專利名稱：通過監(jiān)視子光束來控制主光束的激光功率的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光盤記錄方法和一種該方法中使用的設(shè)備，其中，在形成凹坑周期，激光功率可被控制到獲得令人滿意的記錄狀態(tài)的最優(yōu)值。
在按照主光束的反射光接收信號來控制激光功率的方法中，需要在主光束的反射光接收信號表現(xiàn)出穩(wěn)定電平的周期中采樣主光束的反射光接收信號。但是，高速記錄導(dǎo)致主光束的反射光接收信號表現(xiàn)出的穩(wěn)定電平的時(shí)間較短，從而很難控制主光束的反射光接收信號的采樣定時(shí)。
本發(fā)明的方法用于沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上。本發(fā)明的方法包括以下步驟產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑；將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；在主光束形成凹坑的時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第一返回信號電平；在非形成凹坑的另一時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第二返回信號電平；和按照子光束的第一返回信號電平和第二返回信號電平，在信息記錄周期中實(shí)時(shí)控制主光束的功率。
有利之處在于，控制步驟包括從第一返回信號電平中減去第二返回信號電平，以獲得差值；比較該差值和預(yù)定基準(zhǔn)值，得到比較結(jié)果；以及按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
另一有利之處在于，本發(fā)明的方法包括以下步驟預(yù)先將主光束照射到光盤的測試區(qū)域，以確定主光束的最優(yōu)功率；和預(yù)先確定與最優(yōu)功率相對應(yīng)的基準(zhǔn)值，以致將主光束的功率控制到跟隨最優(yōu)功率。
本發(fā)明的設(shè)備用于沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式來將信息記錄在光盤中。本發(fā)明的設(shè)備包括光頭，產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；第一采樣和保持電路，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第一返回信號電平；第二采樣和保持電路，采樣和保持在非形成凹坑的另一時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第二返回信號電平；減法電路，從第一采樣和保持電路采樣和保持的第一返回信號電平中減去第二采樣和保持電路采樣和保持的第二返回信號電平，以獲得差值；比較電路，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，獲得比較結(jié)果；控制電路，按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
本發(fā)明的另一設(shè)備用于沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式來將信息記錄在光盤中。本發(fā)明的設(shè)備包括光頭，產(chǎn)生主光束和一對在先和后續(xù)子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和在先的和后續(xù)的子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述在先和后續(xù)的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，將在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之前的近旁區(qū)域，以及將后續(xù)的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之后的近旁區(qū)域；主光接收單元，包括在光頭中，并且被分成四段，用于接收從目標(biāo)區(qū)域反射回的主光束并且從四段中輸出四個(gè)輸出信號；在先光接收單元，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的在先子光束并從兩段中輸出兩個(gè)輸出信號；后續(xù)光接收單元，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域返回的后續(xù)子光束并從兩段中輸出兩個(gè)輸出信號；跟蹤控制電路，按照來自主光接收單元和在先光接收單元以及后續(xù)光接收單元的輸出信號執