專利名稱：光盤片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤片，特別是涉及一種能通過激光束將圖像形成于其本身的標簽層上的光盤片。
背景技術(shù)：
隨著光盤片廣泛地被用來儲存數(shù)據(jù)，隨之而來的問題即是如何針對已儲存數(shù)據(jù)的光盤片做管理。由于使用者期望有更加便利的方式來辨識他們已經(jīng)寫錄至自己所擁有的光盤片上的數(shù)據(jù)，以例如圖像(Image)等形式在所述光盤片的非數(shù)據(jù)面上達到標注(Labeling)的方法已被持續(xù)地發(fā)展。
請參閱圖1，圖1繪示現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)讀寫單元12在光盤片10的標簽層100形成圖像的示意圖。近年來，提出了有關(guān)于在光盤片標簽面上形成圖像的技術(shù)，如美國專利第6,864,907號所公開的，亦即為現(xiàn)有的光速寫(LightScribe)技術(shù)。如圖1所示，該技術(shù)的內(nèi)容是在光盤片10上提供針對光或熱起反應(yīng)而改變顏色的標簽層100。標簽層100被設(shè)置以面對光學(xué)讀寫單元(Optical pick-up unit)12，激光束120被發(fā)射至標簽層100上，使標簽層100改變顏色以形成圖像，在標簽層100上形成的圖像即可供使用者辨識光盤片10的數(shù)據(jù)內(nèi)容。
然而，由于標簽層的材料特性，光學(xué)讀寫單元發(fā)射至標簽層上的激光束無法被有效反射，致使光學(xué)讀寫單元不易根據(jù)反射的激光束來調(diào)整聚焦，進而影響形成于標簽層上的圖像質(zhì)量。此外，由于標簽面的材料特性，目前并沒有方法使光學(xué)讀寫單元能夠在光盤片的標簽層上決定何處已被標注過。當(dāng)光盤片被使用來重復(fù)在其標簽層上打印圖像時，將難以避免將新圖像覆蓋在先前記錄的圖像上。
因此，本發(fā)明的主要范疇在于提供一種光盤片，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一范疇在于提供一種光盤片，該光盤片具有設(shè)置于標簽層上的至少一反射部分，反射部分可有效反射光學(xué)讀寫單元發(fā)射的激光束。由此，光學(xué)讀寫單元可根據(jù)反射的激光束調(diào)整聚焦，以準確地將圖像形成于光盤片的標簽層上。
根據(jù)一優(yōu)選具體實施例，本發(fā)明的光盤片(Optical disc)包含數(shù)據(jù)面(Dataside)、非數(shù)據(jù)面(Non-data side)、標簽層(Label layer)以及至少一反射部分(Reflective portion)。數(shù)據(jù)面的結(jié)構(gòu)配合儲存數(shù)據(jù)，且非數(shù)據(jù)面與數(shù)據(jù)面相對。標簽層形成于非數(shù)據(jù)面上，并且用以通過光學(xué)讀寫單元(Optical pick-up unit)所發(fā)射的激光束(Laser beam)，在其上形成圖像(Image)。反射部分設(shè)置于標簽層上。
在上述的實施例中，當(dāng)光學(xué)讀寫單元在標簽層上形成圖像時，所發(fā)射的激光束經(jīng)過反射部分，光學(xué)讀寫單元可通過反射部分反射的激光束調(diào)整聚焦因此，根據(jù)本發(fā)明的光盤片，由于設(shè)置于標簽層上的反射部分可有效地將光學(xué)讀寫單元發(fā)射的激光束加以反射，致使光學(xué)讀寫單元于每次經(jīng)過反射部分時，皆可根據(jù)反射的激光束重新進行聚焦的調(diào)整，由此維持形成于標簽層上的圖像質(zhì)量。
關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及附圖得到進一步的了解。


圖1為繪示現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)讀寫單元在光盤片的標簽層形成圖像的示意圖。
圖2A為繪示根據(jù)本發(fā)明第一優(yōu)選具體實施例的光盤片的示意圖。
