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光記錄媒體的制作方法

文檔序號:6759881閱讀:215來源:國知局
專利名稱:光記錄媒體的制作方法
技術領域
發(fā)明涉及具有多個用于通過波長為400±5納米的激光束重現(xiàn)信息的信息記錄平面的光記錄媒體。
背景技術
目前,具有多個信息記錄平面的光記錄媒體已實現(xiàn)。這種記錄媒體,例如,DVD(數(shù)字多用途盤)具有兩個或四個信息記錄平面,且在舊有類型中,可以讀取兩個信息記錄平面的信息,而不翻轉盤面。在新近類型中,通過翻轉盤面,可以從盤的兩面讀取兩個信息記錄平面的信息。
順便提及,日本公開特許公報11-283278公開了一種具有三個可從一面讀取的信息記錄平面的光記錄媒體。
從增強所述光記錄媒體的記錄密度和提高使用的方便性的角度來看,增加可從一面讀取的信息記錄平面的數(shù)量是有效的。
發(fā)明概述因此,本發(fā)明的目的在于提出一種具有四個或更多可從一面讀取的信息記錄平面的光記錄媒體。
本發(fā)明的光記錄媒體是一種具有如下特征的光記錄媒體(100)它包括至少四個信息記錄平面和分別形成在第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)上的(第一至第四)反射層(3,5,7,9),其中第一反射層(3)具有主要含氧化鈦的層,第二反射層(5)具有主要含氧化鈦的層,第三反射層(7)具有由主要含銀的合金制成的層或由所述銀合金層與所述氧化鈦層疊合而成的層,以及第四反射層(9)具有由主要含鋁的合金制成的層。
根據(jù)本發(fā)明,由于第一反射層(3)具有主要含氧化鈦的層、第二反射層(5)具有主要含氧化鈦的層、第三反射層(7)具有由主要含銀的合金制成的層或由所述銀合金層與所述氧化鈦層疊合而成的層,以及第四反射層(9)具有由主要含鋁的合金制成的層,所以可以抑制從各個反射層反射的光量的變化??梢岳貌ㄩL為400±5納米的激光束從所述光記錄媒體的一側來讀取第一至第四信息記錄平面上(3a,5a,7a,9a)的信息。本發(fā)明還包括除第一至第四反射層(3,5,7,9)之外的其他反射層,即,它還可應用于具有五個或五個以上反射層的光記錄媒體。本發(fā)明還可應用于只播型(play-only)光記錄媒體。第一至第四反射層(3,5,7,9)中的一個或隨意多個層可以以疊片結構的形式形成。第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)分別形成在與第一至第四反射層(3,5,7,9)接觸的第一至第四記錄與讀出層(2,4,6,8)的各個平面上。所述記錄與讀出層可以以光固化樹脂(如聚丙烯酸酯樹脂,聚甲基丙烯酸酯樹脂等)的液態(tài)凝固制品或半固態(tài)的板的形式形成。作為記錄與讀出層的一些材料,還可以采用熱固性樹脂(如聚碳酸酯樹脂等)。光記錄媒體中記錄的信息可以承載在第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)的波紋、即相坑點中。
第一和第二反射層(3,5)中的氧化鈦最好含比例為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下的氧/鈦。在此情況中,因為可以獲得接近于二氧化鈦(TiO2)的光學特性,所以尤其可以可以適當?shù)乜刂频谝缓偷诙瓷鋵?3,5)的反射率和透射率。
第一和第二反射層(3,5)中主要含氧化鈦的層最好是非晶態(tài)或細晶組合物。在此情況中,第一和第二反射層(3,5)在光學特性上是均勻的。非晶態(tài)或細晶組合物在光學特性上與非晶態(tài)組合物是相同的。
第一和第二反射層(3,5)的厚度最好為80納米或80納米以下。只要可以均勻地形成各個層,可以無需限制此厚度的下限。在實際中,下限可以為大約10納米左右。在此情況中,尤其可以適當?shù)乜刂频谝缓偷诙瓷鋵?3,5)的反射率和透射率。
第三反射層(7)中主要含銀的合金最好包含鈀或釕,以及銅或鈦,此組合物中銀的比例按重量為94%或94%以上。在此情況中,尤其可以適當?shù)乜刂频谌瓷鋵?7)的反射率和透射率。
