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光盤設備的制作方法

文檔序號:6757633閱讀:180來源:國知局
專利名稱:光盤設備的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及一種平衡聚焦誤差信號和跟蹤誤差信號從而進行散焦調(diào)整和偏道調(diào)整的光盤設備。
本發(fā)明還涉及一種使用從光盤等的返回信號把光拾取器放射的光束聚焦到光盤等的信號記錄表面上的光盤設備。
最近,在光軸方向上的兩個位置處有焦點的物鏡(此后稱為雙焦點透鏡)被用來由一個光盤再現(xiàn)設備再現(xiàn)CD(光盤)、DVD(數(shù)字通用盤)。
通常,在光盤再現(xiàn)設備中,散焦和偏道調(diào)整在設備起動時自動進行。執(zhí)行散焦調(diào)整使得來自光拾取器的光束以最佳抖動點被聚焦在光盤的信號記錄表面上。執(zhí)行偏道調(diào)整使得光束準確地跟蹤光盤的信號記錄表面上的光道。通常,這些散焦和偏道調(diào)整通過應用偏置電壓(偏移電壓)來實現(xiàn)。
而且,在包括能夠再現(xiàn)CD和DVD的雙焦點透鏡的光盤再現(xiàn)設備中,CD的散焦和DVD的散焦彼此不同,從而執(zhí)行散焦調(diào)整的偏置電壓值被設置在一個較大值。
另外,在再現(xiàn)光盤的通常情況下,光拾取器的物鏡在物鏡越來越靠近光盤的方向上被聚焦在光盤上。
同時,當使用其偏置電壓值如上進行設置的光盤設備再現(xiàn)受損的光盤時,聚焦和跟蹤都會帶來下面的問題。
第一個問題發(fā)生在再現(xiàn)受損的光盤時。即如

圖1所示,對于受損部分保持驅(qū)動電壓。檢測不到誤差信號,從而誤差信號越來越接近零。在受損部分之前和之后,產(chǎn)生等于已經(jīng)被施加到誤差信號以進行其上的調(diào)整的偏置電壓的偏移。而且,在通過受損的部分后,再次施加偏移電壓到誤差信號,從而伺服機構系統(tǒng)跟隨誤差,所以驅(qū)動電壓被干擾。由于驅(qū)動電壓的干擾,從光盤再現(xiàn)的信號受到影響,其波形被干擾,使得誤差率惡化。
第二個問題出現(xiàn)在當自動進行散焦調(diào)整和偏道調(diào)整時在光盤的位置處的損壞程度與再現(xiàn)光盤時在光盤的位置處的損壞程度有差別的情況下。即,從光盤來的返回光量在受損部分明顯被降低,使得進行自動調(diào)整的固定偏移電壓值根據(jù)光盤位置而大大地偏離最佳值。
另外,如果使用包括上述雙焦點透鏡的光盤再現(xiàn)設備再現(xiàn)CD,在所謂的上搜索期間在用于檢測聚焦伺服機構的接通狀態(tài)的真正S狀信號之前產(chǎn)生稱作S狀偽信號的信號,這是由于兩個焦點的存在導致的,其中上搜索指的是雙焦點透鏡沿著透鏡從一個遙遠的位置越來越靠近光盤的方向移動從而實現(xiàn)聚焦。
稱作S狀偽信號的信號和真正的S狀信號具有很多變形形式,從而難以進行固定水平的檢測。另外,如果光盤再現(xiàn)設備接通聚焦伺服機構,聚焦的接通就失效,結(jié)果誤把稱作S狀偽信號的信號當作真正的S狀信號。為避免這一故障,可執(zhí)行所謂的下搜索,其中物鏡在一個方向上被聚焦在光盤上,在這個方向上透鏡從一個比聚焦位置更靠近光盤的位置移動離開。
但是,在下搜索中,物鏡越來越靠近光盤,通過聚焦位置,如果透鏡一直移動下去,物鏡將撞到光盤上。那么光盤將被損壞。此外,由于雙焦點透鏡的焦距短,這是由于透鏡的特性導致的,因此考慮在光盤旋轉(zhuǎn)期間的表面模糊,難以在設計中提供用來防止光盤與物鏡之間的撞擊的機械止動器。
因此考慮上述情況作出了本發(fā)明,并且本發(fā)明的第一個目的是提供一種光盤設備,其防止了由于再現(xiàn)的信號的干擾所引起的誤差率的惡化。
本發(fā)明的第二個目的是提供一種光盤設備,其中通過使用聚焦過零檢測信號和/或FOK信號執(zhí)行下聚焦搜索來正確地接通聚焦。
為實現(xiàn)第一目的,根據(jù)本發(fā)明的光盤設備包括一個用于把光束經(jīng)雙焦點透鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上,并用于檢測其反射光的光拾取器;用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制雙焦點透鏡的驅(qū)動控制裝置;用于測量由光拾取器檢測到的聚焦誤差中心值的聚焦誤差中心值測量裝置;用于基于反射光和可變系數(shù)Kf產(chǎn)生進行了平衡調(diào)整的聚焦誤差信號的聚焦誤差信號產(chǎn)生裝置;以及用于基于由聚焦誤差中心值測量裝置測量的聚焦誤差中心值和聚焦誤差信號產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的并進行了平衡調(diào)整的聚焦誤差信號使驅(qū)動控制裝置控制聚焦平衡的聚焦平衡控制裝置。
在這個光盤設備中,聚焦平衡控制裝置基于聚焦誤差中心值和平衡調(diào)整的聚焦誤差信號使得驅(qū)動控制裝置控制聚焦平衡。
根據(jù)本發(fā)明的另一個光盤設備包括一個用于把光束經(jīng)雙焦點透鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上并用于檢測其反射光的光拾取器;用于在光盤的徑向上驅(qū)動和控制雙焦點透鏡的驅(qū)動控制裝置;用于測量由光拾取器檢測到的跟蹤誤差中心值的跟蹤誤差中心值測量裝置;用于基于反射光和可變系數(shù)Kt產(chǎn)生進行了平衡調(diào)整的跟蹤誤差信號的跟蹤誤差信號產(chǎn)生裝置;以及用于基于由跟蹤誤差中心值測量裝置測量的跟蹤誤差中心值和跟蹤誤差信號產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的并進行了平衡調(diào)整的跟蹤誤差信號使驅(qū)動控制裝置控制跟蹤平衡的跟蹤平衡控制裝置。