圖2B為繪示圖2A中光盤片沿X-X線的剖面視圖。
圖2C為繪示光學(xué)讀寫單元在圖2B中光盤片的標簽層形成圖像的示意圖。
圖2D為繪示圖2C中光學(xué)讀寫單元接收反射的激光束，以調(diào)整聚焦的示意圖。
圖3A為繪示根據(jù)本發(fā)明第二優(yōu)選具體實施例的光盤片的示意圖。
圖3B為繪示圖3A中光盤片沿Y-Y線的剖面視圖。
圖4為繪示根據(jù)本發(fā)明第三優(yōu)選具體實施例的光盤片的示意圖。
圖5A為繪示根據(jù)本發(fā)明第四優(yōu)選具體實施例的光盤片的示意圖。
圖5B為繪示圖5A中光盤片沿Z-Z線的剖面視圖。
圖6為繪示根據(jù)本發(fā)明第五優(yōu)選具體實施例的光盤片的示意圖。
簡單符號說明10、20、30、40、50、60光盤片100、204、304、504、604標簽層12、22光學(xué)讀寫單元120、220激光束200數(shù)據(jù)面 202、302非數(shù)據(jù)面2020、3080、5060、6060反射部分206溝槽 308、506、606反射層3082、4082、6062聚焦參考區(qū)域具體實施方式
請參閱圖2A至圖2D，圖2A為繪示根據(jù)本發(fā)明的第一優(yōu)選具體實施例的光盤片20的示意圖。圖2B為繪示圖2A中光盤片20沿X-X線的剖面視圖。圖2C繪示光學(xué)讀寫單元22在圖2B中光盤片20的標簽層204形成圖像的示意圖。圖2D為繪示圖2C中光學(xué)讀寫單元22接收反射的激光束，以調(diào)整聚焦的示意圖。如圖2B所示，本發(fā)明的光盤片(Optical disc)20包含數(shù)據(jù)面(Data side)200、非數(shù)據(jù)面(Non-data side)202、標簽層(Label layer)204以及至少一溝槽(Groove)206。
在上述的第一實施例中，數(shù)據(jù)面200的結(jié)構(gòu)配合儲存數(shù)據(jù)，且非數(shù)據(jù)面202與數(shù)據(jù)面200相對。標簽層204形成于非數(shù)據(jù)面202上，標簽層204用以通過光學(xué)讀寫單元(Optical pick-up unit)22所發(fā)射的激光束(Laserbeam)220，在其上形成圖像(Image)，如圖2C所示。至少一溝槽206形成于標簽層204上，致使非數(shù)據(jù)面202的多個區(qū)域2020外露。由此，非數(shù)據(jù)面202的外露區(qū)域2020提供作為反射部分2020。
如圖2D所示，當(dāng)光學(xué)讀寫單元22所發(fā)射的激光束220經(jīng)過反射部分2020的其中之一時，相對應(yīng)的反射部分2020會將激光束220有效地反射回光學(xué)讀寫單元22。由此，光學(xué)讀寫單元22即可根據(jù)反射的激光束，例如反射的激光束的強度，來調(diào)整聚焦，以準確地將圖像形成于標簽層204上。
在本發(fā)明的另一優(yōu)選具體實施例中，多個位置標記(Position mark)(未繪示于圖中)可分別標記于非數(shù)據(jù)面202上，所述多個位置標記提供光學(xué)讀寫單元22在標簽層204上形成圖像的基礎(chǔ)。在實務(wù)中，所述多個位置標記即為規(guī)范于”Compact Disc Recordable System Description”(橘皮書，第三版)中的絕對時間碼(Absolute time in pregroove，ATIP)信息，并且依據(jù)規(guī)格預(yù)先寫入于抖動溝槽(Wobble groove)中。當(dāng)光學(xué)讀寫單元22發(fā)射的激光束220經(jīng)過非數(shù)據(jù)面202的外露區(qū)域2020的其中之一時，所述多個位置標記被讀取以定位于一特定位置，由此進行對標簽層204的尋址。
請參閱圖3A以及圖3B，圖3A為繪示根據(jù)本發(fā)明的第二優(yōu)選具體實施例的光盤片30的示意圖。圖3B為繪示圖3A中光盤片30沿Y-Y線的剖面視圖。光盤片30與光盤片20主要不同之處在于光盤片30還包括反射層(Reflective layer)308。反射層308形成于非數(shù)據(jù)面302以及標簽層304之間，用以提供反射部分3080。
