專利名稱：磁頭滑動器和磁盤驅動器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種磁頭滑動器，它應用于例如，磁盤驅動器、光盤驅動器、以及磁光盤驅動器等的盤驅動器，用于通過轉動盤類記錄介質來記錄和/或再現(xiàn)信息，攜帶一個用于記錄和/或再現(xiàn)信息的磁頭，并在移動的記錄介質表面上浮動，本發(fā)明還涉及到裝有這種磁頭滑動器的盤驅動器。
在被稱為硬盤驅動器(HDD)的磁盤驅動器中，為了避免由于磁盤表面(信息記錄和/或再現(xiàn)表面)與用作磁盤信息的記錄和/或再現(xiàn)的電磁轉換單元的磁頭之間的接觸，而造成的磨損以及擦傷，一般把磁頭安裝在浮動在轉動的磁盤的表面上的磁頭滑動器上，記錄和/或再現(xiàn)信息而不接觸。
磁頭滑動器面對著磁盤的表面形成有一個軌道，感受轉動磁盤時所產(chǎn)生的氣流帶來的飛行壓力。磁頭與滑動器一起以非常微小的飛行高度在磁盤表面上方飛轉。在當前市場所售的裝在磁盤驅動器內的磁盤的飛行高度例如大約是0.04μm。在研究水平上，已經(jīng)實現(xiàn)了0.02μm的飛行高度。
從電磁轉換作用的觀點來看，為了實現(xiàn)高密度記錄，通過在磁盤表面上方飛行的磁頭滑動器形成的間隙優(yōu)選地盡可能的小，因為它會引起空間損耗。
為了減少這種間隙，在設計磁頭滑動器時，有必要降低飛行高度并確保穩(wěn)定的飛行高度，并且也有必要使磁盤表面光滑，粗糙度小于飛行高度，從而可以避免磁頭滑動器和磁盤表面接觸。
于是，為了降低磁頭滑動器的飛行高度，有必要使磁盤表面更加光滑。
另一方面，許多相關技術的磁盤驅動器已經(jīng)采用了所謂的“起停接觸”(CSS)系統(tǒng)，其在磁盤旋轉開始或停止的時候，允許磁頭滑動器接觸到磁盤的表面。
在這種方法中，當硬盤驅動器靜止時，磁頭滑動器接觸到磁盤的一個特定的區(qū)域(通常是最內側的圓周)。隨著啟動，由于磁盤旋轉產(chǎn)生的氣流，磁頭滑動器開始飛行，并且在磁盤穩(wěn)定在穩(wěn)定旋轉時，保持穩(wěn)定的飛行。
在此種CSS系統(tǒng)磁盤驅動器中，由于磁頭滑動器和磁盤長期接觸，有時磁頭滑動器的氣流承受表面會和磁盤的表面粘附在一起。因此為了避免此粘附現(xiàn)象，有必要故意使磁盤表面粗糙。
如上所述，然而，為了相對于磁盤表面來降低磁頭滑動器的飛行高度，有必要使磁盤表面盡可能光滑。因此，在CSS系統(tǒng)磁盤驅動器中，進一步地減少飛行高度是困難的。
最近，為了降低飛行高度，已經(jīng)提出相對于磁盤動態(tài)裝載/卸裝磁頭滑動器的方法。該系統(tǒng)類似于唱機的自動裝載/卸裝系統(tǒng)，并使安裝磁頭滑動器的懸架沿著一個提供在磁盤外側的斜坡上升或者下降，從而相對于磁盤卸載或裝載磁頭滑動器。
在這種方法中，要在驅動器中裝入一個精密的裝載/卸裝裝置導致成本上升，但是，由于可以使用一個具有光滑表面的磁盤，可以降低磁頭滑動器的飛行高度。因此，該系統(tǒng)現(xiàn)在變成了磁盤驅動器的主流。
概述本發(fā)明將要解決的問題，采用了裝載/卸裝系統(tǒng)的磁盤驅動器具有的缺點為例如在裝載/卸裝磁頭滑動器時，震動傳遞到磁盤上，由于磁頭滑動器和磁盤之間的接觸，有時會擦傷磁盤。換句話說，在磁頭滑動器的氣流承受表面上形成了軌道等，當軌道等的邊緣接觸到磁盤時，磁盤有時就會被擦傷。如果磁盤被擦傷，那部分的數(shù)據(jù)就可能會損失掉。
此外，如果磁盤和磁頭滑動器之間的接觸過于有力，磁頭滑動器也可能被擦傷，結果使飛行變成不可能，驅動器本身損壞。
此外，隨著膝上型或者掌上型個人電腦的推廣，安裝在個人電腦中的磁盤驅動器遭受不同類型的振動或者震動的可能增加。因此，即使是裝載/卸裝系統(tǒng)或者CSS系統(tǒng)的磁盤驅動器也可能遇到磁盤和磁頭滑動器彼此碰撞的問題。
另一方面，在相關技術的磁盤驅動器中，除了上述的磁盤和磁頭滑動器會彼此碰撞的問題之外，還有一個問題就是灰塵或者粉末會進入磁盤表面和磁頭滑動器的氣流承受表面之間，并導致減少磁頭滑動器的飛行高度，并使飛行動作變得不穩(wěn)定。
