專利名稱：磁頭及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有裝載于比如，硬磁盤機(jī)等上的滑動(dòng)塊的磁頭及其制造方法，本發(fā)明特別是涉及下述磁頭及其制造方法，該磁頭及其制造方法在于磁頭于記錄媒體上上浮的狀態(tài)進(jìn)行記錄和/或再生動(dòng)作時(shí)，可減少上述記錄媒體的損傷。
背景技術(shù)：
圖17為將裝載于硬磁盤機(jī)等上的已有的磁頭的與記錄媒體的相對(duì)面向上而表示的透視圖。
在該磁頭中，記錄媒體的移動(dòng)方向的上游側(cè)A稱為“讀側(cè)”，下游側(cè)B稱為“后側(cè)”。
圖17中的標(biāo)號(hào)1表示由陶瓷材料等形成的滑動(dòng)塊，在上述滑動(dòng)塊1的后側(cè)端面B上，設(shè)置有磁性記錄和/或再生的薄膜元件部6。
在上述滑動(dòng)塊1中的與記錄媒體的相對(duì)面，形成空氣凹槽2，按照圍繞空氣凹槽2的方式形成ABS面3。該ABS面3呈冠狀。
但是，在圖17所示的已有的磁頭中，滑動(dòng)塊1中的與記錄媒體的相對(duì)面的角部1a，1a具有棱角，在磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等的情況下，具有上述記錄媒體容易受到損傷的問題。由此，通過比如，機(jī)械加工等方式，使上述滑動(dòng)塊1的角部1a，1a呈倒角狀。
在過去，在成整體形成多個(gè)滑動(dòng)塊1的狀態(tài)，即在滑動(dòng)桿的狀態(tài)，進(jìn)行上述角部1a，1a的倒角加工。圖18為表示滑動(dòng)桿的狀態(tài)的局部透視圖。
如圖18所示，在上述滑動(dòng)桿7的后側(cè)端面B上，形成有多個(gè)薄膜元件部6。另外，對(duì)上述滑動(dòng)桿7中的與記錄媒體的相對(duì)面8，進(jìn)行空氣凹槽2和ABS面3的加工。此外，在各薄膜元件部6之間，形成具有一定深度的槽部9。
圖19為表示已有的倒角加工方法的正視圖。在過去，以一定壓力，使固定于夾具10上的滑動(dòng)桿7的空氣槽2和ABS面3的整個(gè)表面，與設(shè)置于緩沖件K上的研磨用的研磨帶R相接觸，通過使該夾具10沿X方向和/或Y方向往復(fù)滑動(dòng)，由此，在滑動(dòng)桿的狀態(tài)，對(duì)上述角部1a，1a進(jìn)行倒角加工。
但是，當(dāng)進(jìn)行上述倒角加工時(shí)，對(duì)于在將倒角加工的加工尺寸設(shè)定在什么樣的范圍內(nèi)的場(chǎng)合，可有效地降低上述記錄媒體的損傷的方面，在過去幾乎沒有進(jìn)行分析。另外如果采用上述的過去的倒角加工方法，進(jìn)行滑動(dòng)塊的倒角加工，則還產(chǎn)生難于使倒角加工的加工精度保持一定的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述已有的課題而提出的，本發(fā)明的目的在于提供一種下述磁頭及其制造方法，其中上述滑動(dòng)塊中的與記錄媒體的相對(duì)面的角部的倒角加工尺寸位于下述范圍內(nèi)，在該范圍中，可降低磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷，并且可使倒角加工的誤差很少。
本發(fā)明涉及下述磁頭，該磁頭包括滑動(dòng)塊，該滑動(dòng)塊具有與記錄媒體相對(duì)的相對(duì)面，形成支承側(cè)的支承面，后側(cè)與讀側(cè)的各端面；設(shè)置于上述滑動(dòng)塊的后側(cè)的磁性記錄和/或再生用的元件部，其特征在于在上述相對(duì)面的后側(cè)的端部與讀側(cè)的端部中的至少1個(gè)上，形成有傾斜面或曲面，該傾斜面或曲面在其與上述相對(duì)面之間，具有第1邊界線，在其與上述端面之間，具有第2邊界線，包含上述第1邊界線和第2邊界線的假想平面與上述支承面之間的夾角在5°～14°的范圍內(nèi)。
按照本發(fā)明，如果在設(shè)置于滑動(dòng)塊上的，與記錄媒體的相對(duì)面的后側(cè)端部和/或讀側(cè)端部上，形成有傾斜面或曲面時(shí)，使包含上述第1邊界線和第2邊界線的假想平面與上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角在5°～14°的范圍內(nèi)時(shí)，則可降低所形成的磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷，可使倒角加工的誤差很小。
另外，由于當(dāng)包含上述第1邊界線和第2邊界線的假想平面與上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角θ在5°≤θ≤8°的范圍內(nèi)時(shí)，可完全防止磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷，故最好采用該數(shù)值范圍。
此外，按照本發(fā)明，最好在上述滑動(dòng)桿中的與記錄媒體的相對(duì)面的表面上，形成保護(hù)膜。
還有，由于當(dāng)形成于上述后側(cè)端部的傾斜面或曲面的第1邊界線相對(duì)上述元件部的間隙部，位于后側(cè)的端面?zhèn)葧r(shí)，可防止上述元件部的損傷，故最好采用該方式。
再有，由于當(dāng)在上述相對(duì)面上，形成臺(tái)階，通過該臺(tái)階而位于上述相對(duì)面?zhèn)鹊淖罡呶恢玫拿鏋槌惺軄碜陨鲜鲇涗浢襟w上的空氣流的上浮力的ABS面，上述元件部的間隙部位于上述ABS面的區(qū)域內(nèi)時(shí)，在記錄和再生的場(chǎng)合，可將上述元件部最靠近上述記錄媒體，故最好采用該方式。
上述第1邊界線也可形成于上述傾斜面或曲面與上述ABS面的邊界上。
另外，由于當(dāng)形成于上述后側(cè)的端部的傾斜面或曲面的第1邊界線相對(duì)形成上述ABS面的臺(tái)階，位于讀側(cè)的端面?zhèn)葧r(shí)，可避免上述傾斜面或曲面對(duì)磁頭的上浮特性造成影響，故最好采用該方式。
按照本發(fā)明，上述第1邊界線按照朝向上述滑動(dòng)塊的寬度方向呈直線狀或曲線狀延伸的方式形成。