第三反射層(7)的厚度最好為20納米或20納米以下。如上所述,只要可以均勻地形成各個層,可以無需限制此厚度的下限。在此情況中,尤其可以適當?shù)乜刂频谌瓷鋵?7)的反射率和透射率。
第三反射層(7)最好通過將主要含銀的合金層和主要含氧化鈦的層疊合來構成。在此情況中,因為可以降低第三反射層(7)的吸收率,所以尤其可以適當?shù)乜刂破浞瓷渎屎屯干渎省?br> 第三反射層(7)中的氧化鈦最好包含比例為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下的氧/鈦。在此情況中,尤其可以適當?shù)乜刂频谌瓷鋵?7)的反射率和透射率。
第三反射層(7)中主要含氧化鈦的層最好是非晶態(tài)或細晶組合物。在此情況中,第三反射層(7)在光學特性上是均勻的。非晶態(tài)或細晶組合物在光學特性上與非晶態(tài)組合物是相同的。
第三反射層(7)中主要含氧化鈦的層的厚度最好為80納米或80納米以下。如上所述,只要可以均勻地形成各個層,可以無需限制此厚度的下限。在此情況中,尤其可以適當?shù)乜刂频谌瓷鋵?7)的反射率和透射率。
第四反射層(9)中主要含鋁的合金最好包含鈦,鉻,鋅,錳和銅中的至少一種,組合物中鋁的比例按重量為90%或90%以上。在此情況中,第四反射層(9)的反射率具有較高的值。
第四反射層(9)中主要含鋁的合金層的厚度最好為20納米或20納米以上。在此情況中,第四反射層(9)的反射率具有較高的值。
在從第一反射層(3)反射的光量、從第二反射層(5)反射的并通過第一反射層(3)的光量、從第三反射層(7)反射的并通過第一反射層(3)和第二反射層(5)的光量、和從第四反射層(9)反射的并通過第一反射層(3)、第二反射層(5)和第三反射層(7)的光量中,最大值和最小值的比最好為2倍或2倍以下。
在此情況中,因為可以精確地讀取對應于各個反射層的所記錄的信息,所以可以獲得具有四層信息記錄平面的實用光記錄媒體。當用于具有除第一至第四反射層(3,5,7,9)之外的其他反射層(即,具有五個或五個以上反射層)的光記錄媒體時,從這五個反射層反射的光量的最大值和最小值之比設置在2倍或2倍以下。
本發(fā)明的光記錄媒體還是一種具有如下特征的光記錄媒體(100)它包括分別設置在第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)上的第一至第四反射層(3,5,7,9),其中在從第一反射層(3)反射的光量、從第二反射層(5)反射的并通過第一反射層(3)的光量、從第三反射層(7)反射的并通過第一反射層(3)和第二反射層(5)的光量、和從第四反射層(9)反射的并通過第一反射層(3)、第二反射層(5)和第三反射層(7)的光量中,最大值和最小值的比最好為2倍或2倍以下。
根據(jù)本發(fā)明,因為變化被抑制、使得從各個反射層反射的光量的最大值和最小值的比可以是2倍或2倍以下,所以可以精確地讀取對應于各個反射層的所記錄的信息。因此,可以獲得具有四層信息記錄平面的實用光記錄媒體。只要可以適度地控制各個反射層的反射率和透射率,則不對材料進行特別的限制??梢岳眉す馐鴱墓庥涗浢襟w的一面讀取第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)上的信息。本發(fā)明還包括除第一至第四反射層(3,5,7,9)之外的其他反射層,即,本發(fā)明還可應用于具有五個或五個以上反射層的光記錄媒體。在此情況中,從五個反射層反射的光量的最大值和最小值之比設置為2倍或2倍以下。本發(fā)明還可應用于只播型光記錄媒體??梢砸砸簯B(tài)光固化樹脂的凝固物或半固態(tài)平面光固化樹脂的凝固物的形式形成第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)。所述光記錄媒體中記錄的信息可以承載在第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)的波紋、即相坑點中。
為了使本發(fā)明易于理解,附圖中的標號都括上括號來表示,但是必須注意的是,本發(fā)明并不僅僅局限于圖示的實施例。