特別是，在所謂的可移動系統(tǒng)磁盤驅動器中，磁盤被容納在一個卡盒中，并且卡盒從磁盤驅動器插入和彈出，在插入或彈出卡盒時，驅動器暴露于外界，因此灰塵或者粉末很容易進入該驅動器，并且進入磁盤表面和磁頭滑動器的氣流承受表面之間的灰塵和粉末也會招致減少磁頭滑動器的飛行高度，以及使飛行動作變得不穩(wěn)定。
本發(fā)明的一個目的是提供一種磁頭滑動器，在由于振動或者震動而使磁頭滑動器接觸到記錄介質的表面時，它能夠抑制磁頭滑動器和記錄介質的擦傷，并且通過阻止外來物質比如灰塵和粉末進入磁盤表面和磁頭滑動器的氣流承受表面之間，能夠抑制磁頭滑動器的飛行高度的減少和飛行高度動作的失穩(wěn)。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種裝備有這種磁頭滑動器的磁盤驅動器。
根據(jù)本發(fā)明的第一個方面提供了一種磁頭滑動器，包含一個滑動器，其具有在布置于滑動器面對著轉動的記錄介質的面對表面(facing surface)上形成的軌道，并從所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流接受提升力，以及一個用來對數(shù)據(jù)進行至少再現(xiàn)和記錄之一的操作的磁頭，其中所述軌道的輪廓在面對所述氣流方向側是相對于所述氣流的彎曲凸面。
根據(jù)本發(fā)明的第二個方面，提供了一種磁頭滑動器，包含一個滑動器，其具有在布置于面對轉動著的記錄介質的面對表面上形成的軌道，并從在所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流接受提升力，以及一個用來進行至少數(shù)據(jù)再現(xiàn)和記錄之一的操作的磁頭，其中所述滑動器的輪廓在面對所述氣流方向的側面是相對于所述氣流的彎曲凸面。
根據(jù)本發(fā)明的第三個方面，提供了一種磁盤驅動器，包含一種轉動裝置，用于轉動盤類記錄介質，一個滑動器，具有在布置于面對轉動的記錄介質的面對表面上形成的軌道并從在所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流接受提升力，以及一個用來進行至少數(shù)據(jù)再現(xiàn)和記錄之一的操作的磁頭，其中所述軌道的輪廓在面對所述氣流方向的側面是相對于所述氣流的彎曲凸面。
根據(jù)本發(fā)明的第四個方面，提供了一種磁盤驅動器，包含一種轉動裝置，用于轉動盤類記錄介質，一個滑動器，具有在布置于面對轉動的記錄介質的面對表面上形成的滑動器并從在所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流接收一種提升力，以及一個用來進行至少數(shù)據(jù)再現(xiàn)和記錄之一的操作的磁頭，其中所述滑動器的輪廓在面對所述氣流方向的側面是相對于所述氣流的彎曲凸面。
在本發(fā)明中，通過由曲線構成軌道或者磁頭滑動器的輪廓，即使是在磁頭滑動器接觸記錄介質的表面的情況下，接觸壓力也被控制得很低。
此外，由于軌道的輪廓由曲線構成，在從磁頭滑動器的面對表面上伸出的軌道面對氣流的部分的側面形成了相對于氣流的彎曲凸面。
于是，由于彎曲凸面表面的作用，朝向軌道的氣流承受表面和記錄介質的表面之間進入的灰塵，粉末，以及其他有質量的物體就更容易到達軌道的側面，并從而阻止了進入氣流承受表面和記錄介質的表面之間。
從下面參考附圖對給予的優(yōu)選實施例的所進行的描述中，可以清楚本發(fā)明的這些以及其他一些目的和特征，其中圖1是一個透視圖，說明了本發(fā)明所應用的磁盤驅動器的實例；圖2示出了一種狀態(tài)，其中一個磁頭滑動器在磁盤表面上方飛轉；圖3是一個透視圖，示出了根據(jù)本發(fā)明的第一個實施例的磁頭滑動器的面對表面的結構；圖4是一個平面圖，示出了圖3中的磁頭滑動器的面對表面；圖5是一個示意圖，模擬了當形成從磁頭滑動器的面對表面伸出的軌道并使軌道周圍面對氣流F方向的部分的輪廓成為橢圓形時的灰塵和粉末的流動路徑。
