專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)拾取器致動(dòng)器及包括它的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，尤其涉及一種具有提高的穩(wěn)定性的伺服控制系統(tǒng)的光學(xué)拾取器致動(dòng)器。
背景技術(shù)：
光學(xué)拾取器通常用于將信息記錄在諸如CD(CD光盤(pán))或DVD(數(shù)字多用盤(pán))的光學(xué)介質(zhì)上和/或從諸如CD(CD光盤(pán))或DVD(數(shù)字多用盤(pán))的光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息，并包括具有物鏡以將來(lái)自光源的光聚焦到光學(xué)介質(zhì)上以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)上和/或從光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息的光學(xué)系統(tǒng)；以及光學(xué)拾取器致動(dòng)器，用于調(diào)節(jié)物鏡和光學(xué)介質(zhì)之間的距離以及物鏡光軸的位置和傾斜度。
光學(xué)拾取器致動(dòng)器執(zhí)行伺服控制，所述伺服控制包括保持光學(xué)介質(zhì)和物鏡之間恒定距離的聚焦控制；在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上控制物鏡光軸位置的循跡控制；以及使物鏡光軸垂直于光學(xué)介質(zhì)的傾斜控制。所述聚焦控制是通過(guò)朝向和遠(yuǎn)離光學(xué)介質(zhì)移動(dòng)物鏡安裝在其上的透鏡保持器來(lái)控制物鏡和光學(xué)介質(zhì)之間的距離執(zhí)行的，所述循跡控制是通過(guò)在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上移動(dòng)所述透鏡保持器執(zhí)行的。所述傾斜控制是通過(guò)繞平行于光學(xué)介質(zhì)切向方向的傾斜軸線，在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上傾斜透鏡保持器(稱(chēng)為“徑向傾斜”)，和/或繞平行于上述光學(xué)介質(zhì)徑向的傾斜軸線，在光學(xué)介質(zhì)的切向方向傾斜所述透鏡保持器(稱(chēng)為“切向傾斜”)執(zhí)行。
為了進(jìn)行上述伺服控制，所述光學(xué)拾取器致動(dòng)器具有多個(gè)磁體部件和多個(gè)線圈。如果電流供給到線圈，所述透鏡保持器的位置和傾斜度通過(guò)由磁體部件和具有供給它的電流的線圈之間的相互作用產(chǎn)生的電磁力控制。可以利用兩對(duì)或更多對(duì)磁體部件來(lái)產(chǎn)生這種電磁力。為了最小化上述光學(xué)拾取器致動(dòng)器，可以在透鏡保持器中形成槽，而至少一些磁體部件可以延伸到所述槽中。在這種情況下，必須在槽的壁和用于進(jìn)行上述傾斜控制和/或循跡控制的磁體部件之間保持一定的間隙。這種間隙用作進(jìn)行循跡控制的循跡容限，還可以作為進(jìn)行傾斜控制的傾斜容限。上述循跡容限是一種空間，在進(jìn)行循跡控制時(shí)，在該空間內(nèi)透鏡保持器可在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上自由移動(dòng)，不會(huì)和光學(xué)拾取器致動(dòng)器的任何部分相接觸，并且上述傾斜容限是一種空間，在進(jìn)行傾斜控制時(shí)，在該空間內(nèi)透鏡保持器可繞上述傾斜軸線自由傾斜，不會(huì)和光學(xué)拾取器致動(dòng)器的任何部分相接觸。
但是當(dāng)進(jìn)行上述循跡控制和傾斜控制時(shí)，所述透鏡保持器移動(dòng)和傾斜時(shí)，上述間隙會(huì)減小。也就是當(dāng)進(jìn)行傾斜控制時(shí)，所述用作用于進(jìn)行循跡控制的循跡容限的間隙會(huì)隨著透鏡保持器繞傾斜軸線傾斜而減小。相反，當(dāng)進(jìn)行循跡控制時(shí)，用作用于進(jìn)行傾斜控制的傾斜容限的間隙會(huì)隨著透鏡保持器沿光學(xué)介質(zhì)徑向移動(dòng)而減小。上述循跡容限和/或傾斜容限的這種減小意味著用于進(jìn)行上述光學(xué)拾取器致動(dòng)器伺服控制的容限就減小了，這會(huì)有助于伺服控制的穩(wěn)定性下降。尤其是，如果利用變形過(guò)大的光學(xué)介質(zhì)，會(huì)出現(xiàn)不能成功地進(jìn)行傾斜控制的情形，因?yàn)閮A斜容限被減小了，這會(huì)導(dǎo)致上述光學(xué)拾取器致動(dòng)器和光學(xué)介質(zhì)碰撞。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明致力于現(xiàn)有技術(shù)中的上述問(wèn)題，并且本發(fā)明的一方面是提供一種具有提高穩(wěn)定性的伺服控制系統(tǒng)的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，以及一種包括這種光學(xué)拾取器致動(dòng)器的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括基座，透鏡保持器，所述透鏡保持器安裝在基座上以便繞透鏡保持器的傾斜軸線可傾斜，至少一個(gè)物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個(gè)槽形成在透鏡保持器中，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于上述傾斜軸線的橫向方向上面對(duì)上述磁體單元的、上述至少一個(gè)槽的壁包括提供傾斜容限以能夠執(zhí)行傾斜控制的斜面。
