專利名稱：光信息記錄方法及光信息記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光信息記錄方法和光信息記錄介質(zhì)，特別涉及加熱追記型光信息記錄介質(zhì)的光信息記錄方法，以及利用該記錄方法記錄的光信息記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
過去眾所周知，利用激光僅能記錄一次信息的追記型光信息記錄介質(zhì)被稱為CD-R。它具有能用市售的CD播放機(jī)再生的優(yōu)點(diǎn)，而且隨著最近個(gè)人電腦的普及，對其需求量也日益增大。作為能用CD-R大容量記錄的介質(zhì)，與數(shù)字高清晰度錄像等對應(yīng)的追記型數(shù)字萬用光盤(DVD-R)也正在被實(shí)用化。
這種DVD-R具有的結(jié)構(gòu)是，在形成了引導(dǎo)被照射激光隨紋用的引導(dǎo)溝槽(紋道)比CD-R上的寬度窄一般以上(0.74～0.80微米)的透明園盤狀基板上，通常依次層疊含有有機(jī)色素的記錄層、光反射層和保護(hù)層，將兩片材這樣的基板粘合得使記錄層為內(nèi)側(cè)，或者將這種園盤與具有相同形狀的園盤狀保護(hù)基板粘合得使記錄層為內(nèi)側(cè)。這種DVD-R上的信息記錄和再生，可以利用激光(通常為630～680納米波長的激光)照射的方式進(jìn)行，能夠在比CD-R更高密度下述錄。
作為這些追記型光信息記錄介質(zhì)中的一種結(jié)構(gòu)，已知的是在園盤狀基板上依次層疊由Au等構(gòu)成的光反射層、由有機(jī)化合物構(gòu)成的記錄層、以及含有粘合該記錄層用粘接層的被覆層的結(jié)構(gòu)。當(dāng)從所述的樹脂層側(cè)照射激光光線時(shí)，能夠進(jìn)行記錄和再生。追記型光信息記錄介質(zhì)上的信息記錄，可以通過記錄層的激光照射的部分吸收這種光線后使局部發(fā)熱變形(例如生成坑等)的方式進(jìn)行。另一方面信息的再生，通?？梢詫ψ酚浶凸庑畔⒂涗浗橘|(zhì)照射與記錄用激光具有相同波長的激光光線，通過檢出記錄層發(fā)熱變形部位(記錄部分)和未變形部位(未記錄部分)的反射率差別的方式進(jìn)行。
最近因特網(wǎng)等網(wǎng)絡(luò)和高清晰度TV正在快速普及。而且HDTV(HighDefinition Television)的播放已經(jīng)開始。在這種狀況下，需要一種能夠經(jīng)濟(jì)、簡單地記錄圖像信息的大容量光信息記錄介質(zhì)。上述的DVD-R現(xiàn)在作為大容量光信息記錄介質(zhì)雖然起著很大作用，但是由于大容量化和高密度化要求進(jìn)一步提高，所以必須開發(fā)適應(yīng)這些要求的記錄介質(zhì)。因此對于光信息記錄介質(zhì)而言，目前正在開發(fā)能在更短波長光線下進(jìn)行高密度記錄的、更大容量的記錄介質(zhì)。特別是僅能一次記錄信息的追記型光信息記錄介質(zhì)，由于作為大容量信息的長期保存或備份使用的頻度不斷提高，所以對其開發(fā)的要求十分強(qiáng)烈。
例如關(guān)于具有含有機(jī)色素的記錄層的光信息記錄介質(zhì)，公開了一些通過從記錄層側(cè)向光反射層側(cè)照射波長530nm以下激光光線，進(jìn)行信息的記錄和再生的記錄再生方法(例如參見特開2000-43423號公報(bào)、特開2000-108513號公報(bào)、特開2000-113504號公報(bào)、特開2000-149320號公報(bào)、特開2000-158818號公報(bào)和特開2000-228028號公報(bào))。
這些方法中，通過對備有含血卟啉化合物、偶氮系色素、金屬偶氮系色素、奎酞酮系色素、三甲基花青(トリメチンシアニン)色素、二氰基乙烯基苯基骨架色素、香豆素化合物、萘花青(ナフタロシアニン)化合物等的記錄層的光信息記錄介質(zhì)照射藍(lán)色(波長430nm、488nm)或蘭綠色(波長515nm)的激光，進(jìn)行信息的記錄和再生。
然而本發(fā)明人等研究查明，上述公報(bào)中記載的光信息記錄介質(zhì)，通過用波長450nm以下短波長激光照射記錄信息的情況下，實(shí)際上不能獲得所需的感度，而且也不能達(dá)到滿足反射率和調(diào)制度等其他記錄特性所要求的水平，必須進(jìn)一步改進(jìn)。特別發(fā)現(xiàn)，上述公報(bào)中記載的光信息記錄介質(zhì)，在用波長450nm以下短波長激光照射記錄信息的情況下述錄特性差。
光信息記錄介質(zhì)的高密度化，通常能夠利用對物鏡的高NA化使光束斑點(diǎn)減小的方式來達(dá)成。最近，快速推進(jìn)對于從波長680nm、650nm和635nm的紅色半導(dǎo)體激光器至能夠進(jìn)行更高密度記錄的波長400～500nm的藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光器(以下稱為藍(lán)紫色激光器)的開發(fā)。特別是藍(lán)紫色激光器在首場上出售以來，對開發(fā)利用該藍(lán)紫色激光器和高NA備份的光信息記錄系統(tǒng)進(jìn)行了研究，對于具有相變記錄層的重寫型光信息記錄介質(zhì)和光信息記錄系統(tǒng)而言，已經(jīng)發(fā)表的有DVR系統(tǒng)(參見“ISOM2000”210～211頁)。借助于它，就重寫型光信息記錄介質(zhì)中的高密度化課題取得了一定成果。
作為利用上述那種藍(lán)紫色激光器和高NA備份的光信息記錄系統(tǒng)中使用的光信息記錄介質(zhì)，與上述同樣，一致有通過從基料側(cè)向光反射層側(cè)照射波長530nm以下的激光光線，進(jìn)行信息記錄和再生的記錄再生方法(參照特開平4-74690號公報(bào)、特開平7-304256號公報(bào)、特開平7-304257號公報(bào)、特開平8-127174號公報(bào)、特開平11-53758號公報(bào)、特開平11-334204號公報(bào)、特開平11-334205號公報(bào)、特開平11-334206號公報(bào)、特開平11-334207號公報(bào)、特開2000-43423號公報(bào)、特開2000-108513號公報(bào)、特開2000-113504號公報(bào)、特開2000-149320號公報(bào)、特開2000-158818號公報(bào)和特開2000-228028號公報(bào))。這些方法中，通過對備有含與上述同樣色素化合物的記錄層的光信息記錄介質(zhì)照射藍(lán)色(波長430nm、488nm)或藍(lán)綠色(波長515nm)激光光線，進(jìn)行信息的記錄和再生。