最佳實施例的描述下面參照

圖1-6說明本發(fā)明的光記錄媒體的最優(yōu)實施例。本實施例是將本發(fā)明的光記錄媒體應用于只播型四層盤的實例。
圖1是四層盤的剖面圖。如圖1所示,四層盤100包括依次從圖1的底部到頂部的第一基片1;第一記錄與讀出層2;第一反射層3;第二記錄與讀出層4;第二反射層5;第二記錄與讀出層6;第三反射層7;第三記錄與讀出層8;第四反射層9;粘合劑層10和第二基片11。
例如,所述第一基片是玻璃基片,其表面通過化學方法進行了充分的加固和拋光。例如,它是外徑為120mm,內徑為15mm和厚度為大約0.52mm的玻璃基片??梢圆捎弥T如聚碳酸酯樹脂,聚丙烯酸酯樹脂,聚甲基丙烯酸酯樹脂等材料作為基片。
第一記錄與讀出層2、第二記錄與讀出層4、第三記錄與讀出層6、第四記錄與讀出層8和粘合劑層10由光固化樹脂(如聚甲基丙烯酸酯樹脂)制成。在第一至第四記錄與讀出層2,4,6和8中,形成許多其尺寸適合于用于重現(xiàn)信息的激光束的波長的、用于承載信息的坑點。同普通光盤一樣,坑點以螺旋形式排列,以構成紋跡,而第一反射層3、第二反射層5、第三反射層7和第四反射層9以波浪形構成、與記錄與讀出層2,4,6和8的形狀相吻合。因此,第一反射層3以與信息記錄平面3a相反的指定形狀構成,第二反射層5以與信息記錄平面5a相反的指定形狀構成,第三反射層7以與信息記錄平面7a相反的指定形狀構成以及第四反射層9以與信息記錄平面9a相反的指定形狀構成。
第一記錄與讀出層2的厚度約為20im,而第二記錄與讀出層4、第三記錄與讀出層6和第四記錄與讀出層8的厚度約為30im。從第一基片1表面(圖1中的頂層)到第三記錄與讀出層6的厚度方向(圖1中的垂直方向)上的中間位置的距離、即從圖1中第一基片1的頂面到第三記錄與讀出層6的圖1中上下兩端之間的中間位置的距離約為0.6mm。因此,第一信息記錄平面3a與第四信息記錄平面9a,以及第二信息記錄平面5a與第三信息記錄平面7a分別形成在與距第一基片1約0.6mm的平面對稱的位置。
第一反射層3和第二反射層5都由氧化鈦(TiOx,其中x為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下)制成,第一反射層3的厚度為20納米,而第二反射層5的厚度為28納米。
第三反射層7具有疊片結構,它包括由主要含銀的合金(Furuya金屬Ag98.1Pd0.9Cu1.0)制成的層和氧化鈦層(TiOx,其中x為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下);所述主要含銀的合金層的厚度為9納米,而所述氧化鈦層的厚度為40納米。第四反射層9由主要含鋁(Al99Ti1)的金屬制成,第四反射層9的厚度為50納米。此處,第四反射層可以采用鋁制成,即單純的鋁層,而非合金層。
例如,第二基片11可以由與第一基片1相同的材料制成。第二基片11通過粘合劑層10與第四反射層9粘合,以便可以保護第四反射層9。
下面參照圖2和圖3,解釋從第一至第四反射層3,5,7和9反射的光量。一般,在多層盤中,從各個反射層反射并到達光學傳感器的光量需要保持在一個恒定值附近,因此要求進行組合,以便(1)由第一反射層3反射的光量,(2)兩次通過第一反射層3后返回的由第二反射層5反射的光量,(3)各兩次通過第一反射層3和第二反射層5后返回的由第三反射層7反射的光量,以及(4)各兩次通過第一反射層3、第二反射層5和第三反射層7后返回的由第四反射層9反射的光量應該盡可能地彼此相等。為了正確地讀取坑點,反射光量(1)至(4)的最大值與最小值之比必須抑制在2倍或2倍以下。
下面解釋使反射光量(1)至(4)相等的特定條件。
在四層盤100中,因為第四反射層9是由主要含鋁的合金制成的,所以反射率約為82%。按照所要求的第三反射層7的特性,當?shù)谌瓷鋵?的反射率的值與將第四反射層9的反射率(82%)乘以第三反射層7的透射率的平方所得到的值彼此相等時,從第四反射層9反射的光量與從第三反射層7反射的光量彼此相等。