此外，如圖3A所示，反射層308具有外露于標簽層304的聚焦參考區(qū)域3082。聚焦參考區(qū)域3082可作為光學(xué)讀寫單元(未顯示于圖中)調(diào)整聚焦的參考。換言之，在光學(xué)讀寫單元將圖像形成于標簽層304上之前，光學(xué)讀寫單元可先掃描聚焦參考區(qū)域3082，以此處的反射信號為基礎(chǔ)，當(dāng)光學(xué)讀寫單元所發(fā)射的激光束經(jīng)過反射部分3080的其中之一時，即可由和先前于聚焦參考區(qū)域3082的反射信號比較，決定是否聚焦。決定的方式例如可以以反射部分3080的反射信號強度是否達到聚焦參考區(qū)域3082的反射信號強度的一定比例。圖3A中的光盤片30的結(jié)構(gòu)原理與圖2A中的光盤片20相同，在此不再贅述。
請參閱圖4，圖4為繪示根據(jù)本發(fā)明的第三優(yōu)選具體實施例的光盤片40的示意圖。光盤片40與光盤片30主要不同之處在于光盤片40的聚焦參考區(qū)域4082外露于光盤片40的外圍，如圖4所示。圖4中的光盤片40的結(jié)構(gòu)原理與圖3A中的光盤片30相同，在此不再贅述。
請參閱圖5A以及圖5B，圖5A為繪示根據(jù)本發(fā)明的第四優(yōu)選具體實施例的光盤片50的示意圖。圖5B繪示圖5A中光盤片50沿Z-Z線的剖面視圖。光盤片50與光盤片20主要不同之處在于光盤片50的反射層506直接形成于標簽層504上，用以提供反射部分5060。當(dāng)光學(xué)讀寫單元(未顯示于圖中)所發(fā)射的激光束經(jīng)過反射部分5060的其中之一時，反射部分5060會將激光束有效地反射回光學(xué)讀寫單元，由此光學(xué)讀寫單元可調(diào)整聚焦，以準確地將圖像形成于標簽層504上。圖5A中的光盤片50的結(jié)構(gòu)原理與圖2A中的光盤片20相同，在此不再贅述。
請參閱圖6，圖6為繪示根據(jù)本發(fā)明的第五優(yōu)選具體實施例的光盤片60的示意圖。光盤片60與光盤片50主要不同之處在于光盤片60的反射層606具有聚焦參考區(qū)域6062。聚焦參考區(qū)域6062可作為光學(xué)讀寫單元(未顯示于圖中)調(diào)整聚焦的參考。換言之，在光學(xué)讀寫單元將圖像形成于標簽層604上之前，光學(xué)讀寫單元可先掃描聚焦參考區(qū)域6062，以此處的反射信號為基礎(chǔ)，當(dāng)光學(xué)讀寫單元所發(fā)射的激光束經(jīng)過反射部分6060的其中之一時，即可由和先前于聚焦參考區(qū)域6062的反射信號比較，決定是否聚焦。決定的方式例如可以以反射部分6060的反射信號強度是否達到聚焦參考區(qū)域6062的反射信號強度的一定比例。圖6中的光盤片60的結(jié)構(gòu)原理與圖5A中的光盤片50相同，在此不再贅述。
在具體實施例中，根據(jù)本發(fā)明的光盤片的結(jié)構(gòu)可符合DVD-R規(guī)格、DVD+R規(guī)格、DVD-RW規(guī)格、CD-R規(guī)格或CD-RW規(guī)格。
與現(xiàn)有技術(shù)比較，根據(jù)本發(fā)明的光盤片，由于非數(shù)據(jù)面的外露區(qū)域或反射層可有效地將光學(xué)讀寫單元發(fā)射的激光束加以反射，致使光學(xué)讀寫單元在每次經(jīng)過非數(shù)據(jù)面的外露區(qū)域或反射層時，皆可根據(jù)反射的激光束重新進行聚焦的調(diào)整，由此維持形成于標簽層上的圖像質(zhì)量。此外，非數(shù)據(jù)面亦可進一步紀錄位置標記(如ATIP碼)，由此進行對標簽層的尋址，以避免將新圖像覆蓋于先前記錄的圖像上。
通過以上優(yōu)選具體實施例的詳述，希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精神，而并非以上述所公開的優(yōu)選具體實施例來對本發(fā)明的范疇加以限制。相反地，其目的是希望能將各種改變及具等同性的安排涵蓋于本發(fā)明的權(quán)利要求的范疇內(nèi)。因此，本發(fā)明的權(quán)利要求的范疇?wèi)?yīng)該根據(jù)上述的說明作最寬廣的解釋，以致使其涵蓋所有可能的改變以及具等同性的安排。