此外，本發(fā)明涉及一種磁頭的制造方法，該磁頭包括滑動(dòng)塊，該滑動(dòng)塊具有與記錄媒體相對(duì)的相對(duì)面，形成支承側(cè)的支承面，后側(cè)與讀側(cè)的各端面；設(shè)置于上述滑動(dòng)塊的后側(cè)的磁性記錄和/或再生用的元件部，該方法包括下述步驟(a)在后側(cè)端面上，形成形成有多個(gè)元件部的滑動(dòng)桿；(b)將上述滑動(dòng)桿中的相對(duì)面的后側(cè)的角部與研磨加工面接觸，將上述滑動(dòng)桿的支承面與研磨加工面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)，使該滑動(dòng)桿沿一定方向往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部，形成傾斜面；(c)將上述滑動(dòng)桿分別設(shè)置于各自具有上述元件部的相應(yīng)滑動(dòng)塊上。
在上述(b)的步驟后，還具有下述步驟(d)，即將上述滑動(dòng)桿中的相對(duì)面的讀側(cè)的角部與研磨加工面接觸，將上述滑動(dòng)桿的支承面與研磨加工面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)，使該滑動(dòng)桿沿一定方向往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部，形成傾斜面。
按照本發(fā)明，由于在上述滑動(dòng)塊的后側(cè)和/或讀側(cè)的角部上，形成平齊的傾斜面，故可容易抑制制造階段的傾斜面的傾角或深度的加工尺寸的誤差。
還有，最好在上述(b)和/或(c)的步驟中，將上述滑動(dòng)桿的支承面與研磨加工面之間的夾角固定在5°～14°的范圍內(nèi)。
當(dāng)將上述滑動(dòng)桿的支承面與研磨加工面之間的夾角固定在5°～14°的范圍內(nèi)，對(duì)上述滑動(dòng)桿的角部進(jìn)行研磨時(shí)，包含位于形成于所獲得的滑動(dòng)塊的后側(cè)和/或讀側(cè)的角部的傾斜面與上述相對(duì)面之間的第1邊界線，與位于上述傾斜面與上述端面之間的第2邊界線的假想平面與上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角的值在5°～14°的范圍內(nèi)。因此，可降低所形成的磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷，并且可使倒角加工的誤差很小。
再有，如果在上述滑動(dòng)桿的支承面與上述研磨加工面之間的夾角固定在5°～8°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使上述滑動(dòng)桿往復(fù)滑動(dòng)，則包含位于形成于所獲得的滑動(dòng)塊的后側(cè)和/或讀側(cè)的角部的傾斜面與上述相對(duì)面之間的第1邊界線，與位于上述傾斜面與上述端面之間的第2邊界線的假想平面與上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角的值也在5°～8°的范圍內(nèi)。因此，最好采用該數(shù)值范圍，以便還可完全防止所形成的磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷。
另外，如果在上述滑動(dòng)桿的支承面與上述研磨加工面之間的夾角固定在5°～14°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使上述滑動(dòng)桿往復(fù)滑動(dòng)，則可降低用于形成上述傾斜面的滑動(dòng)桿的總往復(fù)滑動(dòng)距離，加工性提高。另外，在上述滑動(dòng)桿的支承面與上述研磨加工面之間的夾角固定在5°～8°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，如果使上述滑動(dòng)桿往復(fù)移動(dòng)，則可使加工性進(jìn)一步提高，故最好采用該方式。
在上述(b)和/或(c)的步驟中，既可使上述滑動(dòng)桿沿與其縱向相平行的方向往復(fù)滑動(dòng)，也可使上述滑動(dòng)桿沿與其縱向相垂直的方向往復(fù)滑動(dòng)。
如果使上述滑動(dòng)桿往復(fù)滑動(dòng)的方向，為與上述滑動(dòng)桿的縱向相平行的方向，則形成于所獲得的滑動(dòng)件的后側(cè)端部和/或讀側(cè)端部的傾斜面和相對(duì)面的第1邊界線，朝向上述滑動(dòng)桿的寬度方向呈直線狀或曲線狀延伸，容易抑制上述傾斜面的加工尺寸的誤差，故最好采用該方式。
此外，最好在于上述滑動(dòng)桿中的與記錄媒體的相對(duì)面的表面上，形成保護(hù)膜后，進(jìn)行上述(b)和/或(c)的步驟。
按照過去的倒角加工方法，由于使滑動(dòng)桿中的與記錄媒體的整個(gè)相對(duì)面與研磨帶接觸，故產(chǎn)生還對(duì)形成于與記錄媒體的相對(duì)面的表面上的保護(hù)膜進(jìn)行研磨的問題。
按照本發(fā)明，由于僅僅使上述滑動(dòng)桿的后側(cè)和/或讀側(cè)的角部與上述研磨加工面接觸而對(duì)該角部進(jìn)行研磨，故不在上述角部以外的區(qū)域，對(duì)形成于與記錄媒體的相對(duì)面的表面上的保護(hù)膜進(jìn)行研磨。
如果采用上面具體描述的本發(fā)明，由于在設(shè)置于上述滑動(dòng)塊中的與記錄媒體的相對(duì)面的后側(cè)端部和/或讀側(cè)端部，形成傾斜面或曲面，包含上述傾斜面或曲面的第1邊界線和第2邊界線的假想平面與上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角的值θ在5°～14°的范圍內(nèi)，故可降低所形成的磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷，并且可使倒角加工的誤差很小。