圖6是一個示意圖，模擬了當形成從磁頭滑動器的面對表面伸出的軌道并使軌道周圍面對氣流F方向的部分的輪廓成為具有不同的長軸方向的橢圓形狀時的灰塵和粉末的流動路徑。
圖7是一個示意圖，模擬了當形成從磁頭滑動器的面對表面伸出的軌道并使軌道周圍面對氣流F方向的部分的輪廓成為弧形時的灰塵以及粉末的流動路徑。
圖8是一個示意圖，模擬了當形成從磁頭滑動器的面對表面伸出的軌道并使軌道的周圍面對氣流F方向的部分的輪廓成為直線形狀時的灰塵以及粉末的流動路徑。
圖9是一個示意圖，模擬了灰塵以及粉末流動到如圖3和圖4所示的磁頭滑動器15的面對表面16的路徑；圖10是一個示意圖，它模擬了灰塵以及粉末流動到如圖18和圖19所示的磁頭滑動器15的面對表面116的路徑；圖11是根據(jù)本發(fā)明的第一個實施例對磁頭滑動器15的改進；圖12是根據(jù)本發(fā)明的第一個實施例對磁頭滑動器15的另一個改進；
圖13是根據(jù)本發(fā)明的第一個實施例對磁頭滑動器15的又一個改進；圖14是根據(jù)本發(fā)明的第二個實施例的磁頭滑動器的面對表面的結構圖；圖15是根據(jù)本發(fā)明的第三個實施例的磁頭滑動器的面對表面的結構圖；圖16是根據(jù)本發(fā)明的第三個實施例對磁頭滑動器的改進；圖17是一個透視圖，示出了可移動式的磁盤驅動器的實例；圖18是一個透視圖，示出了磁頭滑動器的面對表面的結構的示例；以及圖19是圖18中的磁頭滑動器的面對表面的平面圖。
在下面，將參考


本發(fā)明的實施例。
第一個實施例圖1是一個透視圖，示出了使用本發(fā)明的磁頭滑動器的磁盤驅動器的實例。如圖1所示的磁盤驅動器是例如裝在計算機中的卡式磁盤驅動器。
圖1中所示的磁盤驅動器1裝備有一個機架3，一個用于覆蓋機架3的頂罩2，一個布置于機架3上的主軸電機4，一個作為被主軸電機4旋轉的記錄介質的磁盤5，一個布置于機架3上的致動器6，一個連接到致動器6上的懸架11，以及一個固定在磁頭的懸架11前端并用來固定磁頭的磁頭滑動器15。
磁盤5被固定在主軸電機4上。被主軸電機4的驅動，磁盤5以預定的轉速旋轉，例如，大約為2700rpm。
如圖2所示，被布置面對轉動的磁盤5的表面的磁頭滑動器15相對于磁盤5的表面通過由于磁盤5運動而生成的氣流飛行(fly)。磁頭滑動器15的飛行高度通過自氣流得到的提升力和自懸架11得到的壓力之間的平衡被調整到一個固定值，例如約為20nm。此外，懸架11的壓負載大約是3gf。
另一方面，致動器6以箭頭R3表示的方向樞轉。固定在致動器6的前端上的磁頭滑動器15以大致磁盤5的徑向方向的方向移動。通過相對于磁盤5上的所需軌道來定位安裝于磁頭滑動器15上的磁頭，磁頭可以把信息記錄到磁盤5，以及再現(xiàn)記錄在磁盤5上的信息。
磁頭滑動器的結構圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，面對著磁盤5的磁頭滑動器的面對表面?zhèn)鹊慕Y構透視圖，而圖4是如圖3所示的磁頭滑動器的面對表面?zhèn)鹊囊粋€平面圖。應該注意到，在圖4中，同時也顯示了磁頭滑動器15的尺寸。
在圖3中，箭頭F表示氣流的方向。磁頭滑動器15具有一個矩形的面對著磁盤5的面對表面16。在面對表面16的氣流流入末端側面處，形成了一個軌道17，其具有一個氣流承受表面17a，承受來自磁盤15的表面和面對表面16之間的氣流的提升力。
軌道17的氣流承受表面17a從面對表面16伸出。從氣流承受表面17a到面對表面16的深度例如大約為幾十μm。
此外，如圖4所示，軌道17的邊緣17b的輪廓是完全彎曲的。特別的是，該輪廓形成一個帶有一個垂直于氣流F方向的長軸的橢圓。
鄰接軌道17的圓周形成了一個臺階18，并從面對表面16伸出，且形成了一個位于氣流承受表面17a和面對表面16之間的氣流承受表面18a。
臺階18被形成大致沿氣流F方向與磁頭滑動器15的中心線對稱的形狀。臺階18的氣流承受表面18a距軌道17的氣流承受表面17a的深度例如大約為3μm 。
類似于軌道17，臺階18的氣流承受表面18a接收來自于在磁盤15的表面和面對表面16之間的氣流的提升力。
臺階18上的邊緣18b面對氣流F方向的側面的輪廓是彎曲的。特別是，它相對于氣流F的方向成部分橢圓形凸狀。
