記錄操作期間定位寫入光點(diǎn)，并且還涉及一種操作光 學(xué)記錄設(shè)備以用于進(jìn)行記錄操作的方法。此外，本發(fā)明還涉及一種用 于在光學(xué)記錄載體上記錄數(shù)據(jù)的光學(xué)記錄設(shè)備，所述光學(xué)記錄載體包 括至少兩層，所述各層包括用于記錄所述數(shù)據(jù)的軌道，該光學(xué)記錄設(shè) 備包括光束，并且還包括用于從所述光束生成尋軌光點(diǎn)以便幫助定位 被用來(lái)在所述光學(xué)記錄載體上記錄數(shù)據(jù)的寫入光點(diǎn)的裝置。
背景技術(shù)：
光學(xué)記錄設(shè)備是眾所周知的。這種設(shè)備使用聚焦光點(diǎn)形式的光從/ 向光學(xué)記錄載體讀取/寫入輸入，所述光學(xué)記錄栽體可以包括一個(gè)或多 個(gè)數(shù)據(jù)層。在光學(xué)記錄載體上存儲(chǔ)越來(lái)越大的數(shù)據(jù)量的趨勢(shì)已經(jīng)導(dǎo)致 光學(xué)記錄設(shè)備的復(fù)雜度的增大，并且導(dǎo)致設(shè)備操作中的更加嚴(yán)格的容 限。
可以在G. Bouwhuis等人的"Principles of Optical Disc Systems (光盤系統(tǒng)原理)，，(ISBN 0-85274-785-3, Pub. Adam Hilger Ltd.) 中找到光學(xué)記錄設(shè)備、其針對(duì)讀寫功能的操作、與硬件相關(guān)聯(lián)的控制 機(jī)制以及與用于光學(xué)記錄載體的某些介質(zhì)類型相關(guān)的信息。該書特別 討論了確保通過(guò)所述光學(xué)記錄設(shè)備對(duì)所述光學(xué)記錄栽體上的信息進(jìn)行 徑向和垂直尋軌的伺服系統(tǒng)。還提供了關(guān)于光學(xué)記錄載體設(shè)備的其他 信息。光學(xué)記錄載體包括可以在其上寫入數(shù)據(jù)或者可以從中讀取數(shù)據(jù) 的一個(gè)層已經(jīng)是標(biāo)準(zhǔn)做法。當(dāng)前的趨勢(shì)還包括具有兩個(gè)或多個(gè)數(shù)據(jù)層 的光學(xué)記錄載體。
可以在J. Schleipen等人的"Optical Heads (光頭)" (Encyclopaedia of Optical Engineering D0I: 10. 1081/E-EOE 120009664 ( 2003 ) ， Pub. Marcel Dekker， Inc.)中找到關(guān)于光學(xué)記 錄設(shè)備(特別是光頭和徑向伺服機(jī)制)的附加信息。
所提到的一種用于徑向?qū)ぼ壍姆椒ㄊ峭仆旆椒?，該方法涉及到生成衛(wèi)星尋軌光點(diǎn)，這通常是借助于到不同衍射階的光衍射而實(shí)現(xiàn)的。 對(duì)來(lái)自所述尋軌光點(diǎn)的信息進(jìn)行處理，并且將其與來(lái)自主光點(diǎn)本身的 尋軌信息相組合，以便控制主寫入光點(diǎn)(其被用來(lái)在光學(xué)記錄栽體上 記錄信息)的位置?；蛘?，僅僅對(duì)來(lái)自所述各尋軌光點(diǎn)的信息進(jìn)行處 理，以便特別關(guān)于所述光學(xué)記錄載體上的軌道給出所述寫入光點(diǎn)的位 置。主光點(diǎn)應(yīng)當(dāng)被定位成與所述光學(xué)記錄載體上的軌道重合，以便允 許在該軌道上寫入數(shù)據(jù)。隨后通常設(shè)置兩個(gè)尋軌光點(diǎn)，其相對(duì)于所述 主光點(diǎn)被設(shè)置在所述軌道的每一側(cè)光點(diǎn)。在理想的情況下，所述尋軌 光點(diǎn)位于將被記錄的軌道與其下一條相鄰軌道的中間，并且位于將被 記錄的該軌道的每一側(cè)。來(lái)自每一個(gè)衛(wèi)星光點(diǎn)的信號(hào)被比較并且被處 理。與理想信號(hào)的差異表明遠(yuǎn)離理想位置。隨后可以反饋該信息，以 便把所述主光點(diǎn)調(diào)節(jié)到盤上的更好的徑向位置處。
所述已知系統(tǒng)的一個(gè)問(wèn)題在于，取決于所述光學(xué)記錄載體的軌道 特性，所述尋軌信號(hào)中的偏移量(其由于所述光學(xué)記錄載體上的相鄰 軌道而從反饋信號(hào)中的串?dāng)_產(chǎn)生)可能會(huì)變得不平衡，從而導(dǎo)致所述 徑向光點(diǎn)位置的誤差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種光學(xué)記錄設(shè)備，其中減小了在確定 光學(xué)記錄載體上的徑向光點(diǎn)位置時(shí)的誤差。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)現(xiàn)所述目的在于，所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置被 設(shè)置成與用于旋轉(zhuǎn)的裝置協(xié)作，從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所 述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便獲得尋軌光點(diǎn)的最優(yōu)取向，從而對(duì) 于將被記錄的每一層使得每個(gè)尋軌光點(diǎn)被定位在所述光學(xué)記錄載體上 的兩條相鄰軌道之間，并且使得每個(gè)尋軌光點(diǎn)在其兩側(cè)都與已記錄軌 道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰。