平行于傾斜軸線的中心線延伸通過(guò)當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁的中心。每一斜面可包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面中的每一個(gè)均在當(dāng)在所述中心線中的一個(gè)中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的壁的中心中的一個(gè)中心處開(kāi)始傾斜離開(kāi)磁體單元。透鏡保持器的聚焦方向可垂直于傾斜軸線。當(dāng)透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)，平行于聚焦方向的參考軸線可與當(dāng)在中心線方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的端壁的中心相交。在透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)第一斜面與參考軸線中的一個(gè)參考軸線之間的角度以及在透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)第二斜面與參考軸線中的一個(gè)參考軸線之間的角度可以大于透鏡保持器繞傾斜軸線的最大傾斜角。透鏡保持器的切向方向可垂直于傾斜軸線和聚焦方向。所述至少一個(gè)槽可包括彼此平行且在切向方向上彼此間隔開(kāi)的第一槽和第二槽。所述磁體單元包括安裝在基座上的軛鐵，還可以包括安裝在軛鐵一側(cè)的磁體部件。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限的曲面。這些曲面可以是半球面。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置包括具有驅(qū)動(dòng)至少一個(gè)物鏡的致動(dòng)器的光學(xué)拾取器，以及控制光學(xué)拾取器的驅(qū)動(dòng)的控制器，所述光學(xué)拾取器可在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上移動(dòng)，以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)上和/或從光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息，其中所述致動(dòng)器包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個(gè)物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個(gè)槽形成在透鏡保持器中；安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的所述至少一個(gè)槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限和能夠執(zhí)行循跡控制的循跡容限的斜面。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜、并具有至少一個(gè)形成在其中的槽的透鏡保持器，安裝在透鏡保持器上的至少一個(gè)物鏡，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的所述至少一個(gè)槽的壁具有這樣的形狀，即在上述透鏡保持器繞上述傾斜軸線傾斜時(shí)，所述形狀防止所述壁和磁體單元之間的間隙減小。
本發(fā)明的其它方面和/或優(yōu)點(diǎn)部分將在下面的說(shuō)明中提出，部分從該說(shuō)明將顯而易見(jiàn)，或者可以通過(guò)實(shí)踐本發(fā)明而獲知。


通過(guò)下面結(jié)合附圖描述實(shí)施例，本發(fā)明的這些和/或其它方面以及優(yōu)點(diǎn)都將變得清楚和更易于理解，其中圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的透視圖；圖2是圖1中所示的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的分解透視圖；圖3是沿著圖1中線III-III的剖視圖；圖4A和4B是示出了圖3中所示的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的透鏡保持器傾斜運(yùn)動(dòng)的剖視圖；圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的剖視圖；圖6是利用根據(jù)本發(fā)明一方面的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的示意框圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將詳細(xì)參照其實(shí)例在附圖中示出的本發(fā)明的該實(shí)施例，其中相同附圖標(biāo)記始終代表相同的元件。為說(shuō)明本發(fā)明，以下通過(guò)參照附圖描述實(shí)施例。