此外，臺階18的尾端的兩側沿氣流F的方向向磁頭滑動器15的尾端延伸。
在由該臺階18的下游側面的形狀形成的凹陷處形成了一個負壓槽21。
通過從氣流F方向來的氣流，在該負壓槽21中生成了一個負的壓力，它具有一個使磁頭滑動器15接近磁盤5表面的吸力。
在負壓槽21中生成的負壓起作用可以防止磁頭滑動器15的面對表面16距磁盤5的表面上方飛行時高度大于所需。因此，就獲得了磁頭滑動器15的一個適宜的飛行高度。
在磁頭滑動器15的面對表面16的氣流尾端側面形成了一個軌道19，其具有一個高度與軌道17相同高度的氣流表面19a。在軌道19的外側圓周形成了一個臺階20，具有一個高度與臺階18的氣流承受表面高度相同的氣流承受表面20a。此外，磁頭HD被安裝在磁頭滑動器15的尾端大致中心的位置。
類似于軌道17，軌道19和臺階20的氣流承受表面19a和20a，接收提升力用于使滑動器15從磁盤5表面升起。
軌道19和臺階20的邊緣19b和20b面對氣流F部分的輪廓形成曲線。特別的是，它們包括橢圓的一部分。
可以理解，在具有上述結構的磁頭滑動器15中，軌道17和19的邊緣17b和19b，以及從面對表面16伸出的臺階18和20的邊緣18b和20b面對氣流F的部分的輪廓由相對于氣流F的方向的彎曲凸面構成。
在此，將通過使軌道17和19以及從面對表面16伸出的臺階18和20的邊緣17b，19b，18b和20b彎曲，來說明運行方式。
當把軌道17和19以及臺階18和20的所有邊緣17b、19b、18b和20b都弄直，在軌道17和19以及臺階18和20的邊緣17b、19b、18b和20b上形成了棱邊的部分。當磁頭滑動器15接觸磁盤5的表面時，這些棱邊部分接觸磁盤5的表面，并且有時會刮擦磁盤5或者磁頭滑動器的表面。
通過把軌道17和19以及臺階18和20的所有邊緣17b、19b、18b和20b都形成本實施例中的彎曲，在磁頭滑動器15在其邊緣17b、19b、18b和20b接觸磁盤5的表面時，就沒有了較長的刮擦磁盤5表面的棱邊部分，從而抑制了擦傷磁盤5的表面。
注意到，即使構造磁頭滑動器的軌道和臺階為如圖18和圖19所示時，可以抑制由于磁頭滑動器和磁盤表面之間的接觸，而擦傷磁盤5或者磁頭滑動器的表面。應注意到圖18是一個透視圖，示出了磁頭滑動器的面對表面的另一個結構，該磁頭滑動器能夠抑制由于磁頭滑動器和磁盤表面之間的接觸而對磁盤5的表面造成的擦傷，而圖19是圖18中的磁頭滑動器的面對表面的一個平面圖。
如圖18所示的磁頭滑動器115的面對表面116裝備有軌道117和119以及臺階118和120，類似于根據(jù)本實施例的磁頭滑動器15。這些軌道117和119以及臺階118和120的邊緣基本上是直的。此外，在臺階118的尾端側面沿氣流F的方向形成了一個負壓槽121。
此外，軌道117和119以及臺階118和120的邊緣是圓形的。
通過把軌道117和119以及臺階118和120的邊緣EG形成為平滑曲線，這樣在磁頭滑動器115的面對表面116上就不再有任何尖銳的部分，接觸壓力變小即使在由于磁頭滑動器和磁盤表面之間的接觸而使圓形的邊緣EG接觸到磁盤5的表面的情況下，并因此防止了磁盤5的表面被擦傷。
如上所述，即使軌道17和19以及臺階18和20的邊緣17b、19b、18b和20b并不全都是彎曲的，并且即使只有邊緣部分由平滑曲線構成，也可以抑制由于磁頭滑動器和磁盤之間的接觸導致的擦傷。
除這樣的作用之外，本實施例的磁頭滑動器15展現(xiàn)了另外一個作用，其為通過使軌道17和19以及臺階18和20的邊緣17b、19b、18b和20b上面對著氣流F的輪廓對著氣流F突起，從而可以抑制灰塵，粉末，潤滑劑等等進入轉動的磁盤5的表面和磁頭滑動器15的軌道17和19以及臺階18和20的氣流承受表面17a、19a、18a和20a之間。
灰塵和粉末是從外界進入磁盤驅動器，或者是由于磁頭滑動器15和磁盤5的表面之間的接觸而產(chǎn)生的。如果灰塵和粉末進入磁盤5的表面和氣流承受表面17a、19a、18a和20a之間，并沉積在氣流承受表面17a、19a、18a和20a上，磁頭滑動器15的飛行高度將變得不穩(wěn)定，或是變得不夠高。此外，通常為了降低磁頭滑動器15和磁盤5之間的接觸力，會在磁盤5的表面上涂上一層液體潤滑劑。如果該潤滑劑沉積在磁頭滑動器15的支承表面17a、19a、18a和20a上，磁頭滑動器15的飛行高度將變得不穩(wěn)定，或是飛行高度被降低。