推挽信號(hào)中的偏移量是由于在尋軌光點(diǎn)的直接環(huán)境中缺乏對(duì)稱性 而產(chǎn)生的。所述偏移量值還取決于在寫入處理中所使用的寫入功率， 這是由于當(dāng)使用較大寫入功率時(shí)，所述軌道被記錄的對(duì)比度更高，并 且所述尋軌光點(diǎn)的所述推挽信號(hào)中的偏移量可能更加嚴(yán)重。如果所述
對(duì)稱性得到恢復(fù)，則偏移量就被減小。通過(guò)以下方式來(lái)恢復(fù)對(duì)稱性 放置一個(gè)光點(diǎn)，從而使得該光點(diǎn)兩側(cè)的軌道都已記錄或者都未記錄。光學(xué)記錄載體上的軌道被設(shè)置在平面層中并且遵循螺旋，所述螺 旋以不斷增大的半徑從所述光學(xué)記錄載體的內(nèi)側(cè)向盤的外側(cè)環(huán)繞?？?br> 以遵循該螺旋從內(nèi)側(cè)或從外側(cè)把數(shù)據(jù)寫入到所述光學(xué)記錄栽體中。對(duì) 于包括多于一個(gè)數(shù)據(jù)層的光學(xué)記錄載體來(lái)說(shuō)，在各層之間交替遵循所 述螺旋的方向是最為高效的做法。也就是說(shuō)，如果遵循從所述光學(xué)記 錄載體的內(nèi)側(cè)向外側(cè)行進(jìn)的螺旋對(duì)笫一層進(jìn)行寫入，那么針對(duì)下一層 的寫入處理就將從該光學(xué)記錄載體的外側(cè)開始并且遵循其螺旋向內(nèi)行 進(jìn)，反之亦然。然而，這種做法導(dǎo)致僅僅對(duì)兩層當(dāng)中的一層而言是高 效的尋軌光點(diǎn)設(shè)置。對(duì)于第二層，在所述尋軌信號(hào)中將產(chǎn)生偏移量， 并且在所述寫入光點(diǎn)的徑向定位中將產(chǎn)生誤差。
所述尋軌光點(diǎn)由所述光學(xué)記錄設(shè)備中的一個(gè)或多個(gè)部件生成，所
述部件產(chǎn)生與在其上寫入數(shù)據(jù)的軌道成某種對(duì)準(zhǔn)的尋軌光點(diǎn)。隨后， 針對(duì)與第二數(shù)據(jù)層的最優(yōu)對(duì)準(zhǔn)把上述對(duì)準(zhǔn)改變成在與第一層不同的方
向上沿著所述螺旋。通過(guò)在下一個(gè)數(shù)據(jù)層上進(jìn)行記錄之前旋轉(zhuǎn)生成所 述尋軌光點(diǎn)的所述一個(gè)或多個(gè)部件允許每一層都具有最優(yōu)對(duì)準(zhǔn)。從而 所述徑向?qū)ぼ壭盘?hào)得到改進(jìn)。
在本發(fā)明的另 一個(gè)實(shí)施例中，所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置包括 光柵。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述光柵是三光束光柵，其產(chǎn)生三 個(gè)光點(diǎn)，即一個(gè)主光點(diǎn)和兩個(gè)衛(wèi)星光點(diǎn)。
光柵是用來(lái)產(chǎn)生尋軌光點(diǎn)和主光點(diǎn)的高效方式?？梢愿鶕?jù)光柵設(shè) 計(jì)來(lái)控制衍射階之間的光強(qiáng)度的比值以及衍射展寬。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置形成 推挽尋軌系統(tǒng)的一部分。
所述推挽尋軌系統(tǒng)的操作對(duì)于來(lái)自所述光點(diǎn)的信號(hào)(特別是對(duì)于 差異和不對(duì)稱性)非常靈敏，從而使其成為與本發(fā)明相關(guān)聯(lián)的良好選擇。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述用于旋轉(zhuǎn)的裝置包括電動(dòng)機(jī)。 在本發(fā)明的另 一個(gè)實(shí)施例中，所述用于旋轉(zhuǎn)的裝置包括壓電元件。 可以利用某種機(jī)制來(lái)旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，所述機(jī) 制的例子包括電動(dòng)機(jī)和壓電元件?？梢岳梦挥谒龉鈱W(xué)記錄設(shè)備的
光學(xué)拾取單元(OPU)內(nèi)部的電動(dòng)機(jī)或壓電元件來(lái)實(shí)現(xiàn)所述旋轉(zhuǎn)，其旋轉(zhuǎn)所述光柵或者被用來(lái)產(chǎn)生尋軌光點(diǎn)的其他部件?？梢栽贠PU工廠中 在校準(zhǔn)盤上對(duì)所述旋轉(zhuǎn)進(jìn)行校準(zhǔn)。(或者還可以通過(guò)觀測(cè)從所述CPU