在這個光盤設備中,跟蹤平衡控制裝置基于跟蹤誤差中心值和平衡調(diào)整的跟蹤誤差信號使得驅(qū)動控制裝置控制跟蹤平衡。
而且,為實現(xiàn)第二目的,根據(jù)本發(fā)明的光盤設備包括一個用于把光束經(jīng)物鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上并用于檢測其反射光的光拾取器;用于基于光拾取器檢測到的反射光,檢測聚焦誤差信號的聚焦誤差信號檢測裝置;用于基于聚焦誤差信號檢測裝置檢測到的聚焦誤差信號,檢測聚焦過零檢測信號的聚焦過零檢測信號檢測裝置;以及用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制物鏡的驅(qū)動控制裝置,其中,如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從聚焦過零檢測信號檢測裝置檢測到的聚焦過零檢測信號不再被檢測時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤更靠近移動的物鏡,并且如果在停止物鏡后物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于聚焦過零檢測信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
根據(jù)本發(fā)明的又一光盤設備包括一個用于把光束經(jīng)物鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上并用于檢測其反射光的光拾取器;用于基于光拾取器檢測到的反射光總光量檢測引入信號的引入信號檢測裝置;用于基于引入信號檢測裝置檢測的引入信號檢測FOK信號的FOK信號檢測裝置;用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制物鏡的驅(qū)動控制裝置,其中,如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從FOK信號檢測裝置檢測到的FOK信號不再被檢測時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤更靠近移動的物鏡,并且如果在停止物鏡后物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于FOK信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
另外,根據(jù)本發(fā)明的又一光盤設備包括一個用于把光束經(jīng)物鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上并用于檢測其反射光的光拾取器;用于基于光拾取器檢測到的反射光檢測聚焦誤差信號的聚焦誤差信號檢測裝置;用于基于聚焦誤差信號檢測裝置檢測到的聚焦誤差信號檢測聚焦過零檢測信號的聚焦過零檢測信號檢測裝置;用于基于光拾取器檢測到的反射光總量檢測引入信號的引入信號檢測裝置;用于基于引入信號檢測裝置檢測的引入信號檢測FOK信號的FOK信號檢測裝置;以及用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制物鏡的驅(qū)動控制裝置,其中,如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從聚焦過零檢測信號檢測裝置檢測到的聚焦過零檢測信號不再被檢測時開始經(jīng)過預定時間周期后或從FOK信號檢測裝置檢測到的FOK信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤更靠近移動的物鏡,并且如果在停止物鏡后物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于聚焦過零檢測信號和FOK信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。如上所述,根據(jù)本發(fā)明,聚焦平衡和跟蹤平衡被控制,使得不再施加偏移電壓。因此,沒有在來自光拾取器的光束通過受損部分后用于聚焦和跟蹤的驅(qū)動電壓跟隨偏移電壓而帶來的驅(qū)動電壓的干擾。而且,根據(jù)本發(fā)明的光盤設備,即使散焦和偏道被自動調(diào)整時光盤的位置與再現(xiàn)光盤時光盤的位置之間損壞程度不同,偏置調(diào)整也不取決于固定的偏移電壓值。因此,偏置值并不偏離最佳偏置值。
而且,根據(jù)本發(fā)明的光盤設備,可能避免在真正的S狀信號之前有稱作S狀偽信號的信號,這個偽信號是當把物鏡沿著更靠近光盤移動透鏡的方向聚焦時,使用雙焦點透鏡所引起的。因此,可防止把稱作S狀偽信號的信號誤當作聚焦誤差信號引起的聚焦的錯誤接通。
另外,根據(jù)本發(fā)明的光盤設備,把物鏡越來越移近光盤的動作受到光盤的返回信號的控制。因此,不必要執(zhí)行防止物鏡與光盤彼此接觸的處理。
圖1是解釋聚焦偏置調(diào)整中的問題的視圖;圖2是表示應用本發(fā)明的實施例的光盤設備的結(jié)構框圖;圖3是表示應用本發(fā)明的實施例中的光拾取器的光電二極管的布局結(jié)構的視圖;圖4是解釋聚焦偏置調(diào)整和聚焦平衡調(diào)整的視圖5是解釋自動調(diào)整散焦時的處理流程的流程圖;圖6是解釋自動調(diào)整偏道時的處理流程的流程圖;圖7是表示應用本發(fā)明的實施例的光盤設備的結(jié)構框圖;圖8是解釋在執(zhí)行上搜索以聚焦在光盤102上后轉(zhuǎn)向下搜索的處理的圖。
