專利名稱：多層光盤的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及多層光盤，且更為具體地說涉及其中在光盤中從覆蓋層的表面到每個記錄層的厚度的公差被設置為不同于到其它記錄層的厚度公差的多層光盤。
背景技術：
高密度光盤，比如藍光光盤(BD)能夠記錄或再現(xiàn)大量高質(zhì)量視頻和音頻數(shù)據(jù)，這種高密度光盤逐漸發(fā)展，且預期其能夠投入商用。通常，這種光盤具有其中在單一光盤基底上形成多個記錄層，以實現(xiàn)記錄容量的增加的多層結構。
參考圖1，示出了單一層BD100。單層BD100具有層壓的光盤結構，包括基底10，記錄層11和覆蓋層12.
典型地，具有上述光盤結構的單層BD100具有1200μm的總厚度。在對應于22到23mm的半徑的徑向位置被設置為基準位置時，在其中覆蓋層12具有例如，1.6的折射率的情況下，覆蓋層12具有100μm的厚度。因為覆蓋層12具有±5μm的厚度公差，從覆蓋層12的暴露的表面到記錄層11的厚度范圍，Lot，從95μm到105μm。
參考圖2，示出了雙層BD200。雙層BD200具有包括基底20，第一記錄層21，空間層24，第二記錄層23和覆蓋層22的層壓結構。
典型地，雙層BD200具有1200μm的總厚度Dt。在對應于22到23mm的徑向位置被設置為基準位置時，在其中覆蓋層22具有例如，1.6的折射率的情況下，覆蓋層22具有75μm的厚度。因為覆蓋層22具有±5μm的厚度公差，從覆蓋層12的暴露的表面到第二記錄層23的厚度，Llt，范圍從70μm到80μm。
而且，第一記錄層21的厚度，Lot，對應于覆蓋層22，第二記錄層23(L1)，和空間層24的厚度總和，且范圍從95μm到105μm，如在單層BD中一樣。
典型地，設計單層BD或雙層BD200滿足±2μm的厚度公差。為了滿足這個厚度公差，需要實現(xiàn)更強的光盤制造精確性。但是，這引起當前給定制造條件下產(chǎn)量的降低，由此造成光盤制造成本的顯著增加。另一方面，當厚度公差不需要地增加時，信號特性惡化。在該情況中，在記錄和再現(xiàn)操作期間產(chǎn)生誤差。

發(fā)明內(nèi)容
因此，考慮上述問題做出本發(fā)明，且本發(fā)明的目的是提供一種多層光盤，其能夠?qū)崿F(xiàn)制造效率的增強而不引起記錄和再現(xiàn)操作中信號特性的惡化。
根據(jù)本發(fā)明的方面，通過提供一種多層光盤實現(xiàn)上述和其它目的，該多層光盤包括多個記錄層，其中從光盤的覆蓋層的表面到每個記錄層的厚度具有這樣確定的公差，即，使得和與離覆蓋層更遠的記錄層相關的厚度的公差大于和靠近覆蓋層的記錄層相關的厚度的公差。
和任意記錄層相關的厚度可對應于覆蓋層的厚度，或?qū)诟采w層厚度，比任意記錄層靠近覆蓋的記錄層的厚度，以及空間層的厚度的總和，同時該空間層比任意記錄層靠近覆蓋層，并形成在兩個記錄層之間。
和離覆蓋層更遠的記錄層相關的厚度具有±3μm的公差。和靠近覆蓋層的記錄層相關的厚度具有±2μm的公差?？稍谄渲袑?3到34mm的半徑的光盤的徑向位置被設置為基準位置，且覆蓋層具有1.6的折射率的情況下確定厚度公差。
根據(jù)另一方面，本發(fā)明提供了具有層壓光盤結構的多層光盤，包括基底、第一記錄層、空間層、第二記錄層和覆蓋層，其中在覆蓋層具有75μm的厚度時，該覆蓋層具有±2μm的厚度公差，且在覆蓋層，第二記錄層，和空間層的厚度總和是100μm時，其具有±3μm的公差。
和第一記錄層相關，可確定覆蓋層，第二記錄層和空間層的厚度總和的公差滿足6.5％的最小有限均衡器(LEQ)抖動值，和在±0.6度的徑向傾斜時不大于10％的LEQ抖動值。和第二記錄層相關，確定覆蓋層的厚度公差滿足6.5％的最小LEQ抖動值，和在±0.6度的徑向傾斜時不大于10％的LEQ抖動值。


包括附圖以提供本發(fā)明的進一步理解，其和說明書一起示出了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，以解釋本發(fā)明的原理。