產(chǎn)生的光點(diǎn)并且將所述光點(diǎn)調(diào)節(jié)到特定角度來(lái)調(diào)節(jié)所述尋軌光點(diǎn)一但 是這種方法較不精確)。在從一層到另一層切換記錄時(shí)或者在針對(duì)特 定所選層進(jìn)行設(shè)置時(shí)，可以在所述拾取單元中調(diào)用預(yù)先存儲(chǔ)的設(shè)置。 可以利用已經(jīng)可以在典型的光學(xué)記錄設(shè)備內(nèi)部獲得的數(shù)據(jù)緩沖器來(lái)補(bǔ) 償旋轉(zhuǎn)所述光柵所需的時(shí)間。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，提供一種與光學(xué)記錄載體協(xié)作來(lái)操 作光學(xué)記錄設(shè)備的方法，所述光學(xué)記錄載體包括可以在其上沿著軌道
記錄數(shù)據(jù)的至少兩層，該方法包括以下步驟
提供用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，該裝置被設(shè)置成與用于旋轉(zhuǎn)的裝 置協(xié)作，從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的 裝置；
在寫入模式下操作所述光學(xué)記錄設(shè)備，以便在數(shù)據(jù)層上記錄數(shù)據(jù)；
如果在層1上進(jìn)行記錄，則根據(jù)把數(shù)據(jù)寫入到數(shù)據(jù)層上的操作來(lái) 定位所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，從而使得每一個(gè)尋軌光點(diǎn)被定位 在所述光學(xué)記錄載體上的兩條相鄰軌道之間，并且使得每一個(gè)尋軌光 點(diǎn)在其兩側(cè)都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰， 從而關(guān)于主寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一個(gè)拖后光點(diǎn)；
如果在層2上進(jìn)行記錄，則通過(guò)所述用于旋轉(zhuǎn)的裝置來(lái)旋轉(zhuǎn)所述 用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便把所述尋軌光點(diǎn)位置調(diào)節(jié)成在其兩側(cè) 都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰，從而關(guān)于所 述主寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一個(gè)拖后光點(diǎn)，從而使得對(duì)應(yīng) 于在層1上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)的取向變?yōu)閷?duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄 的拖后光點(diǎn)，并且使得對(duì)應(yīng)于在層1上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)的取向變 為對(duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)，
或者，
如果在層2上進(jìn)行記錄，則通過(guò)所述用于旋轉(zhuǎn)的裝置來(lái)旋轉(zhuǎn)所述 用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便把所述尋軌光點(diǎn)位置調(diào)節(jié)成在其兩側(cè) 都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰，從而關(guān)于所 述主寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一個(gè)拖后光點(diǎn)，從而使得對(duì)應(yīng) 于在層1上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)仍然是對(duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)，并且對(duì)應(yīng)于在層1上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)仍然是對(duì)應(yīng)于在層2 上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)。
該方法允許利用相同級(jí)別的徑向?qū)ぼ壻|(zhì)量對(duì)光學(xué)記錄載體上的所 有數(shù)據(jù)層進(jìn)行尋軌及寫入，而不管尋軌方向如何。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，上面描述的方法包括以下附加步驟
把所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置旋轉(zhuǎn)一定數(shù)量，所述數(shù)量由從制 造期間的校準(zhǔn)獲得的預(yù)先存儲(chǔ)的設(shè)置決定。
該方法允許對(duì)多種光學(xué)記錄設(shè)備的校準(zhǔn)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化。
一種用于對(duì)包括光學(xué)拾取單元(OPU)的光學(xué)記錄設(shè)備進(jìn)行初始編 程的方法包括以下步驟