然而根據(jù)本發(fā)明人等的研究發(fā)現(xiàn)，在上述公報(bào)中記載的光信息記錄介質(zhì)中，以光信息記錄介質(zhì)本身的層結(jié)構(gòu)和記錄用激光光線輸出等作為控制因素的光信息記錄方法，實(shí)際上往往不能獲得具有所需穩(wěn)定的記錄再生特性的光信息記錄介質(zhì)，因而成為大得研究課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供一種可以高密度記錄、具有高記錄特性的光信息記錄介質(zhì)。此外本發(fā)明目的再在于提供一種能夠賦予穩(wěn)定記錄再生特性的光信息記錄方法，以及利用該記錄方法記錄的光信息記錄介質(zhì)。
上述目的由以下所示的本發(fā)明所達(dá)成。
根據(jù)第一觀點(diǎn)，本發(fā)明涉及一種光信息記錄介質(zhì)，所述的光信息記錄介質(zhì)是在形成了面紋道和內(nèi)紋道的基板上，形成含有色素的記錄層，在該記錄層上設(shè)有透明片材的光信息記錄介質(zhì)，其特征在于通過從所述的透明片材側(cè)照射激光光線進(jìn)行信息的記錄和再生，所述的面紋道寬度為50～140nm，在所述的透明片材與所述的記錄層之間形成阻擋層。
所述的光信息記錄介質(zhì)，面紋道高度優(yōu)選20～50nm。
根據(jù)第二觀點(diǎn)，本發(fā)明涉及一種光信息記錄方法，所述的方法是對基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上，通過粘接層或粘著層設(shè)置被覆層的光信息記錄介質(zhì)，從所述的被覆層側(cè)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙，以進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于，調(diào)整所述的激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙寬度為50～250nm的范圍。
根據(jù)第三觀點(diǎn)，本發(fā)明涉及一種光信息記錄方法，所述的方法是對基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上，通過粘接層或粘著層設(shè)置被覆層的光信息記錄介質(zhì)，從所述的被覆層側(cè)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙，以進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于，調(diào)整所述的激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙高度在所述的色素記錄層厚度中所占的比例為20～95％的范圍。
此外，本發(fā)明進(jìn)一步提供一種光信息記錄介質(zhì)，其特征在于是經(jīng)過上述第二點(diǎn)和第三點(diǎn)光信息記錄方法記錄的。
以下詳細(xì)說明本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)、以及光信息記錄方法和利用該記錄方法記錄的光信息記錄介質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)，在形成了面紋道和內(nèi)紋道的基板上形成含有色素的記錄層，在該記錄層上設(shè)置透明片材，所述的面紋道寬度為50～140nm，在記錄層和透明片材之間形成阻擋層。于是信息的記錄和再生，可以通過從上述透明片材一側(cè)照射激光光線的方式進(jìn)行。所述的面紋道高度優(yōu)選為20～50nm。
根據(jù)第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)，至少具有在基板上依次形成光反射層、記錄層和透明片材的結(jié)構(gòu)。所述的透明片材優(yōu)選借助于粘結(jié)劑或粘接劑形成在記錄層上。
根據(jù)本發(fā)明第二點(diǎn)所述的光信息記錄方法，是對基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上，通過粘接層或粘著層設(shè)置被覆層的光信息記錄介質(zhì)，從所述的被覆層側(cè)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙，以此進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于調(diào)整所述的激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙寬度為50～250nm的范圍。
根據(jù)本發(fā)明第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法，是對基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上，通過粘接層或粘著層設(shè)置被覆層的光信息記錄介質(zhì)，從所述的被覆層側(cè)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙，以此進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于調(diào)整所述的激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙高度在所述的色素記錄層厚度中所占的比例為20～95％的范圍。
<光信息記錄介質(zhì)>
首先說明本發(fā)明第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)，即追記色素型光信息記錄介質(zhì)。
根據(jù)第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)，是在基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上，借助于粘結(jié)劑或粘接劑設(shè)置了透明片材的，此外也可以設(shè)置光反射層和阻擋層作為選擇性層。
(基板)作為基板可以任意選擇使用過去作為光信息記錄介質(zhì)使用的各種材料。
具體講，可以舉出玻璃、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯樹脂，聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯系樹脂，環(huán)氧樹脂，無定形聚烯烴，聚酯，鋁等金屬等，而且還可以根據(jù)需要并用這些物質(zhì)。
上述材料中，從耐濕性、尺寸穩(wěn)定性和價(jià)格低廉等觀點(diǎn)來看，優(yōu)選聚碳酸酯和無定形聚烯烴，特別優(yōu)選聚碳酸酯。
基板的厚度優(yōu)選為1.1±0.3mm。
