專利名稱：光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光盤。
背景技術(shù)：
最近已經(jīng)發(fā)展了具有多種結(jié)構(gòu)的光盤以提高它們的記錄密度。目前使用的高密度光盤包括DVD-R、DVD-RAM等。
圖1和2給出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的高密度光盤的示意圖。根據(jù)圖1和2所示，光盤包括厚度為1.2mm、直徑為120mm的基片20以及在基片20中心部所形成的通孔。
在這種情況下，基片20的外圍具有記錄層10，基片20的中心部沒有該記錄層10而是具有一個通孔。
該通孔的直徑大約為15mm，中心部的直徑大約為44mm。
該記錄層10形成在距離基片20的光入射表面大約0.1mm的位置處。
而且，在該記錄層10上形成有保護層30，以保護該記錄層10。該保護層30的形成是通過在該記錄層10上粘貼例如聚碳酸酯薄片的透明塑料膜，或者在記錄層10上旋涂UV-硬化樹脂而實現(xiàn)的。
下面解釋保護層30的旋涂法。
首先，將液態(tài)的UV-硬化樹脂滴到與光盤中心部相鄰的記錄層上。然后，旋轉(zhuǎn)基片，以使得UV-硬化樹脂在離心力的作用下從中心部到外圍涂于光盤上。最后，用UV線使得涂于光盤上的UV-硬化樹脂硬化。
然而，如圖3所示，旋涂法不能夠使UV-硬化樹脂均勻地形成于記錄層10之上。也就是說，記錄層10上形成的UV-硬化樹脂的厚度沿著從光盤中心部到其外圍的方向是逐漸增厚的。
因此，保護層30的厚度差異帶來的問題就是不能在記錄層10上記錄信息或從記錄層10讀取信息。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明涉及一種光盤，其基本上能消除由于現(xiàn)有技術(shù)的局限和缺點所造成的一個或多個問題。
本發(fā)明的一個目的就是提供一種光盤，它上面能形成具有均勻厚度的保護層。
本發(fā)明的另一目的是提供一種能使其制作過程變得容易的光盤。
本發(fā)明的另一目的是提供一種能保護光盤表面的光盤。
本發(fā)明的其它優(yōu)點、目的和特征將在下面的描述中進行部分地闡明，并通過下面的實例使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能進一步了解，或者可以通過本發(fā)明的實踐理解。本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點將通過文字描述、權(quán)利要求以及附圖所具體給出的結(jié)構(gòu)來理解和達到。
為了實現(xiàn)這里所具體和廣泛描述的這些和其它優(yōu)點，并根據(jù)本發(fā)明的目的，本發(fā)明提供了一種光盤，其包括具有第一區(qū)和第二區(qū)的基片以及基片的第二區(qū)上的凸起，該第一區(qū)上能記錄信息，該第二區(qū)上不能記錄信息。
優(yōu)選的是，該凸起具有至少一個傾斜的側(cè)邊。
更優(yōu)選的是，該凸起的側(cè)邊傾角為90～160°。
優(yōu)選的是，該凸起形成于第二區(qū)的整個表面上或第二區(qū)的一部分上。
優(yōu)選的是，該凸起的一個表面高于基片的第一區(qū)的表面。
優(yōu)選的是，該凸起的高度為0.1～0.6mm。
優(yōu)選的是，基片的第一區(qū)包括基片上的記錄層，用于在其上記錄信息；以及記錄層上的保護層，用于保護記錄層。
優(yōu)選的是，第一區(qū)和第二區(qū)分別位于基片的外圍部和中心部。
可以理解的是，對于本發(fā)明，前面所作的一般描述和下面要作的具體描述都是示例性和解釋性的，用來提供對權(quán)利要求的進一步解釋。


下面參照附圖來對本發(fā)明的目的和優(yōu)點進行進一步詳細描述，以使其得以更充分地被理解。附圖中圖1和圖2所示的是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的高密度光盤的示圖；圖3所示的是采用旋涂法所形成的保護層厚度的示圖；圖4至6所示的是根據(jù)本發(fā)明實施例的光盤的橫截面圖；圖7A和7B所示的是根據(jù)本發(fā)明的光盤保護層的形成過程的橫截面圖；以及圖8所示的是利用根據(jù)本發(fā)明光盤的凸起來保護光盤表面的圖示。
具體實施例方式
下面具體說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，這些實施方式的例子顯示在附圖中。所有附圖中對于同樣或類似的部分采用同樣的附圖標記表示。
圖4至6所示的是根據(jù)本發(fā)明實施例的光盤的橫截面圖。