下面參考附圖解釋應用本發(fā)明的實施例。
作為應用本發(fā)明的第一實施例的光盤設備包括在光軸方向的兩個位置處有焦點的物鏡(以后稱為雙焦點透鏡)。圖2表示根據(jù)應用本發(fā)明的實施例的光盤設備。
光盤設備1包括光盤2、主軸馬達3、光拾取器4、RF放大器5、盤判別部分6、抖動測量部分7、誤差信號產(chǎn)生部分8、誤差中心測量部分9和數(shù)據(jù)處理部分10、聚焦控制部分11、聚焦伺服機構12、跟蹤控制部分13以及跟蹤伺服機構14。
光盤2可以是任何具有不同盤格式的光盤,如CD(光盤)、DVD(數(shù)字通用盤)等,并且由主軸馬達3驅(qū)動和旋轉(zhuǎn)。
光拾取器4使用雙焦點透鏡作為物鏡,并且還具有雙軸致動器、半導體激光器和光檢測部分。光拾取器4的光檢測部分4-1由四個一組的光電二極管A,B,C和D以及設置在所述四個一組的光電二極管之前和之后的光電二極管E和F構成。光拾取器4的光檢測部分4-1向RF放大器5提供由光電二極管A,B,C和D檢測到的檢測信號A,B,C和D以及由光電二極管E和F檢測到的檢測信號E和F。
注意光拾取器4受到未示出的進給馬達控制而在盤的徑向上移動。
RF放大器5使用從光拾取器4提供的檢測信號A,B,C和D計算(A+B+C+D)。作為這一計算的結(jié)果的RF信號被未示出的波形整形電路整理波形,從而轉(zhuǎn)換成二進制的RF信號。另外,RF放大器105向數(shù)據(jù)處理部分10提供轉(zhuǎn)換后的二進制RF信號。
基于從光拾取器4提供的檢測信號A,B,C和D,RF放大器5產(chǎn)生引入信號(以后稱為PI信號),作為與光拾取器4的光檢測部分接收到的全部光量相關的信號,并把PI信號提供給盤判別部分6。
另外,基于檢測信號A,B,C和D,RF放大器5測量光拾取器4的光檢測部分接收到的全部光量的振幅值并把測量的總光量的振幅值提供給誤差中心測量部分9。
而且,RF放大器5對誤差信號產(chǎn)生部分8提供光拾取器4提供的檢測信號A,B,C和D以及檢測信號E和F。
根據(jù)RF放大器5提供的RF信號,盤判別部分6基于光盤2的表面反射產(chǎn)生鏡像信號(以后稱為表面反射盤檢測信號)并基于光盤2的信號表面反射產(chǎn)生鏡像信號(以后稱為信號表面反射盤檢測信號)。盤判別部分6基于產(chǎn)生的表面反射盤檢測信號和信號表面反射盤檢測信號確定光盤2的類型。
尤其,盤判別部分6測量檢測到表面反射盤檢測信號和信號表面反射盤檢測信號的一個周期。如果這個周期是T1,例如,光盤2被確定為是CD?;蛘撸绻潜戎芷赥1長的周期T2,則盤被確定為是DVD。這個確定使用盤厚度差,即CD的厚度是1.2mm,DVD的厚度是0.6mm。
對于光拾取器4的雙焦點透鏡設置兩個聚焦位置,從而與上述兩種類型的盤相應。
而且,如果基于RF放大器5提供的PI信號把光盤2確定為DVD,盤判別部分6確定光盤2的一側(cè)有一層還是有二層。尤其,如果基于PI信號光盤2的光反射率是45到85%,則盤判別部分6確定一側(cè)有一層,或者如果光盤2的光反射率是15到30%,則盤判別部分6確定一側(cè)有二層。注意這里使用的PI信號也是低頻分量。
盤判別部分6向數(shù)據(jù)處理部分10提供這樣確定光盤2的類型的結(jié)果(以后稱為盤確定結(jié)果信息)。
抖動測量部分7相對于RF放大器5提供的RF信號測量抖動水平并向數(shù)據(jù)處理部分10提供測量值。
誤差信號產(chǎn)生部分8使用檢測信號A,B,C和D以及數(shù)據(jù)處理部分10設置的系數(shù)Kf計算(A+C)-Kf(B+D),如圖4所示。部分8把計算結(jié)果提供給數(shù)據(jù)處理部分10,作為平衡調(diào)整的聚焦誤差信號(以后稱為平衡調(diào)整的FE信號)。
系數(shù)Kf是提前在數(shù)據(jù)處理部分10中設計的系數(shù)并且采用從Kf0=1.0的初始值開始的值Kf=1.07,1.14,1.20,1.26,1.33,...或Kf=0.95,0.88,0.82,0.76,....。
另外,誤差信號產(chǎn)生部分8使用RF放大器5提供的檢測信號E和F以及數(shù)據(jù)處理部分10設置的系數(shù)Kt計算E-Kt*F并把計算的結(jié)果作為平衡調(diào)整的跟蹤誤差信號(以后稱為平衡調(diào)整的TE信號)輸出到數(shù)據(jù)處理部分10。
這里使用的系數(shù)Kt是提前設計的系數(shù)并且采用從Kt0=1.0的初始值開始的值Kt=1.10,1.21,,1.33,1.46,1.61...或Kt=0.91,0.83,0.75,0.68,....。
誤差中心測量部分9對數(shù)據(jù)處理部分10提供誤差中心測量值。
數(shù)據(jù)處理部分10對RF放大器提供的二進制RF信號執(zhí)行解調(diào)處理,產(chǎn)生信息信號,如音頻/視頻數(shù)據(jù)等,并提供音頻/視頻數(shù)據(jù)給未示出的音頻/視頻電路。
數(shù)據(jù)處理部分10基于從盤判別部分6提供的盤確定結(jié)果信息識別例如光盤2是CD還是DVD。如果光盤2是DVD,數(shù)據(jù)處理部分10還識別出一側(cè)具有一層還是兩層。
另外,數(shù)據(jù)處理部分10基于誤差信號產(chǎn)生部分8提供的誤差中心值和平衡調(diào)整的FE信號控制聚焦平衡。尤其,數(shù)據(jù)處理部分10基于誤差中心值和平衡調(diào)整的FE信號改變系數(shù)Kf的值,直到在FE信號與誤差中心值之間獲得最小的差值。使誤差信號產(chǎn)生部分8產(chǎn)生平衡調(diào)整的FE信號。數(shù)據(jù)處理部分10向聚焦控制部分11提供這樣產(chǎn)生的平衡調(diào)整的FE信號,從而引起聚焦控制部分11控制聚焦平衡。