參考圖1-3，根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)拾取器致動(dòng)器100包括基座10，安裝在基座10上的支撐保持器30，可移動(dòng)地安裝在基座10上并具有安裝在其上的兩個(gè)物鏡1、2的透鏡保持器50，以及進(jìn)行透鏡保持器50的伺服控制的磁路70。
透鏡保持器50和多個(gè)支承件51相連，例如，每一個(gè)支承件均可以是金屬絲彈簧(wire spring)，金屬絲彈簧的一端由支撐保持器30支撐，另一端和透鏡保持器50相連。這種安裝布置可以使透鏡保持器50能夠在傾斜、循跡和聚焦方向上相對(duì)于基座10移動(dòng)。安裝在透鏡保持器50上的上述兩個(gè)物鏡1、2沿光學(xué)拾取器致動(dòng)器100的徑向方向R布置，它們的光軸彼此平行。光學(xué)拾取器致動(dòng)器100的徑向方向R對(duì)應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的徑向方向。兩個(gè)物鏡1、2之一用于將信息記錄在諸如CD(光盤(pán))或DVD(數(shù)字多用盤(pán))等具有較低記錄密度的光學(xué)介質(zhì)上和/或從它們?cè)佻F(xiàn)信息，而上述物鏡1、2中的另一個(gè)用于將信息將記錄在諸如HD-DVD(高清晰數(shù)字多用盤(pán))或BD(藍(lán)光光盤(pán))等具有較高記錄密度的光學(xué)介質(zhì)上和/或從它們?cè)佻F(xiàn)信息。但是透鏡保持器50可以修改以便其上安裝單個(gè)物鏡，或者其上安裝三個(gè)或更多的具有不同工作距離的物鏡，以用于將信息記錄在具有不同記錄密度的三種或更多種光學(xué)介質(zhì)上和/或從它們?cè)佻F(xiàn)信息。
靠近透鏡保持器50的相對(duì)端部，沿光學(xué)拾取器致動(dòng)器100的切向方向T，在透鏡保持器50中形成第一槽52和第二槽54。上述切向方向T垂直于徑向方向R，并對(duì)應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的切向。透鏡保持器50的傾斜軸線TA(參考圖3)平行于切向方向T。第一槽52和第二槽54彼此平行。在下面敘述的第一磁體單元80延伸到第一槽52和第二槽54中。
第一槽52和第二槽54的端壁平行于切向方向T，并相對(duì)于在下面更詳細(xì)敘述的聚焦方向F，傾斜離開(kāi)磁體單元80。聚焦方向F垂直于徑向方向R和切向方向T，且是這樣的方向，即在該方向上，透鏡保持器50朝向或離開(kāi)光學(xué)介質(zhì)移動(dòng)從而進(jìn)行聚焦控制。第一槽52和第二槽54的每一個(gè)均在傾斜軸線TA的一側(cè)具有第一端壁和在傾斜軸線TA的相對(duì)側(cè)具有第二端壁。平行于切向方向T的第一中心線HCL1延伸通過(guò)當(dāng)在第一中心線HCL1的方向上觀看時(shí)的上述第一槽52和第二槽54的第一端壁的中心，而平行于切向方向T的第二中心線HCL2延伸通過(guò)當(dāng)在第二中心線HCL2的方向上觀看時(shí)的上述第一槽52和第二槽54的第二端壁的中心。
第一槽52和第二槽54的第一、第二端壁具有斜面SLP，該斜面SLP包括第一斜面SLP1和第二斜面SLP2，第一斜面SLP1形成在第一、第二中心線HCL1、HCL2的方向上觀看時(shí)的第一、第二端壁的中心之上的第一、第二端壁的上部分，第二斜面SLP2形成在第一、第二中心線HCL1、HCL2的方向上觀看時(shí)的第一、第二端壁的中心之下的第一、第二端壁的下部分。第一斜面SLP1和第二斜面SLP2在第一、第二端壁中心開(kāi)始相對(duì)于聚焦方向F傾斜離開(kāi)第一磁體單元80。當(dāng)透鏡保持器50不傾斜時(shí)，平行于聚焦方向F的軸線FPA和在第一中心線HCL1的方向上觀看時(shí)的第一槽52和第二槽54的第一端壁的中心相交，而當(dāng)透鏡保持器50不傾斜時(shí)，平行于聚焦方向F的另一軸線FPA和在第二中心線HCL2的方向上觀看時(shí)的第一槽52和第二槽54的第二端壁的中心相交。優(yōu)選的是，當(dāng)透鏡保持器50不傾斜時(shí)，第一斜面SLP1和第二斜面SLP2相對(duì)于上述兩個(gè)軸線FPA的斜角θ大于透鏡保持器50的最大傾斜角。
第一槽52和第二槽54的側(cè)壁平行于徑向方向R和聚焦方向F，并垂直于切向方向T。第一槽52和第二槽54的每一個(gè)均有相對(duì)地更靠近光學(xué)拾取器致動(dòng)器100中心的內(nèi)側(cè)壁和相對(duì)地更遠(yuǎn)離光學(xué)拾取器致動(dòng)器100中心的外側(cè)壁。