提供用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，該裝置被設(shè)置成與旋轉(zhuǎn)裝置協(xié)作， 從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置；
提供校準(zhǔn)源，該校準(zhǔn)源包括對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于所述旋轉(zhuǎn)裝置的旋 轉(zhuǎn)量的至少一種預(yù)定設(shè)置；
把所述對(duì)應(yīng)于旋轉(zhuǎn)量的至少一種預(yù)定設(shè)置合并到所述OPU的非易 失性存儲(chǔ)器或者所述光學(xué)記錄設(shè)備的其他存儲(chǔ)器部件中。
該方法允許在量產(chǎn)環(huán)境中執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)校準(zhǔn)。


圖1示出了在光學(xué)記錄載體上的寫入操作期間的最優(yōu)尋軌光點(diǎn)位 置，其中從螺旋軌道的內(nèi)半徑向外寫入所述數(shù)據(jù)，從而導(dǎo)致所述尋軌 光點(diǎn)的各單獨(dú)推挽信號(hào)中的最小徑向偏移量。
圖2示出了在光學(xué)記錄載體上的寫入操作期間的較差尋軌光點(diǎn)位 置，其中從螺旋軌道的內(nèi)半徑向外寫入所述數(shù)據(jù)，從而導(dǎo)致所述尋軌 光點(diǎn)的各單獨(dú)推挽信號(hào)中的多余徑向偏移量。
圖3示出了在光學(xué)記錄載體上的寫入操作期間的非最優(yōu)尋軌光點(diǎn) 位置，其中從螺旋軌道的外半徑向內(nèi)寫入所述數(shù)據(jù)，即在與圖1和2 中示出的反方向上進(jìn)行寫入，從而導(dǎo)致所述尋軌光點(diǎn)的各單獨(dú)推挽信
號(hào)中的多余徑向偏移量。
圖4示出了在光學(xué)記錄載體上的寫入操作期間的尋軌光點(diǎn)位置的
改進(jìn)，其中從螺旋軌道的外半徑向內(nèi)寫入所述數(shù)據(jù)，即在與圖1和2 中示出的反方向上進(jìn)行寫入，其時(shí)所述尋軌光點(diǎn)根據(jù)本發(fā)明被旋轉(zhuǎn)并從而被對(duì)準(zhǔn)，以便在所述尋軌光點(diǎn)的各單獨(dú)推挽信號(hào)中產(chǎn)生最小徑向 偏移量。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法。 圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法。 圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的用于對(duì)光學(xué)記錄設(shè)備進(jìn)行初始編程的方法。
具體實(shí)施例方式
圖1示出了光學(xué)記錄載體11的一部分，其在光學(xué)記錄設(shè)備(未示 出)的寫入處理期間在箭頭12所示的方向上旋轉(zhuǎn)。在這種情況下，從 所述螺旋軌道的內(nèi)半徑向外半徑寫入數(shù)據(jù)。圖中示出了被設(shè)計(jì)成保存 所寫入的數(shù)據(jù)的螺旋軌道部分，已記錄的軌道部分^t顯示為黑色13， 未記錄的軌道部分被顯示為白色14。通過(guò)寫入光點(diǎn)15進(jìn)行數(shù)據(jù)記錄。 在該寫入光點(diǎn)15的每一側(cè)定位尋軌光點(diǎn)16和17。滯后于該寫入光點(diǎn) 15的尋軌光點(diǎn)16在其兩側(cè)都與已記錄軌道相鄰，而領(lǐng)先于該寫入光點(diǎn) 15的另一個(gè)尋軌光點(diǎn)17在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰。與每個(gè)尋軌光 點(diǎn)16、 17相鄰的已記錄軌道13/未記錄軌道14的對(duì)稱性平衡返回到所 述系統(tǒng)以用于對(duì)所述寫入光點(diǎn)15進(jìn)行徑向?qū)ぼ?未示出)的推挽信號(hào)， 從而允許良好地確定該寫入光點(diǎn)15的位置。
圖2示出了對(duì)應(yīng)于圖1中示出的相同光學(xué)記錄載體和記錄方向的 替換的尋軌光點(diǎn)設(shè)置(對(duì)于與圖1中相同的特征保持編號(hào)一致)。在 圖2中，領(lǐng)先于所述寫入光點(diǎn)15的光點(diǎn)現(xiàn)在是尋軌光點(diǎn)26，滯后的尋 軌光點(diǎn)是27。應(yīng)當(dāng)注意與尋軌光點(diǎn)26和27相鄰的軌道的特性。每一 個(gè)尋軌光點(diǎn)26、 27在其一側(cè)具有未記錄軌道14,并且在其另一側(cè)具有 已記錄軌道13。這種情況導(dǎo)致在返回到所述系統(tǒng)以用于對(duì)所述寫入光 點(diǎn)15進(jìn)行徑向?qū)ぼ?未示出)的尋軌光點(diǎn)信號(hào)中產(chǎn)生了不對(duì)稱性。在 所述推挽信號(hào)中引發(fā)的偏移量降低了用于所述寫入處理的徑向?qū)ぼ壍?質(zhì)量。