另外,如果甚至在控制聚焦平衡后都沒有實現(xiàn)正好聚焦,數(shù)據(jù)處理部分10提供偏置控制信號給未示出的但是包括在聚焦控制部分11中的聚焦偏置電壓調(diào)整部分,從而使得聚焦偏置電壓調(diào)整部分提供聚焦偏置電壓給聚焦伺服機構12。從而,這樣提供有來自聚焦偏置電壓調(diào)整部分的聚焦偏置電壓的聚焦伺服機構12驅(qū)動光拾取器4的雙軸致動器,以進行正好聚焦的精細調(diào)整。
另外,數(shù)據(jù)處理部分10還基于誤差中心測量部分9提供的誤差中心測量值和誤差信號產(chǎn)生部分8提供的平衡調(diào)整的TE信號控制跟蹤平衡。尤其,基于誤差中心測量值和平衡調(diào)整的TE信號,數(shù)據(jù)處理部分10改變系數(shù)Kt的值,以使得主聚束光點正好在記錄光道上。使誤差信號產(chǎn)生部分8產(chǎn)生平衡調(diào)整的TE信號。數(shù)據(jù)處理部分10向跟蹤控制部分13提供這樣產(chǎn)生的平衡調(diào)整的TE信號,從而引起跟蹤控制部分13控制跟蹤平衡。
另外,如果甚至在控制跟蹤平衡后都沒有實現(xiàn)正好跟蹤,數(shù)據(jù)處理部分10提供偏置控制信號給未示出的但是包括在跟蹤控制部分13中的跟蹤偏置電壓調(diào)整部分。以這種方式,使得跟蹤偏置電壓調(diào)整部分提供跟蹤偏置電壓給跟蹤伺服機構14。跟蹤伺服機構14提供有來自跟蹤偏置電壓調(diào)整部分的跟蹤偏置電壓,從而驅(qū)動光拾取器4的雙軸致動器,以進行正好跟蹤的精細調(diào)整。
在這樣結(jié)構的光盤設備1中,聚焦伺服機構12基于來自聚焦控制部分11的控制信號執(zhí)行聚焦平衡。跟蹤伺服機構14基于來自跟蹤控制部分13的控制信號執(zhí)行跟蹤平衡。
接著,參考圖5所示的流程圖解釋當執(zhí)行散焦自動調(diào)整時處理的流程。
首先,在圖5所示的步驟S1中,光拾取器4的半導體激光器被接通,以測量誤差中心值。隨著物鏡足夠遠離正好聚焦點,測量誤差中心值,并且把測量的誤差中心值作為Ec。以這種方式,可測量沒有光和電偏移的誤差中心值。
隨后,設置聚焦偏置設定極限值Emax。而且,在數(shù)據(jù)處理部分10中,用于產(chǎn)生平衡調(diào)整的FE信號的系數(shù)K被設置為Kf0=1.0,作為初始值。使用值Kf0=1.0,使誤差信號產(chǎn)生部分8產(chǎn)生平衡調(diào)整的FE信號。
接著,在步驟S2中,執(zhí)行聚焦偏置調(diào)整,并且給出在抖動具有最小值或被明顯破壞的兩個點處的散焦值之間的中心值的聚焦偏置值Ek被存儲到存儲器中。
在后面的步驟S3中,數(shù)據(jù)處理部分10確定聚焦偏置值Ek的絕對值是否大于聚焦偏置設定極限值Emax。如果當前的聚焦偏置設置極限值Ek的絕對值確定為大于聚焦偏置設定極限值Emax,則處理結(jié)束。以這種方式,可使用Kf的值進行粗略的調(diào)整,同時通過聚焦偏置調(diào)整實現(xiàn)精細調(diào)整。
另一方面,如果數(shù)據(jù)處理部分10確定當前偏置值Ek的絕對值大于聚焦偏置設定極限值Emax,則處理進行到步驟S4。
隨后,在步驟S4中,數(shù)據(jù)處理部分10用下一個Kf替代該Kf并且處理返回步驟S2。
接著參考圖6所示的流程圖解釋當執(zhí)行偏道自動調(diào)整時處理的流程。
首先,在圖6所示的步驟S11中,正常接通激光器,以測量誤差中心值,隨著物鏡足夠遠離正好聚焦點,測量誤差中心值。把這樣測量的誤差中心值作為Ec。以這種方式,可測量沒有光和電偏移的誤差中心值。
隨后,設置跟蹤偏置設定極限值Emax。參考上述誤差中心值Ec設置該值。而且,數(shù)據(jù)處理部分10把用于產(chǎn)生平衡調(diào)整的TE信號的系數(shù)K設置為Kt0=1.0。使用值Kt0=1.0,使誤差信號產(chǎn)生部分8產(chǎn)生平衡調(diào)整的TE信號。
接著,在步驟S12中,執(zhí)行跟蹤偏移調(diào)整。數(shù)據(jù)處理部分10測量跟蹤誤差的振幅,計算其中心點,并存儲把偏移最小化的偏移值Ek到存儲器中。
在后面的步驟S13中,數(shù)據(jù)處理部分10確定跟蹤偏移值Ek的絕對值是否大于跟蹤偏置設定極限值Emax。而且,如果數(shù)據(jù)處理部分10確定當前的跟蹤偏移值Ek的絕對值不大于跟蹤偏置設定極限值Emax,則處理結(jié)束。以這種方式,可使用Kt的值進行粗略的調(diào)整,同時通過跟蹤偏移調(diào)整實現(xiàn)精細調(diào)整。
另一方面,如果數(shù)據(jù)處理部分10確定為當前跟蹤偏移值Ek的絕對值大于跟蹤偏置設定極限值Emax,則處理進行到步驟S14。
隨后,在步驟S14中,數(shù)據(jù)處理部分10用下一個Kt替代該Kt并且處理返回步驟S12。
如上所述,在作為應用了本發(fā)明的實施例的光盤設備1中,聚焦伺服機構12基于來自聚焦控制部分11的控制信號控制聚焦平衡,從而不施加偏移電壓。因此,沒有在來自光拾取器4的光束通過受損部分后用于聚焦和跟蹤的驅(qū)動電壓跟隨偏移電壓而帶來的驅(qū)動電壓的干擾。從而可能防止由這種干擾引起的誤差率的惡化。而且,在作為應用本發(fā)明的實施例的光盤設備1中,即使散焦調(diào)整和偏道調(diào)整被自動執(zhí)行時與再現(xiàn)光盤時光盤的位置不同,也不以固定的偏移電壓值執(zhí)行偏置調(diào)整,因此,偏置值并偏離最佳偏置值。
在上述光盤設備1中,把CD或DVBD用作光盤2。但是,本發(fā)明可適用于除CD和DVD之外的不同種類的盤,只要光盤設備與具有不同記錄密度的盤兼容。
