專利名稱：光學(xué)記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)記錄媒體，特別是涉及一種記錄層含有有機(jī)色素的追記型光學(xué)記錄媒體。
背景技術(shù)：
因數(shù)字高保真廣播的開始，可以預(yù)示圖像數(shù)據(jù)量的進(jìn)一步增加，與其相伴，對(duì)記錄媒體也謀求高容量、高數(shù)據(jù)傳播速度(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。要想在家庭中錄像數(shù)字高保真廣播時(shí)，據(jù)說DVD±R的容量業(yè)已不足，下一代DVD的開發(fā)正在盛行。作為一例，可以將BS數(shù)字高保真廣播錄像·再生2小時(shí)之類的藍(lán)光光盤記錄器正在銷售。
該藍(lán)光光盤記錄器用的記錄媒體也同時(shí)被銷售，但其是具有相變化型的記錄層的媒體。在相變化型的媒體的制造中需要大規(guī)模的真空成膜裝置，其層構(gòu)成復(fù)雜?？紤]到這一點(diǎn)，盡管在還含有所述藍(lán)光光盤的下一代DVD系統(tǒng)中，為了更廉價(jià)地制造記錄媒體，正在進(jìn)行使用有有機(jī)色素的追記型藍(lán)光光盤媒體的開發(fā)。在采用通過旋涂將有機(jī)色素成膜的方法時(shí)，有可以繼續(xù)使用CD-R及DVD-R的制造中使用的制造設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)。
另外，其另一面，對(duì)追記型藍(lán)光光盤媒體也謀求與現(xiàn)有的CD-R及DVD-R同樣高的保存性。
但是，追記型藍(lán)光光盤媒體的構(gòu)成，例如，在基板上依次層疊有反射層、記錄層、透明片材(光透過層)。所述透明片材通過例如粘合劑貼合。為了防止由該粘合劑對(duì)記錄層的影響，通常設(shè)置中間層?？紤]光學(xué)特性及成膜速度、在相變化型光盤媒體中的使用成績(jī)等，提案有中間層使用含有硫的材料。但是，其存在的問題在于，當(dāng)中間層含有硫時(shí)，該硫和構(gòu)成反射層的金屬(例如Ag等)反應(yīng)，生成硫化物使保存性降低。因此，本發(fā)明者提案有具有基本上不含硫的中間層的光學(xué)記錄媒體(特愿2004-35363號(hào))。由此，通過抑制Ag的腐蝕，使保存性提高，收到一定以上的成果，但還有改善的余地。
另外，在現(xiàn)有的CD-R及DVD-R中，由于貼合沒有使用粘合劑，故不需要如上所述的中間層。
專利文獻(xiàn)1特開平11-120617號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于以上的現(xiàn)有問題而完成的，以達(dá)到以下目的為課題。即，本發(fā)明的目的在于，提供一種可以良好地維持抖晃等特性的保存性高的光學(xué)記錄媒體。
用于解決所述課題的辦法如下所述。
<1>一種光學(xué)記錄媒體，其在基板上至少具備含有有機(jī)色素的記錄層和光透過層，其特征在于，在所述記錄層和所述光透過層之間具有由含有Ta的化合物或含有Nb的化合物構(gòu)成的中間層，該中間層的厚度為1～80nm。
<2>如<1>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述含有Ta的化合物是Ta的氧化物，所述含有Nb的化合物是Nb的氧化物。
<3>如<1>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述中間層的層厚為1.5～20nm。
<4>如<1>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層。
<5>如<1>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層，并且，在所述基板的反射層側(cè)的面形成槽，該槽的深度為20～70nm。
<6>一種光學(xué)記錄媒體，其在基板上至少具備含有有機(jī)色素的記錄層和光透過層，其特征在于，在所述記錄層和所述光透過層之間具有由含有Ta及/或Nb的復(fù)合氧化物構(gòu)成的中間層，該中間層的厚度為1～80nm。
<7>如<6>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述含有Ta及/或Nb的復(fù)合氧化物是選自由Nb2O5-SiO2、Nb2O5-AL2O3、Nb2O5-Ta2O5及Ta2O5-SiO2構(gòu)成的群組中的至少1種。
<8>如<6>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述中間層的厚度為1.5～20nm。
<9>如<6>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層。