圖3示出了對(duì)應(yīng)于光學(xué)記錄載體31的尋軌光點(diǎn)與軌道的相對(duì)定 位。該光學(xué)記錄載體同樣在寫入處理期間在箭頭l2所示的方向上旋轉(zhuǎn)。 該光學(xué)記錄載體具有用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的一層，但是與前面的情況不同， 在所述軌道上的記錄是從外半徑開始朝向內(nèi)半徑向內(nèi)移動(dòng)的。如此記錄的軌道區(qū)域33同樣被顯示為黑色，其處在所述光學(xué)記錄載體31的 外側(cè)；未記錄的軌道區(qū)域32同樣被顯示為白色，其處在內(nèi)側(cè)。尋軌光 點(diǎn)36和37關(guān)于所述光學(xué)記錄載體被定位在與圖1中的情況相同的取 向中。現(xiàn)在，記錄方向已經(jīng)轉(zhuǎn)變，所述尋軌光點(diǎn)不再關(guān)于已記錄軌道 33/未記錄軌道32被最優(yōu)地放置。這樣具有與針對(duì)圖2所描述的相同 的效果。這種情況在返回到所述系統(tǒng)以用于對(duì)所述寫入光點(diǎn)15進(jìn)行徑 向?qū)ぼ?未示出)的尋軌光點(diǎn)信號(hào)中產(chǎn)生了不對(duì)稱性。在所述推挽測(cè) 量中引發(fā)的偏移量降低了用于所述寫入處理的徑向?qū)ぼ壍馁|(zhì)量。(應(yīng) 當(dāng)注意到，所述光學(xué)記錄載體31還可以被用來(lái)表示光學(xué)記錄載體11 的第二層，其中在不同軌道上的記錄是在交替方向上進(jìn)行的。)
圖1示出了根據(jù)周圍軌道的特性的尋軌光點(diǎn)的最優(yōu)設(shè)置。圖2和3 示出了從尋軌光點(diǎn)獲得的信號(hào)如何可能受到尋軌光點(diǎn)的非最優(yōu)設(shè)置的 損害，這有時(shí)是由于所述光學(xué)記錄設(shè)備的操作要求或者由于使用了包 括多個(gè)數(shù)據(jù)層的光學(xué)記錄載體而導(dǎo)致的。
圖4示出了對(duì)于在現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)致非最優(yōu)尋軌光點(diǎn)放置的情況應(yīng) 用本發(fā)明的結(jié)果。作為一個(gè)例子，這里參照?qǐng)D3中詳細(xì)示出的記錄操 作來(lái)解釋光學(xué)記錄載體31和寫入模式操作。在光學(xué)記錄設(shè)備(未示出) 內(nèi)存在用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置(未示出)，所述尋軌光點(diǎn)被用于在 光學(xué)記錄載體31上對(duì)所述寫入光點(diǎn)15進(jìn)行徑向?qū)ぼ?。被?yīng)用于圖3 中示出的情況的本發(fā)明包括旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述尋軌光點(diǎn)36和37被分別旋轉(zhuǎn)到 如尋軌光點(diǎn)46和47所示的新位置。在本發(fā)明的一個(gè)替換實(shí)施例中利 用更小的旋轉(zhuǎn)，從而使得尋軌光點(diǎn)36和37將分別具有如尋軌光點(diǎn)47 和46所示的新位置。根據(jù)本發(fā)明的任一個(gè)實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)的結(jié)果都是如 下全部?jī)蓚€(gè)尋軌光點(diǎn)46和47被放置成使得與每個(gè)尋軌光點(diǎn)46、 47 相鄰的未記錄軌道33/已記錄軌道32的對(duì)稱性平衡返回到所述系統(tǒng)以 用于對(duì)所述寫入光點(diǎn)15進(jìn)行徑向?qū)ぼ?未示出)的推挽信號(hào)，從而允 許良好地確定該寫入光點(diǎn)15的位置。
圖4中作為通過(guò)把硬件元件從一個(gè)狀態(tài)(圖3中示出)旋轉(zhuǎn)到另 一個(gè)狀態(tài)(圖4中示出)的位置改變示出了本發(fā)明，其導(dǎo)致光學(xué)記錄 載體上的尋軌光點(diǎn)的位置改變。所述旋轉(zhuǎn)或位置可以針對(duì)某一系統(tǒng)被 校準(zhǔn)、被預(yù)先存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中、在工廠中被設(shè)置等等，但是不一定局
10限于僅僅兩個(gè)位置。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法。所述光學(xué)記 錄設(shè)備被設(shè)置成與光學(xué)記錄載體協(xié)作，以便例如把數(shù)據(jù)寫入到所述光 學(xué)記錄載體中。
所述光學(xué)記錄設(shè)備配備有用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，該裝置被設(shè) 置成與用于旋轉(zhuǎn)的裝置協(xié)作，從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述 用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置51。這樣允許把尋軌光點(diǎn)靈活地、最優(yōu)地放 置在所述光學(xué)記錄載體上，從而使得尋軌光點(diǎn)處在各已記錄軌道或各 未記錄軌道之間，而不是被放置成使得一個(gè)光點(diǎn)在其一側(cè)具有已記錄 軌道同時(shí)在其另一側(cè)具有未記錄軌道。這樣，被用來(lái)控制寫入光點(diǎn)在 所述光學(xué)記錄載體上的徑向?qū)ぼ壍耐仆煨盘?hào)中的對(duì)稱性得到保持，同 時(shí)避免了偏移量并且信息質(zhì)量不會(huì)惡化。