接著,參考附圖解釋應用本發(fā)明的第二實施例。
作為應用本發(fā)明的第二實施例的光盤設備是一種這樣的設備,其中在光軸方向的兩個位置處有焦點的物鏡(以后稱為雙焦點透鏡)沿著透鏡遠離開盤的方向被聚焦在光盤上,即執(zhí)行所謂的下搜索。圖7表示根據(jù)應用本發(fā)明的在作為應用本發(fā)明的實施例的光盤設備中,首先以恒定速度移動雙軸透鏡,以越來越靠近光方向的方向。在從通過聚焦位置時開始的預定時間周期后,停止上搜索。接著,沿著雙焦點透鏡遠離開光盤的方向把雙焦點透鏡聚焦在光盤上。
如圖7所示,光盤設備101包括光盤102、主軸馬達103、光拾取器104、RF放大器105、PI信號(引入信號)檢測部分106、FOK信號檢測部分107、盤判別部分108、誤差信號檢測部分109、FZC信號(聚焦過零檢測信號)檢測部分110、數(shù)據(jù)處理部分111、、聚焦伺服機構112以及跟蹤伺服機構113。
光盤102是例如CD(光盤)、DVD(數(shù)字通用盤)等,并且由主軸馬達103驅(qū)動來旋轉(zhuǎn)。
光拾取器104使用未示出的雙焦點透鏡作為物鏡,并且還具有在聚焦方向和跟蹤方向驅(qū)動雙軸透鏡的雙軸致動器、半導體激光器和光檢測部分。與上述第一實施例的圖2中所示的一樣,光拾取器104的光檢測部分由劃分為四的光電二極管A,B,C和D以及縱向或橫向設置的光電二極管E和F構成,并接收通過照射激光束在光盤102的信號表面上而獲得的反射光。光拾取器104的光檢測部分104-1向RF放大器105提供由光電二極管A,B,C和D檢測到的檢測信號A,B,C和D以及由光電二極管E和F檢測到的檢測信號E和F。
注意光拾取器104受到未示出的進給馬達控制而在盤的徑向上移動。
RF放大器105使用從光拾取器104提供的檢測信號A,B,C和D計算(A+B+C+D)。作為這一計算的結(jié)果的RF信號被未示出的波形整形電路整理波形,從而轉(zhuǎn)換成二進制的RF信號。另外,RF放大器105向數(shù)據(jù)處理部分111提供轉(zhuǎn)換后的二進制RF信號。
而且,RF放大器105使用從光拾取器104提供的檢測信號A,B,C和D計算(A+C)-(B+D),并把這一計算結(jié)果(以后稱為FE信號)作為聚焦誤差信號提供給誤差信號檢測部分109。
而且,RF放大器105使用從光拾取器104提供的檢測信號E和F計算(E-F),并把這一計算結(jié)果(以后稱為TE信號)作為跟蹤誤差信號提供給誤差信號檢測部分109。
而且,基于檢測信號A,B,C和D,RF放大器105產(chǎn)生引入信號(以后稱為PI信號),作為與光拾取器104接收到的全部光量相關的信號。RF放大器還把PI信號提供給PI信號檢測部分106。
PI信號檢測部分106檢測從RF放大器105提供的PI信號,并產(chǎn)生FOK信號,作為通過比較光拾取器104的光檢測部分接收到的全部光量和預定的閾值而得到的信號。而且PI信號檢測部分106對FOK信號檢測部分107提供產(chǎn)生的FOK信號。
這個FOK信號也是表達可允許焦點進入的范圍的信號。
一檢測到從PI信號檢測部分106提供的FOK信號,F(xiàn)OK信號檢測部分107產(chǎn)生用于識別FOK信號的檢測的信號(以后稱為FOK檢測信號)并向數(shù)據(jù)處理部分111提供FOK檢測信號。
根據(jù)RF放大器105提供的RF信號,盤判別部分108基于光盤102的表面反射產(chǎn)生鏡像信號(以后稱為表面反射盤檢測信號)并基于光盤102的信號表面反射產(chǎn)生鏡像信號(以后稱為信號表面反射盤檢測信號)。基于表面反射盤檢測信號和信號表面反射盤檢測信號,部分108確定光盤102的類型。
尤其,盤判別部分108測量檢測到表面反射盤檢測信號和信號表面反射盤檢測信號的一個周期。如果這個周期是T1,例如,光盤102被確定為是CD?;蛘?,如果是比周期T1長的周期T2,則光盤102被確定為是DVD。這個確定使用盤基片厚度差,即CD具有厚度是1.2mm的盤基片,DVD具有厚度是0.6mm的盤基片。在光拾取器104的雙焦點透鏡中設置兩個聚焦點,從而與上述兩種類型的盤相應。
而且,如果基于PI信號檢測部分提供的PI信號把光盤102確定為DVD,盤判別部分108確定光盤102的一側(cè)有一層還是有二層。例如,如果光盤102的光反射率是45到85%,則盤判別部分108確定在一側(cè)上有一層。如果光反射率是18到30%,則確定在一側(cè)上有二層。注意這里使用的PI信號也是RF信號的低頻分量。
盤判別部分108向數(shù)據(jù)處理部分111提供這樣確定光盤102的類型的結(jié)果(以后稱為盤確定結(jié)果信息)。
誤差信號檢測部分109檢測從RF放大器105提供的FE信號,并基于檢測為S狀波形分量的FE信號產(chǎn)生聚焦過零檢測信號(后面稱為FZC信號),作為通過比較S狀波形分量和預定閾值而得到的信號。而且,誤差信號檢測部分109向FZC信號檢測部分110提供產(chǎn)生的FZC信號。
而且,誤差信號檢測部分109檢測從RF放大器105提供的TE信號,基于檢測到的TE信號產(chǎn)生用于控制跟蹤的控制信號。另外,誤差信號檢測部分109向跟蹤伺服機構113提供產(chǎn)生的控制信號。
一檢測到從誤差信號檢測部分109提供的FZC信號,F(xiàn)ZC信號檢測部分110產(chǎn)生用于識別FZC信號的檢測的信號(后面稱為FZC檢測信號),并把FZC檢測信號提供給數(shù)據(jù)處理部分111。
數(shù)據(jù)處理部分111對從RF放大器105提供的二進制RF信號執(zhí)行解碼處理,產(chǎn)生信息信號,如音頻/視頻數(shù)據(jù)等,并提供音頻/視頻數(shù)據(jù)給未示出的音頻/視頻電路。