基板的表面上形成隨紋用溝槽或表示地址等信息的凹凸(面紋道和內(nèi)紋道，以下簡稱為“紋道”)。為了獲得更高記錄密度，優(yōu)選使用能形成比CD-R和DVD-R更狹窄隨紋間距紋道的基板。
本發(fā)明第一點(diǎn)的光信息記錄介質(zhì)中，基板紋道的隨紋間距優(yōu)選為300～360nm的范圍，更優(yōu)選為310～340微米的范圍。
而且紋道深度(面紋道的高度)優(yōu)選為20～50nm的范圍。小于20nm時(shí)，隨紋誤差信號減小，往往難于隨紋。而一旦超過50nm，就會(huì)使成形變得困難。更優(yōu)選為25～40nm。
溝槽寬度(面紋道寬度)應(yīng)為50～140nm的范圍。小于50nm時(shí)隨紋誤差降低，往往難于隨紋。而一旦超過140nm，就會(huì)使跳動(dòng)增大。更優(yōu)選為70～130nm。更優(yōu)選為90～120nm。
面紋道的溝槽傾斜角度，優(yōu)選為20～80°的范圍，更優(yōu)選為30～70°的范圍。
其中圖1表示面紋道形狀的斷面示意圖。正如圖中所定義的那樣，紋道的溝槽深度(面紋道的高度)D是指從紋道形成前的基板表面至溝槽最深處之間的距離，面紋道的寬度W是指D/2深度處溝槽的寬度，面紋道溝槽的傾斜角度θ是指從溝槽形成前的基板表面至D/10深度處的傾斜部分與從溝槽最深處至D/10高度的傾斜部分之間的連線與基板表面形成的角度。這些數(shù)值可以用AFM(原子間力顯微鏡)測定。
根據(jù)本發(fā)明的第二和第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法所采用的未記錄光信息記錄介質(zhì)，基板紋道的隨紋間距優(yōu)選為200～400nm的范圍，更優(yōu)選為250～350微米的范圍。
而且紋道的溝槽深度優(yōu)選為10～150nm的范圍，更優(yōu)選為20～100nm的范圍，特別優(yōu)選為30～80nm的范圍。而且其半深寬度優(yōu)選為50～250nm，更優(yōu)選為100～200nm的范圍。
這種紋道優(yōu)選在將聚碳酸酯等樹脂材料注塑成形或擠壓成形時(shí)直接在基板上形成。
而且也可以利用設(shè)置紋道層的方式進(jìn)行紋道的形成。作為紋道層的材料，可以使用丙烯酸單酯、二酯、三酯和四酯中至少一種酯單體(或低聚物)與光聚合引發(fā)劑的混合物。紋道層的形成，例如可以采用將上述的丙烯酸酯和聚合引發(fā)劑組成的混合液涂布在首先精密制成的母模(印模)上，接著將基板置于此涂布層上，通過基板或母模照射紫外線使涂布層固化，使基板與涂布層結(jié)合在一起。進(jìn)而將母模剝離后可以得到基板。紋道層的層厚一般為0.01～100微米的范圍，優(yōu)選為0.05～50微米的范圍。
其中為了改善平面性和提高粘著力，優(yōu)選在設(shè)有后述的光反射層和色素記錄層側(cè)的基板表面上形成底涂層。
作為底涂層用材料，例如可以舉出聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸—甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羥甲基丙烯酰胺、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺酰化聚乙烯、硝基纖維素、聚氯乙烯、氯代聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、醋酸乙烯酯-氯乙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質(zhì)，以及硅烷偶合劑等表面改性劑。
將上述材料溶解或者分散在適當(dāng)溶劑中制成涂布液后，可以利用旋涂法、浸涂法、擠壓涂布法等涂布方法在基板表面上涂布這種涂布液的方式形成底涂層。底涂層的厚度，一般為0.005～20微米的范圍，優(yōu)選為0.01～10微米的范圍。
(光反射層)光反射層是為了提高信息再生時(shí)的反射率，被設(shè)置在基板和色素記錄層之間的選擇性層。光反射層可以利用蒸鍍法、濺射法或者離子鍍膜法，將對激光光線反射率高的光反射性物質(zhì)形成在上述基板上。光反射層的厚度，一般為10～300nm的范圍，更優(yōu)選為50～200nm的范圍。
其中上述反射率優(yōu)選為70％以上。
作為反射率高的光反射性物質(zhì)，可以舉出Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金屬和準(zhǔn)金屬或不銹鋼。這些光反射性物質(zhì)可以單獨(dú)使用或者兩種以上組合使用，或者以合金形式使用。這些物質(zhì)中優(yōu)選Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al和不銹鋼。特別優(yōu)選Au、Ag、Al或其合金，最優(yōu)選Au、Ag或其合金。
(色素記錄層)色素記錄層優(yōu)選含有對記錄和再生時(shí)使用的激光光線波長區(qū)域具有擊打吸收的色素的。根據(jù)第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)的記錄層，可以用波長500nm以下的激光光線記錄信息。
作為該記錄層所含記錄物質(zhì)中的色素，也可以是相變金屬化合物和有機(jī)化合物。作為上述有機(jī)化合物的實(shí)例，可以舉出花青色素、氧雜菁(オキソノル)色素、金屬配位化合物色素、偶氮色素、酞青色素等。
具體講，優(yōu)選適當(dāng)使用特開平4-74690、特開平8-127174、特開平11-53758、特開平11-334204、特開平11-334205、特開平11-334206、特開平11-334207等號公報(bào)、特開2000-43423、特開2000-108513和特開2000-158818等號公報(bào)等中記載的色素。
此外，記錄物質(zhì)并不僅僅限于色素，也可以適當(dāng)使用三唑化合物、三嗪化合物、花青化合物、部花青化合物、氨基丁二烯化合物、酞菁化合物、桂皮酸化合物、氧化還原化合物、偶氮化合物、氧雜菁苯并噁唑化合物、苯并三唑化合物等有機(jī)化合物。這些化合物中，特別優(yōu)選使用花青化合物、氨基丁二烯化合物、苯并三唑化合物、酞菁化合物等。
色素記錄層可以采用將上述的色素等記錄物質(zhì)與需要時(shí)的結(jié)合劑溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲兄瞥赏坎家汉?，在上述基板或反射層的表面上涂布此涂布液形成涂膜后，利用干燥的方法形成。此外，也可以根?jù)使用目的在涂布液中添加抗氧化劑、紫外線吸收劑、增塑劑和潤滑劑等各種添加劑。
而且作為溶解處理色素和結(jié)合劑的方法，可以適當(dāng)采用超聲波處理法、均質(zhì)處理法、分散處理法、砂磨機(jī)處理法、槳葉攪拌處理法等。
