光學用片材及導電性片材、以及具備該光學用片材的顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種光學用片材及所述導電性片材、以及具備所述光學用片材的顯示裝置，所述光學用片材包含具有第1面及第1面的相反側(cè)的第2面的透明基材層、及至少積層在所述透明基材層的第1面上的凹凸層，所述凹凸層的凹凸是以均方根高度為0.02～0.2μm、且均方根斜率為0.01～0.1的方式構(gòu)成，霧度值為1.5％以下。根據(jù)本發(fā)明，可提供一種具有觸控面的明亮度良好等優(yōu)異的光學性能并且不易產(chǎn)生粘連的光學用片材及導電性片材、以及具備該光學用片材的顯示裝置。
【專利說明】
光學用片材及導電性片材、從及具備該光學用片材的顯示 裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設及一種光學用片材及導電性片材、W及具備該光學用片材的顯示裝置。 本發(fā)明是基于2013年11月29日在日本提出申請的日本專利特愿2013-247619號、及2014年4 月14日在日本提出申請的日本專利特愿2014-082631號而主張其優(yōu)先權(quán)，并將其內(nèi)容引用 至本文中。
【背景技術(shù)】
[0002] 觸控面板是作為位置輸入裝置而發(fā)揮功能的電子零件，將其和液晶顯示器等顯示 裝置組合而廣泛用于手機或掌上游戲機等。觸控面板是如下介面:如果操作者根據(jù)畫面顯 示W(wǎng)手或輸入筆指示觸控面板的特定位置，則裝置會感知該特定位置的資訊，由此可進行 操作者所期望的適當動作。作為觸控面板，根據(jù)檢測指示位置的動作原理而有各種方式，廣 泛應用電阻膜式或靜電電容式。尤其是靜電電容式W手機等移動設備為中屯、而迅速擴大。 作為靜電電容式的具代表性的檢測方式，可列舉:類比檢測的表面型、及使用經(jīng)圖案化的電 極的利用累計檢測方式的投影型運兩種。
[0003] 作為靜電電容式觸控面板，一直使用具備在單面或兩面上設有導電層的玻璃板 (W下有時稱為感測玻璃）的觸控面板，通常在感測玻璃的前面?zhèn)?觸控面?zhèn)龋?，?jīng)由膠粘層 而積層有玻璃板(W下有時稱為玻璃蓋板）。另外，為了防止玻璃蓋板的破損或碎片的飛散， 而在玻璃蓋板的前面?zhèn)然虿Ａw板的背面?zhèn)冗M一步貼附保護片材。
[0004] 觸控面板通常是使用膠粘劑而安裝在顯示裝置的前面，尤其是在顯示裝置為大型 的情況下，就成本方面而言，有時利用膠粘劑僅將觸控面板的外邊緣部固定。
[0005] 在圖8中，表示對現(xiàn)有的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置200的構(gòu)成進行說明 的概略剖視圖，所述附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置200是利用膠粘劑將靜電電容式 觸控面板的僅外邊緣部固定在顯示裝置的前面而成。附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置 200具備在最前面配置有偏光板212的液晶顯示器211、及靜電電容式觸控面板221。靜電電 容式觸控面板221具備硬涂層(樹脂層)204、硬涂層204的前面?zhèn)鹊幕膶?透明膜)203、經(jīng) 由化粘層207而積層在基材層203的自U面?zhèn)鹊膶щ妼?02、及導電層202的自U面?zhèn)鹊牟Ａw板 201。靜電電容式觸控面板221是在和液晶顯示器211之間設置間隙而配置在液晶顯示器211 的前面，且通過膠粘層231將外邊緣部固定在液晶顯示器211，由此，在液晶顯示器211的前 面和靜電電容式觸控面板221的背面之間形成有間隙。
[0006] 在光學膜的領(lǐng)域，有在膜彼此接觸、或膜與其他構(gòu)件(例如玻璃板)接觸時產(chǎn)生眩 光或牛頓環(huán)、粘連的情況。為了防止運些情況，而在膜表面設置微細的凹凸形狀。一般而言， 所形成的凹凸的大小是根據(jù)所要求的性能(防眩光、防牛頓環(huán)、防粘連)而設定，在防眩光的 情況下最大，在防粘連的情況下最小。作為此種凹凸形狀的形成方法，可使用:使硬涂層中 含有粒子的方法、及通過相分離使特定的樹脂成分析出的方法等(例如專利文獻1~8)。
[0007] [現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0008][專利文獻]
[0009] [專利文獻1]日本專利特開2010-42671號公報
[0010] [專利文獻2]日本專利特開2010-60643號公報
[0011] [專利文獻3]日本專利特開2011-33948號公報
[0012] [專利文獻4]日本專利特開2012-206502號公報 [OOU][專利文獻引日本專利5181793號
[0014] [專利文獻6]日本專利特開2003-45234號公報
[0015] [專利文獻7]日本專利4392048號
[0016] [專利文獻8]日本專利特開2007-182519號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0017][發(fā)明要解決的問題]
[0018] 近年來，觸控面板的輕量化、薄型化的要求不斷提高。在此種背景下，作為所述靜 電電容式觸控面板，業(yè)界開始使用不設置玻璃蓋板的單片玻璃型。作為單片玻璃型的靜電 電容式觸控面板，有在玻璃板的背面設置導電層、且在所述玻璃板的表面積層保護片材而 成的構(gòu)成的觸控面板。
[0019] 但是，根據(jù)本
【發(fā)明人】等人的研究，在如圖8所示將單片玻璃型的靜電電容式觸控面 板安裝在顯示裝置中的情況下，有在硬涂層204和偏光板212接觸時產(chǎn)生粘連的問題。顯示 裝置越大型化，該問題越明顯。作為產(chǎn)生該問題的原因，認為由于所述觸控面板所具備的玻 璃基板為1片，所W容易產(chǎn)生彎曲或變形，在中央附近保持和顯示裝置的前面的偏光板接觸 的狀態(tài)而難W恢復。作為解決方法，考慮將具有防粘連性能的膜(防粘連膜)配置在觸控面 板的背面或顯示裝置的前面。但是，W往使用的防粘連膜由于防粘連性能不充分，或即便防 粘連性能充分，霧度也高，而透明性不充分等光學性能也不充分，所W難W應用于顯示裝置 或觸控面板。
[0020] 另外，近年來，應對觸控面板的輕量化、薄型化的要求，而使用具備在透明膜上設 置有導電層的導電性膜(W下稱為膜感測器)的觸控面板。具備此種具有膜感測器的觸控面 板的顯示裝置存在如下問題：由于觸控操作時的變形變大，所W所述粘連問題變得更明顯。
[0021] 本發(fā)明是鑒于所述情況而完成者，其目的在于提供一種具有觸控面的明亮度良好 等優(yōu)異的光學性能且不易產(chǎn)生粘連的光學用片材及導電性片材、W及具備該光學用片材的 顯示裝置。
[0022] [解決問題的技術(shù)手段]
[0023] 本