磁路70包括兩個(gè)循跡線圈74，四個(gè)傾斜線圈72和第一、第二磁體單元80、90。
兩個(gè)循跡線圈74分別安裝在第一槽52和第二槽54的內(nèi)側(cè)壁上。通過(guò)支撐部件51中的任意一個(gè)，循跡線圈74接收電流來(lái)進(jìn)行循跡控制。
四個(gè)傾斜線圈72在切向方向T上安裝在透鏡保持器50的相對(duì)的端部上，其中在相對(duì)的端部中的每一個(gè)上設(shè)置兩個(gè)傾斜線圈72。傾斜線圈72通過(guò)循跡線圈74通過(guò)其接收電流的支撐部件51中的一個(gè)之外的支撐部件51中的一個(gè)接收電流以進(jìn)行傾斜控制和聚焦控制。
第一磁體單元80包括兩個(gè)安裝在基座10上的兩個(gè)第一軛鐵82和分別安裝在第一軛鐵82上的兩個(gè)第一磁體部件84，第一軛鐵82彼此平行且平行于徑向方向R，并在切向方向T上彼此間隔開(kāi)，而且在切向方向T上與基座10的相對(duì)的端部向內(nèi)間隔開(kāi)。具有安裝在其上的第一磁體部件84的第一軛鐵82分別延伸到第一槽52和第二槽54中，從而第一磁體部件84分別面向循跡線圈74。第一軛鐵82導(dǎo)引第一磁體部件84產(chǎn)生的磁力線，從而磁力線在一個(gè)方向上聚焦，即朝向循跡線圈74，從而能夠最大化第一磁體部件84產(chǎn)生的有效磁場(chǎng)的強(qiáng)度。每一個(gè)第一磁體部件84均包括兩個(gè)磁體，所述兩個(gè)磁體具有在徑向方向R上并排設(shè)置的相反極性。例如，如圖1-3所示，每一個(gè)第一磁體部件84均包括在傾斜軸線TA一側(cè)的第一磁體和在傾斜軸線TA另一側(cè)的第二磁體，該第一磁體具有，面向循跡線圈74中的一個(gè)的N極，第二磁體具有面向同一循跡線圈74的S極。當(dāng)電流供給循跡線圈74時(shí)，第一磁體部件84和具有供給它的電流的循跡線圈74相互作用，以便在徑向方向R上來(lái)驅(qū)動(dòng)透鏡保持器50進(jìn)行循跡控制。
第二磁體單元90包括安裝在基座10上的兩個(gè)第二軛鐵92和分別安裝在第二軛鐵92上的兩個(gè)第二磁體部件94，第二軛鐵92彼此平行且平行于徑向方向R，并在切向方向T上彼此間隔開(kāi)，而且在切向方向T上位于基座10的相對(duì)的端部或相對(duì)端部的附近。第二磁體部件94中的一個(gè)面向在切向方向T上安裝在透鏡保持器50的相對(duì)的端部中的一個(gè)上的兩個(gè)循跡線圈72，第二磁體部件94中的另一個(gè)面向在切向方向T上安裝在透鏡保持器50的相對(duì)的端部中的另一個(gè)上的另外兩個(gè)循跡線圈72。第二軛鐵92導(dǎo)引第二磁體部件94產(chǎn)生的磁力線，從而磁力線在一個(gè)方向上聚焦，即朝向傾斜線圈72，從而最大化第二磁體部件94產(chǎn)生的有效磁場(chǎng)的強(qiáng)度。每一個(gè)第二磁體部件94均包括兩個(gè)磁體，所述兩個(gè)磁體具有在聚焦方向F上層疊設(shè)置的相反的極性。例如，如圖1-3所示，每一個(gè)第二磁體部件94均包括在頂端的第一磁體和在底端的第二磁體，第一磁體具有面向兩個(gè)傾斜線圈72的N極底端，第二磁體具有面向相同兩個(gè)傾斜線圈72的S極。當(dāng)電流供給傾斜線圈72時(shí)，第二磁體部件94和具有供給到它的電流的傾斜線圈72相互作用，以便在聚焦方向上驅(qū)動(dòng)透鏡保持器50進(jìn)行聚焦控制，或者繞傾斜軸線TA傾斜上述透鏡保持器50來(lái)進(jìn)行傾斜控制。具體而言，如果供給到在傾斜軸線TA的一側(cè)、在切向方向T上位于透鏡保持器50相對(duì)的端部的兩個(gè)傾斜線圈72的電流和供給到在傾斜軸線TA的另一側(cè)、在切向方向T上位于透鏡保持器50相對(duì)的端部的兩個(gè)傾斜線圈72的電流相同，則透鏡保持器50將在聚焦方向F上移動(dòng)，而不傾斜，如果供給到在傾斜軸線TA一側(cè)的兩個(gè)傾斜線圈72的電流和供給到在傾斜軸線TA另一側(cè)的兩個(gè)傾斜線圈72的電流不同，則透鏡保持器50將傾斜。
現(xiàn)在，參考圖4A、4B來(lái)敘述根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)拾取器致動(dòng)器100的操作。
參考圖4A、4B，電源(未示出)向傾斜線圈72供應(yīng)電流，從而供給到在傾斜軸線TA一側(cè)的兩個(gè)傾斜線圈72的電流的大小和/或方向不同于供給到在傾斜軸線TA另一側(cè)的兩個(gè)傾斜線圈72的電流的大小和/或方向，從而將透鏡保持器50繞傾斜軸線TA傾斜。
當(dāng)透鏡保持器50繞傾斜軸線TA傾斜，而第一槽52和第二槽54的端壁是現(xiàn)有技術(shù)中沒(méi)有斜面的端壁時(shí)，在聚焦方向F上端壁的頂端或底端將是最靠近第一磁體部件84的端壁部分。因此在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)透鏡保持器50傾斜而進(jìn)行循跡控制時(shí)，其中透鏡保持器50在徑向方向R上自由移動(dòng)的循跡容限由聚焦方向F上的第一槽52和第二槽54的端壁的頂端或底端與第一磁體部件84之間的間隙所確定。但是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例，由于第一槽52和第二槽54的端壁具有第一斜面SLP1和第二斜面SLP2，在透鏡保持器50傾斜時(shí)的循跡容限由中心線HCL1、HCL2延伸通過(guò)它的、端壁的中心與第一磁體部件84之間的間隙所確定，該間隙要大于現(xiàn)有技術(shù)中沒(méi)有斜面的第一槽52和第二槽54的端壁的頂端或底端和第一磁體部件84之間的間隙。因此，在本發(fā)明的第一實(shí)施例中，與現(xiàn)有技術(shù)相比，因第一斜面SLP1和第二斜面SLP2，提供透鏡保持器50傾斜時(shí)的較大的循跡容限。第一斜面SLP1和第二斜面SLP2還可以使得能夠在進(jìn)行傾斜控制時(shí)提供透鏡保持器50通過(guò)其自由傾斜的較大角度，即較大的傾斜容限。