作為色素記錄層的涂布液用的溶劑，可以舉出乙酸丁酯、乙酸溶纖劑等酯類，甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異丁基酮等酮類，二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯代烴類，二甲基甲酰胺等酰胺類，環(huán)己烷等烴類，四氫呋喃、乙醚、二噁烷等醚類，乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、二丙酮醇等醇類，2，2，3，3-四氟丙醇等含氟溶劑，乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚等二醇醚類等。考慮到使用色素和結(jié)合劑的溶解性能，上述溶劑可以單獨(dú)使用或者兩種以上適當(dāng)并用。
作為所述的結(jié)合劑的實(shí)例，例如可以舉出明膠、纖維素衍生物、糊精、松香、橡膠等天然有機(jī)高分子物質(zhì)，以及聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等烴類樹脂，聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯—聚醋酸乙烯酯共聚物等乙烯基系樹脂，聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯系樹脂，聚乙烯醇、氯代聚乙烯、環(huán)氧樹脂、丁醛樹脂、橡膠衍生物、酚醛樹脂等熱固性樹脂的初期縮合物等合成有機(jī)高分子。作為色素記錄層的材料并用結(jié)合劑的情況下，結(jié)合劑的用量相對于記錄物質(zhì)而言一般為0.01倍～50倍量(重量比)的范圍，優(yōu)選為0.1倍～5倍量(重量比)的范圍。通過使色素記錄層含有結(jié)合劑，還能改善色素記錄層的保存穩(wěn)定性。
這樣制備的涂布液中記錄物質(zhì)的濃度，對于第一點(diǎn)的光信息記錄介質(zhì)而言，一般為0.01～15重量％的范圍，優(yōu)選為0.1～10重量％的范圍，更優(yōu)選為0.5～5重量％的范圍，最好為0.5～3重量％的范圍。對于第二點(diǎn)的光信息記錄方法使用的未記錄的光信息記錄介質(zhì)的情況下，涂布液中記錄物質(zhì)的濃度一般為0.01～10重量％的范圍，優(yōu)選為0.1～5重量％的范圍。
作為涂布方法，可以舉出噴涂法、旋涂法、浸涂法、輥涂法、刮涂法、刀涂法、絲網(wǎng)印刷法等。色素記錄層可以是單層或多層。色素記錄層的厚度一般為20～500nm的范圍，優(yōu)選為30～300nm的范圍，更優(yōu)選為50～100nm的范圍。
而且涂布溫度若為23～50℃雖然沒有特別問題，但是優(yōu)選24～40℃，更優(yōu)選25～37℃。
為提高該色素記錄層的耐光性，可以使色素記錄層含有各種褪色防止劑。
作為褪色防止劑，一般可以采用單態(tài)氧猝滅劑。而作為單態(tài)氧猝滅劑可以利用已經(jīng)在公知的專利說明書等出版物上述載的那些。
作為其具體實(shí)例，例如可以舉出特開昭58-175693、同59-81194、同60-18387、同60-19586、同60-19587、同60-35054、同60-36190、同60-36191、同60-44554、同60-44555、同60-44389、同60-44390、同60-54892、同60-47069、同63-229995、特開平4-25492、特公平1-38680和同6-26028等號各公報(bào)，和德國專利350399號說明書以及日本化學(xué)會(huì)志1992年10月號第1141頁等上述載的物質(zhì)。
上述單態(tài)氧猝滅劑等褪色防止劑的用量，在色素記錄層全部固形分中一般為0.1～50重量％的范圍，優(yōu)選為0.5～45重量％的范圍，更優(yōu)選為3～40重量％的范圍，特別優(yōu)選為5～25重量％的范圍。
(阻擋層)為了提高與被覆層的密接性以及色素的保存性，也可以在形成了色素記錄層的表面上形成阻擋層。阻擋層還可以防止水份和有機(jī)成分向記錄層中擴(kuò)散。
作為構(gòu)成阻擋層的材料，只要是能透過激光光線的材料就無特別限制，但是優(yōu)選電介質(zhì)，例如可以舉出由Zn、Si、Ti、Te、Sm、Mo、Ge等的任意一個(gè)原子以上組成的氧化物、氮化物、碳化物、硫化物等。更具體講，可以使用ZnS、TiO2、SiO2、GeO2、Si3N4、Ge3N4、MgF2等。而且阻擋層也可以像ZnS-SiO2那樣混合。阻擋層可以采用濺射法、蒸鍍離子鍍法等方法形成，其厚度優(yōu)選制成1～100nm。
(透明片材或被覆層)構(gòu)成本發(fā)明第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)的透明片材(相當(dāng)于第二和第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法中使用的未記錄光信息記錄介質(zhì)的被覆層)，可以依靠粘結(jié)層或粘接層(使用粘結(jié)劑或粘接劑)在色素記錄層側(cè)的表面上形成。形成這種透明片材的目的是防止光信息記錄介質(zhì)內(nèi)部受到?jīng)_擊。
透明片材只要是透明材料就無特別限制，但是優(yōu)選聚碳酸酯、三乙酸纖維素等，更優(yōu)選23℃50％RH下吸水率5％以下的材料。其中所述的“透明”是指對于記錄光線和再生光線在透過這些光線(透過率90％以上)方面是透明的。
透明片材例如可以采用以下方法設(shè)置。將光固化性樹脂溶解在適當(dāng)溶劑中制成涂布液后，在預(yù)定溫度下將此涂布液涂布在阻擋層上形成涂布膜，在該涂布膜上層疊例如經(jīng)塑料擠壓加工得到的三乙酸纖維素膜(TAC膜)，從層疊的TAC膜上照射光線使涂布膜固化而成的。作為上述的TAC膜，優(yōu)選含有紫外線吸收劑的。透明片材的厚度一般為0.01～0.2毫米的范圍，優(yōu)選為0.03～0.1毫米的范圍，更優(yōu)選為0.05～0.095毫米的范圍。
而且可以使用聚碳酸酯片材材等作為透明片材。
為了控制粘度，涂布溫度優(yōu)選在23～50℃的范圍，更優(yōu)選在24～40℃的范圍，特別優(yōu)選在25～37℃的范圍。
為防止光盤彎曲，優(yōu)選使用脈沖型光線照射器(優(yōu)選UV照射器)對涂布膜進(jìn)行紫外線照射。脈沖間隔優(yōu)選為毫秒以下，更優(yōu)選為微秒以下。雖然對一個(gè)脈沖的照射量沒有特別限制，但是優(yōu)選為3kW/cm2以下，更優(yōu)選為2kW/cm2以下。
而且雖然比較射次數(shù)沒有特別限制，但是優(yōu)選20次以下，更優(yōu)選10次以下。
其中當(dāng)透明片材的粘合面上不涂布粘接劑的情況下，不需要上述粘接劑。