<10>如<6>所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層，并且，在所述基板的反射層側(cè)的面上形成槽，該槽的深度為20～70nm。
依據(jù)本發(fā)明，可以提供一種可以良好地維持抖晃等特性的保存性高的光學(xué)記錄媒體。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體在基板上至少具備含有有機(jī)色素的記錄層和光透過層。而且，在記錄層和光透過層之間，依據(jù)第1方式具有由含有Ta的化合物或含有Nb的化合物構(gòu)成的中間層，依據(jù)第2方式具有由含有Ta及/或Nb的復(fù)合氧化物構(gòu)成的中間層，任一種方式的所述中間層的層厚都為1～80nm。
在任一種方式中，通過設(shè)置這樣的中間層，可以提高保存性、特別是濕熱保存性。其原因推測(cè)如下由于中間層自身不因水分而變質(zhì)，故水分向記錄層的行進(jìn)因中間層的存在而停止。而且，其結(jié)果，可以一邊良好地維持抖晃(jitter)等特性，一邊發(fā)揮高的保存性。
在本發(fā)明的第1方式中，成為所述中間層的構(gòu)成成分的含有Ta的化合物或含有Nb的化合物，可以分別列舉Ta或Nb的各氧化物、氮化物，其中，優(yōu)選氧化物。氧化物優(yōu)選Ta2O5、Nb2Ox、NbO、TaO。
在本發(fā)明的第2方式中，成為所述中間層的構(gòu)成成分的含有Ta及/或Nb的復(fù)合氧化物可以例舉Nb2O5-SiO2、Nb2O5-Al2O3、Nb2O5-Ta2O5、Ta2O5-SiO2、Ta2O5-Al2O3等，其中，優(yōu)選Nb2O5-SiO2、Nb2O5-Al2O3、Nb2O5-Ta2O5、Ta2O5-SiO2。
如上所述，通過在中間層的構(gòu)成成分中使用復(fù)合氧化物，可以根據(jù)使用的復(fù)合氧化物及其組成變化折射率?？梢杂纱苏{(diào)節(jié)光學(xué)記錄媒體的反射率。
在本發(fā)明中，在任一種方式中，將中間層的層厚設(shè)定為1～80nm，通過將中間層的層厚設(shè)定為該范圍，可以謀求在形成記錄時(shí)的坑時(shí)容易產(chǎn)生空隙、提高抖晃。如果其低于1nm，則記錄層中的有機(jī)色素和粘合層的分離能不充分，當(dāng)其超過80nm時(shí)，記錄再生特性變差。中間層的層厚更優(yōu)選設(shè)定為1～50nm，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)定為1.5～20nm。
中間層例如可以通過將含有Ta的化合物或含有Nb的化合物、或Ta的氧化物、Nb的氧化物、其它元素的氧化物作為目的物(target)的濺射進(jìn)行成膜。此時(shí)，成膜時(shí)的壓力優(yōu)選設(shè)定為1×10-2～1×10-5torr，速度(濺射速度)優(yōu)選設(shè)定為0.1～10nm/sec。氣體的種類可以使用Ar等，氣體流量?jī)?yōu)選設(shè)定為1～50sccm(1～50ml/min)。濺射功率優(yōu)選0.2～4kW，更優(yōu)選設(shè)定為0.4～3kW，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為0.5～2.5kW。
在利用RF濺射法成膜時(shí)，調(diào)整其調(diào)諧(協(xié)調(diào))，設(shè)定相對(duì)于FWD的REF為10％以下、優(yōu)選5％以下、更優(yōu)選2.5％以下。另外，氧化物及氮化物的情況，有時(shí)將這些氣體混合于濺射氣體中，利用反應(yīng)性濺射進(jìn)行成膜。
另外，利用目的物，也可以通過DC濺射進(jìn)行成膜。此時(shí)，優(yōu)選使脈沖濺射和利用斷路器(chopper)等瞬間除去目的物的帶電的方法組合在一起。
本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體的優(yōu)選層構(gòu)成如下在基板上依次設(shè)置(中間層)、反射層、(中間層)、記錄層、中間層、粘接層、光透過層、(硬涂層)。需要說明的是，除此之外，為了提高粘合性·記錄特性·保存性等，也可以在各層之間設(shè)置其它層。另外，上述構(gòu)成中，括號(hào)內(nèi)所述的層是指根據(jù)需要形成的層。
在本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體中，在基板和所述記錄層之間具有反射層，并且，在所述基板的反射層側(cè)的面形成槽，該槽的深度為20～70nm，通過設(shè)定這樣的構(gòu)成，可以設(shè)定為藍(lán)光光盤的構(gòu)成。
在將記錄磁軌(track)設(shè)定為上槽部時(shí)，槽深度優(yōu)選為20～50nm，在將記錄磁軌設(shè)定為內(nèi)槽部時(shí)，槽深度優(yōu)選為30～70nm。