此外，通過使包含上述傾斜面或曲面的第1邊界線和第2邊界線的假想平面與上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角的值θ在5°～8°的范圍內(nèi)，還可完全防止磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等情況下的記錄媒體的損傷。


圖1為表示本發(fā)明的實(shí)施例的磁頭的透視圖；圖2為表示在圖1的磁頭安裝于負(fù)載梁上的狀態(tài)，該磁頭在記錄媒體上上浮的狀態(tài)的側(cè)視圖；圖3為從與記錄媒體的相對(duì)面?zhèn)瓤吹降膱D1的磁頭的平面圖；圖4為圖1的磁頭的側(cè)視圖；圖5為用于說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的側(cè)視圖；圖6為用于說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的平面圖；圖7為用于說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的側(cè)視圖；圖8為用于說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的平面圖；圖9為用于說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的側(cè)視圖；圖10為用于說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的平面圖；圖11為用于說明本發(fā)明的磁頭的制造方法的透視圖；圖12為用于說明本發(fā)明的磁頭的另一制造方法的透視圖；圖13為表示本發(fā)明的另一實(shí)施例的磁頭的平面圖；圖14為表示滑動(dòng)塊的傾斜面的傾角的值與磁盤的損傷發(fā)生率之間的關(guān)系的曲線圖；圖15為表示滑動(dòng)塊的傾斜面的傾角的值，與從傾斜面的第1邊界線到側(cè)端面的距離的誤差(標(biāo)準(zhǔn)偏差σ)之間的關(guān)系的曲線圖；圖16為表示滑動(dòng)塊的傾斜面的傾角的值，與滑動(dòng)桿的總滑動(dòng)距離之間的關(guān)系的曲線圖；圖17為已有的磁頭的透視圖；圖18為用于形成圖17的磁頭的滑動(dòng)桿的透視圖；圖19為用于說明已有的磁頭的倒角加工方法的正面圖。
具體實(shí)施例方式
圖1為將本發(fā)明的實(shí)施例的磁頭的與記錄媒體的相對(duì)面朝上而表示的透視圖。
在該磁頭中，記錄媒體的移動(dòng)方向的上游側(cè)A稱為“讀側(cè)”，下游側(cè)B稱為“后側(cè)”。
圖1所示的標(biāo)號(hào)11為由陶瓷材料等形成的滑動(dòng)塊，在滑動(dòng)塊11的后側(cè)端面T，形成氧化鋁層15，在氧化鋁層15上，設(shè)置有磁性記錄和/或再生用的元件部12。在該元件部12中，采用磁性阻抗效果元件的再生部，以及由感應(yīng)型的薄膜磁頭形成的記錄部重合，在滑動(dòng)塊11中的與記錄媒體的相對(duì)面F上，呈現(xiàn)間隙部(記錄和/或再生部)G。另外，在本實(shí)施例的磁頭的滑動(dòng)塊11中的，與記錄媒體的相對(duì)面F上，通過金剛石態(tài)碳(diamond like carbon)等的材料，形成保護(hù)膜，間隙部G為該保護(hù)膜覆蓋。在圖1中，為了容易觀看圖面，將上述保護(hù)膜的圖示省略，但是，在后面描述的圖4中，表示有保護(hù)膜16。另外，相對(duì)面F的相反側(cè)的面為形成支承側(cè)的支承面S。
如圖1所示，在與記錄媒體的相對(duì)面F上，形成臺(tái)階，通過該臺(tái)階而位于相對(duì)面F側(cè)的最高位置的面，為承受來自記錄媒體上的空氣流的上浮力的ABS面14，圍繞該ABS面14，形成空氣凹槽13。另外，上述臺(tái)階的高度為1.5mm。
如圖2所示，支承圖1的滑動(dòng)塊11的支承體21由負(fù)載梁22與撓性部23構(gòu)成。負(fù)載梁22由不銹鋼等的板簧材料形成。另外，在負(fù)載梁22的前端部附近，形成朝向圖示下方向突出的球面狀的鉸接件24，滑動(dòng)塊11通過上述撓性部23，與該鉸接件24接觸。
上述撓性部23通過不銹鋼等的薄板簧形成。上述撓性部23由固定部23a與舌片23b構(gòu)成，在舌片23b的底面上，粘接固定有形成滑動(dòng)塊11的支承側(cè)的支承面S。
使舌片23b的頂面碰到形成于負(fù)載梁22上的鉸接件24，可借助舌片23b的彈性，以鉸接件24的頂點(diǎn)為支點(diǎn)，自由地改變粘接固定于該舌片23b的底面上的滑動(dòng)塊11的姿勢(shì)。
在磁盤D1(記錄媒體)啟動(dòng)時(shí)，將空氣流沿磁盤的移動(dòng)方向，送入滑動(dòng)塊11與磁盤D1的表面之間，滑動(dòng)塊11的ABS面14承受空氣流的上浮力，只按照距磁盤D1表面較短的距離δ1(間距)上浮。
在上浮姿勢(shì)，如圖2所示，處于滑動(dòng)塊11的讀側(cè)A高出后側(cè)B而上抬的傾斜的上浮姿勢(shì)。在該上浮姿勢(shì)，通過元件部12的MR頭，檢測(cè)來自盤的磁信號(hào)，或通過感應(yīng)磁頭，寫入上述磁信號(hào)。
在圖1所示的本實(shí)施例的滑動(dòng)塊11中，與記錄媒體的相對(duì)面F的后側(cè)端部上，形成傾斜面11a，另外，在讀側(cè)端部，形成傾斜面11b。傾斜面11a，11b的表面為平齊面。
圖3為從與記錄媒體的相對(duì)面F側(cè)看到的圖1所示的滑動(dòng)塊11的平面圖，圖4為滑動(dòng)塊11的側(cè)視圖。
傾斜面11a中的與相對(duì)面F的邊界線為第1邊界線11a1，傾斜面11a中的與后側(cè)端面T的邊界線為第2邊界線11a2。另外，在本實(shí)施例中，第1邊界線11a1包括傾斜面11a中的與ABS面14的邊界線。包含第1邊界線11a1和第2邊界線11a2的假想平面C與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值由θ1表示。