【發(fā)明人】等人進行了努力研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn):通過在單片玻璃型的靜電電容式觸控 面板的背面和顯示構(gòu)件的前面隔著間隙而對向的構(gòu)成、或具備膜感測器的觸控面板的背面 和顯示構(gòu)件的前面隔著間隙而對向的構(gòu)成中，使用如下光學用片材作為構(gòu)成所述觸控面板 的背面(與所述顯示構(gòu)件對向的面)的片材，可解決所述問題，從而完成了本發(fā)明，所述光學 用片材是具備具有第1面及第1面的相反側(cè)的第2面的透明基材層、及在透明基材層的至少 第1面上具有凹凸的凹凸層的光學用片材，且所述凹凸層的凹凸是W均方根高度為0.02~ 0.2μπι、均方根斜率為0.01~0.1的方式構(gòu)成，并且霧度值為1.5% W下。
[0024] 本發(fā)明具有W下態(tài)樣。
[0025] [1] -種導電性片材，其特征在于:其包含具有透明膜及在一個面上具有凹凸的樹 脂層且霧度為1.5% W下的透明膜積層體、W及設置在所述透明膜的一個面上的導電層，并 且所述具有凹凸的樹脂層為所述導電性片材的最外層，所述最外層的表面的均方根高度為 0.02~0.2μπι，均方根斜率為0.01~0.1。
[0026] [2]根據(jù)[1]所述的導電性片材，其中所述最外層的表面的輪廓曲線要素的平均長 度為40~200μπι，算術(shù)平均粗糖度為15~400nm。
[0027] [3]根據(jù)[1]或[2]所述的導電性片材，其中所述具有凹凸的樹脂層是由實質(zhì)上不 發(fā)生相分離、且含有粒徑小于250nm的無機或有機微粒子的樹脂組合物所形成。
[0028] [4]根據(jù)[1]或[2]所述的導電性片材，其中所述具有凹凸的樹脂層是含有至少巧中 成分、且實質(zhì)上不含無機及有機微粒子的樹脂組合物發(fā)生相分離而形成。
[0029] [5]根據(jù)技術(shù)方案[1]至[4]中任一項所述的導電性片材，其中所述具有凹凸的樹 脂層的厚度為1~15皿。
[0030] [6]根據(jù)技術(shù)方案[1]至[5]中任一項所述的導電性片材，其中所述導電層是均勻 地涂布有機系導電劑而成，或者將金屬材料任意地進行圖案化而成。
[0031] [7]根據(jù)技術(shù)方案[1]至[6]中任一項所述的導電性片材，其中在所述透明膜和所 述樹脂層之間、或在所述透明膜和所述導電層之間進一步形成1層W上的折射率調(diào)整層，所 述折射率調(diào)整層的折射率為1.20~1.45或1.60~2.00。
[0032] [引一種印刷片材，其是在根據(jù)技術(shù)方案[1]至[7]中任一項所述的導電性片材的 任一面上進一步積層印刷層而成。
[0033] [9]-種膠粘性片材，其是在根據(jù)技術(shù)方案[1]至[7]中任一項所述的導電性片材 的任一面上進一步積層膠粘層而成。
[0034] [ 10 ] -種靜電電容式觸控面板，其具備根據(jù)技術(shù)方案[1 ]至[7 ]中任一項所述的導 電性片材、根據(jù)[引所述的印刷片材、或根據(jù)[9]所述的膠粘性片材的樹脂層。
[0035] [11] 一種導電性片材，其特征在于:依序包含第1透明膜、具備具有凹凸的樹脂層 且霧度為1.5% W下的積層體、第1導電層、膠粘層、第2透明膜、及第2導電層，并且所述具有 凹凸的樹脂層為所述導電性片材的最外層，所述最外層的表面的均方根高度為0.02~0.化 m，均方根斜率為0.01~0.1。
[0036] [12]根據(jù)[11]所述的導電性片材，其中所述最外層的表面的輪廓曲線要素的平均 長度為40~200μπι，算術(shù)平均粗糖度為15~400nm。
[0037] [13]-種靜電電容式觸控面板，其具備根據(jù)[11]或[12]所述的導電性片材。
[0038] 另外，本發(fā)明具有W下實施方式。
[0039] <1> -種光學用片材，其包含具有第1面及第1面的相反側(cè)的第2面的透明基材 層、及至少積層在所述透明基材層的第1面上的凹凸層，并且
[0040] 所述凹凸層的凹凸是W均方根高度為0.02~0.2皿、且均方根斜率為0.01~0.1的 方式構(gòu)成，
[0041] 霧度值為1.5% W下。
[0042] <2>根據(jù)<1>所述的光學用片材，其中所述凹凸層的凹凸是W輪廓曲線要素的 平均長度為40~200μπι、算術(shù)平均粗糖度為15~400nm的方式構(gòu)成。
[0043] <3>根據(jù)<1>或<2>所述的光學用片材，其中所述凹凸層為實質(zhì)上不含粒子 的多相系樹脂層。
[0044] <4>根據(jù)<1>至<3>中任一項所述的光學用片材，其中所述凹凸層的厚度為1 ~15μπι〇
[0045] <5>根據(jù)<1>至<4>中任一項所述的光學用片材，其還在所述透明基材層的 第2面?zhèn)染邆淠z粘層或粘接層。
[0046] <6>-種導電性片材，其具有根據(jù)<1>至<4>中任一項所述的光學用片材、及 導電層，且所述導電層是積層在所述光學用片材的所述透明基材層的第2面上。
[0047] <7>根據(jù)<6>所述的導電性片材，其中所述導電層包含選自由有機系導電劑、 及金屬材料所組成的群中的至少1種材質(zhì)。
[004引 <8>-種觸控面板，其具有根據(jù)<7>所述的導電性片材。
[0049] <9>一種附帶觸控面板的顯示裝置，其具備顯示構(gòu)件、根據(jù)<8>所述的觸控面 板、及接合層，并且
[0050] 所述觸控面板是隔著間隙而配置在所述顯示構(gòu)件的表面上，且所述觸控面板的外 邊緣部是通過所述接合層而和所述顯示構(gòu)件接合。
[0051] <1〇>根據(jù)<9>所述的附帶觸控面板的顯示裝置，其中所述顯示構(gòu)件在和所述 觸控面板對向的面上具有凹凸，所述凹凸是W均方根高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為 0.01~0.1的方式構(gòu)成。
[0052] <11>根據(jù)<1>至<5>中任一項所述的光學用片材，其中W顯示構(gòu)件的表面和 所述凹凸層對向的方式隔著間隙而進行配置。
[0053] 在本說明書的范圍中，凹凸層的均方根高度、均方根斜率、輪廓曲線要素的平均長 度、算術(shù)平均粗糖度的表面特性是通過下述測定方法所測得的值。
[0054] 使用微激光顯微鏡，依據(jù)JIS 80601:2001算出均方根高度化、均方根斜率RAq、算 術(shù)平均粗糖度Ra、及輪廓曲線要素的平均長度RSm。
[0055] 另外，光學用片材的霧度值可依據(jù)JIS K 7136算出。
[0056] 此外，在本說明書中，所謂"前面"是指在使用靜電電容式觸控面板或安裝有該靜 電電容式觸控面板的顯示裝置時，使用者進行視認、操作的一側(cè)的面，"背面"是指與使用者 進行視認、操作的側(cè)相反的一側(cè)的面。有時將觸控面板的前面稱為觸控面。
[0057] [發(fā)明的效果]
[0058] 根據(jù)本發(fā)明，可提供一種具有觸控面的明亮度良好等優(yōu)異的光學性能并且不易產(chǎn) 生粘連的光學用片材及導電性片材、W及具備該光學用片材的顯示裝置。
[0059] 另外，本發(fā)明的導電性片材由于具有在本發(fā)明的光學用片材的透明基材層的第2 面上積層有導電層的結(jié)構(gòu)，因此無需在玻璃表面上形成導電層，和在玻璃板的背面上設置 導電層的現(xiàn)有的單片玻璃型的觸控面板相比，可降低不良率。
【附圖說明】
[0060] 圖1是表示本發(fā)明的光學用片材的一個例子的概略剖視圖。