(zhí)行推挽差分跟蹤控制，用于沿著光盤的軌跡跟蹤主光束；聚焦控制電路，按照來自主光接收單元的輸出信號執(zhí)行聚焦控制，用于相對于目標(biāo)區(qū)域聚焦主光束；求和電路，將從先光接收單元或者后續(xù)光接收單元的兩段中輸送的兩個(gè)輸出信號彼此相加，以得到和值；第一采樣和保持電路，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻從求和電路輸出的第一和值；第二采樣和保持電路，采樣和保持在主光束非形成凹坑的另一時(shí)刻從求和電路輸出的第二和值；相減電路，從第一和值中減去第二和值，獲得差值；比較電路，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，以獲得比較結(jié)果；和控制電路，按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
本發(fā)明的另一設(shè)備是一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括發(fā)生裝置，用于產(chǎn)生主光束和一對在先和后續(xù)子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束與在先的和后續(xù)的子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述在先和后續(xù)的子光束具有不足以形成凹坑的功率；主照射裝置，用于沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑；子照射裝置，用于將子光束照射在主光束未照射到但是在毗鄰主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域的近旁區(qū)域；第一檢測裝置，用于在主光束形成凹坑的時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第一返回信號電平；第二檢測裝置，用于在非形成凹坑的另一時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第二返回信號電平；和控制裝置，用于按照子光束的第一返回信號電平和第二返回信號電平，在信息記錄周期中實(shí)時(shí)控制主光束的功率。
本發(fā)明的又一設(shè)備是一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括光頭裝置，產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭裝置沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；第一采樣和保持裝置，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第一返回信號電平；第二采樣和保持裝置，采樣和保持在非形成凹坑的另一時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第二返回信號電平；減法裝置，從第一采樣和保持電路采樣和保持的第一返回信號電平中減去第二采樣和保持電路采樣和保持的第二返回信號電平，以獲得差值；比較裝置，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，獲得比較結(jié)果；和控制裝置，按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
本發(fā)明也是一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括光頭裝置，產(chǎn)生主光束和一對在先和后續(xù)子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束與在先的和后續(xù)的子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述在先和后續(xù)的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭裝置沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之前的近旁區(qū)域，以及將后續(xù)的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之后的近旁區(qū)域；主光接收裝置，包括在光頭中，并且被分成四段，用于接收從目標(biāo)區(qū)域反射回的主光束并且從四段中輸出四個(gè)輸出信號；在先光接收裝置，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的在先子光束并從兩段輸出兩個(gè)輸出信號；后續(xù)光接收裝置，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