另外，傾斜面11b中的與相對(duì)面F的邊界線為第1邊界線11b1，傾斜面11b中的讀側(cè)端面L的邊界線為第2邊界線11b2。包含第1邊界線11b1和第2邊界線11b2的假想平面D與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值由θ2表示。θ1與θ2在5°～14°的范圍內(nèi)。θ1與θ2的值既可不同，也可相同。
此外，在與記錄媒體的相對(duì)面F的上述后側(cè)端部和/或讀側(cè)端部上，也可形成曲面，以代替傾斜面11a，11b。同樣在此場(chǎng)合，包含上述曲面中的與相對(duì)面F之間的第1邊界線，和上述曲面的后側(cè)端面T之間的第2邊界線的假想平面與滑動(dòng)塊的支承面S之間的夾角的值，以及包含上述曲面中的與相對(duì)面F之間的第1邊界線，和上述曲面中的與讀側(cè)端面L之間的第2邊界線的假想平面與滑動(dòng)塊的支承面S之間的夾角的值在5°～14°的范圍內(nèi)。
如果使θ1與θ2在5°～14°的范圍內(nèi)，如圖2所示，則在磁盤D1(記錄媒體)上上浮而行走的滑動(dòng)塊11可減少與磁盤D1接觸時(shí)的磁盤D1的損傷。另外，如果使θ1與θ2在5°～8°的范圍內(nèi)，還可完全防止磁盤D1的損傷，故最好采用該方式。
如果θ1與θ2大于14°，則以傾斜面11a的第1邊界線11a1為頂點(diǎn)的角部的角度和以傾斜面11b的第1邊界線11b為頂點(diǎn)的角部的角度接近直角，但是不能夠減少滑動(dòng)塊11與磁盤D1接觸時(shí)的磁盤D1的損傷。
另外，如果θ1與θ2小于5°，則以傾斜面11a的第2邊界線11a2為頂點(diǎn)的角部的角度和以傾斜面11b的第2邊界線11b2為頂點(diǎn)的角部的角度接近直角，不能夠減少滑動(dòng)塊11與磁盤D1接觸時(shí)的磁盤D1的損傷。
因此，如果θ1與θ2在5°～14°的范圍內(nèi)，則以傾斜面11a的第1邊界線11a1為頂點(diǎn)的角部和以傾斜面11b的第1邊界線11b1為頂點(diǎn)的角部，及以傾斜面11a的第2邊界線11a2為頂點(diǎn)的角部和以傾斜面11b第2邊界線11b2為頂點(diǎn)的角部的銳角減少，可降低滑動(dòng)塊11與磁盤D1接觸時(shí)的磁盤D1的損傷。
此外，如果θ1與θ2大于5°，則可使從傾斜面11a的第1邊界線11a到后側(cè)端面T的距離L1和從傾斜面11b的第1邊界線11b1到讀側(cè)端面L的距離L3的產(chǎn)品的誤差在允許范圍內(nèi)，可使產(chǎn)品的品質(zhì)提高。
還有，如圖3所示，形成于相對(duì)面F的后側(cè)端面的傾斜面11a的第1邊界線11a1相對(duì)元件部12的間隙部G，形成于后側(cè)端面T一側(cè)，從而可防止間隙部G的損傷。從第1邊界線11a1到間隙部G的距離L2為比如，在3～5μm的范圍內(nèi)。
再有，間隙部G位于ABS面14的區(qū)域內(nèi)，在記錄和再生時(shí)，可使元件部12最靠近磁盤D1。間隙部G由金剛石態(tài)碳等形成的保護(hù)膜(在圖3中未示出)覆蓋。但是，間隙部G也可在ABS面14上露出。
另外，間隙部G可以不一定位于ABS面的區(qū)域內(nèi)。比如，即使位于與空氣凹槽13保持連續(xù)的平面內(nèi)，也沒有關(guān)系。
此外，形成于讀側(cè)的端部的傾斜面11b的第1邊界線11b1相對(duì)形成ABS面14的臺(tái)階，位于讀側(cè)端面L側(cè)，避免傾斜面11b對(duì)滑動(dòng)塊11的上浮特性造成影響。
在圖1～4所示的滑動(dòng)塊11的，后側(cè)端部和讀側(cè)端部這兩者上，形成傾斜面11a，11b，角度θ1與θ2在5°～14°的范圍內(nèi)。
但是，如圖2所示，上浮時(shí)的滑動(dòng)塊11取后側(cè)端部接近磁盤D1的姿勢(shì)，其結(jié)果是，相對(duì)讀側(cè)端部，后側(cè)端部容易與磁盤D1接觸。即，僅僅形成后側(cè)端部的傾斜面11a，即使未形成讀側(cè)端部的傾斜面11b，仍可減少滑動(dòng)塊11的接觸造成的磁盤D1的損傷。另外，在于后側(cè)端部和讀側(cè)端部，形成傾斜面11a，11b的場(chǎng)合，僅僅角度θ1在5°～14°的范圍內(nèi)，角度θ2也可為超出該范圍的值。
如圖3所示，形成于相對(duì)面F的上述后側(cè)端部和讀側(cè)端部的傾斜面11a，11b的第1邊界線11a1，11b1朝向滑動(dòng)塊11的寬度方向呈直線狀延伸。另外，傾斜面11a，11b的第1邊界線11a1，11b1還朝向滑動(dòng)塊11的寬度方向，呈曲線狀延伸。
另外，在滑動(dòng)塊11中的與記錄媒體的相對(duì)面F的表面上，形成圖4的斜線部所示的保護(hù)膜16。該保護(hù)膜16采用金剛石態(tài)碳等的材料形成。該保護(hù)膜16不形成于傾斜面11a，11b的表面上。此外，在圖1和圖3中，為了容易觀看附圖，將保護(hù)膜16的圖示省略。
此外，在圖1～4所示的滑動(dòng)塊11中，相對(duì)面F的側(cè)緣部11c，11c形成角部，但是也可在該側(cè)緣部11c，11c上，形成傾斜面或曲面。另外，以傾斜面11a和11b與側(cè)緣部11c，11c之間的交點(diǎn)為頂點(diǎn)的角部11d，11d，11d，11d還形成較緩的圓面。
還有，圖1～4所示的滑動(dòng)塊11的ABS面14呈較緩的曲面狀，也可形成所謂的冠狀。
該磁頭用于所謂的接觸啟動(dòng)停止(contact start step)方式，或電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)等中。
本發(fā)明特別適用電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)中的磁頭。
圖5～10為說明電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)的動(dòng)作的側(cè)視圖和平面圖。
在圖6中，標(biāo)號(hào)11表示滑動(dòng)塊，標(biāo)號(hào)22表示負(fù)載梁，標(biāo)號(hào)34表示負(fù)載桿，標(biāo)號(hào)35表示用于支承負(fù)載梁22的臂，標(biāo)號(hào)D1表示磁盤(記錄媒體)。