圖5是本發(fā)明第二實(shí)施例的剖視圖。根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例，第一槽152和第二槽154的端壁具有圖5所示的曲面CS，而不是第一實(shí)施例中第一槽52和第二槽54端壁的第一斜面SLP1和第二斜面SLP2。優(yōu)選的是，這些曲面CS是半球面。如果第一槽152和第二槽154的端壁為半球面，則根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例中相同的原理，可以比現(xiàn)有技術(shù)提供更大的傾斜容限和循跡容限。
盡管已經(jīng)敘述了在形成于透鏡保持器50中的第一槽52和第二槽54或152、154的端壁上形成第一斜面SLP1和第二斜面SLP2或曲面CS，但是如果第一槽52和第二槽54或152、154的端壁具有其它形狀，只要在透鏡保持器50不傾斜時(shí)，這些端壁和第一磁體部件84或184不平行并且在透鏡保持器50繞傾斜軸線TA的每一傾斜角處，這些端壁的中心是最靠近第一磁體部件84的端壁的部分，也可以提供比現(xiàn)有技術(shù)更大的傾斜容限和循跡容限。此外，盡管在本發(fā)明的實(shí)施例中已經(jīng)敘述了透鏡保持器50在徑向方向R上傾斜，即透鏡保持器50繞平行于切向方向T的傾斜軸線TA傾斜，但是本發(fā)明同樣可以應(yīng)用于透鏡保持器50在切向方向T上傾斜，即透鏡保持器50繞平行于徑向方向R的傾斜軸線傾斜的情況。
圖6是利用根據(jù)本發(fā)明一方面的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的示意框圖。
參考圖6，光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置包括旋轉(zhuǎn)光盤(pán)等光學(xué)介質(zhì)D的主軸電機(jī)200，可在光學(xué)介質(zhì)D的徑向方向R，即循跡方向上移動(dòng)以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)D上和/或從光學(xué)介質(zhì)D再現(xiàn)信息的光學(xué)拾取器220，以及驅(qū)動(dòng)主軸電機(jī)200、光學(xué)拾取器220的驅(qū)動(dòng)單元240。在這里，附圖標(biāo)記242表示轉(zhuǎn)臺(tái)，附圖標(biāo)記244表示將光學(xué)介質(zhì)D夾緊在上述轉(zhuǎn)臺(tái)242上的卡盤(pán)。
上述光學(xué)拾取器220包括具有物鏡1、2(參考圖1)以將來(lái)自光源(未示出)的光聚焦到光學(xué)介質(zhì)D上的光學(xué)系統(tǒng)(未示出)，以及在聚焦方向F和徑向方向R上驅(qū)動(dòng)物鏡1、2并繞平行于光學(xué)介質(zhì)D的切向方向T的傾斜軸線傾斜物鏡1、2的光學(xué)拾取器致動(dòng)器100(參考圖1)。參考圖1-5描述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器100可作為本發(fā)明的該實(shí)施例的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的光學(xué)拾取器致動(dòng)器100。
在光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置操作過(guò)程中，光學(xué)拾取器220中設(shè)置的光學(xué)檢測(cè)器(未示出)檢測(cè)從光學(xué)介質(zhì)D反射的光，該光學(xué)拾取器將檢測(cè)到的光光電轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。該電信號(hào)通過(guò)驅(qū)動(dòng)單元240被輸入到控制器250內(nèi)?？刂破?50控制驅(qū)動(dòng)單元240，在徑向方向R上移動(dòng)光學(xué)拾取器220并控制主軸電機(jī)200的旋轉(zhuǎn)。此外，根據(jù)上述電信號(hào)，控制器250控制光學(xué)拾取器致動(dòng)器100從而進(jìn)行循跡控制，聚焦控制和傾斜控制。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過(guò)在形成于透鏡保持器中的槽的端壁上形成斜面、曲面或者其它形狀的表面，可以提供更大的循跡容限和傾斜容限。通過(guò)提供這些更大的循跡容限和傾斜容限，可以提高光學(xué)拾取器致動(dòng)器的伺服控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