[0061] 圖2是表示使用本發(fā)明的光學用片材或?qū)щ娦云牡母綆ъo電電容式觸控面板的 顯示裝置的一個例子的概略剖視圖。
[0062] 圖3是表示本發(fā)明的光學用片材的另一個例子的概略剖視圖。
[0063] 圖4是表示使用本發(fā)明的光學用片材或?qū)щ娦云牡母綆ъo電電容式觸控面板的 顯示裝置的另一個例子的概略剖視圖。
[0064] 圖5是表示本發(fā)明的導電性片材的一個例子的概略剖視圖。
[0065] 圖6是表示圖5所示的導電性片材的另一個例子的概略剖視圖。
[0066] 圖7是表示在圖2的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置中具備保護片材的例子 的概略剖視圖。
[0067] 圖8是說明現(xiàn)有的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置的構(gòu)成的概略剖視圖。
[0068] 圖9是表示本發(fā)明的導電性片材的另一個例子的概略剖視圖。
[0069] 圖10是表示使用本發(fā)明的導電性片材的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置的 另一個例子的概略剖視圖。
[0070] 圖11是表示使用本發(fā)明的導電性片材的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置的 一個例子的概略剖視圖。
[0071] 圖12是表示使用本發(fā)明的光學用片材或?qū)щ娦云牡母綆ъo電電容式觸控面板 的顯示裝置的另一個例子的概略剖視圖。
【具體實施方式】
[0072] W下，參照附圖對本發(fā)明進行說明。
[0073] [光學用片材]
[0074] 本發(fā)明的光學用片材的特征在于:包含具有第1面及第1面的相反側(cè)的第2面的透 明基材層、W及至少積層在所述透明基材層的第1面上的凹凸層，所述凹凸層的凹凸是W均 方根高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為0.01~0.1的方式構(gòu)成，霧度值為1.5% W下。此 夕h所謂本發(fā)明的光學用片材或?qū)щ娦云氖侵阜勒尺B膜。
[0075] 圖1是表示本發(fā)明的光學用片材50的一個例子的概略剖視圖。
[0076] 光學用片材50包含具有第1面及第1面的相反側(cè)的第2面的透明基材層3、W及設置 在透明基材層3的第1面上的凹凸層4。凹凸層4的與和透明基材層3的第1面接觸的側(cè)的面為 相反側(cè)的表面成為具有凹凸的凹凸面4曰。凹凸面4a的表面是W均方根高度為0.02~0.2皿、 均方根斜率為0.01~0.1的方式構(gòu)成。
[0077] W下，將凹凸層4的和透明基材層3的第1面接觸的一側(cè)的面作為"凹凸層4的第2 面"，將凹凸層4的形成有凹凸面4a的面作為"凹凸層4的第1面"進行說明。
[007引如此，通過具備W凹凸面4a表面的均方根高度為0.02~0 .化m、且均方根斜率為 0.01~0.1的方式構(gòu)成的凹凸層4,可防止因觸控面板和顯示構(gòu)件的貼附（牛頓環(huán))所致的視 認性的劣化、或粘連的產(chǎn)生。
[0079] 如上所述，所謂凹凸層4的凹凸面4a的均方根高度是依據(jù)JIS 80601:2001所測得 的值，而且是相當于測定區(qū)域中的各凹凸的高度的標準偏差的值。即，如果凹凸的均方根高 度為0.02~0.2μπι，則凹凸的高度的不均勻小，防粘連性能變得更優(yōu)異。
[0080] 凹凸面4a的均方根高度優(yōu)選0.021~0.1化m，更優(yōu)選0.022~0.1化m，尤其優(yōu)選 0.023 ~0.07皿。
[0081] 所謂凹凸面4a的均方根斜率是依據(jù)JIS 80601:2001所測得的值，可通過算出測定 區(qū)域中的各凹凸的Ξ維斜率并求出其均方根而獲得。如果該均方根斜率為0.01~0.1，則可 獲得表現(xiàn)出防粘連性所需的凹凸高度。所述均方根斜率優(yōu)選0.011~0.9,更優(yōu)選0.012~ 0.8,進一步優(yōu)選0.013~0.7,最優(yōu)選0.0135~0.0259。通過滿足優(yōu)選的數(shù)值范圍，本發(fā)明的 光學用片材的防粘連性能變得更優(yōu)異。
[0082] 另外，本發(fā)明的光學用片材由于霧度值為1.5% W下，所W透明性高，光學特性也 優(yōu)異。
[0083] 本發(fā)明的光學用片材的霧度值優(yōu)選1.3% W下，更優(yōu)選1.2% W下，進一步優(yōu)選 1.1%W下，進一步優(yōu)選1.0% W下，最優(yōu)選0.9% W下。
[0084] 為了將霧度值設為較低值，在通過下述方法A來形成本發(fā)明的光學用片材的凹凸 層的情況下，只要調(diào)整均方根高度、均方根斜率、及所添加的粒子的平均粒徑或量即可。例 如越減小均方根高度，越可降低霧度值。另外，越減小均方根斜率，越可降低霧度值。另外， 越減小所添加的粒子的平均粒徑，越可降低霧度值。另外，越減少所添加的粒子的量，越可 降低霧度值。即，通過將均方根高度與均方根斜率設為本申請的優(yōu)選范圍，且調(diào)整所添加的 粒子的平均粒徑或量，可將霧度值設為1.5% W下。關(guān)于所添加的粒子的優(yōu)選平均粒徑或 量，在下文進行說明。
[0085] 另外，本發(fā)明的光學用片材優(yōu)選依據(jù)JIS K7361-1所測得的全光線透過率超過 90 %。通過全光線透過率超過90 %，可發(fā)揮出觸控面的明亮度良好等優(yōu)異的光學性能。
[0086] 為了將全光線透過率設為高值，只要調(diào)整透明基材層即可。例如越提高透明基材 層本身的全光線透過率，越可提高全光線透過率。
[0087] <透明基材層>
[0088] 作為透明基材層3,可使用樹脂膜、玻璃板等。其中，就成本、易操作性的觀點而言， 透明基材層3優(yōu)選樹脂膜。此外，本說明書中所謂"透明基材層"，是指由全光線透過率為 85%的基材所形成的層。
[0089] 作為樹脂膜，可列舉:聚對苯二甲酸乙二醋膜、聚糞二甲酸乙二醋膜、聚對苯二甲 酸丙二醋膜、聚對苯二甲酸下二醋膜、聚糞二甲酸丙二醋膜、聚乙締膜、聚丙締膜、賽踰汾、 二乙酷纖維素膜、Ξ乙酷纖維素膜、乙酷纖維素下酸醋膜、聚氯乙締膜、聚偏氯乙締膜、聚乙 締醇膜、乙締-乙酸乙締醋共聚物膜、聚苯乙締膜、聚碳酸醋膜、聚甲基戊締膜、聚諷膜、聚酸 酸酬膜、聚酸諷膜、聚酸酷亞胺膜、聚酷亞胺膜、氣樹脂膜、聚酷胺膜、丙締酸系樹脂膜等。
[0090] 尤其就透明性、耐候性、耐溶劑性、剛度、成本等觀點而言，優(yōu)選聚對苯二甲酸乙二 醋膜。
[0091] 在所述樹脂膜中，也可含有各種添加劑。作為添加劑，例如可列舉:抗氧化劑、耐熱 穩(wěn)定劑、紫外線吸收劑、有機粒子、無機粒子、顏料、染料、抗靜電劑、成核劑、偶聯(lián)劑等。
[0092] 對于透明基材層3,為了提高透明基材層3與凹凸層4的密接性，也可實施表面處 理。作為表面處理，例如可列舉:噴砂處理或溶劑處理等凹凸化處理、電暈放電處理、銘酸處 理、火焰處理、熱風處理、臭氧-紫外線照射處理等表面氧化處理等。