本實施例的磁頭滑動器15起作用以抑制灰塵，粉末，和潤滑油進入磁頭滑動器15的氣流承受表面17a、19a、18a和20a和磁盤5的表面之間。
在此，圖5到圖7模擬了在形成從磁頭滑動器的面對表面伸出的軌道，并且使這些軌道的邊緣面對氣流F方向的部分的輪廓成為形狀彼此不同的曲線時，灰塵以及粉末的流動路徑。此外，圖8模擬了在使磁頭滑動器的面對表面上形成的軌道的邊緣上面對氣流F的側面的輪廓基本上為具有橫切氣流F方向的定向的直線，而且僅僅在邊緣部分形成了平滑曲線時，灰塵以及粉末的流動路徑。注意到圖5到8所示的灰塵和粉末的流線FL表明在流線FL的密度高的區(qū)域，灰塵和粉末流量就大，在流線FL的密度低的區(qū)域，灰塵和粉末流量小。
如圖5所示，在磁頭滑動器的面對表面形成了一個軌道RL1。軌道RL1在面對氣流F的側面的輪廓由橢圓一部分構成，其具有橫切氣流F方向定向的長軸。
如圖6所示，在磁頭滑動器的面對表面上形成了一個軌道RL2。軌道RL2上面對氣流F的側面的輪廓由橢圓的一部分構成，其具有沿氣流F的方向的長軸。
如圖7所示，在磁頭滑動器的面對表面上形成了一個軌道RL3。軌道RL3上面對氣流F的側面的輪廓由弧形構成。
如圖8所示，在磁頭滑動器的面對表面上形成了一個軌道RL4。軌道RL4上面對氣流F的側面的輪廓基本上是由直線構成，直線具有橫切氣流F方向的定向，只有邊緣部分EC是圓形的。
此外，為了使來自氣流的提升力在軌道R1到R4上產(chǎn)生相同的作用，軌道R1到R4被賦予了相同的軌道寬度和軌道長度。
當把圖5到7與圖8進行比較時，可以看出在面對氣流F的部分具有曲線輪廓的軌道R1、R2和R3上所積聚的灰塵和粉末的量要少于在面對氣流F的部分具有基本上是直線的輪廓的軌道R4上所積聚的灰塵和粉末的數(shù)量。
換句話說，當面對氣流F的部分的輪廓由曲線組成時，由于面對氣流F方向的軌道R1、R2和R3上曲線邊緣的作用，要進入軌道R1、R2和R3的大多數(shù)灰塵和粉末被推到軌道R1、R2和R3的兩側，因此積聚在軌道R1，R2，和R3上的灰塵和粉末的量就很少了。
此外，當比較軌道R1、R2和R3時，可以看出進入軌道R2上的灰塵和粉末的數(shù)量是最小的，軌道R2的輪廓由橢圓的一部分構成，并具有與氣流F的方向平行的長軸。換句話說，從抑制所進入的灰塵和粉末的量這一角度來看，面對氣流F的軌道部分的輪廓優(yōu)選地是由橢圓的一部分構成，并具有與氣流F的方向平行的長軸。
但是，通過形成軌道以使面對氣流F的部分的輪廓變成相對于氣流F的彎曲凸面，足以獲得抑制所進入的灰塵和粉末的量的效果。
圖9模擬了灰塵以及粉末流動到如圖3和圖4中所示的磁頭滑動器15的面對表面16的路徑；此外，圖10模擬了灰塵以及粉末流動到圖18和圖19所示的磁頭滑動器面對表面116的路徑。
當比較圖9和圖10時，可以看出在如圖9所示的磁頭滑動器15中流到軌道17和19以及臺階18和20的氣流承受表面上的灰塵和粉末的量是非常小的。如參照圖5到圖7所做的說明，這是因為面對氣流F的軌道17和19以及臺階18和20的邊緣由相對于氣流F的彎曲凸面構成。
此外，因為軌道17和臺階18處在磁頭滑動器15的負壓槽21的氣流F方向的上游，進到負壓槽21的灰塵和粉末的量變得比進入如圖10所示的磁頭滑動器115的負壓槽121的灰塵和粉末的量要少得多。
為此，在負壓槽21中產(chǎn)生了一個負壓。因此，當灰塵和粉末進入時，灰塵和粉末容易聚集在負壓槽21中，但是可以抑制進入負壓槽21的灰塵和粉末的量，因此就可以抑制所累積的灰塵和粉末的量。
如上所述，根據(jù)本實施例，通過使磁頭滑動器的面對表面上形成的軌道和臺階的面對氣流F的邊緣形成為相對于氣流F的彎曲凸面，可以阻止灰塵和粉末流動到軌道和臺階上，也降低了灰塵和粉末殘留在軌道和臺階上的可能性并降低了對旋轉作用的不利影響。為此，可以設計一種抵抗灰塵和粉末的磁頭滑動器。