圖2(a)和圖2(b)說明一種疊片結構(波長為405納米)中的反射率、透射率和吸收率,其中所述疊片結構包括一個主要含銀(Furuya金屬Ag98.1Pd0.9Cu1.0)的合金層和氧化鈦層(TiOx,其中x為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下)。在圖2(a)中,氧化鈦的厚度固定為40納米,而改變主要含銀的合金的厚度,在圖2(b)中,主要含銀的合金的厚度固定為10納米,而改變氧化鈦的厚度。
根據(jù)圖2(b),通過將氧化鈦的薄膜厚度設定為40納米,可以將吸收率抑制在約4%。如圖2(a)所示,當銀合金的薄膜厚度約為10納米時,得到使二值相等的反射率和透射率組合,且所述反射率約為32%和所述透射率約為56%。圖2(a)中所示的反射率包括構成所述疊片結構的丙烯酸基片表面的反射率,且圖2(a)中所示的包括丙烯酸基片表面的反射的所述反射率約為40%。
按照所要求的第二反射層5的特性,當?shù)诙瓷鋵?的反射率的值等于將第三反射層7的反射率(32%)乘以第二反射層5的透射率的平方所得到的值時,得到所要求的特性。
圖3說明相對于氧化鈦的薄膜厚度,第二反射層5中所用的氧化鈦(TiOx,其中x為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下)的反射率、透射率和吸收率(波長為405納米)。如圖3所示,當氧化鈦的薄膜厚度約為28納米時,得到使二值相等的反射率與透射率的組合,且所述反射率為大約18%和所述透射率為大約75%。圖3中所示的反射率包括構成氧化鈦薄膜的丙烯酸基片表面的反射率,且圖3中所示的包括丙烯酸基片表面的反射的反射率約為25%。
按照所要求的第一反射層3的特性,當?shù)谝环瓷鋵?的反射率的值等于第二反射層5的反射率(18%)乘以第一反射層3的透射率的平方所得到的值時,得到所要求的特性。
如圖3所示,當氧化鈦的薄膜厚度為大約20納米時,得到使二值相等的反射率與透射率組合,且所述反射率為大約12%和所述透射率為大約80%。但是,圖3所示的包括丙烯酸基片表面的反射的所述反射率為大約20%。
如圖2(a),圖2(b)和圖3所示,可獲得滿足上述關系的反射率和透射率的各層的薄膜厚度值有多個。這是因為反射率和透射率的值隨著薄膜厚度的變化,因光的干涉效應,按照由光的波長和薄膜的折射率決定的一定的周期反復變化。在光記錄媒體(如光盤)中,反射層越薄,從制造成本的角度來看就越有利,還因為選擇較厚的薄膜會導致因干擾使重現(xiàn)信息損失增加,因此,最好選擇最小的薄膜厚度,以獲得相等的反射率和透射率。一般,最佳的薄膜厚度設定在最小薄膜厚度一側的所形成的重復性周期的一個周期內。
構成反射層的材料的光學常數(shù)可能會隨形成所述反射層的條件的不同、或制造設備的差異或變動而不同。在此情況中,構成各反射層的材料的薄膜厚度與反射率、透射率和吸收率之間的相關性或多或少發(fā)生變化,因此需要選擇符合所述反射薄膜的形成條件的最優(yōu)薄膜厚度。
四層盤100上記錄的信息是由第一至第四信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)的波紋或相坑點承載的。如圖1所示,通過從視圖中的下側射入激光束,接收到從各個反射層反射來的激光束反射光,從而讀取所述四層盤上記錄的信息。即,可以借助激光束從所述四層盤的一例讀取所述四層盤100的四個信息記錄平面上記錄的信息。
現(xiàn)在參照圖4和圖5,解釋四層盤100的制造方法。圖4說明直到形成第一反射層3的加工工序,圖5說明直到形成第三反射層7的加工工序。
在圖4(a)中玻璃基片1上,如圖4(b)所示涂敷一層液態(tài)光固化樹脂2a(例如,Mitsubishi Rayon的紫外線固化樹脂MP-121),如圖4(c)所示壓上其形狀對應于構成信息記錄平面的坑點的鎳(Ni)壓模30。然后,如圖4(d)所示,通過高壓水銀燈31的光的照射使光固化樹脂2a固化,再卸下壓模30,從而如圖4(e)所示形成第一記錄與讀出層2。然后,如圖4(f)所示,利用濺射法在第一記錄與讀出層2的表面上以所需要的薄膜厚度形成第一反射層3。此處,一般可以采用眾所周知的2P傳遞法。