的后續(xù)子光束并從兩段輸出兩個(gè)輸出信號；跟蹤控制裝置，按照來自主光接收單元和在先光接收單元以及后續(xù)光接收單元的輸出信號執(zhí)行推挽差分跟蹤控制，用于沿著光盤的軌跡跟蹤主光束；聚焦控制裝置，按照來自主光接收單元的輸出信號執(zhí)行聚焦控制，用于相對于目標(biāo)區(qū)域聚焦主光束；求和裝置，將從在先光接收單元或者后續(xù)光接收單元的兩段中輸送的兩個(gè)輸出信號彼此相加，以得到和值；第一采樣和保持裝置，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻從求和電路輸出的第一和值；第二采樣和保持裝置，采樣和保持在主光束非形成凹坑的另一時(shí)刻從求和電路輸出的第二和值；減法裝置，從第一和值中減去第二和值，獲得差值；比較裝置，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，以獲得比較結(jié)果；和控制裝置，按照該比較結(jié)果控制主光數(shù)據(jù)的功率。
當(dāng)開始使用處于記錄電平的光束照射時(shí)，由于顏料薄膜上沒有出現(xiàn)顏色變化，所以主光束的總返回光接收輸出(b)表現(xiàn)出急劇上升的尖峰。在此之后，隨著反射率的降低，顏料薄膜上出現(xiàn)變化并且輸出下降。在給定的電平上，該輸出是穩(wěn)定的，并且與照射結(jié)束同步，降低一次至比開始照射之前的電平(復(fù)制電平)低的電平。此后，電平復(fù)原為照射開始之前的電平。另一方面，子光束的返回光接收輸出(c)在形成凹坑周期中并不隨主光束一起變化，因?yàn)樽庸馐⒉荒芨淖冾伭媳∧ぁＨ绻P片相對于圖2中的實(shí)線所指的初始狀態(tài)而發(fā)生彎曲，則在形成凹坑周期中主光束的返回光接收輸出增加，如圖(b)中的虛線所示。這是因?yàn)閺澢墓獗P不能使光束點(diǎn)完全變小，這使顏料薄膜的轉(zhuǎn)變效率變差(限制了顏料薄膜中的顏色變化)，從而減少了光束的吸收卻增加了反射率。因此，如果顏料薄膜的厚度增加，則記錄靈敏度降低，這使顏料薄膜中的顏色轉(zhuǎn)變效率變差，從而增加了反射率和增加了形成凹坑周期中主光束的返回光接收輸出，如(b)中的虛線所示。相反，如果顏料薄膜的厚度減少，則記錄靈敏度增加，這有利于顏料薄膜的轉(zhuǎn)變效率(促使顏料薄膜中的變化)，從而降低了反射率和減少了在形成凹坑周期中主光束的返回光接收輸出，如(b)中的虛線所示。
另一方面，如果盤片彎曲，主光束返回光接收輸出減少，如(c)中的虛線所示。這是因?yàn)閺澢谋P片降低了反射強(qiáng)度。因此，如果顏料薄膜的厚度增加，則顏料薄膜下面的反射薄膜的反射率降低，這造成了子光束的返回光接收輸出減少，如(c)中的虛線所示。相反，如果顏料薄膜的厚度減少，則顏料薄膜下面的反射薄膜的反射率增加，這造成了子光束的返回光接收輸出增加，如圖(c)中的鏈狀線所示。子光束反射強(qiáng)度的波動(dòng)既出現(xiàn)在形成凹坑周期中也出現(xiàn)在非形成凹坑周期中。即使反射強(qiáng)度出現(xiàn)波動(dòng)，形成凹坑周期中的高電平和非形成凹坑周期中的低電平之間的電平比率沒有出現(xiàn)變化，盡管這兩個(gè)電平之間出現(xiàn)變化。換句話說，如果反射強(qiáng)度增加，則電平差增加，如果反射強(qiáng)度降低，則電平差降低。因此，可以通過檢測電平差來檢測盤片狀態(tài)的變化。
因而，本發(fā)明的光盤記錄方法包括從光頭發(fā)出按照記錄信號調(diào)制的主光束和子光束；將主光束照射到光盤上的軌跡，用于形成凹坑；以未達(dá)到形成凹坑的電平將子光束照射到主光束照射的目標(biāo)部分近旁的部分；和按照在形成凹坑的時(shí)刻和非形成凹坑的時(shí)刻觀測的子光束返回光接收信號電平，實(shí)時(shí)控制在形成凹坑時(shí)的激光功率。由于主光束用于形成凹坑，所以返回光接收信號具有如圖2(b)所示的非矩形波形，其中電平僅僅在形成凹坑周期的一部分中穩(wěn)定，并且隨著記錄速度的增加，穩(wěn)定周期變短。相反，子光束不用于形成凹坑，因此子光束的返回光接收信號具有如圖2(c)所示的矩形波形，其中，電平在整個(gè)形成凹坑周期中穩(wěn)定。因此，根據(jù)本發(fā)明，按照返回光接收信號來檢測光盤狀態(tài)的變化，從而即使在高速記錄時(shí)也使得設(shè)備能夠精確地檢測光盤狀態(tài)的變化，以及將激光功率控制到可獲得滿意的記錄狀態(tài)的值。也能夠僅僅按照形成凹坑周期中和非形成凹坑周期中某個(gè)時(shí)刻子光束的返回光接收信號的電平來控制形成凹坑周期中激光的功率。但是，如果按照形成凹坑周期中和非形成凹坑周期中兩個(gè)時(shí)刻子光束的返回光接收信號的電平來控制形成凹坑周期中主光束的激光功率，則由于可以消除在采樣和保持電路等等的溫度特性產(chǎn)生偏移時(shí)的偏移，所以有可能更有效地提高控制精度。
現(xiàn)在詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施例。參考