下面，以上述光學(xué)記錄媒體為具體例，對(duì)本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體的基板及其它層等進(jìn)行說明。需要說明的是，本發(fā)明并不限定于這些。
(基板)基板材料的具體例可以列舉玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯類樹脂；環(huán)氧樹脂；非晶聚烯烴；聚酯；鋁等金屬等，可以根據(jù)需要將這些同時(shí)使用。
在上述材料中，從耐濕性、尺寸穩(wěn)定性及低價(jià)格等方面來考慮，優(yōu)選聚碳酸酯、非晶聚烯烴，特別優(yōu)選聚碳酸酯。另外，基板的厚度(形成記錄層的區(qū)域的平均厚度)優(yōu)選設(shè)定為1.1±0.3mm的范圍。
在基板上形成表示跟蹤用的引導(dǎo)槽或地址信號(hào)等信息的凹凸(將基板的凸部稱為在上槽上，將凹部稱為在內(nèi)槽。在此，“在上槽”有時(shí)也稱為“槽”。)。為了達(dá)到更高的記錄密度，與CD-R及DVD-R相比，優(yōu)選使用形成有更窄的磁軌間距的槽的基板。
槽的磁軌間距優(yōu)選為300～360nm的范圍。更優(yōu)選為310～340nm的范圍。
另外，槽的深度(槽深)優(yōu)選為20～70nm的范圍。在記錄磁軌為上槽部時(shí)，槽深度優(yōu)選為20～50nm，在記錄磁軌為內(nèi)槽部時(shí)，槽深度優(yōu)選為30～70nm。通過設(shè)定為所述的范圍，跟蹤(tracking)錯(cuò)誤信號(hào)減小，可以防止跟蹤變難，同時(shí)可以防止成形變難。在記錄磁軌為上槽部時(shí)，更優(yōu)選為25～40nm，在記錄磁軌為內(nèi)槽部時(shí)，更優(yōu)選為35～60nm。為25～40nm。
基板的記錄的磁軌部分的半值寬度優(yōu)選50～200nm的范圍。通過設(shè)定為所述的范圍，可以防止跟蹤錯(cuò)誤，同時(shí)可以降低抖晃。更優(yōu)選為70～190nm的范圍，進(jìn)一步優(yōu)選90～180nm。
需要說明的是，在設(shè)置后述的反射層的側(cè)的基板表面上，為了改善平面性，提高粘合力，可以形成下涂層。
該下涂層的材料可以列舉例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸·甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯·馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羥甲基丙烯酰胺、苯乙烯·乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、醋酸乙烯酯·氯乙烯共聚物、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質(zhì)；硅烷耦合劑等表面改性劑。
下涂層可以通過如下方法來形成將上述材料溶解或分散于適當(dāng)?shù)娜軇┒渲瞥赏糠笠汉?，將該涂敷液利用旋壓涂敷、浸漬涂敷、擠壓涂敷等涂敷法涂敷于基板表面。下涂層的厚度一般為0.005～20μm的范圍，優(yōu)選為0.01～10μm的范圍。
(反射層)在反射層中，使用相對(duì)于激光的反射率高的光反射性物質(zhì)。該反射率優(yōu)選為70％以上。
反射率高的光反射性物質(zhì)可以列舉Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金屬及準(zhǔn)金屬或不銹鋼。這些光反射性物質(zhì)可以單獨(dú)使用，或可以兩種以上的組合，或可以作為合金使用。其中優(yōu)選的物質(zhì)是Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及不銹鋼。特別優(yōu)選Au、Ag、Al或它們的合金，最優(yōu)選Ag或以Ag為主要成分的合金(Ag50質(zhì)量％以上)。
例如，可以通過將上述光反射性物質(zhì)蒸鍍、濺射或離子電鍍，在基板上形成反射層。反射層的層厚一般為10～300nm的范圍，優(yōu)選50～200nm的范圍。
(記錄層)記錄層是在反射層上形成的、可以利用波長(zhǎng)為500nm以下的激光進(jìn)行信息記錄的層，是含有有機(jī)色素的色素型。
所述有機(jī)色素的具體例例如有賽安寧(cyanine)色素、尿囊黃醇(オキソノ一ル)色素、金屬配位化合物類色素、偶氮色素及酞菁(phthalocyanine)色素等。
另外，有機(jī)色素適合使用特開平4-74690號(hào)公報(bào)、特開平8-127174號(hào)公報(bào)、同11-53758號(hào)公報(bào)、同11-334204號(hào)公報(bào)、同11-334205號(hào)公報(bào)、同11-334206號(hào)公報(bào)、同11-334207號(hào)公報(bào)、特開2000-43423號(hào)公報(bào)、同2000-108513號(hào)公報(bào)及同2000-158818號(hào)公報(bào)等所述的色素。