此外，設計參數(shù)比如軌道和臺階的橢圓形的長軸和短軸的尺寸或者弧形的半徑不能片面地被確定，這是由于優(yōu)選參數(shù)是根據(jù)磁盤的驅動狀態(tài)或者磁頭滑動器的飛行特性來選擇，但是無論選擇了何種參數(shù)，都可以可靠地改進對灰塵和粉末的抵抗力。
此外，通過把單個軌道17布置在相對于負壓槽21的氣流F的上游，由于負壓槽21中的負壓的作用，可以抑制灰塵和粉末在負壓槽21中的累積。
注意到，在根據(jù)本實施例的磁頭滑動器15的結構中，例如，如圖11和12所示，與磁頭滑動器15的使用條件相匹配的各種改進是有可能的，但軌道17和19以及臺階18和20面對氣流F的邊緣要形成相對于氣流F的彎曲凸面。
此外，當不必要考慮殘留于負壓槽21中的灰塵和粉末時，例如，如圖13所示，也有可能在磁頭滑動器15的負壓槽21的上游、關于中心線對稱的位置附近沿磁頭滑動器15的氣流F的方向構造兩條軌道17。
在圖11A的情況下，軌道17的輪廓被構造成具有橫切氣流方向定向的長軸的橢圓，或者是在圖11B的情況下，構造為具有沿氣流F方向定向的長軸的橢圓形。通過用這種方式構造軌道17的輪廓為曲線，可以抑制灰塵和粉末在軌道17的氣流承受表面上的沉積。
第二個實施例圖14示出了根據(jù)本發(fā)明的第二個實施例，磁頭滑動器的面對表面的結構。
如圖14所示的磁頭滑動器160的面對表面161在外形上是矩形的。在此面對表面161氣流F方向的前側上從面對表面161伸出的軌道162在關于磁頭滑動器160的中心線對稱的位置沿著氣流F的方向形成。
這兩條軌道162具有從面對表面161伸出預定量的氣流承受表面。這些氣流承受表面從氣流F接收提升力。
此外，在這兩條軌道沿著氣流F的方向的下游，用于形成負壓槽164的軌道163關于磁頭滑動器160的中心線沿著氣流F的方向對稱地形成。
軌道163具有氣流承受表面，其高度與兩個軌道162的氣流承受表面的高度相同。此氣流承受表面從氣流F接收提升力。
此外，上述兩條軌道162和軌道163的邊緣面對氣流F的部分的輪廓為相對于氣流F的彎曲凸面。
如圖14所示的箭頭T指示了灰塵和粉末沿著氣流F的方向進入的流動路徑。
從圖14看出，因為兩條軌道162面對氣流F的邊緣的輪廓相對于氣流F凸出地彎曲，沿著氣流F方向進入的灰塵和粉末避開了這兩條軌道162流動。
然而，由于灰塵和粉末的流動路徑在這兩條軌道162之間形成，在這兩條軌道162之間通過的灰塵和粉末將試圖進入在軌道163的尾端形成的負壓槽164。
在這個時候，由于軌道163的邊緣面對氣流F的輪廓是一個相對于氣流F的彎曲凸面，朝向軌道163面對氣流F的邊緣運動的灰塵和粉末直接流向軌道163的兩側。因此，就抑制了灰塵和粉末進入負壓槽164。
于是，即使在磁頭滑動器160的面對表面161上氣流的前側形成兩條軌道162，由于負壓的作用，灰塵和粉末被吸引到在兩條軌道162的下游形成的負壓槽164中，因此可以抑制灰塵和粉末在負壓槽164中的累積。
第三個實施例圖15示出了根據(jù)本發(fā)明的第三個實施例的磁頭滑動器的面對表面的結構。
在如圖15所示的磁頭滑動器201的面對表面16上，類似于根據(jù)第一個實施例的磁頭滑動器15，形成了軌道17和19以及臺階18和20。這是與根據(jù)第一個實施例的磁頭滑動器15相同的結構。
根據(jù)本實施例的磁頭滑動器201和磁頭滑動器15的不同在于磁頭滑動器201的邊緣201a面對氣流F部分的輪廓是一個相對于氣流F的彎曲凸面。
于是，磁頭滑動器201的邊緣201a面對氣流F的側面形成了彎曲的表面。
通過以這種方式使磁頭滑動器201的輪廓本身為曲線，通過類似于參考圖5到7所說明的作用，從氣流F的方向向磁頭滑動器201運動的灰塵和粉末被推開到磁頭滑動器201的側面。
換句話說，相對于在氣流F方向面對表面16處于臺階18的上游這一情況，灰塵和粉末被抑制進入臺階18。
此外，例如，在如圖16所示的磁頭滑動器301中，也有可能使磁頭滑動器301的邊緣301a的輪廓成為大致橢圓。
在本發(fā)明已經(jīng)參照那些為了說明的目的而選擇的特定實施例進行了描述的同時，應當可以很明顯得看出，本領域技術人員在沒有偏離本發(fā)明的基本概念和范圍的情況下，可以做許多改進。