負(fù)載桿34包括相對(duì)磁盤(記錄媒體)D1，保持平行的部分34-H與傾斜的部分34-K。如圖5和圖6所示，在非動(dòng)作時(shí)，磁盤D1與滑動(dòng)塊11產(chǎn)生非接觸，滑動(dòng)塊11在磁盤D1的半徑方向的外側(cè)，設(shè)置于與位于滑動(dòng)塊11的表面的平面離開的空間上。從此狀態(tài)，在使電動(dòng)機(jī)旋轉(zhuǎn)后，如果以臂的支點(diǎn)為中心使臂35旋轉(zhuǎn)，則負(fù)載梁22在負(fù)載桿34的平行的部分34-H上滑動(dòng)，另外到達(dá)傾斜部34-K處，沿傾斜方向滑行(圖7，圖8)。此外，如果臂35旋轉(zhuǎn)，則支承負(fù)載梁22的負(fù)載桿34的鎖定脫開，滑動(dòng)塊11在磁頭D1上移動(dòng)而上浮(圖9，圖10)。當(dāng)相對(duì)磁盤D1，未對(duì)滑動(dòng)塊11進(jìn)行加載時(shí)，按照相反的順序，進(jìn)行圖5～10所示的一系列的動(dòng)作。
按照上述的電光負(fù)載方式，當(dāng)滑動(dòng)塊11在磁盤D1上移動(dòng)而上浮時(shí)(圖9，圖10)，滑動(dòng)塊11的姿勢(shì)不穩(wěn)定，滑動(dòng)塊11中的，與記錄媒體的相對(duì)面的后側(cè)端部和讀側(cè)端部容易與磁盤D1接觸。
按照本發(fā)明，由于在滑動(dòng)塊的與記錄媒體的相對(duì)面的后側(cè)端部和讀側(cè)端部上，形成有傾斜面或曲面，故即使在滑動(dòng)塊11容易與磁盤D1接觸的情況下，仍可降低磁盤D1的損傷。
圖11為用于說明本發(fā)明的磁頭的制造方法的實(shí)施例的形式的透視圖。
首先，在由陶瓷或氧化鋁碳化鈦(alumina titanium carbide)等形成的圓形的基板上，在形成多個(gè)元件部41后，按照長方形狀將上述基板切斷，形成滑動(dòng)桿42。在該滑動(dòng)桿的后側(cè)端面，處于按照成一排并排的方式形成有多個(gè)元件部41的狀態(tài)。
接著，在滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F上，形成與元件部41相同數(shù)量的空氣凹槽和ABS面。另外，與滑動(dòng)桿的相對(duì)面F相對(duì)側(cè)的面為形成支承側(cè)的支承面。
然后，如圖11所示，將滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F的后側(cè)的角部42a，與作為研磨加工面的研磨帶42的表面接觸，在通過夾具(圖中未示出)將滑動(dòng)桿42的支承面S與研磨帶43的表面之間的夾角θ設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使上述角部42a沿與滑動(dòng)桿42的縱向相平行的方向(圖中的Y方向；與滑動(dòng)桿42的后端面T相平行的方向)往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部42a上，形成傾斜面。另外，沒有以施加力的方式將滑動(dòng)桿42按壓于研磨帶43上，滑動(dòng)桿42在自重的作用下按壓于研磨帶43上。滑動(dòng)桿42的往復(fù)滑動(dòng)通過手動(dòng)進(jìn)行。
之后，將滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F的讀側(cè)的角部42b與研磨帶43的表面接觸，在滑動(dòng)桿42的支承面S與研磨帶43的表面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使上述角部42b沿與滑動(dòng)桿42的橫向相平行的方向(圖中的Y方向；與滑動(dòng)桿42的后端面T相平行的方向)往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部42b上，形成傾斜面。但是，還可省略在滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F的讀側(cè)的角部42b上，形成傾斜面的步驟。
另外，既可在研磨帶43的底層，敷設(shè)緩沖墊，也可不敷設(shè)緩沖墊。
接著，如果在形成于滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F側(cè)的槽部44處，將滑動(dòng)桿42切斷，則獲得圖1～4所示的相應(yīng)的滑動(dòng)塊11。
按照本實(shí)施例，由于在滑動(dòng)桿42的后側(cè)的角部42a和/或上述讀側(cè)的角部42b，形成平齊的傾斜面，故容易抑制制造階段的上述傾斜面的傾斜角度或深度的加工尺寸的誤差。
因此，可減小每個(gè)穿過圖1～4所示的獲得的滑動(dòng)塊11的傾斜面11a的第1邊界線11a1與第2邊界線11a2的假想平面C與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值θ1，以及穿過傾斜面11b的第1邊界線11b1與第2邊界線11b2的假想平面C與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值θ2的產(chǎn)品的誤差，可使產(chǎn)品的品質(zhì)提高。
另外，可減小每個(gè)從所獲得的滑動(dòng)塊11的傾斜面11a的第1邊界線11a1到后端面T的距離L1，以及傾斜面11b的第1邊界線11b1到后端面L的距離L3的產(chǎn)品的誤差，可使產(chǎn)品的品質(zhì)提高。
此外，如果在將滑動(dòng)桿42的支承面S與研磨帶43的表面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使滑動(dòng)桿42往復(fù)滑動(dòng)，則可減小用于形成傾斜面的滑動(dòng)桿42的總的往復(fù)滑動(dòng)距離，加工性提高。另外，如果在將滑動(dòng)桿42的支承面S與研磨帶43的表面之間的夾角設(shè)定在5°～8°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使滑動(dòng)桿42往復(fù)滑動(dòng)，則可進(jìn)一步提高加工性，故最好采用該數(shù)值范圍。