在所述方法的下一步驟52中，所述光學(xué)記錄設(shè)備被操作在寫入模 式下，以便把數(shù)據(jù)記錄在所述光學(xué)記錄載體的數(shù)據(jù)層上。 一個(gè)光學(xué)記 錄栽體可以具有一層或多層，但是在該例中使用具有兩層的光學(xué)記錄 栽體來(lái)說(shuō)明本發(fā)明。每次在一層上記錄數(shù)據(jù)。
根據(jù)下一方法步驟53,如果在層1上進(jìn)行記錄，則根據(jù)把數(shù)據(jù)寫 入到數(shù)據(jù)層上的操作來(lái)定位所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，從而使得 每一個(gè)尋軌光點(diǎn)被定位在所述光學(xué)記錄載體上的兩條相鄰軌道之間， 并且使得每一個(gè)尋軌光點(diǎn)在其兩側(cè)都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè) 都與未記錄軌道相鄰，從而關(guān)于主寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和 一個(gè)拖后光點(diǎn)。被返回到所述機(jī)制以便控制所述寫入光點(diǎn)的位置的信 號(hào)中的對(duì)稱性對(duì)于這種設(shè)置來(lái)說(shuō)是最優(yōu)的。
根據(jù)下一方法步驟54，如果在層2上進(jìn)行記錄，則應(yīng)當(dāng)通過(guò)所述
用于旋轉(zhuǎn)的裝置來(lái)旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便把所述尋 軌光點(diǎn)位置調(diào)節(jié)成在其兩側(cè)都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未 記錄軌道相鄰，從而關(guān)于所述主寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一 個(gè)拖后光點(diǎn)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述旋轉(zhuǎn)使得對(duì)應(yīng)于在層1 上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)的取向變?yōu)閷?duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的拖后光 點(diǎn)，并且使得對(duì)應(yīng)于在層1上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)的取向變?yōu)閷?duì)應(yīng)于 在層2上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)應(yīng)于 在層1上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)仍然是對(duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)，并且對(duì)應(yīng)于在層1上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)仍然是對(duì)應(yīng)于在層2 上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)。如果沒有發(fā)生旋轉(zhuǎn)(如在現(xiàn)有技術(shù)中)，則 對(duì)于層1來(lái)說(shuō)是最優(yōu)的尋軌光點(diǎn)位置將相對(duì)于所述光學(xué)記錄載體保持 不變。然而，在所述光學(xué)記錄設(shè)備的操作中，使用層2將改變所述最 優(yōu)尋軌光點(diǎn)位置，從而先前所使用的尋軌光點(diǎn)位置在層2上將較差。 根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置來(lái)旋轉(zhuǎn)所述尋軌 光點(diǎn)的做法允許針對(duì)所有層把尋軌光點(diǎn)最優(yōu)地放置在所述光學(xué)記錄載 體上。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法，其包括圖5 中列出的所有方法步驟，并且還包括附加的步驟61。該附加步驟允許 把所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置旋轉(zhuǎn)一定數(shù)量，所述數(shù)量由從制造期 間的校準(zhǔn)獲得的預(yù)先存儲(chǔ)的設(shè)置決定。這一步驟允許對(duì)不同的光學(xué)記 錄設(shè)備的校準(zhǔn)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化，這在高產(chǎn)量環(huán)境中是有利的。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的用于對(duì)光學(xué)記錄設(shè)備進(jìn)行初始編程的方 法。