在第一個實施例中，解釋是在固定式的磁盤驅動器的情況下做出，該磁盤驅動器具有一個固定在主軸電機4上的磁盤5，主軸電機4在裝備有磁頭滑動器15的磁盤驅動器的情況下作為旋轉驅動裝置，但是本發(fā)明還可以被應用到所謂的可移動式磁盤驅動器401中，例如，如圖17所示，把裝有磁盤的磁盤卡盒從驅動器裝入或者取出。
注意到磁盤驅動器401具有一個類似于如圖1所示的磁盤驅動器的內部結構。另外，它裝備有一種裝置，當磁盤卡盒402以圖17中的箭頭B1所示的方向被插入時，使支撐著磁盤卡盒402的卡盒支架403朝著底盤404下降，從而卡盒支架403把容納在磁盤卡盒402中的磁盤卡緊在安裝在驅動器中的主軸電機上。
在這種可移動式磁盤驅動器401中，灰塵和粉末很容易從外界進入設備的內部。通過應用本發(fā)明的磁頭滑動器，可以大大地改善對灰塵和粉末的抵抗能力。
此外，在上述實施例中，以磁盤驅動器作為盤驅動器的情況作了說明，但是本發(fā)明還可以被應用于例如磁光盤驅動器和光盤驅動器。
概述本發(fā)明的效果，根據(jù)本發(fā)明，即使在從外界施加了振動或者震動的情況下，也可以避免在磁頭滑動器的銳利的邊緣和記錄介質表面之間的接觸，以及所產(chǎn)生的記錄介質表面的擦傷，因此大大地降低了擦傷記錄介質表面的可能性。于是，可以實現(xiàn)抵抗振動或者震動的盤驅動器。
此外，通過使軌道的邊緣輪廓成為相對于氣流的凸狀曲線，阻止了灰塵和粉末或者潤滑劑在磁頭滑動器的軌道上流動，并從而可以維持穩(wěn)定的飛行動作。
權利要求
1.一種磁頭滑動器，包括一滑動器，具有形成在布置成面對轉動的記錄介質表面的面對表面上并承受來自所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流的提升力的軌道，以及一磁頭，用來執(zhí)行數(shù)據(jù)再現(xiàn)和數(shù)據(jù)記錄中的至少一個操作，其中所述軌道在面對所述氣流一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
2.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，還包含一臺階，順沿所述軌道的外周設置并承受來自所述氣流的提升力，所述臺階在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
3.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，所述滑動器的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
4.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，所述軌道在面對所述氣流的一側的輪廓為弧形。
5.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，所述軌道在面對所述氣流的一側的輪廓是橢圓的一部分。
6.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，所述軌道的輪廓是完全彎曲的。
7.如權利要求2所述的磁頭滑動器，其中，所述臺階在面對所述氣流的一側的輪廓為弧形。
8.如權利要求2所述的磁頭滑動器，其中，所述臺階在面對所述氣流的一側的輪廓是橢圓的一部分。
9.如權利要求2所述的磁頭滑動器，其中，所述臺階的輪廓是完全彎曲的。
10.如權利要求3所述的磁頭滑動器，其中，所述滑動器在面對所述氣流的一側的輪廓為弧形。
11.如權利要求3所述的磁頭滑動器，其中，所述滑動器在面對所述氣流的一例的輪廓是橢圓的一部分。
12.如權利要求3所述的磁頭滑動器，其中，所述滑動器的輪廓是完全彎曲的。
13.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，還包括一負壓槽，在所述面對表面上形成于所述軌道的下游側并承受與所述提升力相反的吸力。