被覆層(相當(dāng)于上述透明片材，構(gòu)成第二和第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法中使用的未記錄的光信息記錄介質(zhì))，對于記錄和再生用的激光光線而言，優(yōu)選透過率為80％以上的，更優(yōu)選為90％以上的。而且被覆層的表面粗造度Ra優(yōu)選為5nm以下的樹脂片材材，作為所述的樹脂片材，可以舉出聚碳酸酯(帝人株式會(huì)社制造的ビユアエ-ス、帝人化成株式會(huì)社制造的バンライト)、三乙酸纖維素(富士膠卷株式會(huì)社制造的フジタツク)、PET(東レ株式會(huì)社制造的ルミラ-)，可以使用聚碳酸酯、三乙酸纖維素。此外被覆層的表面粗造度Ra取決于樹脂的種類、制膜方法和是否含有填料等。其中被覆層的表面粗造度Ra，例如可以采用WYKO株式會(huì)社制造的HD2000型儀器測定。
被覆層的厚度由為記錄再生照射用激光光線的波長和NA適當(dāng)確定，優(yōu)選為0.03～0.15mm的范圍，更優(yōu)選為0.05～0.12mm的范圍。而且被覆層與粘接層或粘著層的總厚度，優(yōu)選為0.09～0.11mm的范圍，更優(yōu)選為0.095～0.105mm的范圍。
形成被覆層時(shí)使用的粘結(jié)劑和粘接劑，由于具有柔軟性，所以記錄時(shí)在色素記錄層的記錄坑部分因產(chǎn)生的熱量而形成空隙，此時(shí)具有層本身變形不妨礙空隙形成的功能。
本文用圖2說明關(guān)于空隙(坑)的形成與粘接層和粘著層的變形之間的關(guān)系。其中圖2是將形成了空隙狀態(tài)下的光信息記錄介質(zhì)沿軸向切斷時(shí)要部的斷面示意圖。圖2所示的光信息記錄介質(zhì)，設(shè)計(jì)成在基板10上依次備有光反射層20、色素記錄層30、阻擋層40和粘接層(或粘著層)50，而且在粘接層50上還設(shè)有圖中未示出的被覆層的。
對于圖2所示結(jié)構(gòu)的光信息記錄介質(zhì)，一旦對色素記錄層中的信號坑部分照射激光光線，雖然剛性強(qiáng)的基板10和光反射層20的形狀不產(chǎn)生變化，但是形成了空隙60區(qū)域(記錄坑部分)的色素記錄層30卻將阻擋層40向圖2的下方壓出，使柔軟性強(qiáng)的粘接層50產(chǎn)生凹狀變形。因此，借助于粘接層(或粘著層)具有不妨礙形成空隙的功能，可以形成良好的坑，使記錄再生特性穩(wěn)定。
為了使粘接層具有一定以上的柔軟性，作為粘結(jié)層用的粘結(jié)劑優(yōu)選玻璃轉(zhuǎn)變點(diǎn)(Tg)80℃以下的，更優(yōu)選30℃以下的，最好是0℃以下的。其中所述的粘結(jié)劑的玻璃轉(zhuǎn)變點(diǎn)是指固化后粘結(jié)劑的玻璃轉(zhuǎn)變溫度。
而且為了使粘接層具有一定以上的柔軟性，粘結(jié)層用的粘結(jié)劑優(yōu)選通過調(diào)整玻璃轉(zhuǎn)變點(diǎn)(Tg)和交聯(lián)密度，來控制粘接層的硬度。
另外，除這些粘結(jié)劑和粘接劑以外，若需要使之具有吸附被覆層的功能，當(dāng)然也可以使用彈性體。
作為所述的粘結(jié)劑，例如優(yōu)選使用UV固化樹脂、EB固化樹脂和熱固化樹脂等，特別優(yōu)選使用UV固化樹脂。
設(shè)置粘接層的方法沒有特別限制，例如在色素記錄層側(cè)表面上定量涂布粘結(jié)劑并將被覆層粘合后，利用旋涂法使粘結(jié)劑在層疊體與被覆層之間均一擴(kuò)展，使之固化。
調(diào)整涂布的粘結(jié)劑量，使最終形成的粘接層的厚度為0.1～100微米的范圍，優(yōu)選為0.5～50微米的范圍，更優(yōu)選為10～30微米的范圍。
粘結(jié)劑使用UV固化性樹脂的情況下，直接將該UV固化性樹脂，或者將其溶解在甲基乙基酮、乙酸乙酯等適當(dāng)溶劑中制成涂布液后，利用分配器供給層疊體表面上或被覆層上。而且為了防止制成的光信息記錄介質(zhì)彎曲，使用的UV固化性樹脂優(yōu)選使用固化收縮率小的。作為這種UV固化性樹脂，例如可以舉出大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造的“SD-640”等UV固化性樹脂。
作為上述粘結(jié)劑，可以使用丙烯系、橡膠系、硅酮系粘結(jié)劑，從透明性和耐久性觀點(diǎn)來看，優(yōu)選丙烯系粘結(jié)劑。作為這種丙烯系粘結(jié)劑，優(yōu)選使用以2-乙基己基丙烯酸酯、丙烯酸正丁酯等作為主要成分，以提高凝聚力用的短鏈烷基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯，以及能夠形成交聯(lián)劑的交聯(lián)點(diǎn)的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺衍生物、馬來酸、羥基乙基丙烯酸酯、縮水甘油基丙烯酸酯等作為共聚成分形成的物質(zhì)。通過調(diào)節(jié)主要成分、短鏈成分和附加交聯(lián)點(diǎn)用成分之間的混合比和種類，能夠改變玻璃轉(zhuǎn)變點(diǎn)(Tg)和交聯(lián)密度。
作為與上述粘結(jié)劑并用的交聯(lián)劑，例如可以舉出異氰酸酯系交聯(lián)劑。這種異氰酸酯系交聯(lián)劑，可以使用甲苯撐二異氰酸酯、4，4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、亞己基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、萘-1，5-二異氰酸酯、鄰甲苯胺異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、三苯甲烷三異氰酸酯等異氰酸酯類，以及這些異氰酸酯與多元醇的生成物，和由異氰酸酯類縮合而成的聚異氰酸酯類。作為這些異氰酸酯類的市售商品，可以舉出日本聚氨酯株式會(huì)社制造的COLONAT(コロネ-ト L、コロネ-ト)HL、COLONAT 2030、COLONAT 2031、MILIONAT(ミリオネ-ト)MR、MILIONAT HTL，武田藥品株式會(huì)社制造的TAKENAT(タケネ-ト)D-102、TAKENAT D-110N、TAKENAT D-200、TAKENAT D-202，住友Bayer株式會(huì)社制造的DESMODULE(デスモジユ-ル)L、DESMODULE IL、DESMODULE N、DESMODULE HL等。
粘結(jié)劑，既可以將其以預(yù)定量均勻涂布在色素記錄層側(cè)的表面上，將被覆層粘合后使之固化，也可以以預(yù)定量涂布在與被覆層的色素記錄層側(cè)接觸的面上，將其粘合在園盤型層疊體的色素記錄層側(cè)表面上后使之固化。
而且被覆層也可以使用預(yù)先設(shè)有粘接層的市售的粘結(jié)膜。
(其他層)本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)上，除上述的選擇性層之外，還可以設(shè)置各種中間層。例如還可以在光反射層與色素記錄層之間設(shè)置提高反射率和密接性用的中間層。
<光信息記錄方法>