圖1，其中示出了本發(fā)明應(yīng)用于執(zhí)行差分推挽跟蹤控制的CD-R記錄設(shè)備的實(shí)施例。光盤10(CD-R盤)由主軸電機(jī)12旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)并且用從光頭14發(fā)出的激光束16記錄和復(fù)制信息。自動(dòng)激光輸出控制(ALPC)電路15將激光功率控制到由激光輸出指令電路17確定的激光功率值。光頭14發(fā)出的激光束16包括主光束16a、在先子光束16b和后續(xù)子光束16c。主光束16a施加到光盤10上的軌跡18，而在先子光束16b施加到軌跡間的位置20中在主光束16a之前的部分，所述的位置從主光束向外周方向偏離了半個(gè)間距。后續(xù)子光束16c施加到軌跡間的位置20中主光束16a之后的部分，所述的位置從主光束向內(nèi)周方向偏離了半個(gè)間距。
四段光接收單元22接收主光束16a的返回光。在先子光束16b的返回光由兩段光接收單元24接收。后續(xù)子光束16c的返回光由兩段光接收單元26接收。來自光接收單元22，24和26的光接收信號被輸入到跟蹤控制電路28，而差分推挽跟蹤誤差信號以已知的方式產(chǎn)生，以執(zhí)行光頭14的差分推挽跟蹤控制。此外，四段光接收單元22的每個(gè)光接收信號被輸入聚焦控制電路30，并且以一種已知的方式產(chǎn)生聚焦誤差信號，以執(zhí)行光頭14的聚焦控制。
四段光接收單元22的光接收信號A、B、C和D由求和放大器32加在一起，產(chǎn)生信號A+B+C+D。該信號被發(fā)送到執(zhí)行記錄信息的復(fù)制(解調(diào))處理的復(fù)制電路(未示出)。兩段光接收單元24的光接收信號E和F由求和放大器34加在一起，產(chǎn)生信號E+F。采樣脈沖發(fā)生電路35在記錄信號的形成凹坑周期中的給定時(shí)刻產(chǎn)生形成凹坑部分采樣脈沖，并且在記錄信號的非形成凹坑周期的另一給定時(shí)刻產(chǎn)生非形成凹坑部分采樣脈沖。采樣和保持電路36在形成凹坑部分采樣脈沖的時(shí)刻采樣信號E+F。而采樣和保持電路37在非形成凹坑部分采樣脈沖的時(shí)刻采樣信號E+F。盡管采樣脈沖發(fā)生電路35可以在整個(gè)形成凹坑周期產(chǎn)生形成凹坑部分采樣脈沖和在整個(gè)非形成凹坑周期產(chǎn)生非形成凹坑部分采樣脈沖，但是，它可以僅僅在特定長度的形成凹坑部分(例如，11T形成凹坑部分)產(chǎn)生形成凹坑部分采樣脈沖，以及僅僅在特定長度的非形成凹坑部分(例如，11T形成紋間表面部分)產(chǎn)生非形成凹坑部分采樣脈沖。
采樣和保持電路36和37的采樣和保持輸出值α(形成凹坑部分中的信號E+F的電平)和β(非形成凹坑部分中的信號E+F的電平)被輸入到平均電路38和39，用給定的時(shí)間常數(shù)將它們平均。減法器電路40從平均電路38輸出的值α的平均值中減去平均電路39輸出的值β的均值，以得到差值α-β。
基準(zhǔn)值設(shè)置電路44設(shè)置α-β的基準(zhǔn)值α0-β0?；鶞?zhǔn)值α0-β0可以是在實(shí)際記錄之前測試記錄(OPC最優(yōu)功率控制)中確定為最優(yōu)的特定功率(例如，可獲得目標(biāo)不均勻值的記錄功率)下的α-β值。比較器48比較減法器電路40的輸出和基準(zhǔn)值設(shè)置電路44的輸出，并且根據(jù)它們二者之間的偏差輸出信號。比較器48的輸出被輸入到激光輸出控制電路50的激光輸出指令電路17。激光輸出指令電路17調(diào)節(jié)形成凹坑周期中的激光功率值，以致根據(jù)比較器48的輸出拒絕或者取消偏差。ALPC電路15將形成凹坑周期中的激光功率控制到指令值。
圖3中示出了(a)到(e)指示的部分的工作波形。如果光盤10彎曲或者顏料薄膜的厚度在記錄部分中增加，則波形從實(shí)線指示的合格形狀變成斷續(xù)線指示的形狀。換句話說，信號E+F的電平在形成凹坑部分和非形成凹坑部分都下降。在這種情況下，形成凹坑部分中的減少量等于非形成凹坑部分中的減少量。盡管形成凹坑部分中的電平差大于非形成凹坑部分中的電平差。這是因?yàn)樾纬砂伎硬糠种械男盘朎+F的絕對電平大于非形成凹坑部分中信號E+F的絕對電平，因此，每個(gè)絕對值與相同比率相乘獲得的值，也就是電平差，它在具有較大絕對值電平的非形成凹坑部分中較大。另外，如果記錄部分中的顏料薄膜厚度相對于實(shí)線指示的規(guī)則波形減少，則波形如鏈狀線所示。換句話說，形成凹坑部分和非形成凹坑部分中的信號E+F都上升。在這種情況下，形成凹坑部分中的增量等于非形成凹坑部分中的增量，盡管形成凹坑部分中的電平差大于非形成凹坑部分中的電平差。因此，信號E+F在形成凹坑部分和非形成凹坑部分中的電平差α-β具有下面的關(guān)系α2-β2＞α0-β0＞α1-β1其中，α0-β0為合格的狀態(tài)，α1-β1為實(shí)線指示的狀態(tài)，而α2-β2為鏈狀線指示的狀態(tài)。因此，減法器電路40的輸出發(fā)生變化，如圖3(e)所示。