圖1是示出了一般的單層藍光光盤(BD)的示意圖；圖2是示出了一般的雙層BD的示意圖；圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的雙層BD的示意圖；圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明制造雙層BD的過程的示意圖；圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的雙層BD中第一記錄層的有限均衡器(LEQ)抖動特性的視圖；且圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的雙層BD中第二記錄層的有限均衡器(LEQ)抖動特性的視圖。
不同附圖中由相同數(shù)字表示的本發(fā)明的特征、元件和方面表示根據(jù)一個或多個實施例的相同、等效或類似的特征、元件或方面。
具體實施例方式
這里，將參考附圖詳細描述根據(jù)本發(fā)明的多層光盤的優(yōu)選實施例。
本發(fā)明可應用于其中在單一基底上層壓多個記錄層的多種類型的多層光盤。
參考圖3，示出了雙層藍光光盤(BD)300。雙層BD具有包括基底30、第一記錄層31(L0)，空間層34，第二記錄層33(L1)和覆蓋層32的層壓的光盤結構。
雙層BD300具有1200μm的總厚度Dt。覆蓋層32、第二記錄層33和空間層34的厚度的總和對應于從覆蓋層32的暴露表面到第一記錄層31的厚度，即，厚度L0t，其是100μm，且在其中覆蓋層32具有例如，1.6的折射率的情況下，在對應于33到34mm的半徑的徑向位置被設置為基準位置時具有±3μm的公差。
對應于從覆蓋層32的暴露表面到第二記錄層33的厚度，即，厚度L1t的覆蓋層32的厚度是75μm，在對應于33到34mm的半徑的徑向位置被設置為基準位置時，在其中覆蓋層32具有例如，1.6的折射率的情況下具有±2μm的公差。
就是說，更加遠離覆蓋層32的第一記錄層31具有±3μm的相對大的厚度公差，然而靠近覆蓋層32的第二記錄層33具有±2μm的相對小的厚度公差。在下文中，將具體描述制造如上所述的其中記錄層具有不同厚度公差的雙層BD的過程。
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的雙層BD的制造過程。
在光盤制造過程中，首先在注射模制的基底30上形成凹坑陣列。之后根據(jù)飛濺處理在基底30上形成的凹坑陣列上涂覆反射膜，以形成第一記錄層31(S10)。在第一記錄層31上按壓紫外線(UV)樹脂，以形成空間層34(S11)。
之后，將具有凹坑陣列的壓模40精確地定位在空間層34上(S12)。之后將壓力加到壓模40，由此引起壓模40在空間層34上形成凹坑陣列(S13)。在該情況中，空間層34的厚度保持在20到30μm。
接下來，UV線照射在基底30上。之后移去壓模40。之后，根據(jù)飛濺處理在空間層34上形成的凹坑陣列上涂覆反射膜，以形成第二記錄層33(S14)。
之后，使用UV樹脂附加覆蓋片到第二記錄層33，且之后通過以UV線照射UV樹脂將其固定到第二記錄層33，并因此，固化UV樹脂(S15)。在該情況中，覆蓋層32具有大約75μm的厚度，其包括UV樹脂的厚度。
在上述光盤制造過程中，首先形成第一記錄層31，形成具有20到30μm的厚度的空間層34，形成第二記錄層33，最后形成具有大約75μm厚度的覆蓋層32。在該情況中，從覆蓋層32的暴露表面到第一記錄層31的厚度的公差，即，厚度L0t(100μm)來自空間層34的厚度公差和從覆蓋層32的暴露表面到第二記錄層33的厚度，即，厚度L1t(75μm)的公差的累加。
在這方面，和第一記錄層31相關的厚度L0t的公差，例如，公差D0，和第二記錄層33相關的厚度L1t的公差，例如，公差D1，和空間層34的厚度的公差，例如，公差S，具有由“|D0|=D12+S2]]>”表示的關系。
參考這個關系，可以看出和第一記錄層31相關的厚度L0t的公差，即，公差D0大于和第二記錄層33相關的厚度L1t的公差，例如，公差D1。
同時，圖5示出了當?shù)谝挥涗泴?1具有25GB的存儲容量時，取決于和第一記錄層31(L0)相關的厚度L0t的變化的有限均衡器(LEQ)抖動特性的變化。當和第一記錄層31相關的厚度L0t是100μm時，且具有在±3μm范圍的公差時，滿足其中最小LEQ抖動值應該小于6.5％的條件，如圖5所示。而且，LEQ抖動值在±0.6度的徑向傾斜不大于10％。因此，保證了信號再現(xiàn)特性的所需裕量。但是，參考圖5，可以看出，當厚度L0t具有±4μm的公差時，不能滿足其中最小LEQ抖動值應該小于6.5％的條件。