以下說明本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)上信息的記錄方法和記錄信息的再生方法。
(1)第一點(diǎn)所述的光信息記錄介質(zhì)上信息的記錄，例如可以進(jìn)行如下。
首先一邊使光信息記錄介質(zhì)以一定線速度旋轉(zhuǎn)，一邊從透明片材側(cè)照射記錄用的500nm以下(優(yōu)選400～440nm)的激光光線。通過激光光線的照射，記錄層吸收所述的光線后局部溫度上升，產(chǎn)生物理或化學(xué)變化(例如形成坑)，使其光學(xué)特性產(chǎn)生變化。利用這種光學(xué)特性的變化記錄信息。
作為具有500nm以下諧振波長的激光光源，例如可以舉出具有390～415nm的范圍諧振波長的藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光器和中線諧振波長約430nm的藍(lán)紫色SHG激光器。
而且為了提高記錄密度，拾音用的對物鏡開口率(NA)優(yōu)選0.7以上，更優(yōu)選0.80以上。
另一方面被記錄信息的再生，可以采用以下方式進(jìn)行，即一邊使光信息記錄介質(zhì)以與上述同一線速度旋轉(zhuǎn)，一邊從透明片材側(cè)照射具有與信息記錄用激光同一波長或者波長更短的激光光線，檢出其反射光線。
(2)本發(fā)明第二點(diǎn)所述的光信息記錄方法，是從被覆層側(cè)對上述的未記錄的光信息記錄介質(zhì)照射激光光線，通過使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于調(diào)整上述激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙寬度為50～250nm的范圍。這種空隙的寬度，其下限值優(yōu)選為100nm以上，更優(yōu)選為150nm以上。而且其上限值優(yōu)選為230nm以下，更優(yōu)選為220nm以下。
這里所述的“空隙的寬度”是指在紋道寬度方向上空隙寬度的最大值(平均值)。這種空隙可以呈球狀或空豆?fàn)?。所謂這種空隙的最大值是指紋道寬度方向上空隙擴(kuò)展得最寬的部分。
作為測定方法，首先以色素記錄層為界將被覆層從記錄后的光信息記錄介質(zhì)上面剝離。由此，色素記錄層就被分成在基板側(cè)殘留的部分和附著在被覆層側(cè)的部分。然后用電子顯微鏡觀察在該基板側(cè)殘留的色素記錄層上形成的空隙，測定本發(fā)明中空隙寬度的最大值。為了求出這種最大值的平均值，優(yōu)選測定10～1000個(gè)在同一條件下形成的空隙，更優(yōu)選測定50～200個(gè)左右。
(3)本發(fā)明第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法，是從被覆層側(cè)對上述的未記錄的光信息記錄介質(zhì)照射激光光線，通過使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于調(diào)整上述激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙高度在所述的色素記錄層的厚度中所占的比例為20～95％的范圍。這種空隙高度所占的比例，其下限值優(yōu)選為40％以上，更優(yōu)選為60％以上。而且其上限值優(yōu)選為90％以下，更優(yōu)選為85％以下。
這里所述的本發(fā)明中“空隙高度所占的比例”，是指同方向上空隙高度的最大值相對于色素記錄層的厚度所占的比例。所謂這種空隙高度的最大值是指，空隙在色素記錄層的厚度方向上最寬部分的值。更具體講是指，如圖2所示，相對于空隙60形成部分(信號坑部分)的色素記錄層的厚度(包含空隙60)T30而言，是指空隙60的高度最大值T60所示的比例。
作為空隙高度最大值的測定方法，可以采用用FIB(Forced IonBeam)切開形成有空隙的色素記錄層的斷面(光信息記錄介質(zhì)的軸向斷面)后，用電子顯微鏡觀察測定的方法。這種方法中，由于不必將空隙最寬的部分切斷，所以根據(jù)預(yù)定個(gè)數(shù)(例如10～1000個(gè)左右，優(yōu)選50～200個(gè)左右)切斷同條件下形成的空隙后，可以求出空隙最寬的部分(空隙高度的最大值)。然后用相同斷面測定色素記錄層厚度(包含空隙)，進(jìn)而計(jì)算出空隙高度在該色素記錄層的厚度中所占的比例。
本發(fā)明的第二和第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法，例如可以具體進(jìn)行如下。首先使未記錄的光信息記錄介質(zhì)一邊以預(yù)定線速度(2～6米/秒)或以預(yù)定角速度旋轉(zhuǎn)，一邊通過對物鏡從被覆層側(cè)照射藍(lán)紫色激光光線(例如波長405nm)等記錄用光線。通過這種照射光線，色素記錄層吸收該光線后局部溫度上升，形成所需的空隙(坑)，使其光學(xué)特性發(fā)生變化，以此方式記錄信息。
作為激光光源，例如可以舉出具有390～415nm的范圍諧振波長的藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光器、中心諧振波長約425nm的藍(lán)紫色SHG激光器等。而且通過將激光的脈沖寬度和功率中至少一個(gè)輸出條件調(diào)整得以下那樣，能夠形成上述的空隙。
激光光線的記錄波形，在一個(gè)坑形成之際既可以是一列脈沖也可以是一個(gè)脈沖。重要的是相對于要實(shí)際記錄長度(坑的長度)的比例。
作為激光光線的脈沖寬度，相對于要實(shí)際記錄的長度而言優(yōu)選為20～95％的范圍，更優(yōu)選為30～90％的范圍，特別優(yōu)選為35～85％的范圍。其中當(dāng)記錄波形為脈沖列的情況下，是指其和為上述的范圍。
脈沖寬度一旦大于95％，形成的坑(空隙)就會(huì)過大，目的再生脈沖的寬度就變得過長。而且還往往招致跳動(dòng)惡化。
而且脈沖寬度一旦小于20％，形成的坑(空隙)就會(huì)過小，目的再生脈沖的寬度就變得過短。而且也往往招致跳動(dòng)惡化。
其中長脈沖調(diào)制記錄的情況下，脈沖寬度的比例將隨實(shí)際要記錄的長度而變化。為了進(jìn)行良好的記錄(坑的形成)，優(yōu)選使至少一部分脈沖寬度的比例為上述的范圍。
激光光線的功率因記錄的線速度而異，當(dāng)線速度為5±0.5米/秒的情況下，優(yōu)選為2～12毫瓦的范圍，更優(yōu)選為3～10毫瓦的范圍，特別優(yōu)選為4～8毫瓦的范圍。而且當(dāng)線速度達(dá)到二倍的情況下，激光光線功率的優(yōu)選的范圍將變成各自的21/2倍。
功率一旦大于12毫瓦，形成的坑(空隙)就會(huì)過大，往往招致串音和跳動(dòng)增大。
而且功率一旦小于2毫瓦，或者不能得到充分的再生信號振幅，或者往往招致跳動(dòng)增大。