該方法包括提供用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置的步驟71，該裝置被設(shè) 置成與旋轉(zhuǎn)裝置協(xié)作，從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生 成尋軌光點(diǎn)的裝置。該方法還包括提供校準(zhǔn)源的步驟72，該校準(zhǔn)源包 括對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于所述旋轉(zhuǎn)裝置的旋轉(zhuǎn)量的至少 一種預(yù)定設(shè)置。另. 一個(gè)方法步驟73包括把所述對(duì)應(yīng)于旋轉(zhuǎn)量的至少一種預(yù)定設(shè)置合并到 所述OPU的非易失性存儲(chǔ)器或者所述光學(xué)記錄設(shè)備的其他存儲(chǔ)器部件 中。為了應(yīng)用于特定類型的光學(xué)記錄設(shè)備或者應(yīng)用于特定類型的光學(xué) 記錄載體(比如具有多個(gè)數(shù)據(jù)層的光學(xué)記錄載體)，本發(fā)明在可能需 要的旋轉(zhuǎn)和設(shè)置的數(shù)目方面是靈活的。
附圖標(biāo)記列表
11光學(xué)記錄載體
12光學(xué)記錄載體的旋轉(zhuǎn)方向
13已記錄軌道
14未記錄軌道
15寫入光點(diǎn)
16尋軌光點(diǎn)
17尋軌光點(diǎn)26尋軌光點(diǎn) 27尋軌光點(diǎn) 31光學(xué)記錄栽體 32未記錄軌道 33已記錄軌道 46尋軌光點(diǎn) 47尋軌光點(diǎn)
51-54、 61以及71-73:根據(jù)本發(fā)明的方法中的處理步驟
權(quán)利要求
1、一種用于在光學(xué)記錄載體上記錄數(shù)據(jù)的光學(xué)記錄設(shè)備，所述光學(xué)記錄載體包括至少兩層，所述各層包括用于記錄所述數(shù)據(jù)的軌道，該光學(xué)記錄設(shè)備包括光束，并且還包括用于從所述光束生成尋軌光點(diǎn)以便幫助定位被用來(lái)在所述光學(xué)記錄載體上記錄數(shù)據(jù)的寫入光點(diǎn)的裝置，其特征在于，所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置被設(shè)置成與用于旋轉(zhuǎn)的裝置協(xié)作，從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便獲得尋軌光點(diǎn)的最優(yōu)取向，從而對(duì)于將被記錄的每一層使得每個(gè)尋軌光點(diǎn)被定位在所述光學(xué)記錄載體上的兩條相鄰軌道之間，并且使得每個(gè)尋軌光點(diǎn)在其兩側(cè)都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰。
2、 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)記錄設(shè)備，其中，所述用來(lái)生成尋軌 光點(diǎn)的裝置包括光柵。
3、 如權(quán)利要求2所述的光學(xué)記錄設(shè)備，其中，所述光柵是三光束 光柵，其產(chǎn)生三個(gè)光點(diǎn)，即一個(gè)主光點(diǎn)和兩個(gè)衛(wèi)星光點(diǎn)。
4、 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄設(shè)備，其中，所述用來(lái)生成尋軌 光點(diǎn)的裝置形成推挽尋軌系統(tǒng)的一部分。
5、 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)記錄設(shè)備，其中，所述用于旋轉(zhuǎn)的裝 置包括電動(dòng)機(jī)。
6、 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)記錄設(shè)備，其中，所述用于旋轉(zhuǎn)的裝 置包括壓電元件。
7、 一種與光學(xué)記錄載體協(xié)作來(lái)操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法，所述光 學(xué)記錄栽體包括可以在其上沿著軌道記錄數(shù)據(jù)的至少兩層，該方法包 括以下步驟提供用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，該裝置被設(shè)置成與用于旋轉(zhuǎn)的裝 置協(xié)作，從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的 裝置；在寫入模式下操作所述光學(xué)記錄設(shè)備，以便在數(shù)據(jù)層上記錄數(shù)據(jù)； 如果在層1上進(jìn)行記錄，則根據(jù)把數(shù)據(jù)寫入到數(shù)據(jù)層上的操作來(lái) 定位所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，從而使得每一個(gè)尋軌光點(diǎn)被定位 在所述光學(xué)記錄載體上的兩條相鄰軌道之間，并且使得每一個(gè)尋軌光 