而且，三唑化合物、三嗪化合物、賽安寧化合物、份菁化合物、氨基丁二烯化合物、酞菁化合物、肉桂酸化合物、氧化還原化合物、偶氮化合物、賽安寧苯并噁唑化合物、苯并三唑化合物等有機(jī)化合物也適合用作記錄層原材料。在這些化合物中，特別優(yōu)選賽安寧化合物、氨基丁二烯化合物、苯并三唑化合物、酞菁化合物。
將作為有機(jī)色素的記錄物質(zhì)與粘合劑等一同溶解于適當(dāng)?shù)娜軇?，配制涂敷液，然后，將該涂敷液涂敷于在基板表面形成的反射層上，形成涂膜后，進(jìn)行干燥，由此形成記錄層。涂敷液中的記錄物質(zhì)的濃度一般為0.01～15質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選0.1～10質(zhì)量％的范圍，更優(yōu)選0.5～5質(zhì)量％的范圍，最優(yōu)選0.5～3質(zhì)量％的范圍。
涂敷液的溶劑可以列舉醋酸丁酯、乳酸乙酯、溶纖劑乙酸酯等酯；丁酮、環(huán)己酮、甲基異丁基甲酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯化烴；二甲基甲酰胺等酰胺；甲基環(huán)己烷等烴；四氫呋喃、乙醚、二噁烷等醚；乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇二丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶劑；乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、丙二醇一甲醚等二醇醚類等。
考慮使用的記錄物質(zhì)的溶解性，上述溶劑可以單獨(dú)或?qū)煞N以上組合在一起使用。在涂敷液中，還可以根據(jù)目的進(jìn)一步添加抗氧化劑、UV吸收劑、增塑劑、潤(rùn)滑劑等各種添加劑。
在使用粘合劑時(shí)，粘合劑的實(shí)例可以列舉明膠、纖維素衍生物、葡聚糖、松香、橡膠等天然有機(jī)高分子物質(zhì)；聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等烴系樹脂、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯·聚醋酸乙烯酯共聚物等乙烯基系樹脂、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂、聚乙烯醇、氯化聚乙烯、環(huán)氧樹脂、丁縮醛樹脂、橡膠衍生物、苯酚·甲醛樹脂等熱固性樹脂的初期縮合物等合成有機(jī)高分子。在作為記錄層的材料并用粘合劑時(shí)，粘合劑的使用量一般相對(duì)于記錄物質(zhì)在0.01倍量～50倍量(質(zhì)量比)的范圍，優(yōu)選在0.1倍量～5倍量(質(zhì)量比)的范圍。這樣配制的涂敷液中的記錄物質(zhì)的濃度一般在0.01～10質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選位于0.1～5質(zhì)量％的范圍。
涂敷方法可以列舉噴霧法、旋涂法、浸漬法、輥涂法、刮刀涂敷法、刮刀輥法、絲網(wǎng)印刷法等。記錄層可以是單層，也可以是雙層。另外，記錄層的層厚一般在20～500nm的范圍，優(yōu)選在30～300nm的范圍，更優(yōu)選位于50～100nm的范圍。
在記錄層中，為了提高該記錄層的耐光性，可以使其含有各種褪色抑制劑。
褪色抑制劑一般使用單態(tài)氧驟冷劑(クエンチヤ一)。單態(tài)氧驟冷劑可以利用已經(jīng)公知的專利說明書等刊物所述的驟冷劑。
其具體例可以列舉特開昭58-175693號(hào)公報(bào)、同59-81194號(hào)公報(bào)、同60-18387號(hào)公報(bào)、同60-19586號(hào)公報(bào)、同60-19587號(hào)公報(bào)、同60-35054號(hào)公報(bào)、同60-36190號(hào)公報(bào)、同60-36191號(hào)公報(bào)、同60-44554號(hào)公報(bào)、同60-44555號(hào)公報(bào)、同60-44389號(hào)公報(bào)、同60-44390號(hào)公報(bào)、同60-54892號(hào)公報(bào)、同60-47069號(hào)公報(bào)、同63-209995號(hào)公報(bào)、特開平4-25492號(hào)公報(bào)、特公平1-38680號(hào)公報(bào)及同6-26028號(hào)公報(bào)等各公報(bào)、德國(guó)專利350399號(hào)說明書、而且日本化學(xué)會(huì)雜志1992年10月號(hào)第1141頁(yè)等所述的單態(tài)氧驟冷劑。