如果將滑動(dòng)桿的支承面S與研磨帶的表面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)，對(duì)上述滑動(dòng)桿的角部進(jìn)行研磨，則通過形成于所獲得的滑動(dòng)塊的后側(cè)和/或讀側(cè)的角部的傾斜面的第1邊界線與第2邊界線的假想平面和上述滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角的值θ在5°～14°的范圍內(nèi)。因此，可減小所形成的磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等場(chǎng)合下的上述記錄媒體的損傷，并且可減小倒角的加工的誤差。
還有，如果在將滑動(dòng)桿42的支承面S與研磨帶43的表面之間的夾角設(shè)定在5°～8°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使滑動(dòng)桿42往復(fù)滑動(dòng)，則穿過形成于所獲得的滑動(dòng)塊的后側(cè)和/或讀側(cè)的角部的傾斜面的第1邊界線和第2邊界線的假想平面與滑動(dòng)塊的支承面之間的夾角的值θ也在5°～8°的范圍內(nèi)。因此，還可完全防止所形成的磁頭與記錄媒體接觸時(shí)等場(chǎng)合下的上述記錄媒體的損傷，故最好采用該數(shù)值范圍。
再有，如果按照上述方式往復(fù)滑動(dòng)的方向?yàn)榕c滑動(dòng)桿42的縱向相平行的方向，則形成于所獲得的滑動(dòng)塊11的后側(cè)端部的傾斜面11a的第1邊界線11a1和形成于讀側(cè)端部的傾斜面11b的第1邊界線11b1象圖3所示的那樣，為沿滑動(dòng)塊11的寬度方向延伸的直線，容易抑制傾斜面11a和11b的加工尺寸的誤差。
另外，當(dāng)形成傾斜面11a時(shí)，如圖3所示，如果形成于后側(cè)端部的傾斜面11a的第1邊界線11a1位于相對(duì)元件部12的間隙部G的，后側(cè)端面T側(cè)，則可防止間隙部G的損傷，故最好采用該方式。
此外，當(dāng)形成傾斜面11b時(shí)，如果形成于讀側(cè)端部的傾斜面11b的第1邊界線11b1，形成相對(duì)于構(gòu)成ABS面的臺(tái)階部的讀側(cè)端面L側(cè)，則可避免傾斜面11b對(duì)滑動(dòng)塊11的上浮特性造成影響，故最好采用該方式。
還有，如圖12所示，當(dāng)在滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F的后側(cè)的角部42a和讀側(cè)角部42b上，形成傾斜面時(shí)，將角部42a和角部42b與研磨帶43的表面接觸，在將滑動(dòng)桿42的支承面S與研磨帶43的表面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)的狀態(tài)，使該角部42a和42b沿與滑動(dòng)桿42的縱向相垂直的方向(圖中X方向；與滑動(dòng)桿42的后端面T相垂直的方向)往復(fù)滑動(dòng)，也可在上述后側(cè)的角部42a和角部42b上，形成傾斜面。
但是，如果使上述角部沿與滑動(dòng)桿42的縱向相垂直的方向(圖中X方向；與滑動(dòng)桿42的后側(cè)端面T相垂直的方向)往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部42a和角部42b上，形成傾斜面，則形成于所獲得的滑動(dòng)塊51的后側(cè)端部的傾斜面51a的第1邊界線51a1和形成于讀側(cè)端部的傾斜面51b的第1的邊界線51b1形成圖13所示的波浪形或Z字形的產(chǎn)生晃動(dòng)的曲線，容易產(chǎn)生傾斜面51a和51b的加工尺寸的誤差。
再有，在使上述角部沿與滑動(dòng)桿42的縱向相垂直的方向(圖中X方向)往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部42a和角部42b上形成傾斜面的方法中，如圖12所示，研磨1個(gè)角部所必需的研磨帶43的面積為W1×W2。其中，W1表示使滑動(dòng)桿42在研磨帶43上滑動(dòng)的距離，W2表示滑動(dòng)桿42的縱向的長度。
另外，在使上述角部沿與滑動(dòng)桿42的縱向相平行的方向(圖中的Y方向)往復(fù)移動(dòng)，在上述后側(cè)的角部42a和角部42b上形成傾斜面的方法中，如圖11所示，研磨1個(gè)角部所必需的研磨帶43的面積為W3×W4。其中，W3表示從所形成的傾斜面的第1邊界線到第2邊界線的長度，W4表示使滑動(dòng)桿42在研磨帶43上滑動(dòng)的距離。
通常，W1×W2＞W(wǎng)3×W4。即，對(duì)于研磨1個(gè)角部所必需的研磨帶43的面積來說，使角部沿與滑動(dòng)桿42的縱向相垂直的方向(圖中Y方向)往復(fù)滑動(dòng)的方法(圖12)的相應(yīng)值，比通過使角部沿與滑動(dòng)桿42的縱向相平行的方向(圖中Y方向)往復(fù)滑動(dòng)的方法(圖11)大。
由于研磨帶43中的，為了在1個(gè)滑動(dòng)塊上形成傾斜面而用過的部分(圖11和圖12的斜線部分)的加工率降低，故不再次使用。即，在1個(gè)滑動(dòng)桿42的角部42a和角部42b上形成傾斜面后，采用測(cè)微計(jì)，對(duì)研磨帶43進(jìn)行微量傳送，當(dāng)在不同的滑動(dòng)桿上形成傾斜面時(shí)，采用研磨帶43中的未采用的部分。
因此，使角部沿與圖11所示的滑動(dòng)桿42的縱向保持平行的方向(圖中Y方向)往復(fù)滑動(dòng)的方法，相對(duì)沿與圖12所示的滑動(dòng)桿42的縱向相垂直的方向(圖中Y方向)往復(fù)滑動(dòng)的方法，在采用相同的面積的研磨帶時(shí)，可對(duì)更多的滑動(dòng)塊的角部進(jìn)行研磨。