點(diǎn)在其兩側(cè)都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰，從而關(guān)于主寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一個(gè)拖后光點(diǎn)；如果在層2上進(jìn)行記錄，則通過(guò)所述用于旋轉(zhuǎn)的裝置來(lái)旋轉(zhuǎn)所述 用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便把所述尋軌光點(diǎn)位置調(diào)節(jié)成在其兩側(cè) 都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰，從而關(guān)于主 寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一個(gè)拖后光點(diǎn)，從而使得對(duì)應(yīng)于在 層1上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)的取向變?yōu)閷?duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的拖 后光點(diǎn)，并且使得對(duì)應(yīng)于在層1上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)的取向變?yōu)閷?duì) 應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)，或者，如果在層2上進(jìn)行記錄，則通過(guò)所述用于旋轉(zhuǎn)的裝置來(lái)旋轉(zhuǎn)所述 用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，以便把所述尋軌光點(diǎn)位置調(diào)節(jié)成在其兩側(cè) 都與已記錄軌道相鄰或者在其兩側(cè)都與未記錄軌道相鄰，從而關(guān)于主 寫入光點(diǎn)給出至少一個(gè)領(lǐng)先光點(diǎn)和一個(gè)拖后光點(diǎn)，從而使得對(duì)應(yīng)于在 層1上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光點(diǎn)仍然是對(duì)應(yīng)于在層2上進(jìn)行記錄的領(lǐng)先光 點(diǎn)，并且對(duì)應(yīng)于在層1上進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)仍然是對(duì)應(yīng)于在層2上 進(jìn)行記錄的拖后光點(diǎn)。
8、 如權(quán)利要求7所述的操作光學(xué)記錄設(shè)備的方法，其包括以下附 加步驟把所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置旋轉(zhuǎn)一定量，所迷量由從制造期 間的校準(zhǔn)獲得的預(yù)先存儲(chǔ)的設(shè)置決定。
9、 一種用于對(duì)包括光學(xué)拾取單元(0PU)的光學(xué)記錄設(shè)備進(jìn)行初 始編程的方法，其包括以下步驟提供用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，該裝置被設(shè)置成與旋轉(zhuǎn)裝置協(xié)作， 從而可以在至少兩個(gè)位置之間旋轉(zhuǎn)所述用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置；提供校準(zhǔn)源，該校準(zhǔn)源包括對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于所迷旋轉(zhuǎn)裝置的旋 轉(zhuǎn)量的至少一種預(yù)定設(shè)置；把所述對(duì)應(yīng)于旋轉(zhuǎn)量的至少一種預(yù)定設(shè)置合并到所述0PU的非易 失性存儲(chǔ)器或者所述光學(xué)記錄設(shè)備的其他存儲(chǔ)器部件中。
全文摘要
在光學(xué)記錄設(shè)備的寫入操作期間，寫入光點(diǎn)在光學(xué)記錄載體上的位置對(duì)于所記錄的數(shù)據(jù)質(zhì)量來(lái)說(shuō)是非常重要的?？梢越柚趯ぼ壒恻c(diǎn)來(lái)促進(jìn)對(duì)所述寫入光點(diǎn)的徑向定位，來(lái)自所述尋軌光點(diǎn)的信號(hào)標(biāo)識(shí)出所述寫入光點(diǎn)的位置。來(lái)自所述尋軌光點(diǎn)的信號(hào)可能受到其附近的光學(xué)記錄載體特性的影響。具體來(lái)說(shuō)，與每一個(gè)光點(diǎn)相鄰的軌道的已記錄或未記錄屬性會(huì)造成影響。本發(fā)明包括旋轉(zhuǎn)用來(lái)生成尋軌光點(diǎn)的裝置，從而可以把所述尋軌光點(diǎn)定位在用于進(jìn)行記錄的最優(yōu)位置處，而不管將要記錄光學(xué)記錄載體上的哪一個(gè)數(shù)據(jù)層或者記錄方向如何。
文檔編號(hào)G11B7/135GK101322187SQ200680045128
公開日2008年12月10日 申請(qǐng)日期2006年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月1日
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