盡管已經(jīng)敘述并示出了本發(fā)明的一些實(shí)施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，在不偏離本發(fā)明的原理和精神情況下，在這些實(shí)施例中可以進(jìn)行變化。本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物所確定。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，包括基座，透鏡保持器，所述透鏡保持器安裝在基座上以便可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜，至少一個(gè)物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個(gè)槽形成在透鏡保持器中，安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面對(duì)所述磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁包括提供傾斜容限以便能夠執(zhí)行傾斜控制的斜面。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中平行于傾斜軸線的中心線延伸通過(guò)當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁的中心；其中所述斜面中的每一個(gè)包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面中的每一個(gè)均在當(dāng)在所述中心線中的一個(gè)中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的壁的所述中心中的一個(gè)中心處開(kāi)始傾斜離開(kāi)磁體單元。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中透鏡保持器的聚焦方向垂直于傾斜軸線；其中當(dāng)透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)，平行于聚焦方向的參考軸線與當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的端壁的中心相交；以及其中在透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)第一斜面與所述參考軸線中的一個(gè)參考軸線之間的角度和在透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)第二斜面與所述參考軸線中的一個(gè)參考軸線之間的角度大于透鏡保持器繞所述傾斜軸線的最大傾斜角。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中透鏡保持器的切向方向垂直于所述傾斜軸線和聚焦方向；并且其中所述至少一個(gè)槽包括彼此平行且在切向方向上彼此間隔開(kāi)的第一槽和第二槽。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述磁體單元包括安裝在基座上的軛鐵。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中磁體單元還包括安裝在軛鐵一側(cè)的磁體部件。
7.一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個(gè)物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個(gè)槽形成在透鏡保持器中，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限的曲面。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述曲面是半球面。
9.一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個(gè)物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個(gè)槽形成在透鏡保持器中，安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的第一磁體單元；至少一個(gè)循跡線圈，所述至少一個(gè)循跡線圈安裝口在傾斜軸線方向上面向所述第一磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁上；其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限和能夠執(zhí)行循跡控制的循跡容限的斜面。
10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，進(jìn)一步包括在透鏡保持器的外部、安裝在基座上的第二磁體單元，所述第二磁體單元平行于第一磁體單元，且在傾斜軸線的方向上與第一磁體單元間隔開(kāi)；以及至少一個(gè)傾斜線圈，所述至少一個(gè)傾斜線圈安裝口在傾斜軸線的方向上面向第二磁體單元的、透鏡保持器的外表面上。