14.如權利要求2所述的磁頭滑動器，其中，還包括一負壓槽，在所述面對表面上形成于所述臺階的下游側并承受與所述提升力相反的吸力。
15.如權利要求14所述的磁頭滑動器，其中，所述軌道設置于所述負壓槽的上游側。
16.一種磁頭滑動器，包括一滑動器，具有形成在布置成面對轉動的記錄介質表面的面對表面上并承受來自所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流的提升力的軌道，以及一磁頭，用來執(zhí)行數(shù)據(jù)再現(xiàn)和數(shù)據(jù)記錄中的至少一個操作，其中所述滑動器在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
17.如權利要求16所述的磁頭滑動器，其中，所述軌道在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
18.如權利要求17所述的磁頭滑動器，其中，還包括一臺階，順沿所述軌道的外周設置并承受來自所述氣流的提升力，其中，所述臺階在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
19.一種盤驅動器，包括一用于轉動盤狀記錄介質的旋轉裝置，一滑動器，具有形成在布置成面對轉動的記錄介質表面的面對表面上并承受來自所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流的提升力的軌道，以及安裝在所述滑動器上并執(zhí)行數(shù)據(jù)再現(xiàn)和數(shù)據(jù)記錄中的至少一個操作的磁頭，其中，所述軌道在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
20.如權利要求19所述的盤驅動器，其中，所述記錄介質可自由地插入所述旋轉裝置和從所述旋轉裝置彈出。
21.如權利要求19所述的盤驅動器，其中，還包括一臺階，順沿所述軌道的外周形成并承受來自所述氣流的提升力，以及所述臺階在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
22.如權利要求1所述的磁頭滑動器，其中，所述滑動器的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
23.一種盤驅動器，包括用于轉動盤狀記錄介質的旋轉裝置，一滑動器，具有形成在布置成面對轉動的記錄介質表面的面對表面上并承受來自所述記錄介質表面和所述面對表面之間的氣流的提升力的軌道，以及安裝在所述滑動器上并執(zhí)行數(shù)據(jù)再現(xiàn)和數(shù)據(jù)記錄中的至少一個操作的磁頭，其中，所述滑動器在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
24.如權利要求23所述的盤驅動器，其中，所述記錄介質可自由地插入所述旋轉裝置中和從所述旋轉裝置彈出。
25.如權利要求23所述的盤驅動器，其中，所述軌道在面對所述氣流的一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
26.如權利要求23所述的磁頭滑動器，其中，還包括一臺階，順沿所述軌道的外周設置并承受來自所述氣流的提升力，并且所述臺階在面對所述氣流一側的輪廓是相對于所述氣流凸出的曲線形。
全文摘要
提供了一種帶有磁頭滑動器的盤驅動器,在由于振動或震動而使磁頭滑動器和記錄介質的表面互相接觸時,能夠抑制對磁頭滑動器和記錄介質的擦傷。而且,磁頭滑動器也能夠抑制外來物質比如灰塵和粉末進入磁盤表面與磁頭滑動器的氣流承受表面之間的空間,從而抑制了磁頭滑動器的飛行高度的降低和飛行動作的失穩(wěn);以及一種提供有軌道的磁頭滑動器,其中,軌道的輪廓在面對氣流側是相對于氣流的彎曲凸面。
文檔編號G11B21/21GK1308334SQ0013726
公開日2001年8月15日 申請日期2000年12月6日 優(yōu)先權日1999年12月6日
發(fā)明者四谷道夫 申請人:索尼公司