根據(jù)圖4至6所示，根據(jù)本發(fā)明的光盤包括基片40，其具有第一區(qū)和第二區(qū)，第一區(qū)上能記錄信息，第二區(qū)上不能記錄信息；以及形成在基片40的第二區(qū)上的凸起70。
在這種情況下，第一區(qū)和第二區(qū)分別位于基片40的外圍部和中心部。
此外，基片40的中心部80設(shè)有通孔。
而且，基片40的外圍部包括形成于基片上的記錄層50，用于在其上記錄信息；以及形成于記錄層50上的保護層60，用于保護記錄層50。
該凸起70可以形成于中心部80的整個表面上，如圖4所示，或者形成于中心部80與外圍部之間的邊界上，如圖5所示，或者形成于中心部80的一部分上，如圖6所示。
在這種情況下，該凸起70形成得具有至少一個傾斜的側(cè)邊。
該凸起70的側(cè)邊傾角優(yōu)選為大約90～160°。
在這種情況下，凸起70的側(cè)邊傾角表示從記錄層10的表面到凸起70側(cè)邊的角度。
而且，該凸起70的上表面高于保護層60的上表面。
如果光盤的厚度為1.2mm，直徑為120mm，其通孔的直徑約為15mm，中心部的直徑約為44mm，則凸起70的高度優(yōu)選為大約0.1～0.6mm。
下面對用于在具有凸起70的光盤上形成保護層60的旋涂法進行說明。
圖7A和7B所示的是根據(jù)本發(fā)明的光盤的保護層的形成過程的橫截面圖。
根據(jù)圖7A所示，將液化的UV-硬化樹脂滴到凸起70一側(cè)的記錄層50上，以用于在其上形成保護層60。
根據(jù)圖7B所示，一旦基片進行旋轉(zhuǎn)，離心力就使得UV-硬化樹脂從光盤中心部到邊緣涂于光盤上。然后，用UV線使得涂覆的UV-硬化樹脂硬化。
當(dāng)對UV-硬化樹脂施加旋涂法時，具有傾斜側(cè)邊的凸起70能防止液態(tài)UV-硬化樹脂流入基片的中心部。
而且，凸起70維持正在旋涂的液化UV-硬化樹脂進行均勻流動，從而能形成厚度均勻的保護層60。
在基片注塑時，凸起70保證了樹脂有寬的注入口，從而使得高密度注塑變得容易。
最后，如圖8所示，凸起70防止基片的保護層60直接接觸地面，從而能防止玷污或擦傷保護層60的表面。
工業(yè)應(yīng)用本發(fā)明提供一種其上面能形成均勻厚度的保護層的光盤，還提供一種能使制作過程更容易的光盤。
對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見，可以對本發(fā)明進行各種修改和改變。因此，那些落入本發(fā)明權(quán)利要求范圍內(nèi)的所有改變或修改或者該范圍內(nèi)的等同物都應(yīng)該被本發(fā)明所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種光盤，包括具有第一區(qū)和第二區(qū)的基片，該第一區(qū)上能記錄信息，該第二區(qū)上不能記錄信息；以及基片的第二區(qū)上的凸起。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述凸起具有至少一個傾斜的側(cè)邊。
3.如權(quán)利要求2所述的光盤，其中所述凸起的側(cè)邊傾角為90～160°。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述凸起形成于第二區(qū)的整個表面上或第二區(qū)的一部分上。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述凸起的上表面高于基片的第一區(qū)的上表面。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述凸起的高度為0.1～0.6mm。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤，所述基片的第一區(qū)包括基片上的記錄層，用于在其上記錄信息；以及記錄層上的保護層，用于保護該記錄層。
8.如權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述第一區(qū)和第二區(qū)分別位于基片的外圍部和中心部。
全文摘要
公開一種光盤。本發(fā)明包括具有第一區(qū)和第二區(qū)的基片以及形成于基片的第二區(qū)上的凸起，該第一區(qū)上能記錄信息，該第二區(qū)上不能記錄信息。因此，本發(fā)明能夠在其上形成具有均勻厚度的保護層。
文檔編號G11B7/24GK1682288SQ03821153
公開日2005年10月12日 申請日期2003年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月10日
發(fā)明者徐勛, 金真弘, 李承遠, 李俊碩, 樸景燦 申請人:Lg電子株式會社