比較器48比較減法器電路40的輸出和基準(zhǔn)值α0-β0，然后按照如圖3(α)所示的偏差輸出比較輸出。換句話說，如果信號E+F的電平因?yàn)楣獗P10彎曲或者顏料薄膜厚度在記錄部分的增加而降低，則電平差α-β降低，因此，比較器48的輸出負(fù)向增加，激光輸出指令電路17增加激光功率值。因此，電平差α-β返回到合格值α0-β0。如果信號E+F的電平因?yàn)轭伭媳∧さ暮穸仍谟涗泤^(qū)域的減少而升高，則電平差α-β增加，因此，比較器48的輸出正向增加，激光功率指令電路17減少激光功率值。因此，電平差α-β返回到合格值α0-β0。按照這種方式，可以獲得穩(wěn)定的記錄，而與盤片是否彎曲或者記錄薄膜厚度是否發(fā)生變化無關(guān)。
參考圖4，其中示出了在圖1所示的光盤記錄設(shè)備中測試記錄時(shí)進(jìn)行的控制。光頭14移動(dòng)到光盤10引導(dǎo)區(qū)內(nèi)周側(cè)的PCA區(qū)(功率標(biāo)定區(qū))，激光功率值隨給定的步驟變化，以執(zhí)行測試記錄。在記錄過程中，獲得每一步驟的α-β值并將其存儲在存儲器中(S1)。在測試記錄之后，復(fù)制記錄的數(shù)據(jù)以獲得每一步中的不均勻值(S2)。作出選擇或者操作，以獲得激光功率值，通過該值可以得到目標(biāo)不均勻值(S3)。進(jìn)行進(jìn)一步的選擇或者操作，以便為得到的激光功率值求出α-β值(S4)。將獲得的激光功率作為激光功率初始值設(shè)置到激光輸出指令電路17中并且將獲得的α-β值作為基準(zhǔn)值α0-β0設(shè)置到基準(zhǔn)值設(shè)置電路44中(S5)。如下所述，光盤記錄設(shè)備做好了實(shí)際記錄的準(zhǔn)備。
參考圖5，其中示出了在圖1所示的光盤記錄設(shè)備中實(shí)際記錄時(shí)進(jìn)行的控制方法。在開始實(shí)際記錄之后(S11)，重復(fù)獲得α-β值并且調(diào)節(jié)激光輸出指令電路17的激光功率輸出值，以使得比較器48輸出的偏差變?yōu)榱?S12)。這使得可以維持滿意的記錄狀態(tài)，即使在記錄過程中光盤10彎曲或者顏料薄膜的厚度發(fā)生變化。
盡管在上面的實(shí)施例中在先子光束的返回光接收信號E+F被用作子光束的監(jiān)視返回光接收信號，但是也可以使用在先子光束的返回光接收信號G+H和兩個(gè)子光束的返回光接收信號E+F+G+H作為替換。此外，盡管在上面的實(shí)施例中針對將本發(fā)明應(yīng)用于執(zhí)行差分推挽跟蹤控制的光盤記錄設(shè)備的情況進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明也可以應(yīng)用于執(zhí)行3束光跟蹤控制的光盤記錄設(shè)備和具有發(fā)射其它子光束的光頭的光盤記錄設(shè)備，盡管在上面的實(shí)施例中已經(jīng)對本發(fā)明應(yīng)用于CD-R盤的情況進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明也可以應(yīng)用于DVD-R盤或者其它的一次寫多次讀的光盤，以及應(yīng)用于除一次寫多次讀光盤之外的光盤。
權(quán)利要求
1.一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的方法，該方法包括以下步驟產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑；將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；在主光束形成凹坑的時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第一返回信號電平；在非形成凹坑的另一時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第二返回信號電平；和按照子光束的第一返回信號電平和第二返回信號電平，在信息記錄周期中實(shí)時(shí)控制主光束的功率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，控制步驟包括從第一返回信號電平中減去第二返回信號電平，以獲得差值；比較該差值和預(yù)定基準(zhǔn)值，得到比較結(jié)果；以及按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，還包括以下步驟預(yù)先將主光束照射到光盤的測試區(qū)域，以確定主光束的最優(yōu)功率；和預(yù)先確定與最優(yōu)功率相對應(yīng)的基準(zhǔn)值，以致將主光束的功率控制為跟隨最優(yōu)功率。