[0093] 就確保強度、防止卷曲等觀點而言，透明基材層3的厚度優(yōu)選10~300皿，更優(yōu)選30 ~200μπι，尤其優(yōu)選35~130皿。所述厚度可使用觸針式膜厚計(例如日本Ξ豐公司制造的附 帶峰值保持功能的ABS數(shù)顯千分表1D-C112A)進行測定。
[0094] <凹凸層>
[00Μ]本發(fā)明的光學用片材在透明基材層3的至少第1面上形成有具有(微細的）凹凸面 4a的層（凹凸層4)。
[0096] 凹凸層4具有凹凸面4a，凹凸面4a是W均方根高度為0.02~0.2皿、且均方根斜率 為0.01~0.1的方式構(gòu)成。另外，優(yōu)選凹凸面4a是W輪廓曲線要素的平均長度為40~200μπι、 且算術(shù)平均粗糖度為15~400nm的方式構(gòu)成。
[0097] 如上所述，所謂輪廓曲線要素的平均長度是依據(jù)JIS 80601:2001所測得的值，是 指具有表現(xiàn)出防粘連性所需的量的凹凸。如果輪廓曲線要素的平均長度為40~200μπι，則可 確保充分的凹凸的量，且可提高防粘連性能，因此優(yōu)選。另外，輪廓曲線要素的平均長度更 優(yōu)選45~15化m，進一步優(yōu)選50~12化m，進一步優(yōu)選55~100皿，最優(yōu)選60~80皿。通過使該 輪廓曲線要素的平均長度為所述優(yōu)選范圍內(nèi)，本發(fā)明的導電性膜片材的防粘連性能變得更 優(yōu)異。
[0098] 凹凸層4的凹凸面4a優(yōu)選進一步W算術(shù)平均粗糖度為15~400皿的方式構(gòu)成。凹凸 面4a的算術(shù)平均粗糖度更優(yōu)選20~20化m，進一步優(yōu)選25~100皿，尤其優(yōu)選30~70皿。通過 使該算術(shù)平均粗糖度為所述優(yōu)選范圍內(nèi)，本發(fā)明的光學用片材的防粘連性能變得更優(yōu)異。
[0099] 具備具有所述輪廓曲線要素的平均長度及算術(shù)平均粗糖度的凹凸面4a的凹凸層4 可通過下述材料及條件等而獲得。
[0100] 凹凸層4是為了對光學用片材賦予防粘連性能而設置。另外，在本發(fā)明的一個方 面，通過凹凸層4為凹凸面4a具有特定硬度的所謂硬涂層，可發(fā)揮耐擦傷性。
[0101] 凹凸層4優(yōu)選含有熱硬化性或活性能量線硬化性樹脂成分的凹凸樹脂層。另外，所 述凹凸樹脂層優(yōu)選通過如下方式獲得:將含有熱硬化性或活性能量線硬化性樹脂成分的硬 涂層形成用涂布液下稱為凹凸樹脂層形成用材料)涂布在透明基材上而形成涂膜，并使 所述涂膜硬化。
[0102] (凹凸樹脂層形成用材料）
[0103] 如上所述，凹凸樹脂層形成用材料優(yōu)選含有熱硬化性或活性能量線硬化性樹脂成 分。
[0104] 作為熱硬化性樹脂成分，例如可列舉:酪樹脂、脈樹脂、鄰苯二甲酸二締丙醋樹脂、 Ξ聚氯胺樹脂、不飽和聚醋樹脂、聚氨基甲酸醋樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基醇酸樹脂、娃樹脂、聚 硅氧烷樹脂等。
[0105] 作為活性能量線硬化性樹脂成分，可列舉含有具有可通過活性能量線的照射而聚 合的聚合性不飽和基(例如含有乙締性雙鍵等聚合性不飽和鍵的基）的單體的成分。在活性 能量線硬化性樹脂成分中，根據(jù)需要而調(diào)配光聚合引發(fā)劑等。
[0106] 在本發(fā)明的一個實施方式中，凹凸樹脂層形成用材料優(yōu)選含有活性能量線硬化性 樹脂成分，優(yōu)選含有多官能（甲基)丙締酸系單體。由此種凹凸樹脂層形成用材料所獲得的 硬化物由于含有具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的硬質(zhì)的丙締酸系聚合物，所W表面硬度、透明性、擦傷性等 優(yōu)異，因此優(yōu)選。
[0107] 所謂"多官能"是指具有2個W上的聚合性不飽和基，"（甲基)丙締酸系單體"是指 至少具有（甲基)丙締酷基作為聚合性不飽和基的化合物。"(甲基)丙締酷基"表示丙締酷基 或甲基丙締酷基。
[0108] 作為多官能（甲基)丙締酸系單體，例如可列舉:二丙二醇二（甲基)丙締酸醋、Ξ丙 二醇二（甲基)丙締酸醋、1,4-下二醇二（甲基)丙締酸醋、1,6-己二醇二（甲基)丙締酸醋、新 戊二醇二（甲基)丙締酸醋、環(huán)氧丙烷改性新戊二醇二（甲基)丙締酸醋、新戊二醇己二酸二 (甲基)丙締酸醋、徑基Ξ甲基乙酸新戊二醇二（甲基)丙締酸醋、二（甲基)丙締酸二環(huán)戊基 醋、己內(nèi)醋改性二（甲基）丙締酸二環(huán)戊締基醋、聚乙二醇(優(yōu)選質(zhì)量平均分子量400~600) 二（甲基）丙締酸醋、改性雙酪A二（甲基)丙締酸醋、Ξ環(huán)癸燒二甲醇二（甲基)丙締酸醋、環(huán) 氧乙燒改性憐酸二（甲基）丙締酸醋、締丙基化二（甲基）丙締酸環(huán)己醋、異氯尿酸醋二（甲 基)丙締酸醋等二官能（甲基)丙締酸醋;季戊四醇Ξ(甲基)丙締酸醋、二季戊四醇Ξ(甲基） 丙締酸醋、丙酸改性二季戊四醇Ξ(甲基)丙締酸醋、Ξ徑甲基丙烷Ξ(甲基)丙締酸醋、Ξ徑 甲基丙烷乙氧基；（甲基）丙締酸醋、環(huán)氧乙燒改性；徑甲基丙烷；（甲基）丙締酸醋、環(huán)氧 丙烷改性立徑甲基丙烷立（甲基)丙締酸醋、聚酸立（甲基)丙締酸醋、甘油丙氧基立（甲基） 丙締酸醋、異氯尿酸Ξ(丙締酷氧基乙基）醋等Ξ官能（甲基）丙締酸醋;季戊四醇四（甲基） 丙締酸醋、季戊四醇乙氧基四（甲基)丙締酸醋、二(立徑甲基丙烷）四（甲基)丙締酸醋等四 官能（甲基)丙締酸醋；二季戊四醇五（甲基)丙締酸醋、丙酸改性二季戊四醇五（甲基)丙締 酸醋、二季戊四醇單徑基五（甲基)丙締酸醋、二季戊四醇六（甲基)丙締酸醋、己內(nèi)醋改性二 季戊四醇六（甲基)丙締酸醋等五官能W上的（甲基)丙締酸醋等。
[0109] 運些多官能（甲基)丙締酸系單體可單獨使用一種，也可組合使用兩種W上。
[0110] 凹凸樹脂層形成用材料優(yōu)選含有四官能W上(優(yōu)選五官能W上，更優(yōu)選六官能）的 (甲基)丙締酸系單體作為多官能（甲基炳締酸系單體。通過含有四官能W上的（甲基)丙締 酸系單體，所獲得的凹凸層的硬度提高，因此優(yōu)選。
[0111] 在凹凸樹脂層形成用材料中所含有的所有多官能（甲基)丙締酸系單體中，相對于 所有多官能（甲基)丙締酸系單體100質(zhì)量％，四官能W上的（甲基)丙締酸系單體的比率優(yōu) 選50質(zhì)量％ ^上，更優(yōu)選60質(zhì)量％ ^上，進一步優(yōu)選70質(zhì)量％ ^上，最優(yōu)選80質(zhì)量％ W上。
[0112] 凹凸樹脂層形成用材料優(yōu)選除了所述多官能（甲基）丙締酸系單體W外還含有光 聚合引發(fā)劑，W促進硬化。
[0113] 作為光聚合引發(fā)劑，可使用公知者，例如可列舉:安息香、安息香甲酸、安息香乙 酸、安息香異丙酸、安息香正下酸、安息香異下酸、苯乙酬、二甲基氨基苯乙酬、2,2-二甲氧 基-2-苯基苯乙酬、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酬、2-徑基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酬、1-徑 基環(huán)己基苯基酬、2-甲基-1-[4(甲硫基)苯基]-2-嗎嘟基-丙烷-1-酬、4-(2-?基乙氧基)苯 基-2巧圣基-2-丙基)酬、二苯甲酬、對苯基二苯甲酬、4,4'-二乙基氨基二苯甲酬、苯丙酬、二 氯二苯甲酬、2-甲基蔥釀、2-乙基蔥釀、2-叔下基蔥釀、2-氨基蔥釀、2-甲基嚷噸酬、2-乙基 嚷噸酬、2-氯嚷噸酬、2,4-二甲基嚷噸酬、2,4-二乙基嚷噸酬、苯偶酷二甲基縮酬、苯乙酬二 甲基縮酬、對二甲氨基苯甲酸醋等。運些光聚合引發(fā)劑可單獨使用一種，也可使用組合兩種 社。