所述單態(tài)氧驟冷劑等褪色抑制劑的使用量相對(duì)于有機(jī)色素的量通常為0.1～50質(zhì)量％的范圍，優(yōu)選0.5～45質(zhì)量％的范圍，進(jìn)一步優(yōu)選3～40質(zhì)量％的范圍，特別優(yōu)選5～25質(zhì)量％的范圍。
(中間層)中間層是使用已述的材料利用已述的方法在記錄層上形成的。需要說明的是，中間層必須在記錄層和光透過層之間形成，除此之外，也可以在“基板和反射層之間”及“反射層和記錄層之間”的至少任一處中形成。
(光透過層)光透過層是為了防止光學(xué)記錄媒體內(nèi)部受污染、傷害及沖擊等、或?yàn)榱朔乐顾值那秩氲榷纬傻?。其材料只要是透明的材質(zhì)就沒有特別限定，但優(yōu)選可以列舉由聚碳酸酯、三醋酸纖維素等構(gòu)成的透明片材，在至少一個(gè)面上賦予了粘合劑的材質(zhì)。
需要說明的是，所謂“透明”，是指透過記錄光和再生光(透過率90％以上)那樣的透明。
在透明片材的賦予了粘合劑的面的相反面上，為了防止透明片材受傷，可以形成硬涂層。在記錄層上形成所述的透明片材，優(yōu)選如下進(jìn)行。
首先，在卷繞成滾筒狀的透明片材的一個(gè)面上連續(xù)地涂敷放射線固化樹脂涂敷液。對(duì)利用涂敷形成的涂膜連續(xù)地照射放射線，使其固化，在透明片材上設(shè)置硬涂層。然后，在透明片材的另一個(gè)面上連續(xù)地設(shè)置由粘合劑構(gòu)成的粘合層，將設(shè)置有硬涂層及粘合層的透明片材沖切成規(guī)定的形狀(盤狀)。將該盤狀的透明片材的粘合層作為貼合面，在記錄層上設(shè)置該透明片材，形成光透過層。需要說明的是，透明片材的貼合方法等僅僅是例示，可以應(yīng)用各種方法。
透明片材的厚度優(yōu)選為0.03～0.15mm的范圍，更優(yōu)選為0.05～0.12mm的范圍。通過設(shè)定為這樣的范圍，具有操作容易、且可以抑制彗差(コマ収差)之類的優(yōu)點(diǎn)。
粘合劑可以使用丙烯酸類、橡膠類、硅類的粘合劑，但從透明性、耐久性的觀點(diǎn)來考慮，優(yōu)選丙烯酸類的粘合劑。所述的丙烯酸類的粘合劑以丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正丁酯等為主要成分，為了提高凝聚力，優(yōu)選使用將短鏈的丙烯酸烷基酯及甲基丙烯酸酯進(jìn)行共聚而成的物質(zhì)，例如能成為丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯和交聯(lián)劑的交聯(lián)點(diǎn)的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺衍生物、馬來酸、丙烯酸羥乙酯、丙烯酸縮水甘油酯等。通過適當(dāng)調(diào)節(jié)主要成分、短鏈成分和用于附加交聯(lián)點(diǎn)的成分的混合比率、種類，可以改變玻璃化溫度(Tg)及交聯(lián)密度。需要說明的是，也可以使用預(yù)先賦予了粘合劑的市售的透明片材。
另外，在硬涂層中使用的放射線固化樹脂，只要是利用放射線照射可以固化的樹脂即可，更詳細(xì)地來講，優(yōu)選在分子中具有2個(gè)以上的放射線官能性的雙鍵的樹脂。
例如有丙烯酸酯類、丙烯酰胺類、甲基丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酰胺類、烯丙基化合物、乙烯醚類、乙烯酯類等。其中，優(yōu)選2官能以上的丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物。
下面，對(duì)本發(fā)明的光學(xué)記錄媒體的信息記錄方法及記錄的信息的再生方法進(jìn)行說明。
例如，向光學(xué)記錄媒體記錄信息，可以如下進(jìn)行。
首先，一邊以恒定線速度使光學(xué)記錄媒體旋轉(zhuǎn)，一邊從透明片材側(cè)(基板的相反側(cè))照射記錄用的350～500nm(優(yōu)選400～440nm)的激光。通過該激光的照射，記錄層吸收該光局部溫度上升，產(chǎn)生物理性或化學(xué)性變化(例如凹坑的形成)，改變其光學(xué)特性。利用該光學(xué)特性的變化記錄信息。
具有350～500nm的振動(dòng)波長(zhǎng)的激光光源，例如可以列舉具有390～415nm的范圍的振蕩波長(zhǎng)的藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光、中心振蕩波長(zhǎng)約430nm的藍(lán)紫色SHG激光等。
另外，為了提高記錄密度，優(yōu)選在拾波器中使用的物鏡的開口率(NA)為0.7以上，更優(yōu)選為0.80以上。
另一方面，記錄好的信息的再生可以通過如下方法進(jìn)行一邊以與上述相同的恒定線速度使光學(xué)記錄媒體旋轉(zhuǎn)，一邊從透明片材側(cè)照射與在信息的記錄中使用的激光相同波長(zhǎng)或其以下的波長(zhǎng)的激光，檢測(cè)其反射光。