4.一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括光頭，產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；第一采樣和保持電路，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第一返回信號電平；第二采樣和保持電路，采樣和保持在非形成凹坑的另一時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第二返回信號電平；減法電路，從第一采樣和保持電路采樣和保持的第一返回信號電平中減去第二采樣和保持電路采樣和保持的第二返回信號電平，以獲得差值；比較電路，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，獲得比較結(jié)果；和控制電路，按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
5.一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括光頭，產(chǎn)生主光束和一對在先和后續(xù)子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束與在先的和后續(xù)的子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述在先和后續(xù)的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之前的近旁區(qū)域，以及將后續(xù)的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之后的近旁區(qū)域；主光接收單元，包括在光頭中，并且被分成四段，用于接收從目標(biāo)區(qū)域反射回的主光束并且從四段中輸出四個(gè)輸出信號；在先光接收單元，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的在先子光束并從兩段輸出兩個(gè)輸出信號；后續(xù)光接收單元，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的后續(xù)子光束并從兩段輸出兩個(gè)輸出信號；跟蹤控制電路，按照來自主光接收單元和在先光接收單元以及后續(xù)光接收單元的輸出信號執(zhí)行推挽差分跟蹤控制，用于沿著光盤的軌跡跟蹤主光束；聚焦控制電路，按照來自主光接收單元的輸出信號執(zhí)行聚焦控制，用于相對于目標(biāo)區(qū)域聚焦主光束；求和電路，將從在先光接收單元或者后續(xù)光接收單元的兩段中輸送的兩個(gè)輸出信號彼此相加，以得到和值；第一采樣和保持電路，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻從求和電路輸出的第一和值；第二采樣和保持電路，采樣和保持在主光束非形成凹坑的另一時(shí)刻從求和電路輸出的第二和值；減法電路，從第一和值中減去第二和值，獲得差值；比較電路，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，以獲得比較結(jié)果；和控制電路，按照該比較結(jié)果控制主光數(shù)據(jù)的功率。
6.一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括發(fā)生裝置，用于產(chǎn)生主光束和一對在先和后續(xù)子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束與在先的和后續(xù)的子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述在先和后續(xù)的子光束具有不足以形成凹坑的功率；主照射裝置，用于沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑；子照射裝置，用于將子光束照射在主光束未照射到但是在毗鄰主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域的近旁區(qū)域；第一檢測裝置，用于在主光束形成凹坑的時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第一返回信號電平；第二檢測裝置，用于在非形成凹坑的另一時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第二返回信號電平；和控制裝置，用于按照子光束的第一返回信號電平和第二返回信號電平，在信息記錄周期中實(shí)時(shí)控制主光束的功率。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，控制裝置從第一返回信號電平中減去第二返回信號電平，以獲得差值；比較該差值和預(yù)定基準(zhǔn)值，得到比較結(jié)果；以及按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，還包括測試照射裝置，用于預(yù)先將主光束照射到光盤的測試區(qū)域，以確定主光束的最優(yōu)功率；和預(yù)先確定與最優(yōu)功率相對應(yīng)的基準(zhǔn)值，以致將主光束的功率控制為跟隨最優(yōu)功率。