然后,如圖5所示,以圖4(a)至圖4(f)中所示的相同的加工工序形成第二記錄與讀出層4、第二反射層5、第三記錄與讀出層6以及第三反射層7。即,如圖如圖5(a)所示,通過在第一反射層3的表面上涂敷光固化樹脂4a、壓上壓模30A、然后進行固化來形成第二記錄與讀出層4。在第二記錄與讀出層4的表面上,通過濺射形成第二反射層5。如圖5(b)所示,通過在第二反射層5的表面上涂敷光固化樹脂6a、壓上壓模30B、然后進行固化來形成第三記錄與讀出層6。在第三記錄與讀出層6的表面上,通過濺射形成第三反射層7。
第四記錄與讀出層8和第四反射層9的形成同其他記錄與讀出層和反射層。然后,在第四反射層9的表面上,涂敷一層光固化樹脂作為粘合劑層10,然后疊加與第一基片1相同材料的第二基片11,使所述光固化樹脂固化,以便與所述第二基片11粘著,這樣就制成四層盤100。
下面說明對最佳實施例中形成的四層盤100的評估結果。
采用波長為401納米的藍紫色半導體激光器、數(shù)值口徑為NA0.6的物鏡、利用獨創(chuàng)的(originally developed)液晶球面像差校正裝置、以及獨創(chuàng)的(originally developed)信號處理裝置來重現(xiàn)四層盤100。結果,在第一信息記錄平面3a上,重現(xiàn)的信號的抖動率為8.5%和I14H的反射率為16.1%。同樣的,在第二信息記錄平面5a上,重現(xiàn)的信號的抖動率為8.6%和I14H的反射率為17.6%;在第三信息記錄平面7a上,重現(xiàn)的信號的抖動率為8.1%和I14H的反射率為19.3%;以及在第四信息記錄平面8a上,重現(xiàn)的信號的抖動率為9.5%和I14H的反射率為14.4%。因此,根據(jù)本實施例的光記錄媒體,可以將對應于反射薄膜的信息記錄平面上的重現(xiàn)信號的波動抑制到很小。
在本實施例中,以包括主要含銀(Ag98.1Pd0.9Cu10)的合金層和氧化鈦層(TiOx,其中x為1.8或1.8以上至2.2或2.2以下)的疊片結構的形式形成第三反射層7,但是所述第三反射層也可以只由主要含銀的合金層構成。
圖6說明相對于主要含銀(Ag98.1Pd0.9Cu1.0)的合金的薄膜厚度,所述合金的反射率、透射率和吸收率(波長為405納米)。通過與圖2(a)的比較可看出,較之于疊片結構,僅由主要含銀的合金構成的層在很薄的薄膜厚度區(qū)間具有較高的吸收率。因此,當把第三反射層與疊片結構比較時,在單層銀合金的情況下,所述第三反射層的薄膜厚度的允許范圍比較窄,這有可能造成制造上缺陷。因此,對于第三反射層,最好采用疊片結構。
在本實施例中,各個記錄與讀出層都采用液態(tài)光固化樹脂構成,但是,還可以采用半固態(tài)光固化樹脂來替代液態(tài)光固化樹脂。一般,采用熱固性樹脂片來替代涂敷液態(tài)光固化樹脂,使記錄與讀出層厚度的不均勻度更小,抑制了因記錄與讀出層的不均勻的厚度所導致的像差的發(fā)生,甚至在重現(xiàn)以更高密度記錄的坑點時,也可以制造出重現(xiàn)信號損耗少且品質優(yōu)秀的多層盤。
在先前的實施例中,說明了采用2P法的制造方法,但是制造方法并不僅僅局限于此方法,還可以包括例如注入成型及其他方法。例如,可以作為一個整體部件通過注入成型方法來制造與圖1中第一基片1和第一記錄與讀出層2對應的基片,或者可以作為一個整體部件通過注入成型來制造與圖1中第二基片和粘合劑層10對應的基片。當采用這些基片制造光記錄媒體時,可以減少采用光固化樹脂構成的記錄與讀出層的數(shù)量,從而可以提高所述光記錄媒體的生產率。
權利要求
1.一種光記錄媒體,它包括至少四個信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)和分別形成在各個信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)上的反射層(3,5,7,9),其中所述第一反射層(3)具有主要含氧化鈦的層,所述第二反射層(5)具有主要含氧化鈦的層,所述第三反射層(7)具有由主要含銀的合金制成的層,以及所述第四反射層(9)具有由主要含鋁的合金制成的層。