[0114] 在凹凸樹脂層形成用材料的固體成分中，光聚合引發(fā)劑的調(diào)配量優(yōu)選0.5~10質(zhì) 量％，更優(yōu)選2~8質(zhì)量％。如果為0.5質(zhì)量％^上，則不易產(chǎn)生硬化不良。另外，即便調(diào)配超 過10質(zhì)量％，也無法獲得與調(diào)配量相應的硬化促進效果，且成本也變高。另外，有殘留在硬 化物中而引起黃變或滲出等的擔憂。
[0115] 此外，所謂凹凸樹脂層形成用材料的固體成分，在凹凸樹脂層形成用材料不含有 溶劑的情況下表示構(gòu)成凹凸樹脂層形成用材料的所有成分的合計，在含有溶劑的情況下表 示除溶劑W外的所有成分的合計。
[0116] 凹凸樹脂層形成用材料除光聚合引發(fā)劑W外，還可含有光敏劑。作為光敏劑，例如 可列舉:正下基胺、Ξ乙基胺、Ξ正下基麟等。
[0117] 凹凸樹脂層形成用材料也可根據(jù)需要在無損本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)含有所述W 外的其他成分。例如可含有用于對凹凸層賦予耐擦傷性W外的其他功能(斥水性、斥油性、 防污性、涂布適性、抗靜電性、紫外線遮蔽性等）的公知添加劑。作為此種添加劑，例如可列 舉:氣系化合物、聚硅氧烷系化合物、金屬氧化物微粒子、抗靜電樹脂、導電性高分子、紫外 線吸收劑等。
[0118] 通過添加氣系化合物，可賦予斥水、斥油性，另外，可賦予污垢難W附著且容易擦 去所附著的污垢的防污效果。另外，通過添加聚硅氧烷系化合物，可提高斥水性，或賦予污 垢難W附著且容易擦去所附著的污垢的防污效果及提高涂布適性。另外，通過添加金屬氧 化物微粒子或抗靜電樹脂、導電性高分子，可賦予抗靜電性。另外，通過添加金屬氧化物微 粒子或紫外線吸收劑，可賦予紫外線遮蔽性。
[0119] 相對于所述樹脂成分100質(zhì)量份，運些添加劑的含量優(yōu)選0.01~10質(zhì)量％。
[0120] 凹凸樹脂層形成用材料也可含有溶劑。
[0121] 作為溶劑，例如可使用：甲醇、乙醇、異丙醇、丙酬、甲基乙基酬、甲苯、正己燒、正下 醇、甲基異下基酬、甲基下基酬、乙基下基酬、環(huán)己酬、乙酸乙醋、乙酸下醋、丙二醇單甲酸乙 酸醋、乙二醇單乙酸、丙二醇單甲酸、N-甲基-2-化咯燒酬等。運些可單獨使用一種W上，也 可為了減輕涂布不均勻而并用蒸發(fā)速度不同的兩種W上的溶劑。
[0122] (膠粘層或粘接層）
[0123] 本發(fā)明的光學用片材也可具備膠粘層或粘接層。
[0124] 圖3是表示具備膠粘層17(或粘接層18)的本發(fā)明的光學用片材51的一個例子的概 略剖視圖。光學用片材51包含透明基材層3、設置在透明基材層3的第1面上的凹凸層4、及設 置在透明基材層3的第2面上的膠粘層17(或粘接層18)。
[0125] 在本說明書中，所謂膠粘層是指膠粘層本身的化學組成、結(jié)構(gòu)在和被膠粘體貼合 的前后不發(fā)生變化者，所謂粘接層是指粘接層本身的化學組成、結(jié)構(gòu)在和被粘接體貼合的 前后發(fā)生變化者。
[0126] 作為構(gòu)成膠粘層17的膠粘劑，分別可利用觸控面板等光學用途中所用的公知膠粘 劑。作為膠粘劑，例如可列舉:天然橡膠系膠粘劑、合成橡膠系膠粘劑、丙締酸系膠粘劑、氨 基甲酸醋系膠粘劑、聚娃氧系膠粘劑等。膠粘劑可為溶劑系、無溶劑系、乳液系、水系中的任 一種。其中，就透明度、耐候性、耐久性、成本等觀點而言，優(yōu)選丙締酸系膠粘劑，尤其更優(yōu)選 溶劑系的丙締酸系膠粘劑。
[0127] 在構(gòu)成膠粘層17或粘接層18的膠粘劑中，根據(jù)需要也可添加其他助劑。作為其他 助劑，可列舉:抗氧化劑、膠粘賦予劑、硅烷偶聯(lián)劑、紫外線吸收劑、受阻胺系化合物等光穩(wěn) 定劑、增粘劑、pH值調(diào)節(jié)劑、粘合劑、交聯(lián)劑、膠粘性粒子、消泡劑、防腐防霉劑、顏料、無機填 充劑、穩(wěn)定劑、濡濕劑、濕潤劑等。
[01巧]膠粘層17或粘接層18的厚度分別優(yōu)選10~100μπι，更優(yōu)選20~80皿。如果為10皿W 上，則可獲得充分的膠粘性。如果膠粘層17或粘接層18的厚度超過100μπι，則在薄型化、成本 方面不利。
[0129] <光學用片材的制造方法>
[0130] 本發(fā)明的光學用片材可通過如下方式獲得:將所述凹凸樹脂層形成用材料等樹脂 層形成用材料涂布在透明基材層3的第1面上而形成涂膜，并使所述涂膜硬化而形成凹凸層 4。
[0131] 作為凹凸樹脂層形成用材料的涂布方法，例如可列舉:使用刮刀涂布機、氣刀涂布 機、漉式涂布機、棒式涂布機、凹版涂布機、微凹版涂布機、桿式刮刀涂布機、模唇涂布機、模 具涂布機、幕簾式淋涂機、印刷機等的方法。
[0132] 凹凸樹脂層形成用材料的涂布量可根據(jù)凹凸層4的厚度而適當設定。
[0133] 凹凸層4的厚度優(yōu)選1~15皿，更優(yōu)選1~ΙΟμπι，尤其優(yōu)選2~祉m。如果所述厚度為1 ymW上，則可獲得充分的硬涂性能。另外，如果為15ymW下，則透明性、基材密接性、耐卷曲 性等優(yōu)異，因此優(yōu)選。
[0134] 此外，將凹凸層4的最薄部分的厚度(從凹凸面4a的凹部的底部起到和透明基材層 3的第1面的接觸面為止的距離)設定為凹凸層4的厚度。另外，凹凸層4的厚度可使用觸針式 膜厚計（例如日本Ξ豐公司制造的附帶峰值保持功能的ABS數(shù)顯千分表1D-C112A)進行測 定。
[0135] 在本發(fā)明的光學用片材的制造方法中，優(yōu)選在透明基材層3的第1面上形成涂膜 后、使所述涂膜硬化之前進行加熱干燥。加熱干燥的條件例如優(yōu)選在60°C~100°C下進行30 秒鐘~90秒鐘，更優(yōu)選在70°C~90°C下進行45秒鐘~75秒鐘。通過在所述優(yōu)選范圍的條件 下進行加熱干燥，本發(fā)明的光學用片材變得兼具優(yōu)異的光學性能和充分的防粘連性能。
[0136] 在凹凸樹脂層形成用材料含有活性能量線硬化性樹脂的情況下，所述涂膜可通過 照射活性能量線而硬化。在凹凸樹脂層形成用材料含有熱硬化性樹脂的情況下，所述涂膜 可通過使用加熱爐或紅外線燈等進行加熱而硬化。
[0137] 作為活性能量線，可列舉:紫外線、電子束、可見光線、丫射線等電離福射等，其中， 就通用性方面而言，優(yōu)選紫外線。作為紫外線的光源，例如可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、 超高壓水銀燈、金屬面化物燈、碳弧、氣弧、無電極紫外線燈等。
[0138] 作為電子束，例如可使用從科克羅夫特-沃爾頓(Cockcroft Walton)型、范德格拉 夫(化η de Graaff)型、共振變壓型、絕緣忍變壓器型、直線型、高頻高壓加速器型、高頻型 等的各種電子束加速器所釋放的電子束。
[0139] 通過照射活性能量線所進行的硬化優(yōu)選在存在氮氣等惰性氣體的條件下進行。