此外，在滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的相對(duì)面F的表面上，通過金剛石態(tài)碳，形成保護(hù)膜(在圖11和圖12中未示出)。
在過去的倒角加工方法中，由于使滑動(dòng)桿42中的與記錄媒體的整個(gè)相對(duì)面F與研磨帶43接觸，故還對(duì)形成于與記錄媒體的相對(duì)面F的表面上的保護(hù)膜進(jìn)行研磨，產(chǎn)生與記錄媒體的相對(duì)面F損傷的問題。
在本實(shí)施例中，由于僅僅使滑動(dòng)桿42的后側(cè)的角部42a和/或讀側(cè)的角部42b與研磨帶43的表面接觸，進(jìn)行研磨，故形成于與記錄媒體的相對(duì)面F的表面上的保護(hù)膜未為角部42a，42b以外的區(qū)域研磨。因此，比如，如圖4所示，所獲得的滑動(dòng)塊中的，與記錄媒體的相對(duì)面F的大部分為保護(hù)膜16覆蓋。另外，還可防止與記錄媒體的相對(duì)面F發(fā)生損傷。
按照與圖1～4所示的滑動(dòng)塊11相同的形狀，形成下述多個(gè)滑動(dòng)塊，在該多個(gè)滑動(dòng)塊中，使穿過后側(cè)端部的傾斜面11a的第1邊界線11a1和第2邊界線11a2的假想平面C與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值θ1，以及穿過讀側(cè)端部的傾斜面11b的第1邊界線11b1和第2邊界線11b2的假想平面D與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值θ2發(fā)生各種變化。在下面，θ1與θ2分別指傾斜面11a和傾斜面11b的傾角。另外，在本實(shí)例中，θ1＝θ2＝θ。
另外，從傾斜面11a的第1邊界線11a1到讀側(cè)端面T的距離L1為20μm，從第1邊界線11a1到間隙G的距離L2為5μm。
如圖2和圖6所示，通過撓性部23和負(fù)載梁22，將該多個(gè)滑動(dòng)塊固定于臂35上，構(gòu)成所謂的電光負(fù)載方式的硬磁盤機(jī)。還有，反復(fù)進(jìn)行該硬磁盤機(jī)的啟動(dòng)停止，進(jìn)行磁盤D1(記錄媒體)的損傷發(fā)生試驗(yàn)。
圖14為表示滑動(dòng)塊的傾斜面11a和11b的傾角的值θ(＝θ1＝θ2)與磁盤D1的損傷發(fā)生率之間的關(guān)系的曲線圖。
從圖14知道，如果滿足θ≤14°，則磁盤的損傷發(fā)生率小于15％，在5°≤θ≤8°的范圍內(nèi)，磁盤的損傷發(fā)生率為θ％。即，在磁盤中產(chǎn)生損傷的原因在于滑動(dòng)塊11中的與記錄媒體的相對(duì)面F的后側(cè)端面和讀側(cè)端部容易與磁盤D1相接觸，通過在后側(cè)端部和讀側(cè)端部的傾斜面上形成具有適合傾角的傾斜面，可降低磁盤的損傷，或可防止該損傷。
如果θ1和θ2大于14°，則以傾斜面11a的第1邊界線11a1為頂點(diǎn)的角部的角度和以傾斜面11b的第1邊界線11b1為頂點(diǎn)的角部的角度接近直角，不能夠降低滑動(dòng)塊11與磁盤D1接觸時(shí)的磁盤D1的損傷。
接著，逐個(gè)地形成使傾斜面11a的傾角的值θ(＝θ1)變化的多個(gè)滑動(dòng)塊，測(cè)定從傾斜面11a的第1邊界線11a1到后側(cè)端面T的距離L1的誤差(標(biāo)準(zhǔn)偏差σ)。從傾斜面11a的第1邊界線11a1到后側(cè)端面T的距離L1的目標(biāo)值為20μm，從第1邊界線11a1到間隙部G的距離L2的目標(biāo)值為5μm。
圖15表示其結(jié)果。從圖15知道，如果θ＜5°，則從傾斜面11a的第1邊界線11a1到后側(cè)端面T的距離L1的誤差(標(biāo)準(zhǔn)偏差σ)超過2μm。即，在3σ＞6μm，按照上述方式，使從傾斜面11a的第1邊界線11a1到間隙部G的距離L2的目標(biāo)值為5μm的場(chǎng)合，第1邊界線11a1的位置偏離，超過間隙部G的位置的概率為不可忽略的概率(約大于5％)。第1邊界線11a1的位置超過間隙部G的位置，意味著在形成傾斜面11a時(shí)，還對(duì)間隙部G進(jìn)行研磨，即，元件部12的特性發(fā)生變化。因此，θ≥5°是必要的。
此外，同樣在逐個(gè)地形成使讀側(cè)的傾斜面11b的傾角的值θ(＝θ2)變化的多個(gè)滑動(dòng)塊，測(cè)定從傾斜面11b的第1邊界線11b1到讀側(cè)端面T的距離L3的誤差(標(biāo)準(zhǔn)偏差σ)的場(chǎng)合，獲得與圖15的曲線圖所示的結(jié)果相同的結(jié)果。
還有，對(duì)傾斜面11a的傾角的值θ(＝θ1)，與形成傾斜面11a時(shí)的加工性的關(guān)系進(jìn)行調(diào)查?？赏ㄟ^為了形成具有某個(gè)傾角的值θ(＝θ1)的傾斜面11a，在研磨帶上使滑動(dòng)桿往復(fù)滑動(dòng)時(shí)的總滑動(dòng)距離La表示形成傾斜面11a時(shí)的加工性。
通過使圖11所示的滑動(dòng)桿42沿與縱向相平行的方向(圖中的Y方向)往復(fù)滑動(dòng)的方法，形成傾斜面11a。另外，僅僅通過自重，將滑動(dòng)桿42壓靠于研磨帶43上，滑動(dòng)桿42的往復(fù)滑動(dòng)通過手動(dòng)方式進(jìn)行。
當(dāng)以W4表示在研磨帶43上使滑動(dòng)桿42滑動(dòng)的距離，以N表示往復(fù)次數(shù)時(shí)，則上述總滑動(dòng)距離La表示為La＝2×W4×N。
圖16為表示傾斜面11a的傾角的值θ(＝θ1)，與形成傾斜面11a時(shí)的總滑動(dòng)距離La之間的關(guān)系的曲線圖。
從圖16知道，當(dāng)θ＞14°時(shí)，則總滑動(dòng)距離La急劇增加，加工性顯著變差。另外，在5°≤θ≤8°的范圍內(nèi)，總滑動(dòng)距離La約小于30cm，呈現(xiàn)非常好的加工性。
此外，調(diào)查讀側(cè)的傾斜面11b的傾角的值θ(＝θ2)，與形成傾斜面11b時(shí)的總滑動(dòng)距離La之間的關(guān)系調(diào)查結(jié)果也為與圖16的結(jié)果相同的結(jié)果。