11.一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，包括包括驅(qū)動(dòng)至少一個(gè)物鏡的致動(dòng)器的光學(xué)拾取器，所述光學(xué)拾取器安裝為在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上可移動(dòng)，以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)上和/或從光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息，以及控制所述光學(xué)拾取器的驅(qū)動(dòng)的控制器；其中所述致動(dòng)器包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個(gè)物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個(gè)槽形成在透鏡保持器中，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限和能夠執(zhí)行循跡控制的循跡容限的斜面。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中平行于傾斜軸線的中心線延伸通過(guò)當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁的中心；其中每一個(gè)斜面均包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面中的每一個(gè)均在當(dāng)在所述中心線中的一個(gè)中心線的方向觀看時(shí)面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的壁的所述中心中的一個(gè)中心處開(kāi)始傾斜離開(kāi)磁體單元；其中透鏡保持器的聚焦方向垂直于傾斜軸線；其中當(dāng)透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)，平行于聚焦方向的參考軸線與當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)面向磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的端壁的中心相交；以及其中在透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)第一斜面與所述參考軸線中的一個(gè)參考軸線之間的角度和在透鏡保持器沒(méi)有傾斜時(shí)第二斜面與所述參考軸線中的一個(gè)參考軸線之間的角度大于透鏡保持器繞所述傾斜軸線的最大傾斜角。
13.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中透鏡保持器的切向方向垂直于所述傾斜軸線和聚焦軸線；以及其中所述至少一個(gè)槽包括彼此平行且在切向方向上彼此間隔開(kāi)的第一槽和第二槽。
14.一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜并具有至少一個(gè)在其中形成的槽的透鏡保持器，安裝在透鏡保持器上的至少一個(gè)物鏡，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對(duì)于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個(gè)槽的壁具有在所述透鏡保持器繞所述傾斜軸線傾斜時(shí)，防止所述壁和磁體單元之間的間隙減小的形狀。
15.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述壁和所述磁體單元之間的間隙提供傾斜容限和循跡容限，在該傾斜容限中透鏡保持器自由繞傾斜軸線傾斜，從而使光學(xué)拾取器致動(dòng)器能夠執(zhí)行傾斜控制，在該循跡容限中透鏡保持器沿相對(duì)于傾斜軸線的橫向方向自由移動(dòng)，從而使光學(xué)拾取器致動(dòng)器能夠執(zhí)行循跡控制。
16.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述壁的形狀在光學(xué)拾取器致動(dòng)器執(zhí)行循跡控制時(shí)防止傾斜容限減小，并在光學(xué)拾取器致動(dòng)器執(zhí)行傾斜控制時(shí)防止循跡容限減小。
17.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中平行于傾斜軸線的中心線延伸通過(guò)當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)的壁的中心；并且其中所述壁的形狀為在透鏡保持器繞所述傾斜軸線的每一傾斜角處，所述壁的中心比壁的任何其它部分更靠近磁體單元。
18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述壁從當(dāng)在所述中心線的方向上觀看時(shí)的所述壁的中心向所述壁的端部?jī)A斜。