[0140] 硬化可W-階段進行，也可分為預硬化步驟和正式硬化步驟的兩個階段進行。
[0141] (凹凸的形成方法）
[0142] 作為在凹凸層4上形成凹凸面4a的方法，可列舉如下方法等:方法A，在凹凸樹脂層 形成用材料中調(diào)配粒子;方法B，使凹凸樹脂層形成用材料中含有溶解性參數(shù)(SP值)不同的 2種樹脂，在涂布后，通過相分離使一種樹脂析出。通過利用運些中的任一方法形成凹凸層， 可獲得凹凸層表面的凹凸的均方根高度為0.02~0.2μηι、且均方根斜率為0.01~0.1的光學 用片材。此種光學用片材可兼具優(yōu)異的光學性能和防粘連性能。
[0143] 所述方法A是將含有粒子的凹凸樹脂層形成用材料涂布在透明基材層3的表面上， 形成具有凹凸面4a的凹凸層4的方法。
[0144] 在采用方法A的情況下，凹凸樹脂層形成用材料優(yōu)選實質(zhì)上不發(fā)生相分離的材料。 另外，調(diào)配至所述凹凸樹脂層形成用材料中的粒子可為無機微粒子，也可為有機微粒子。另 夕h就兼具充分的防粘連性能和優(yōu)異的光學性能的觀點而言，粒子的平均粒徑優(yōu)選小于 250nm。另外，粒子的平均粒徑更優(yōu)選lOnm~200nm，進一步優(yōu)選20nm~150nm，尤其優(yōu)選30nm ~l(K)nm。粒子的平均粒徑是指通過穿透式電子顯微鏡或掃描型電子顯微鏡的觀察影像所 測得的值。
[0145] 此外，所謂"實質(zhì)上不發(fā)生相分離"是指在凹凸樹脂層形成用材料(組合物）中實質(zhì) 上不含發(fā)生相分離的樹脂成分。例如是指在凹凸樹脂層形成用材料含有溶解性參數(shù)(SP值） 不同的兩種樹脂成分、且兩種樹脂成分的SP值的差為1.0W上的情況下，相對于凹凸樹脂層 形成用材料的總質(zhì)量，一種樹脂成分的含量為3質(zhì)量％ ^下。另外，所述樹脂成分的含量更 優(yōu)選2質(zhì)量％ ^下，進一步優(yōu)選1質(zhì)量％ ^下，最優(yōu)選0.1質(zhì)量％ ^下。所述樹脂成分的含量 的下限為0質(zhì)量％。即，在含有溶解性參數(shù)(SP值)不同的兩種樹脂成分、且兩種樹脂成分的 SP值的差為1.0W上的情況下，一種樹脂成分的含量優(yōu)選0~2質(zhì)量％，更優(yōu)選0~1質(zhì)量％。
[0146] 相對于凹凸樹脂層形成用材料的固體成分的總質(zhì)量，凹凸樹脂層形成用材料中的 粒子的調(diào)配量優(yōu)選1~20質(zhì)量％，更優(yōu)選3~15質(zhì)量％，進一步優(yōu)選5~10質(zhì)量％。如果粒子 的調(diào)配量為運些優(yōu)選范圍內(nèi)，則防粘連性能進一步提高。另外，如果為1質(zhì)量％ ^上，則防粘 連性能提高，如果為20質(zhì)量％ ^下，則可在凹凸樹脂層形成用材料中調(diào)配充分量的所述多 官能（甲基)丙締酸系單體，因此硬涂性能變得良好。
[0147] 目P，在本發(fā)明的一個方面，優(yōu)選凹凸樹脂層形成材料含有多官能（甲基)丙締酸系 單體及粒子。通過凹凸樹脂層形成用材料含有多官能（甲基）丙締酸系單體及粒子，可形成 具有凹凸面4a的凹凸層4，且抑制硬化時的收縮，因此優(yōu)選。
[0148] 如上所述，凹凸樹脂層形成用材料所含有的粒子可為無機粒子也可為有機粒子。 作為無機粒子，優(yōu)選硬度高的無機粒子，例如可使用:二氧化娃粒子、二氧化鐵粒子、氧化錯 粒子、氧化侶粒子、二氧化錫粒子、五氧化錬粒子、Ξ氧化錬粒子等無機氧化物粒子。其中， 就成本的觀點而言，優(yōu)選二氧化娃粒子，更優(yōu)選使二氧化娃粒子分散至分散劑中而成的膠 體二氧化娃。
[0149] 無機粒子也可為利用偶聯(lián)劑對所述無機氧化物粒子進行處理而成的反應性無機 氧化物粒子。通過利用偶聯(lián)劑進行處理，可提高和丙締酸系聚合物之間的結(jié)合力。其結(jié)果 為，可提高表面硬度或耐擦傷性，此外可提高無機氧化物粒子的分散性。
[0150]作為偶聯(lián)劑，例如可列舉：丫-氨基丙基二乙氧基硅烷、丫-氨基丙基二甲氧基娃 燒、丫 -縮水甘油氧基丙基Ξ乙氧基硅烷、丫 -縮水甘油氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、丫-琉基丙 基Ξ甲氧基硅烷、丫-氨基丙基Ξ乙氧基硅烷、丫-氨基丙基Ξ乙氧基侶等。運些可單獨使用 一種，也可并用兩種W上。
[0151] 相對于無機氧化物粒子100質(zhì)量份，偶聯(lián)劑的處理量優(yōu)選0.1~20質(zhì)量份，更優(yōu)選1 ~10質(zhì)量份。
[0152] 作為有機粒子，例如可使用：丙締酸系樹脂、聚苯乙締、聚硅氧烷、Ξ聚氯胺樹脂、 苯并脈胺樹脂、聚四氣乙締、纖維素乙酸醋、聚碳酸醋、聚酷胺等樹脂粒子等。其中，就成本、 分散性的觀點而言，優(yōu)選使用丙締酸系樹脂。
[0153] 有機粒子也可為利用偶聯(lián)劑對所述樹脂粒子進行處理而成的反應性樹脂粒子。通 過利用偶聯(lián)劑進行處理，可提高丙締酸系聚合物和粒子之間的結(jié)合力。其結(jié)果為，可提高表 面硬度或耐擦傷性，此外可提高樹脂粒子的分散性。
[0154] 偶聯(lián)劑及其處理量和所述反應性無機氧化物粒子中所列舉的偶聯(lián)劑及其處理量 相同。
[0155] 另外，在通過使凹凸樹脂層形成用材料中含有溶解性參數(shù)（SP值)不同的兩種樹 月旨、并在涂布后通過相分離使一種樹脂析出的方法B而形成凹凸面4a的情況下，所述凹凸樹 脂層形成用材料優(yōu)選實質(zhì)上不含無機或有機粒子。
[0156] 所謂實質(zhì)上不含無機或有機粒子，是指相對于凹凸樹脂層形成用材料的總質(zhì)量， 無機或有機粒子的含量為3質(zhì)量％ ^下。另外，無機或有機粒子的含量更優(yōu)選2質(zhì)量％ W下， 進一步優(yōu)選1質(zhì)量％ ^下，最優(yōu)選0.1質(zhì)量％ ^下。粒子的含量的下限為0質(zhì)量％。即，在采用 方法B的情況下，凹凸樹脂層形成用材料中的粒子的含量優(yōu)選0~1質(zhì)量％，更優(yōu)選0~0.1質(zhì) 量％。
[0157] 通過方法B所形成的凹凸層成為實質(zhì)上不含粒子的多相系樹脂層。此處所謂"多相 系樹脂層"是指包含巧巾成分W上的樹脂的樹脂層。
[0158] 在本發(fā)明中，凹凸層優(yōu)選通過方法B而形成。通過利用方法B形成凹凸層，可獲得防 粘連性的效果。即，本發(fā)明的光學用片材優(yōu)選凹凸層為實質(zhì)上不含粒子的多相系樹脂層。
[0159] [導電性片材]
[0160] 本發(fā)明的導電性片材的特征在于:具有本發(fā)明的光學用片材及導電層，且所述導 電層是積層在所述光學用片材的所述透明基材層的第2面上。
[0161] 在光學用片材在透明基材層的第2面?zhèn)染邆淠z粘層或粘接層的情況下，導電層是 設置在透明基材層和膠粘層或粘接層之間。
[0162] 圖5是表示本發(fā)明的導電性片材70的一個例子的概略剖視圖。導電性片材70包含 透明基材層3、設置在透明基材層3的第1面上的凹凸層4、及設置在透明基材層3的第2面上 的導電層2。凹凸層4的第1面成為具有凹凸的凹凸面4曰。所述凹凸面4a的表面的均方根高度 為0.02~0.2μπι，均方根斜率為0.01~0.1。