因此，只要和第一記錄層31相關的厚度L0t具有±3μm的公差，第一記錄層31能夠滿足所需信號特性。
圖6示出了當?shù)诙涗泴?3(L1)具有25GB的存儲容量時，取決于和第二記錄層33(L1)相關的厚度L1t的變化的有限均衡器(LEQ)抖動特性的變化。當和第二記錄層33相關的厚度L1t是75μm時，且具有在±2μm范圍的公差時，滿足其中最小LEQ抖動值應該小于8.5％的條件，如圖6所示。而且，LEQ抖動值在±0.6度的徑向傾斜不大于10％。因此，保證了信號再現(xiàn)特性的所需裕量。但是，參考圖5，可以看出，當厚度L0t具有±3μm的公差時，不能滿足其中最小LEQ抖動值應該小于8.5％的條件。
因此，只要和第二記錄層33相關的厚度L1t具有±2μm的公差，第二記錄層33能夠滿足所需信號特性。
從上述說明可以看出，根據(jù)本發(fā)明，可以通過在光盤中設置從覆蓋層的暴露表面到每個記錄層的厚度的公差不同于到其它記錄層的厚度的公差，而更加有效地制造多層光盤。因此，可以實現(xiàn)光盤產(chǎn)量的增加，且因此，降低光盤制造成本。
雖然通過如上所述的附圖中所示的實施例解釋了本發(fā)明，本領域普通技術人員應該理解本發(fā)明不限于實施例，而是在不脫離本發(fā)明的精神的情況下可以做出多種修改或變更。因此，本發(fā)明的范圍應該僅由所附的權利要求及其等效物所確定。
權利要求
1.一種多層光盤，包括多個記錄層，其中，從光盤的覆蓋層的表面到每個記錄層的厚度具有這樣確定的公差即，和更加遠離覆蓋層的記錄層相關的厚度的公差大于和靠近覆蓋層的記錄層相關的厚度的公差。
2.如權利要求1所述的多層光盤，其中，和任意記錄層相關的厚度對應于覆蓋層的厚度，或?qū)诟采w層的厚度，比任意記錄層靠近覆蓋層的記錄層的厚度，和空間層的厚度的總和，同時該空間層比任意記錄層靠近覆蓋層，并形成在兩個記錄層之間。
3.如權利要求1所述的多層光盤，其中，和更加遠離覆蓋層的記錄層相關的厚度具有±3μm的公差，且和靠近覆蓋層的記錄層相關的厚度具有±2μm的公差。
4.如權利要求1所述的多層光盤，其中，在對應于33到34mm的半徑的光盤的徑向位置被設置為基準位置，且覆蓋層具有1.6的折射率的條件下確定厚度公差。
5.如權利要求1所述的多層光盤，其中，該多層光盤是具有第一記錄層和第二記錄層的藍光光盤。
6.如權利要求5所述的多層光盤，其中，在對應于33到34mm的半徑的光盤的徑向位置被設置為基準位置，且覆蓋層具有1.6的折射率的條件下，和第一記錄層相關的厚度具有±3μm的公差，且和第二記錄層相關的厚度具有±2μm的公差。
7.一種多層光盤，其具有包括基底、第一記錄層、空間層、第二記錄層和覆蓋層的層壓的光盤結構，其中，在該覆蓋層具有75μm的厚度時，該覆蓋層具有±2μm的厚度公差，其中，在該覆蓋層、第二記錄層和空間層的厚度總和是100μm時，該覆蓋層、第二記錄層和空間層的厚度總和具有±3μm的公差。
8.如權利要求7所述的多層光盤，其中，和第一記錄層相關，確定覆蓋層，第二記錄層和空間層的厚度總和的公差滿足6.5％的最小有限均衡器(LEQ)抖動值，和在±0.6度的徑向傾斜時不大于10％的LEQ抖動值。
9.如權利要求7所述的多層光盤，其中，和第二記錄層相關，確定覆蓋層的厚度公差滿足6.5％的最小有效均衡器(LEQ)抖動值，和在±0.6度的徑向傾斜時不大于10％的LEQ抖動值。
全文摘要
像雙層藍光光盤一樣，公開的多層光盤包括多個記錄層。在多層光盤中，在其中每個記錄層的記錄和再現(xiàn)信號的特性不發(fā)生惡化的范圍中，從覆蓋層的表面到每個記錄層的透明表面厚度的公差被設置為不同于到其它記錄層的透明表面厚度的公差。因此，可以更加有效地制造多層光盤，以實現(xiàn)多層光盤的產(chǎn)量的改進，和實現(xiàn)降低多層光盤的制造成本。
文檔編號G11B7/24038GK101053028SQ200580037979
公開日2007年10月10日 申請日期2005年11月4日 優(yōu)先權日2004年11月5日
發(fā)明者金進鏞, 樸景燦 申請人:Lg電子株式會社