此外，作為激光光線的其他條件的邊緣強(qiáng)度(rim intensity)，其下限值優(yōu)選為40％以上，更優(yōu)選為50％以上。而且邊緣強(qiáng)度的上限值優(yōu)選為80％以下，更優(yōu)選為70％以下。這種邊緣強(qiáng)度一旦小于40％，往往招致跳動(dòng)增大，反之邊緣強(qiáng)度一旦大于80％，則激光功率往往不足。
而且為了提高記錄密度，拾音用物鏡的NA優(yōu)選為0.7以上，更優(yōu)選為0.85以上。
利用本發(fā)明的第二和第三點(diǎn)所述的光信息記錄方法這樣記錄的光信息記錄介質(zhì)，能夠形成良好的空隙(坑)，其記錄再生特性優(yōu)良，而且也很穩(wěn)定。
根據(jù)本發(fā)明的光信息記錄方法記錄的光信息記錄介質(zhì)(本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì))，一邊以預(yù)定的一定線速度使之旋轉(zhuǎn)，一邊從被覆層側(cè)照射藍(lán)紫色激光光線，通過檢出其反射光線，能夠進(jìn)行信息的再生。


圖1是說明基板上溝槽形狀用的部分?jǐn)嗝鎴D。
圖2是將形成了空隙狀態(tài)下的光信息記錄介質(zhì)沿軸向切斷時(shí)的要部的斷面示意圖。
實(shí)施例以下利用實(shí)施例更詳細(xì)說明本發(fā)明，但是本發(fā)明不受這些實(shí)施例的所絲毫限制。
(實(shí)施例1)在Ar氣氛中，利用直流濺射法(Unaxis公司制造的Cube)在用注塑成形法制作的聚碳酸酯基板的具有紋道的表面上，形成了由Ag構(gòu)成的反射層(厚度100納米)。其中利用濺射時(shí)間調(diào)整了膜厚。
上述基板具有厚度1.1毫米、外徑120毫米、內(nèi)徑15毫米內(nèi)螺旋狀紋道(溝槽深度(面紋道高度)34納米、寬度(面紋道寬度)105納米、紋道間距320納米)。而且利用AFM測定了溝槽的傾斜角度為57度。
將下述化學(xué)式表示的2克色素(式中的Rn表示α-SO2C4H9，M表示Cu)添加在100毫升2，2，3，3-四氯丙醇中溶解，制成色素涂布液。用旋涂法一邊使轉(zhuǎn)速在300～4000轉(zhuǎn)/分鐘的范圍變化，一邊在23℃和50％RH條件下將制成的色素涂布液涂布在反射層上。然后在23℃和50％RH條件下保存1小時(shí)，形成了記錄層(溝槽內(nèi)(內(nèi)紋道部分)厚度140納米，紋間部分(面紋道部分)的厚度110納米)。
形成記錄層后，在干凈的爐(clean-oven)中實(shí)施退火處理。退火處理是將基板在垂直硬紙板垛(スタツクボ—ル)上用隔板支持隔開，于80℃溫度下保持1小時(shí)的方式進(jìn)行的。
然后利用RF濺射法在記錄層上形成由ZnS/SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(重量比))組成的阻擋層(厚度5nm)。阻擋層的形成條件如下。
功率4千瓦壓力2×10-2hPa時(shí)間2秒鐘將粘合面附有粘接劑的聚碳酸酯制表面片材，粘合在層疊體的阻擋層上，制成了光信息記錄介質(zhì)。
由制成的光信息記錄介質(zhì)透明片材(透明片材)與粘接劑形成的層的厚度總計(jì)約100微米。
(比較例1)除了將基板上形成的紋道溝槽寬度(面紋道的寬度)定為165納米以外，與實(shí)施例1同樣制成了光信息記錄介質(zhì)。
為了評價(jià)實(shí)施例1和比較例1制成的光信息記錄介質(zhì)的記錄再生特性，測定了多紋道的跳動(dòng)。跳動(dòng)測定中的記錄和再生，使用了DDU1000(Pulse tech工業(yè)株式會(huì)社制造，NA0.85，波長430nm)，信號使用了MSG2(Pulsetech工業(yè)株式會(huì)社制造)。而且時(shí)鐘脈沖頻率數(shù)為66MHz，線速度為5.4m/s，再生功率為0.4mW。
實(shí)施例1的光信息記錄介質(zhì)的跳動(dòng)為9.9％，而與此相比，比較例1的光信息記錄介質(zhì)為11％。
(實(shí)施例2)<光信息記錄介質(zhì)的制造>
在Ar氣氛中，利用直流濺射法在厚度1.1毫米、外徑120毫米、內(nèi)徑15毫米內(nèi)具有螺旋狀紋道(溝槽深度40納米、寬度150納米、紋道間距340納米)的由注塑成形聚碳酸酯樹脂(パンライトAD5503，帝人株式會(huì)社制造)構(gòu)成的基板的具有紋道的面上，形成了由AgPdDu合金構(gòu)成的光反射層(厚度120納米)。
將由下述化學(xué)式表示的2.5克色素A(n＝1.88，k＝0.042)添加在100毫升2，2，3，3-四氯丙醇中溶解，制成色素涂布液。用旋涂法一邊使轉(zhuǎn)速在300～4000轉(zhuǎn)/分鐘的范圍變化，一邊在23℃和50％RH條件下將制成的色素涂布液涂布在光反射層上。然后在23℃和50％RH條件下保存1小時(shí)，形成了色素記錄層(溝槽內(nèi)(內(nèi)紋道部分)厚度120納米，面紋道厚度100納米)。
其中內(nèi)紋道和面紋道的厚度，是將色素涂布液涂布后，用FIB切斷斷面，利用SEM(加速電壓1kV、5萬倍、70度傾斜觀察)觀察斷面形狀的方法測定的。
形成色素記錄層后，在凈爐中于80℃溫度下實(shí)施了1小時(shí)退火處理。
然后利用RF濺射法在記錄層上形成由ZnS-SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(重量比))組成的阻擋層(厚度5nm)。制成了層疊體。
進(jìn)而用粘接劑將聚碳酸酯構(gòu)成的被覆層(PAIS，帝人株式會(huì)社制造，厚度80微米)粘合在形成的阻擋層上，制成了實(shí)施例2的光信息記錄介質(zhì)。此時(shí)粘著層的厚度為20微米，阻擋層與粘著層的總厚度為100微米。
<光信息記錄介質(zhì)的記錄以及記錄特性的評價(jià)(跳動(dòng)的測定)>
利用載有405nm激光器、NA0.85的拾音器的記錄再生評價(jià)機(jī)(Pulsetech工業(yè)株式會(huì)社制造DDU1000型)，借助于時(shí)鐘脈沖頻率數(shù)為66MHz，線速度為5.2m/s，對制成的光信息記錄介質(zhì)記錄了隨機(jī)信號(4T信號)，利用TIA(時(shí)間間隔分析儀)測定了跳動(dòng)。結(jié)果示于表1之中。使用的激光光線的脈沖寬度和功率也一起記載在表1之中。其中脈沖寬度(％)表示要記錄4T信號時(shí)脈沖寬度的比例。
而且表1記載的空隙寬度和空隙高度，是用上述測定方法觀察、測定和計(jì)算出的。
表1

(實(shí)施例3和4，比較例2和3)除了對采用與實(shí)施例2相同方法制成的未記錄的光信息記錄介質(zhì)，根據(jù)表1記載的激光光線的脈沖寬度和功率記錄隨機(jī)信號之外，采用與實(shí)施例2同樣的光信息記錄方法進(jìn)行了信息的記錄。而且此時(shí)與實(shí)施例2同樣進(jìn)行了跳動(dòng)的測定。測定結(jié)果一并記載在表1之中。