而且數(shù)據(jù)處理部分111基于從盤判別部分108提供的盤確定結(jié)果信息識別例如光盤102是CD還是DVD。如果光盤102是DVD,數(shù)據(jù)處理部分111還識別出一側(cè)具有一層還是兩層。
一旦自FOK信號檢測部分107提供FOK檢測信號并且一旦自FZC信號檢測部分110提供FZC檢測信號,數(shù)據(jù)處理部分111識別出從在朝向盤的方向上越來越靠近光盤的雙焦點透鏡照射的激光束的焦點相對于光盤102的信號記錄表面通過了聚焦位置。
此后,在從不再提供FOK檢測信號時開始的預定周期后,數(shù)據(jù)處理部分111向聚焦伺服機構112提供控制信號,用于停止雙焦點透鏡移近光盤102。以這種方式,在預定周期后停止雙焦點透鏡朝向光盤102的接近操作。
此后,數(shù)據(jù)處理部分111設置從停止越來越靠近盤的接近操作時開始的例如10ms的保持周期。接著,部分111向聚焦伺服機構112提供控制信號,用于開始下搜索。這樣在停止接近操作后設置預定保持周期,這是因為光拾取器104的雙軸致動器在光透鏡的光軸方向上振動,并且,如果在停止接近操作后把操作突然轉(zhuǎn)向下搜索,則從FOK信號檢測部分107輸出的FOK信號也顫動,將其提供給數(shù)據(jù)處理部分111。
另外,數(shù)據(jù)處理部分111基于FOK信號檢測部分107提供的FOK檢測信號和FZC信號檢測部分110提供的FZC檢測信號產(chǎn)生控制信號,用于相對于光盤102的信號表面聚焦透鏡。數(shù)據(jù)處理部分111把產(chǎn)生的控制信號提供給聚焦伺服機構112,從而使聚焦伺服機構聚焦在光盤102的信號表面上。
聚焦伺服機構112基于從數(shù)據(jù)處理部分111提供的把透鏡聚焦在光盤102的信號表面上的控制信號,通過光拾取器104的雙軸致動器,驅(qū)動并控制雙焦點透鏡的運動,以聚焦在光盤102的信號表面上。跟蹤伺服機構113基于從誤差信號檢測部分109提供的進行跟蹤控制的控制信號,通過光拾取器104的雙軸致動器驅(qū)動并控制雙焦點透鏡的運動,以在光盤102的光道上跟蹤。
在如上所述構造的光盤設備101中,聚焦伺服機構112基于從數(shù)據(jù)處理部分111提供的控制信號,讓雙焦點透鏡在透鏡越來越靠近光盤102的方向上移動。在從一旦通過聚焦位置開始的預定周期后停止上搜索。之后,聚焦伺服機構112基于從數(shù)據(jù)處理部分111提供的以聚焦在光盤102的信號表面上的控制信號,讓雙焦點透鏡以恒定速度在透鏡越來越遠離光盤102的方向上移動,并驅(qū)動和控制雙焦點透鏡的運動,以在光盤102的信號表面上聚焦。
接著,在光盤設備101中,雙焦點透鏡以恒定速度沿著越來越靠近光盤102的方向移動。在從通過聚焦點時開始的預定時間后停止上搜索。之后,沿著透鏡越來越遠離光盤102的方向把雙焦點透鏡聚焦在光盤102上,從而實現(xiàn)下搜索。這一處理的流程將參考圖8來解釋。
作為前提,光盤設備101處于PI信號還沒有被PI信號檢測部分6檢測到但是雙焦點透鏡正以恒定的速度沿著透鏡越來越靠近光盤102、例如CD的方向移動的狀態(tài)下。
首先,PI信號檢測部分106檢測PI信號,之后基于檢測到的PI信號產(chǎn)生FOK信號。部分106向FOK信號檢測部分107提供FOK信號。
此時,F(xiàn)OK信號變?yōu)椤癏”,如圖8所示。一檢測到從PI信號檢測部分106提供的FOK信號,F(xiàn)OK信號檢測部分107產(chǎn)生FOK檢測信號并將FOK檢測信號提供給數(shù)據(jù)處理部分111。
隨后,一檢測到FE信號,誤差信號檢測部分109基于檢測到的FE信號產(chǎn)生FZC信號并將FZC信號提供給FZC信號檢測部分110。此時,F(xiàn)ZC信號變?yōu)椤癏”,如圖8所示。而且,一檢測到誤差信號檢測部分109提供的FZC信號,F(xiàn)ZC信號檢測部分110產(chǎn)生FZC檢測信號并將FZC檢測信號提供給數(shù)據(jù)處理部分111。
這樣,數(shù)據(jù)處理部分111提供有來自FOK信號檢測部分107的FOK檢測信號,還提供有來自FZC信號檢測部分110的FZC檢測信號。那么,數(shù)據(jù)處理部分111識別出從雙焦點透鏡照射的激光束的焦點相對于光盤102的信號記錄表面已通過聚焦位置,同時雙焦點透鏡正沿著透鏡越來越靠近光盤102的方向移動。
之后,在從停止提供FOK檢測信號時開始的預定周期后,數(shù)據(jù)處理部分111向聚焦伺服機構112提供用于停止雙焦點透鏡朝向光盤102的接近操作的控制信號。一旦從數(shù)據(jù)處理部分111向聚焦伺服機構112提供了用于停止雙焦點透鏡朝向光盤102的接近操作的控制信號,聚焦伺服機構112控制雙焦點透鏡以使得在預定周期后停止朝向光盤102的接近操作。
隨后,數(shù)據(jù)處理部分111設置在停止接近操作后的例如10ms的保持周期。接著,部分111向聚焦伺服機構112提供控制信號,用于開始下搜索?;跀?shù)據(jù)處理部分111提供的控制信號,聚焦伺服機構112停止雙焦點透鏡的大約10ms的周期的移動,之后控制雙焦點透鏡的操作,以在透鏡越來越遠離光盤102的方向上進行下搜索。
隨后,數(shù)據(jù)處理部分111基于FOK信號檢測部分107提供的FOK檢測信號和FZC信號檢測部分110提供的FZC檢測信號產(chǎn)生控制信號,用于在光盤102的信號表面上聚焦。數(shù)據(jù)處理部分111把產(chǎn)生的控制信號提供給聚焦伺服機構112。而且,基于從數(shù)據(jù)處理部分111提供的控制信號,聚焦伺服機構112控制雙焦點透鏡的操作,以在光盤102的信號表面上聚焦。