[0163] 另外，本發(fā)明的導電性片材優(yōu)選霧度值為1.5% W下，更優(yōu)選1%W下。
[0164] 此外，導電性片材70也為本發(fā)明的光學用片材。
[0165] (導電層）
[0166] 導電層2為透明導電性膜。
[0167] 導電層2可為表面型靜電電容式觸控面板等中所使用的W實質(zhì)上均勻的厚度形成 在透明膜3的前面上的均勻?qū)?，也可為投影型靜電電容方式的觸控面板等中所使用的具有 為了檢測位置而形成的規(guī)則性圖案的導電層。
[0168] 此外，即便為均勻?qū)拥那闆r下，也可根據(jù)觸控面板的構(gòu)成等將導電層2的一部分圖 案化W形成引出電極等。
[0169] 此處所謂實質(zhì)上均勻的厚度，是指算術(shù)表面粗糖度為5nmW下。
[0170] 作為導電層2的材質(zhì)，優(yōu)選選自由有機系導電劑及金屬材料所組成的群中的至少 一種。
[0171] 作為金屬材料，例如可列舉:金、銀、銷、鈕、銅、侶、儀、銘、鐵、鐵、鉆、錫、運些的合 金等金屬；銅-錫氧化物（Indium Tin Oxide(ITO))、銅-鋒氧化物（Indium Zinc Oxide (IZO))、氧化鋒(Zinc Oxide(ZnO))、鋒-錫氧化物(Zinc Tin Oxide(ZTO))等金屬氧化物； 包含艦化銅等的其他金屬化合物等。另外，作為有機系導電劑，可列舉PEDOT/PSS等導電性 樹脂等。此外，P抓OT/PSS是使PED0T(3,4-乙撐二氧嚷吩的聚合物）與PSS(苯乙締橫酸的聚 合物)共存的聚合物配合物。
[0172] 導電層2的厚度是考慮導電性、透明性等而適當設定。關(guān)于導電層2的導電性，為了 制成觸控面板用電極板，優(yōu)選具有105Q/sqW下的表面電阻率，更優(yōu)選具有103Q/sqW下的 表面電阻率。為了達成此種表面電阻率，在采用金屬系導電層的情況下，其厚度優(yōu)選 30~600 A，更優(yōu)選50~500 A。另外，在采用金屬氧化物系導電層的情況下，其厚度優(yōu)選 80~5000 A，更優(yōu)選!00~4000 A。
[0173] 導電層2可通過公知的方法而形成。
[0174] 例如在導電層2為均勻?qū)拥那闆r下，可通過真空蒸鍛法、瓣鍛法、離子鍛法、熱分解 噴鍛法、化學鍛法、電鍛法、涂布法、或運些的組合法等薄膜形成法等而形成。就膜的形成速 度或大面積膜的形成性、生產(chǎn)性等觀點而言，優(yōu)選真空蒸鍛法或瓣鍛法。
[0175] 作為在導電層2上形成規(guī)則性圖案的方法，可通過利用各種印刷方式等在透明基 材層3的前面上預先局部地設置導電層2的方法而形成，或者，也可在如上所述形成均勻?qū)?后，通過蝕刻等將其一部分去除而形成。
[0176] 為了提高導電層2與透明基材層3的密接性，也可對透明基材層3的表面實施電暈 放電處理、紫外線照射處理、等離子處理、瓣鍛蝕刻處理、底漆涂布處理等適當?shù)那疤幚怼?br>[0177] 圖6是表示導電性片材的另一個例子的概略剖視圖。
[0178] 圖6所示的導電性片材71是在導電性片材70的凹凸層4上進一步設置有抗反射層 43。
[0179] 目P，本發(fā)明的導電性片材的一個方面是如下導電性片材，其具備本發(fā)明的光學用 片材、導電層、及抗反射層，并且所述導電層是積層在本發(fā)明的光學用片材的透明基材層的 第2面上，所述抗反射層是積層在本發(fā)明的光學用片材的凹凸層上。
[0180] 由于抗反射層43的凹凸面43a是形成在凹凸層4的凹凸面上，所W所述凹凸面的形 狀被反映至抗反射層43。即，抗反射層43的凹凸面43a的表面的均方根高度為0.02~0.2WI1， 均方根斜率為0.01~0.1。
[0181] 圖5或圖6的導電性片材也可在導電層2的和透明基材層3相反側(cè)的面上設置膠粘 層或粘接層。
[0182] (抗反射層）
[0183] 抗反射層43是折射率低于透明基材的層，發(fā)揮出抑制光從導電性片材71的抗反射 層43側(cè)的反射、提高光透過性的作用。對于玻璃或結(jié)晶材料、塑膠等而言，會在其表面產(chǎn)生 相對于入射光而為數(shù)％左右的反射光，但導電性片材71可通過抗反射層43而減輕表面反 射，增加透過率。
[0184] 抗反射層43的厚度優(yōu)選50~15化m，更優(yōu)選60~140nm。如果抗反射層43的厚度為 50nmW上，則容易獲得由光的干設所獲得的抗反射效果。如果抗反射層43的厚度為150nmW 下，則對凹凸層4的密接性變良好。所述厚度是指使用非接觸式膜厚計(Filmetrics公司制 造的F20)所測得的值。
[0185]就容易抑制光的反射的方面而言，抗反射層43的折射率優(yōu)選1.25~1.45,更優(yōu)選 1.30~1.40。抗反射層43的折射率可通過構(gòu)成抗反射層43的材料而調(diào)整。另外，折射率可通 過依據(jù)JIS K7142的方法而測定。
[0186] 抗反射層43優(yōu)選含有為了降低折射率而添加的無機系含娃化合物、及粘合劑樹脂 的層。
[0187] 作為無機系含娃化合物，優(yōu)選二氧化娃，就容易降低抗反射層43的折射率的方面 而言，尤其優(yōu)選中空二氧化娃。
[0188] 中空二氧化娃的平均粒徑優(yōu)選5~180nm，更優(yōu)選30~lOOnm。如果中空二氧化娃的 平均粒徑為5nmW上，則容易降低折射率。如果中空二氧化娃的平均粒徑為ISOnmW下，則可 將所述中空二氧化娃緊密地填充至抗反射層43中，容易降低抗反射層43的折射率，因此優(yōu) 選。此外，所述平均粒徑是指如下值:通過掃描型電子顯微鏡對100個W上粒子進行拍攝，選 擇粒子的外形被清晰地拍攝到的粒子并測定該粒子的最長徑，將其所有測定值的合計值除 W測定個數(shù)所獲得的值。
[0189] 另外，關(guān)于中空二氧化娃，由于中空部分越多則越容易降低折射率，所W優(yōu)選相對 于平均粒徑的外殼的厚度較薄的中空二氧化娃。即，優(yōu)選相對于中空二氧化娃的總體積，中 空部分的比率為15~70%。
[0190] 作為粘合劑樹脂，例如可列舉所述凹凸層4的說明中所列舉的熱硬化性或活性能 量線硬化性樹脂成分。其中，就表面硬度、透明性、擦傷性等優(yōu)異的方面而言，優(yōu)選活性能量 線硬化性樹脂成分，更優(yōu)選使多官能（甲基)丙締酸系單體聚合而獲得的聚合物。
[0191] 另外，作為粘合劑樹脂，就容易降低抗反射層43的折射率的方面而言，也優(yōu)選使用 聚娃氧化合物。作為聚娃氧化合物，例如可列舉具有如下基等的有機聚硅氧烷:燒撐(乙撐、 丙撐、下?lián)巍⒓簱?、辛撐等）、環(huán)燒撐(環(huán)己撐等）、芳撐（苯撐等）、烷基（甲基、乙基、丙基、下 基、己基、辛基、癸基等）、環(huán)烷基(環(huán)己基等）、締基（乙締基、締丙基、丙締基、下締基、己締基 等）、芳烷基(苯基、甲苯基等芳基、芐基、苯基乙基等）。
[0192] 另外，也可使用含氣樹脂作為粘合劑樹脂。
[0193] 關(guān)于抗反射層43中的無機系含娃化合物的含量，在將抗反射層43的固體成分設為 100質(zhì)量％時，相對于該固體成分而優(yōu)選20~80質(zhì)量％，更優(yōu)選30~70質(zhì)量％。如果無機系 含娃化合物的含量為20質(zhì)量％ ^上，則抗反射層43的折射率充分變低，容易獲得高光透過 率。如果無機系含娃化合物的含量為80質(zhì)量％^下，則容易抑制抗反射層43中的粘合劑樹 脂的不足。