2.根據(jù)權利要求1的光記錄媒體,其特征在于所述第一和第二反射層(3,5)中的所述氧化鈦按1.8或1.8以上至2.2或2.2以下的比例包含氧/鈦。
3.根據(jù)權利要求1或2的光記錄媒體,其特征在于所述第一和第二反射層(3,5)中主要含氧化鈦的所述層是非晶態(tài)或細晶組合物。
4.根據(jù)權利要求1至3中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第一和第二反射層(3,5)的厚度為80納米或80納米以下。
5.根據(jù)權利要求1至4中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第三反射層(7)中主要含銀的合金包括鈀或釕,以及銅或鈦,所述組合物中銀的比例為94%或94%以上。
6.根據(jù)權利要求1至5中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第三反射層(7)的厚度為20納米或20納米以下。
7.根據(jù)權利要求1至6中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第三反射層(7)是通過把主要含銀的所述合金層和主要含氧化鈦的層疊合來形成的。
8.根據(jù)權利要求7的光記錄媒體,其特征在于所述第三反射層(7)中的所述氧化鈦按1.8或1.8以上至2.2或2.2以下的比例包含氧/鈦。
9.根據(jù)權利要求7或8的光記錄媒體,其特征在于所述第三反射層(7)中主要含氧化鈦的所述層是非晶態(tài)或細晶組合物。
10.根據(jù)權利要求7至9中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第三反射層(7)中主要含氧化鈦的所述層的厚度為80納米或80納米以下。
11.根據(jù)權利要求1至10中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第四反射層(9)中主要含鋁的所述合金包含鈦、鉻、鋅、錳以及銅中的至少一種,且所述組合物中鋁的比例為90%或90以上。
12.根據(jù)權利要求1至11中任何一個的光記錄媒體,其特征在于所述第四反射層(9)中主要含鋁的所述合金層的厚度為20納米或20納米以上。
13.根據(jù)權利要求1至12中任何一個的光記錄媒體,其特征在于在從所述第一反射層(3)反射的所述反射光量、從所述第二反射層(5)反射的并通過所述第一反射層(3)的所述反射光量、從所述第三反射層(7)反射的并通過所述第一反射層(3)和所述第二反射層(5)的所述反射光量,以及從所述第四反射層(9)反射的并通過所述第一反射層(3)、所述第二反射層(5)和所述第三反射層(7)的所述反射光量中,最大值和最小值的比例為2倍或2倍以下。
14.一種光記錄媒體,它包括至少四個信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)和分別形成在各個信息記錄平面(3a,5a,7a,9a)上的反射層(3,5,7,9),其中在從所述第一反射層(3)反射的所述反射光量、從所述第二反射層(5)反射的并通過所述第一反射層(3)的所述反射光量、從所述第三反射層(7)反射的并通過所述第一反射層(3)和所述第二反射層(5)的所述反射光量、從所述第四反射層(9)反射的并通過所述第一反射層(3)、所述第二反射層(5)和所述第三反射層(7)的所述反射光量中,最大值和最小值的比例為2倍或2倍以下。
全文摘要
提出一種具有四個或四個以上可以從一側讀取的信息記錄平面的光記錄媒體。第一反射層3具有主要含氧化鈦的層,第二反射層5具有主要含氧化鈦的層,第三反射層7具有主要含銀的合金層,以及第四反射層9具有主要含鋁的合金層。
文檔編號G11B7/24GK1340818SQ0112508
公開日2002年3月20日 申請日期2001年8月6日 優(yōu)先權日2000年8月4日
發(fā)明者樋口隆信 申請人:日本先鋒公司
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