通過上述處理,可避免接通聚焦的失敗,這種失敗是把稱作S狀偽信號的信號誤當作誤差信號,并且甚至在用光盤設備101再現(xiàn)CD時也轉(zhuǎn)向聚焦伺服機構。
如上所述,在作為應用本發(fā)明的本發(fā)明的第二實施例的光盤設備101中,防止在FE信號之前立刻產(chǎn)生稱作S狀偽信號的信號,該信號的產(chǎn)生是由于雙焦點透鏡通過使用FZC信號和/或FOK信號進行聚焦下搜索而在透鏡越來越靠近光盤2的方向上被聚焦時的球面象差帶來的。因此,可能防止聚焦接通失敗、防止把這個稱作S狀偽信號的信號誤當作FE信號。
而且,在作為應用本發(fā)明的實施例的光盤設備101中,把雙焦點透鏡移向光盤的操作由來自光盤102的返回信號的控制。因此,執(zhí)行防止雙焦點透鏡和光盤2彼此接觸的處理。
在上述光盤設備101中,CD或DVD被用作光盤2。除CD和DVD之外的任何其它盤都可使用,只要該盤是光類型。
而且,在上述光盤設備101中,數(shù)據(jù)處理部分111在從不再提供FOK檢測信號開始的預定周期后向聚焦伺服機構112提供用于停止雙焦點透鏡朝向光盤102的接近操作的控制信號。但是,另一種情況是,可在從不再提供FZC信號時開始的預定時間后,把用于停止朝向光盤102移動的雙焦點透鏡的控制信號提供給聚焦伺服機構112。
權利要求
1.一種光盤設備包括一個光拾取器,用于把光束經(jīng)雙焦點透鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上,并用于檢測其反射光;驅(qū)動控制裝置,用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制雙焦點透鏡;聚焦誤差中心值測量裝置,用于測量由光拾取器檢測到的聚焦誤差中心值;聚焦誤差信號產(chǎn)生裝置,用于基于反射光和可變系數(shù)Kf產(chǎn)生進行了平衡調(diào)整的聚焦誤差信號;以及聚焦平衡控制裝置,用于使驅(qū)動控制裝置基于由聚焦誤差中心值測量裝置測量的聚焦誤差中心值和聚焦誤差信號產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的并進行了平衡調(diào)整的聚焦誤差信號控制聚焦平衡。
2.根據(jù)權利要求1的光盤設備,其中還包括聚焦偏置電壓提供裝置,用于提供聚焦偏置電壓給驅(qū)動控制裝置;聚焦偏置控制裝置,用于使聚焦偏置電壓提供裝置提供聚焦偏置電壓給驅(qū)動控制裝置,以引起驅(qū)動控制裝置控制聚焦偏置。
3.根據(jù)權利要求1的光盤設備,其中相應于多個分別具有不同的盤基片厚度的盤,雙焦點透鏡由單個物鏡形成兩個焦點位置。
4.根據(jù)權利要求1的光盤設備,其中聚焦誤差中心值測量裝置測量雙焦點透鏡與正好聚焦位置保持足夠距離的誤差中心值。
5.根據(jù)權利要求1的光盤設備,其中多個包括用作參考的初始值的值被設置并被存儲為系數(shù)Kf。
6.一種光盤設備包括一個光拾取器,用于把光束經(jīng)雙焦點透鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上并用于檢測其反射光;驅(qū)動控制裝置,用于在光盤的徑向上驅(qū)動和控制雙焦點透鏡;跟蹤誤差中心值測量裝置,用于測量由光拾取器檢測到的跟蹤誤差中心值;跟蹤誤差信號產(chǎn)生裝置,用于基于反射光和可變系數(shù)Kt產(chǎn)生進行了平衡調(diào)整的跟蹤誤差信號;以及跟蹤平衡控制裝置,用于使驅(qū)動控制裝置基于由跟蹤誤差中心值測量裝置測量的跟蹤誤差中心值和跟蹤誤差信號產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的并進行了平衡調(diào)整的跟蹤誤差信號控制跟蹤平衡。
7.根據(jù)權利要求6的光盤設備,其中還包括跟蹤偏置電壓提供裝置,用于提供跟蹤偏置電壓給驅(qū)動控制裝置;跟蹤偏置控制裝置,用于使跟蹤偏置電壓提供裝置提供跟蹤偏置電壓給驅(qū)動控制裝置以引起驅(qū)動控制裝置控制跟蹤偏置。
8.根據(jù)權利要求6的光盤設備,其中相應于多個分別具有不同的盤基片厚度的盤,雙焦點透鏡由單個物鏡形成兩個焦點位置。
9.根據(jù)權利要求6的光盤設備,其中跟蹤誤差中心值測量裝置測量雙焦點透鏡與正好聚焦位置保持足夠距離的誤差中心值。
10.根據(jù)權利要求6的光盤設備,其中多個包括用作參考的初始值的值被設置并被存儲為系數(shù)Kt。
11.一種光盤設備包括一個光拾取器,用于把光束經(jīng)物鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上,并用于檢測其反射光;聚焦誤差信號檢測裝置,用于基于光拾取器檢測到的反射光檢測聚焦誤差信號;聚焦過零檢測信號檢測裝置,用于基于聚焦誤差信號檢測裝置檢測到的聚焦誤差信號檢測聚焦過零檢測信號;以及驅(qū)動控制裝置,用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制物鏡,其中,如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從聚焦過零檢測信號檢測裝置檢測到的聚焦過零檢測信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤更靠近移動的物鏡,并且如果在停止物鏡后物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于聚焦過零檢測信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