實(shí)施例下面，利用實(shí)施例進(jìn)一步詳細(xì)地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于下面的實(shí)施例。
使用帝人化成(株)社制聚碳酸酯樹脂(パンライトAD5503)，通過注塑成形為厚1.1mm的基板?；宓牟鄞跑夐g距為320nm，上槽部的半值寬度為120nm，槽深度為35nm。
在該基板上使用由Ag98.4at％、Nd0.7at％、Cu0.9at％構(gòu)成的目的物，利用真空成膜法以100nm的厚度將反射層進(jìn)行成膜。在投入功率為2kW、Ar流量為5sccm下進(jìn)行。
稱量下述化學(xué)式表示的有機(jī)色素A(折射率＝1.85)，以使其相對(duì)于TFP100ml為2g的比率，使其溶解。對(duì)該液照射2小時(shí)超聲波，使色素溶解后，在23℃、50％的環(huán)境靜置0.5小時(shí)以上，用0.2μm的過濾器進(jìn)行過濾。使用該液用旋涂法在反射層上形成厚度為110nm的記錄層。然后，在80℃的純凈爐中進(jìn)行加熱處理1小時(shí)。
有機(jī)色素A在加熱處理后，利用真空成膜法使用由Ta2O5構(gòu)成的目的物成膜10nm厚的中間層。投入功率為2kW、Ar流量為50sccm，將RF的調(diào)諧進(jìn)行最適化的結(jié)果，相對(duì)于FWD＝1000，REF＝20。另外，中間層的折射率為2.0。
在形成中間層后，在另一個(gè)面上使形成有厚20μm的粘合層的聚碳酸酯薄膜(厚度80μm)貼合，制作光學(xué)記錄媒體。
將制作好的光學(xué)記錄媒體固定在裝載有波長(zhǎng)為403nm、NA＝0.85的激光光學(xué)系統(tǒng)的DDU-1000(バルステツク工業(yè)(株)制)上，將以5.5mW的功率1-7調(diào)制好的無規(guī)信號(hào)(2T～8T)進(jìn)行記錄，以0.35mW的功率再生，評(píng)價(jià)抖晃。此時(shí)，線速度為5.28m/s，將記錄時(shí)的激光的發(fā)光圖案進(jìn)行最佳化。使用普通平衡器測(cè)定抖晃。將結(jié)果示于下述表1。
另外，將制作好的光學(xué)記錄媒體在60℃90％RH的環(huán)境中保存168小時(shí)后，在與保存前相同的條件下測(cè)定記錄終結(jié)磁軌的抖晃，與保存前的抖晃進(jìn)行比較(保存抖晃(archival jitter)變化)。將結(jié)果示于下述表1。
而且，在保存后，相對(duì)于新型未記錄磁軌與保存前同樣地評(píng)價(jià)抖晃，與保存前的抖晃進(jìn)行比較(殼抖晃變化)。
以保存前后的抖晃的增加為5％以下為○、以其以上為×，判斷保存性。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O4.83構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例2的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O4.83構(gòu)成的目的物，及將層厚設(shè)定為50nm，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例3的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O4.83構(gòu)成的目的物，及將層厚設(shè)定為70nm，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例4的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O4.83構(gòu)成的目的物，及將層厚設(shè)定為1.5nm，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例5的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O570at％、SiO230at％構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例6的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O530at％、SiO270at％構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例7的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為1.8。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O570at％、Al2O330at％構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例8的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O550at％、Ta2O550at％構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例9的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。