表1的結(jié)果說明，對于比較例2和3中光信息記錄介質(zhì)的跳動(dòng)不能測定，與此相比，利用本發(fā)明的光信息記錄方法記錄的實(shí)施例2～4中的光信息記錄介質(zhì)，跳動(dòng)被壓低，具有良好的穩(wěn)定的記錄再生特性。
綜上所述，本發(fā)明可以提供一種能夠高密度記錄、具有高記錄特性(良好的跳動(dòng)特性)的光信息記錄介質(zhì)。此外，本發(fā)明還能提供一種可以賦予穩(wěn)定記錄再生特性的光信息記錄方法，以及利用該記錄方法記錄的光信息記錄介質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種光信息記錄介質(zhì)，所述的光信息記錄介質(zhì)是在形成了面紋道和內(nèi)紋道的基板上形成含有色素的記錄層，在該記錄層上設(shè)有透明片材的光信息記錄介質(zhì)，其特征在于通過從所述的透明片材側(cè)照射激光光線進(jìn)行信息的記錄和再生，所述的面紋道寬度為50～140nm，在所述的透明片材與所述的記錄層之間形成阻擋層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)，其特征在于所述的面紋道高度為20～50nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)，其中所述的記錄層含有從花青色素、氧雜菁色素、金屬配位化合物色素、偶氮色素和酞青色素中選出的色素。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)，其中所述的阻擋層含有從ZnS、TiO2、SiO2、ZnS-SiO2、GeO2、Si3N4、Ge3N4和MgN2中選出的至少一種物質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光信息記錄介質(zhì)，其中所述的透明片材由聚碳酸酯或三乙酸纖維素構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)，其中所述的透明片材的層厚為0.01～0.2毫米。
7.一種光信息記錄方法，是對利用粘接層或粘著層在基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上設(shè)置被覆層的光信息記錄介質(zhì)，從所述的被覆層側(cè)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙，以此進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于調(diào)整所述的激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙寬度為50～250nm的范圍。
8.一種光信息記錄介質(zhì)，其特征在于是根據(jù)權(quán)利要求7所述的光信息記錄方法記錄的。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光信息記錄方法，其中所述的色素記錄層含有從花青色素、氧雜菁色素、金屬配位化合物色素、偶氮色素和酞青色素中選出的色素。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光信息記錄方法，其中所述的色素記錄層的層厚為20～500nm的范圍。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光信息記錄方法，其中所述的被覆層是表面粗造度Ra為5nm以下的樹脂片材。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光信息記錄方法，其中所述的樹脂片材是聚碳酸酯或三乙酸纖維素。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光信息記錄方法，其中所述的被覆層的層厚為0.03～0.15毫米的范圍。
14.一種光信息記錄方法，是對利用粘接層或粘著層在基板上設(shè)有色素記錄層側(cè)的表面上設(shè)置被覆層的光信息記錄介質(zhì)，從所述的被覆層側(cè)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分形成空隙，以進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，其特征在于調(diào)整所述的激光光線的脈沖寬度和/或功率，使所述的空隙高度在所述的色素記錄層厚度中所占的比例為20～95％的范圍。
15.一種光信息記錄介質(zhì)，其特征在于是根據(jù)權(quán)利要求14所述的光信息記錄方法記錄的。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光信息記錄方法，其中所述的色素記錄層含有從花青色素、氧雜菁色素、金屬配位化合物色素、偶氮色素和酞青色素中選出的色素。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光信息記錄方法，其中所述的色素記錄層的層厚為20～500nm的范圍。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光信息記錄方法，其中所述的被覆層是表面粗造度Ra為5nm以下的樹脂片材。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光信息記錄方法，其中所述的樹脂片材是聚碳酸酯或三乙酸纖維素。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光信息記錄方法，其中所述的被覆層的層厚為0.03～0.15毫米的范圍。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光信息記錄介質(zhì)，是在形成了面紋道和內(nèi)紋道的基板上設(shè)置含有色素的記錄層和透明片材的光信息記錄介質(zhì)，其特征在于上述面紋道寬度為50～140nm，在上述透明片材與上述記錄層之間形成有阻擋層。本發(fā)明還提供一種通過從所述的透明片材側(cè)，對基板上設(shè)置了色素記錄層側(cè)的表面上設(shè)置的被覆層的光信息記錄介質(zhì)照射激光光線，使該色素記錄層中的信號坑部分上形成空隙，以此進(jìn)行記錄的光信息記錄方法，以及通過該光信息記錄方法記錄的光信息記錄介質(zhì)。
文檔編號G11B7/125GK1519834SQ200310123708
公開日2004年8月11日 申請日期2003年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月19日
發(fā)明者宇佐美由久, 男, 角田毅, 石田壽男 申請人:富士膠片株式會(huì)社