9.一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括光頭裝置，產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭裝置沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；第一采樣和保持裝置，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第一返回信號電平；第二采樣和保持裝置，采樣和保持在非形成凹坑的另一時(shí)刻根據(jù)從近旁區(qū)域反射回的子光束檢測的第二返回信號電平；減法裝置，從第一采樣和保持電路采樣和保持的第一返回信號電平中減去第二采樣和保持電路采樣和保持的第二返回信號電平，以獲得差值；比較裝置，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，獲得比較結(jié)果；和控制裝置，按照該比較結(jié)果控制主光束的功率。
10.一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的設(shè)備，該設(shè)備包括光頭裝置，產(chǎn)生主光束和一對在先和后續(xù)子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束與在先的和后續(xù)的子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述在先和后續(xù)的子光束具有不足以形成凹坑的功率；該光頭裝置沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑，并將在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之前的近旁區(qū)域，以及將后續(xù)的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目標(biāo)區(qū)域之后的近旁區(qū)域；主光接收裝置，包括在光頭中，并且被分成四段，用于接收從目標(biāo)區(qū)域反射回的主光束并且從四段中輸出四個(gè)輸出信號；在先光接收裝置，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的在先子光束并從兩段輸出兩個(gè)輸出信號；后續(xù)光接收裝置，包括在光頭中，并且被分成兩段，用于接收從近旁區(qū)域反射回的后續(xù)子光束并從兩段輸出兩個(gè)輸出信號；跟蹤控制裝置，按照來自主光接收單元和在先光接收單元以及后續(xù)光接收單元的輸出信號執(zhí)行推挽差分跟蹤控制，用于沿著光盤的軌跡跟蹤主光束；聚焦控制裝置，按照來自主光接收單元的輸出信號執(zhí)行聚焦控制，用于相對于目標(biāo)區(qū)域聚焦主光束；求和裝置，將從在先光接收單元或者后續(xù)光接收單元的兩段中輸送的兩個(gè)輸出信號彼此相加，以得到和值；第一采樣和保持裝置，采樣和保持在主光束形成凹坑的時(shí)刻從求和電路輸出的第一和值；第二采樣和保持裝置，采樣和保持在主光束非形成凹坑的另一時(shí)刻從求和電路輸出的第二和值；減法裝置，從第一和值中減去第二和值，獲得差值；比較裝置，比較該差值和預(yù)定的基準(zhǔn)值，以獲得比較結(jié)果；和控制裝置，按照該比較結(jié)果控制主光數(shù)據(jù)的功率。
全文摘要
一種沿著光盤的軌跡以一系列凹坑的形式將信息記錄在光盤上的方法，該方法執(zhí)行以下步驟產(chǎn)生主光束和子光束，同時(shí)按照代表信息的記錄信號調(diào)制主光束和子光束的功率，所述的主光束具有足以形成凹坑的功率，而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率；沿著軌跡照射主光束，形成一系列的凹坑；將子光束照射在主光束未照射到但是毗鄰主光束照射到的區(qū)域的近旁區(qū)域；在主光束形成凹坑的時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第一返回信號電平；在非形成凹坑的另一時(shí)刻檢測從近旁區(qū)域反射回的子光束的第二返回信號電平；和按照子光束的第一返回信號電平和第二返回信號電平，在信息記錄周期中實(shí)時(shí)控制主光束的功率。
文檔編號G11B7/0045GK1444210SQ0310706
公開日2003年9月24日 申請日期2003年3月5日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月7日
發(fā)明者近藤多聞, 永野尚志 申請人:雅馬哈株式會社