19.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述壁以直線以?xún)A斜角從壁的中心向壁的端部?jī)A斜，所述傾斜角大于透鏡保持器繞傾斜軸線的最大傾斜角，所述傾斜角相對(duì)于軸線測(cè)量，該軸線與當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)的所述壁中心相交并且垂直于中心線和垂直于相對(duì)于傾斜方向的橫向方向。
20.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述壁從當(dāng)在中心線的方向上觀看時(shí)的壁的中心向壁的端部彎曲。
21.如權(quán)利要求20所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述壁以半球曲面從壁的中心向壁的端部彎曲。
22.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，進(jìn)一步包括至少一個(gè)循跡線圈，所述至少一個(gè)傾斜線圈安裝□在傾斜軸線的方向上面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的壁上；其中將電流供給到所述至少一個(gè)循跡線圈中的每一個(gè)，使所述磁體單元和具有供給到它的電流的所述至少一個(gè)循跡線圈相互作用，從而在相對(duì)于傾斜軸線的橫向方向上驅(qū)動(dòng)透鏡保持器，以便執(zhí)行循跡控制。
23.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述磁體單元為第一磁體單元；并且其中所述光學(xué)拾取器致動(dòng)器進(jìn)一步包括在透鏡保持器的外部、安裝在基座上的第二磁體單元，所述第二磁體單元平行于第一磁體單元，且在傾斜軸線的方向上與第一磁體單元間隔開(kāi)；以及至少一個(gè)傾斜線圈，所述至少一個(gè)傾斜線圈安裝□在傾斜軸線的方向上面向第二磁體單元的、透鏡保持器的外表面上；其中以第一方式將電流供給到所述至少一個(gè)傾斜線圈中的每一個(gè)，使所述第二磁體單元與具有以第一方式供給到它的電流的所述至少一個(gè)傾斜線圈相互作用，從而使透鏡保持器繞傾斜軸線傾斜，以便執(zhí)行傾斜控制；以及其中以第二方式將電流供給到所述至少一個(gè)傾斜線圈中的每一個(gè)，使所述第二磁體單元與具有以第二方式供給到它的電流的所述至少一個(gè)傾斜線圈相互作用，從而在垂直于傾斜軸線和垂直于相對(duì)于傾斜軸線的橫向方向的方向上驅(qū)動(dòng)透鏡保持器，以便執(zhí)行聚焦控制。
24.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述傾斜軸線平行于對(duì)應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的切向方向的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的切向方向，從而透鏡保持器在垂直于光學(xué)拾取器致動(dòng)器的切向方向并且對(duì)應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的徑向方向的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的徑向方向上可傾斜。
25.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其中所述傾斜軸線平行于對(duì)應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的徑向方向的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的徑向方向，從而透鏡保持器在垂直于光學(xué)拾取器致動(dòng)器的徑向方向并且對(duì)應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的切向方向的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的切向方向上可傾斜。
全文摘要
一種具有穩(wěn)定性提高的伺服控制系統(tǒng)的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，安裝在透鏡保持器上的至少一個(gè)物鏡，形成在透鏡保持器上的至少一個(gè)槽，安裝在基座上并延伸到至少一個(gè)槽內(nèi)的磁體單元。在相對(duì)于傾斜軸線的橫向方向上面向磁體單元的、至少一個(gè)槽的壁包括斜面，所述斜面提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限。
文檔編號(hào)G11B21/02GK1866365SQ20061008272
公開(kāi)日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2006年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月18日
發(fā)明者李明旭 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社