12.根據(jù)權利要求11的光盤設備,其中如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從聚焦過零檢測信號檢測裝置檢測到的聚焦過零檢測信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤更靠近移動的物鏡,并且如果在停止物鏡預定時間后物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于聚焦過零檢測信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
13.根據(jù)權利要求11的光盤設備,其中相應于多個分別具有不同的盤基片厚度的盤,物鏡是雙焦點透鏡,其在光軸方向上由單個物鏡形成兩個焦點位置。
14.一種光盤設備包括一個光拾取器,用于把光束經(jīng)物鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上,并用于檢測其反射光;引入信號檢測裝置,用于基于光拾取器檢測到的反射光量檢測引入信號;FOK信號檢測裝置,用于基于引入信號檢測裝置檢測的引入信號檢測FOK信號;以及驅(qū)動控制裝置,用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制物鏡,其中,如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從FOK信號檢測裝置檢測到的FOK信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止物鏡向光盤更靠近移動,并且如果在停止物鏡后,沿著離開光盤的距離被增大的方向驅(qū)動物鏡,驅(qū)動控制裝置基于FOK信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
15.根據(jù)權利要求14的光盤設備,其中如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從FOK信號檢測裝置檢測到的FOK信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤靠近移動的物鏡;并且如果在停止物鏡預定時間后,物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于FOK信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
16.根據(jù)權利要求14的光盤設備,其中,相應于多個分別具有不同的盤基片厚度的盤,物鏡是雙焦點透鏡,其在光軸方向上由單個物鏡形成兩個焦點位置。
17.一種光盤設備包括一個光拾取器,用于把光束經(jīng)物鏡照射在包括記錄了可被光讀出的數(shù)字數(shù)據(jù)的信號記錄表面的光盤的信號記錄表面上并用于檢測其反射光;聚焦誤差信號檢測裝置,用于基于光拾取器檢測到的反射光檢測聚焦誤差信號;聚焦過零檢測信號檢測裝置,用于基于聚焦誤差信號檢測裝置檢測到的聚焦誤差信號檢測聚焦過零檢測信號;引入信號檢測裝置,用于基于光拾取器檢測到的反射光總量檢測引入信號;FOK信號檢測裝置,用于基于引入信號檢測裝置檢測的引入信號檢測FOK信號;驅(qū)動控制裝置,用于在光束的光軸方向上驅(qū)動和控制物鏡,其中,如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從聚焦過零檢測信號檢測裝置檢測到的聚焦過零檢測信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后或從FOK信號檢測裝置檢測到的FOK信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤靠近移動的物鏡,并且如果在停止物鏡后,物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于聚焦過零檢測信號和FOK信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
18.根據(jù)權利要求17的光盤設備,其中如果物鏡以預定速度在離開光盤的距離被縮短的方向上被驅(qū)動,在從聚焦過零檢測信號檢測裝置檢測到的聚焦過零檢測信號或從FOK信號檢測裝置檢測到的FOK信號不再被檢測到時開始經(jīng)過預定時間周期后,驅(qū)動控制裝置停止向光盤靠近移動的物鏡;并且如果在停止物鏡預定時間后物鏡沿著離開光盤的距離被增大的方向被驅(qū)動,驅(qū)動控制裝置基于聚焦過零檢測信號和FOK信號控制從光拾取器照射的光束的聚焦位置使其被聚焦在光盤的信號記錄表面上。
19.根據(jù)權利要求17的光盤設備,其中,相應于多個分別具有不同的盤基片厚度的盤,物鏡是雙焦點透鏡,其在光軸方向上由單個物鏡形成兩個焦點位置。
全文摘要
根據(jù)抖動測量部分測量的抖動值和誤差信號產(chǎn)生部分產(chǎn)生的平衡調(diào)整的FE信號,利用使聚焦伺服機構來控制聚焦平衡的聚焦控制部分,并且根據(jù)從誤差中心測量部分測量的誤差中心值和誤差信號產(chǎn)生部分產(chǎn)生的平衡調(diào)整的TE信號,利用使跟蹤伺服機構來控制跟蹤平衡的跟蹤控制部分,通過執(zhí)行聚焦平衡調(diào)整和跟蹤平衡調(diào)整,防止了由于再現(xiàn)的信號的干擾引起的誤差率的惡化。而且,聚焦伺服機構執(zhí)行聚焦下搜索從而正確地接通聚焦。
文檔編號G11B7/09GK1318830SQ01111629
公開日2001年10月24日 申請日期2001年1月12日 優(yōu)先權日2000年1月12日
發(fā)明者鈴木健一 申請人:索尼公司
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