權(quán)利要求
1.一種光盤片，包含數(shù)據(jù)面，所述數(shù)據(jù)面的結(jié)構(gòu)配合儲存數(shù)據(jù)；非數(shù)據(jù)面，所述非數(shù)據(jù)面與所述數(shù)據(jù)面相對；標簽層，所述標簽層形成于所述非數(shù)據(jù)面上，所述標簽層用以通過光學(xué)讀寫單元所發(fā)射的激光束，在其上形成圖像；以及至少一反射部分，所述反射部分設(shè)置于所述標簽層的區(qū)域內(nèi)；其中，當(dāng)所述光學(xué)讀寫單元于所述標簽層上形成所述圖像時，所發(fā)射的所述激光束經(jīng)過所述反射部分，所述光學(xué)讀寫單元可通過所述反射部分反射的所述激光束作回饋調(diào)整。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤片，其中至少一溝槽形成于所述標簽層上，致使所述非數(shù)據(jù)面的至少一區(qū)域外露，所述非數(shù)據(jù)面的所述外露區(qū)域提供作為所述反射部分。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤片，還包括反射層，所述反射層形成于所述非數(shù)據(jù)面以及所述標簽層之間，其中至少一溝槽形成于所述標簽層上，致使所述反射層的至少一區(qū)域外露，所述反射層的所述外露區(qū)域提供作為所述反射部分。
4.如權(quán)利要求3所述的光盤片，其中所述反射層還具有外露于所述標簽層的聚焦參考區(qū)域，所述聚焦參考區(qū)域可作為所述光學(xué)讀寫單元調(diào)整聚焦的參考。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤片，還包括反射層，所述反射層形成于所述標簽層上，用以提供所述反射部分。
6.如權(quán)利要求5所述的光盤片，其中所述反射層具有聚焦參考區(qū)域，所述聚焦參考區(qū)域可作為所述光學(xué)讀寫單元調(diào)整聚焦的參考。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤片，其中多個位置標記分別標記于所述非數(shù)據(jù)面上，所述多個位置標記提供所述光學(xué)讀寫單元在所述標簽層上形成所述圖像的基礎(chǔ)。
8.如權(quán)利要求7所述的光盤片，其中所述多個位置標記絕對時間碼。
9.如權(quán)利要求1所述的光盤片，其中所述標簽層具有顏色，所述顏色對所述光學(xué)讀寫單元所發(fā)射的所述激光束的光能或熱能反應(yīng)而變化，以形成所述圖像。
10.如權(quán)利要求1所述的光盤片，其中所述光盤片的結(jié)構(gòu)符合DVD-R規(guī)格、DVD+R規(guī)格或DVD-RW規(guī)格。
11.如權(quán)利要求1所述的光盤片，其中所述光盤片的結(jié)構(gòu)符合CD-R規(guī)格或CD-RW規(guī)格。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光盤片，其包含數(shù)據(jù)面、非數(shù)據(jù)面、標簽層以及至少一反射部分。數(shù)據(jù)面的結(jié)構(gòu)配合儲存數(shù)據(jù)，且非數(shù)據(jù)面與數(shù)據(jù)面相對。標簽層形成于非數(shù)據(jù)面上，并且用以通過光學(xué)讀寫單元所發(fā)射的激光束，在其上形成圖像。反射部分設(shè)置于標簽層上。當(dāng)光學(xué)讀寫單元在標簽層上形成圖像時，所發(fā)射的激光束經(jīng)過反射部分，光學(xué)讀寫單元可通過反射部分反射的激光束調(diào)整聚焦。
文檔編號G11B23/40GK101064173SQ20061007771
公開日2007年10月31日 申請日期2006年4月24日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月24日
發(fā)明者張寶宜, 王威, 吳豐旭, 彭震, 蕭麟, 李大元 申請人:明基電通股份有限公司