根據(jù)圖14～16的結(jié)果知道，穿過后側(cè)端部的傾斜面11a的第1邊界線11a1與第2邊界線11a2的假想平面C與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值θ1，與穿過讀側(cè)端部的傾斜面11b的第1邊界線11b1和第2邊界線11b2的假想平面D與滑動(dòng)塊11的支承面S之間的夾角的值θ2必須滿足5°≤θ1，θ2≤14°，最好滿足5°≤θ1，θ2≤8°。
權(quán)利要求
1.一種磁頭，其包括滑動(dòng)塊，該滑動(dòng)塊具有與記錄媒體相對(duì)的相對(duì)面，形成支承側(cè)的支承面，后側(cè)與讀側(cè)的各端面；設(shè)置于上述滑動(dòng)塊的后側(cè)的磁性記錄和/或再生用的元件部，其特征在于在上述相對(duì)面的后側(cè)的端部與讀側(cè)的端部中的至少1個(gè)上，形成有傾斜面或曲面，該傾斜面或曲面在其與上述相對(duì)面之間，具有第1邊界線，在其與上述端面之間，具有第2邊界線，包含上述第1邊界線和第2邊界線的假想平面與上述支承面之間的夾角在5°～14°的范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于在上述相對(duì)面上，形成保護(hù)膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于形成于上述后側(cè)的端部的傾斜面或曲面的第1邊界線相對(duì)上述元件部的間隙部，位于后側(cè)的端面?zhèn)取?br> 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于在上述相對(duì)面上，形成臺(tái)階，通過該臺(tái)階而位于上述相對(duì)面?zhèn)鹊淖罡呶恢玫拿鏋槌惺軄碜陨鲜鲇涗浢襟w上的空氣流的上浮力的ABS面，上述元件部的間隙部位于上述ABS面的區(qū)域內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁頭，其特征在于上述第1邊界線形成于上述傾斜面或曲面與上述ABS面的邊界上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁頭，其特征在于形成于上述后側(cè)的端部的傾斜面或曲面的第1邊界線相對(duì)形成上述ABS面的臺(tái)階，位于讀側(cè)的端面?zhèn)取?br> 7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于上述第1邊界線朝向上述滑動(dòng)塊的寬度方向呈直線狀或曲線狀延伸。
8.一種磁頭的制造方法，該磁頭包括滑動(dòng)塊，該滑動(dòng)塊具有與記錄媒體相對(duì)的相對(duì)面，形成支承側(cè)的支承面，后側(cè)與讀側(cè)的各端面；設(shè)置于上述滑動(dòng)塊的后側(cè)的磁性記錄和/或再生用的元件部，該方法包括下述步驟(a)在后側(cè)端面上，形成形成有多個(gè)元件部的滑動(dòng)桿；(b)將上述滑動(dòng)桿中的相對(duì)面的后側(cè)的角部與研磨加工面接觸，將上述滑動(dòng)桿的支承面與研磨加工面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)，使該滑動(dòng)桿沿一定方向往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部，形成傾斜面；(c)將上述滑動(dòng)桿分別設(shè)置于各自具有上述元件部的相應(yīng)滑動(dòng)塊上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁頭的制造方法，其特征在于在上述(b)的步驟后，具有下述步驟(d)，即將上述滑動(dòng)桿中的相對(duì)面的讀側(cè)的角部與研磨加工面接觸，將上述滑動(dòng)桿的支承面與研磨加工面之間的夾角設(shè)定在5°～14°的范圍內(nèi)，使該滑動(dòng)桿沿一定方向往復(fù)滑動(dòng)，在上述后側(cè)的角部，形成傾斜面。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁頭的制造方法，其特征在于在上述(b)和/或(c)的步驟中，使上述滑動(dòng)桿沿與其縱向相平行的方向往復(fù)滑動(dòng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁頭的制造方法，其特征在于在上述(b)和/或(c)的步驟中，使上述滑動(dòng)桿沿與其縱向相垂直的方向往復(fù)滑動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁頭的制造方法，其特征在于在與上述滑動(dòng)桿的與記錄媒體的相對(duì)面的表面上，形成保護(hù)膜后，進(jìn)行上述(b)和/或(c)的步驟。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁頭的制造方法，其特征在于在上述(b)和/或(c)的步驟中，使上述滑動(dòng)桿沿與其縱向相平行的方向往復(fù)滑動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁頭的制造方法，其特征在于在上述(b)和/或(c)的步驟中，使上述滑動(dòng)桿沿與其縱向相垂直的方向往復(fù)滑動(dòng)。
全文摘要
穿過滑動(dòng)塊的傾斜面的第1邊界線和第2邊界線的假想平面C與滑動(dòng)塊的支承面S之間的夾角的值θ1,以及穿過傾斜面的第1邊界線和第2邊界線的假想平面D與滑動(dòng)塊的支承面S之間的夾角的值θ2在5°～14°的范圍內(nèi)。
文檔編號(hào)G11B21/21GK1340808SQ0113067
公開日2002年3月20日 申請(qǐng)日期2001年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月30日
發(fā)明者巖崎純 申請(qǐng)人:阿爾卑斯電氣株式會(huì)社