在中間層形成時(shí)，使用由Ta2O570at％、SiO230at％構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作實(shí)施例10的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為2。
在中間層形成時(shí)，使用由ZnO30at％、Ga2O370at％構(gòu)成的目的物，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作比較例1的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。將結(jié)果示于下述表1。需要說明的是，中間層的折射率為1.8。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O4.83構(gòu)成的目的物，及將層厚設(shè)定為100nm，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作比較例2的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。
在中間層形成時(shí)，使用由Nb2O4.83構(gòu)成的目的物，及將層厚設(shè)定為0.9nm，除此之外，與實(shí)施例1同樣操作，制作比較例3的光學(xué)記錄媒體，進(jìn)行評(píng)價(jià)。需要說明的是，中間層的折射率為2.1。


由表1可知，實(shí)施例1～10的光學(xué)記錄媒體在保存前后抖晃都沒有顯著的差別，其保存性優(yōu)良。相對(duì)于此，比較例1～3的光學(xué)記錄媒體在保存前后的抖晃變化大或不能測(cè)定。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)記錄媒體，其在基板上至少具備含有有機(jī)色素的記錄層和光透過層，其特征在于，在所述記錄層和所述光透過層之間，具有由含有Ta的化合物或含有Nb的化合物構(gòu)成的中間層，該中間層的層厚為1～80nm。
2.如權(quán)利要求l所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述含有Ta的化合物是Ta的氧化物，所述含有Nb的化合物是Nb的氧化物。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述中間層的層厚為1.5～20nm。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層，并且，在所述基板的反射層側(cè)的面形成有槽，該槽的深度為20～70nm。
6.一種光學(xué)記錄媒體，其在基板上至少具備含有有機(jī)色素的記錄層和光透過層，其特征在于，在所述記錄層和所述光透過層之間，具有由含有Ta及/或Nb的復(fù)合氧化物構(gòu)成的中間層，該中間層的層厚為1～80nm。
7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述含有Ta及/或Nb的復(fù)合氧化物是選自由Nb2O5-SiO2、Nb2O5-Al2O3、Nb2O5-Ta2O5及Ta2O5-SiO2構(gòu)成的群組中的至少1種。
8.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述中間層的層厚為1.5～20nm。
9.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層。
10.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，在所述基板和所述記錄層之間還具有反射層，并且，在所述基板的反射層側(cè)的面形成有槽，該槽的深度為20～70nm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光學(xué)記錄媒體，其在基板上至少具備含有有機(jī)色素的記錄層和光透過層，其特征在于，在所述記錄層和所述光透過層之間具有由含有Ta的化合物或含有Nb的化合物構(gòu)成的中間層，該中間層的層厚為1～80nm。
文檔編號(hào)G11B7/258GK101044563SQ20058003576
公開日2007年9月26日 申請(qǐng)日期2005年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月20日
發(fā)明者片山和俊, 宇佐美由久, 角田毅 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社