[0194] 關(guān)于抗反射層43中的粘合劑樹脂的含量，在將抗反射層43的固體成分設為100質(zhì) 量％時，相對于該固體成分而優(yōu)選20~80質(zhì)量％，更優(yōu)選30~70質(zhì)量％。如果粘合劑樹脂的 含量為20質(zhì)量％ ^上，則和凹凸層4的密接性提高。如果粘合劑樹脂的含量為80質(zhì)量％ W 下，則抗反射層43中的無機系含娃化合物不會不足，容易降低抗反射層43的折射率。
[01M]抗反射層43例如可通過如下方式形成:將含有所述無機系含娃化合物及粘合劑樹 脂作為必須成分且根據(jù)需要含有其他成分的抗反射層形成用組合物涂布在凹凸層4上，并 使其硬化。
[0196] 在抗反射層形成用組合物中，優(yōu)選和凹凸樹脂層形成用材料同樣地，為了促進硬 化而含有光聚合引發(fā)劑。另外，也可進一步含有光敏劑。另外，抗反射層形成用組合物也可 和凹凸樹脂層形成用材料同樣地含有溶劑。作為用于抗反射層形成用組合物的溶劑，例如 可列舉凹凸樹脂層形成用材料中所列舉的溶劑，優(yōu)選態(tài)樣也相同。
[0197] 相對于抗反射層形成用組合物的固體成分（100質(zhì)量％ )，抗反射層形成用組合物 中的無機系含娃化合物的調(diào)配量優(yōu)選20~80質(zhì)量％，更優(yōu)選30~70質(zhì)量％。如果無機系含 娃化合物的調(diào)配量為20質(zhì)量％ ^上，則容易獲得折射率充分低的抗反射層43。如果無機系 含娃化合物的調(diào)配量為80質(zhì)量％ ^下，則可充分地調(diào)配粘合劑樹脂，容易獲得和凹凸層4的 密接性優(yōu)異的導電性片材。
[0198] 相對于抗反射層形成用組合物的固體成分（100質(zhì)量％ )，抗反射層形成用組合物 中的粘合劑樹脂的調(diào)配量優(yōu)選20~80質(zhì)量％，更優(yōu)選30~70質(zhì)量％。如果粘合劑樹脂的調(diào) 配量為20質(zhì)量％ ^上，則和凹凸樹脂層42的密接性提高。如果粘合劑樹脂的調(diào)配量為80質(zhì) 量％ W下，則可充分地調(diào)配無機系含娃化合物，因此容易獲得反射率低的導電性片材。
[0199] 相對于抗反射層形成用組合物的固體成分（100質(zhì)量％ )，抗反射層形成用組合物 中的光聚合引發(fā)劑的調(diào)配量優(yōu)選0.5~10質(zhì)量％，更優(yōu)選2~8質(zhì)量％。如果光聚合引發(fā)劑的 調(diào)配量為0.5質(zhì)量％ ^上，則不易產(chǎn)生硬化不良。另外，光聚合引發(fā)劑即便調(diào)配超過10質(zhì) 量％，也無法獲得和調(diào)配量相應的硬化促進效果，且成本也變高。另外，有光聚合引發(fā)劑殘 留在硬化物中而引起黃變或滲出等的擔憂。
[0200] 作為在凹凸層4上涂布抗反射層形成用組合物的方法，例如可列舉與所述凹凸樹 脂層形成用材料的涂布方法相同的方法。
[0201] 抗反射層形成用組合物的涂布量是根據(jù)所形成的抗反射層43的厚度而適當設定。
[0202] 在粘合劑樹脂為活性能量線硬化性的情況下，通過抗反射層形成用組合物形成在 凹凸層4上的涂膜可通過照射活性能量線而使其硬化。通過照射活性能量線所進行的硬化 可利用和所述由凹凸樹脂層形成用材料所形成的涂膜的硬化相同的方法而實施。在粘合劑 樹脂為熱硬化性的情況下，可通過使用加熱爐或紅外線燈等進行加熱而硬化。
[0203] 硬化可W-階段進行，也可分為預硬化步驟和正式硬化步驟的兩個階段進行。
[0204] 導電性片材71具備本發(fā)明的光學用片材及導電層2。如上所述，本發(fā)明的光學用片 材具備具有W均方根高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為0.01~0.1的方式構(gòu)成的凹凸面 的凹凸層，且霧度值為1.5% W下。因此，具備本發(fā)明的光學用片材及導電層2的導電性片材 71的防粘連性能優(yōu)異。此外，導電性片材71也為本發(fā)明的光學用片材。
[0205] 此外，圖6表示在具有凹凸面4a的凹凸層4上W反映凹凸面4a的形狀的方式設置有 抗反射層43的例子，但本發(fā)明的導電性片材不限定于運個例子。例如也可代替凹凸層4而將 表面平坦的硬涂層設置在透明基材層3的一個面上，并在所述硬涂層上形成具有凹凸面的 抗反射層。在該情況下，具有凹凸面的抗反射層可利用和具有凹凸面4a的凹凸層4的形成方 法相同的方法而形成。即，可列舉:在抗反射層形成用材料中調(diào)配粒子的方法;使用溶解性 參數(shù)(SP值)不同的兩種樹脂成分形成抗反射層后，通過相分離使一種樹脂成分析出的方法 等。
[0206] 圖9是表示本發(fā)明的導電性片材的又一個例子的概略剖視圖。
[0207] 圖9的導電性片材72具有依序積層有導電層2、透明基材層3、折射率調(diào)整層44、及 凹凸層4的結(jié)構(gòu)。凹凸層4及導電層2的構(gòu)成和所述導電性片材70相同。此外，折射率調(diào)整層 44也可形成在透明基材層3和導電層2之間。
[0208] 目P，本發(fā)明的導電性片材的一個方面是如下導電性片材，其具有本發(fā)明的光學用 片材、導電層、及折射率調(diào)整層，并且所述導電層是積層在本發(fā)明的光學用片材的透明基材 層的第2面上，所述折射率調(diào)整層是設置在所述光學用片材的透明基材層和凹凸層之間，或 者設置在所述光學用片材的透明基材層和導電層之間。
[0209](折射率調(diào)整層）
[0210] 所述折射率調(diào)整層44的折射率優(yōu)選1.20~1.45或1.60~2.00。在本說明書中，將 折射率為1.20~1.45的折射率調(diào)整層稱為低折射層，將折射率為1.60~2.00的折射率調(diào)整 層稱為高折射層。即，折射率調(diào)整層44優(yōu)選低折射率層或高折射率層。
[0別U 低折射層的折射率優(yōu)選1.25~1.45，更優(yōu)選1.30~1.45，進一步優(yōu)選1.35~1.40。
[0212] 高折射層的折射率優(yōu)選1.60~1.90，更優(yōu)選1.60~1.80，進一步優(yōu)選1.60~1.70。
[0213] 低折射層及高折射層可通過涂布預先已知折射率的市售的材料而形成。即，所謂 折射率調(diào)整層44的折射率是指用W形成折射率調(diào)整層的材料的折射率。
[0214] 在折射率調(diào)整層44為高折射率層的情況下，其厚度優(yōu)選0.01~Ι.Ομπι，更優(yōu)選0.02 ~0.5皿，進一步優(yōu)選0.05~0.3皿。
[0215] 另外，在折射率調(diào)整層44為低折射率層的情況下，其厚度優(yōu)選0.01~Ι.Ομπι，更優(yōu) 選0.02~0.5皿，進一步優(yōu)選0.05~0.2皿。
[0216] 導電性片材72由于為具備本發(fā)明的光學用片材及導電層的片材，所W和所述導電 性片材70同樣地，防粘連性能優(yōu)異。
[0217] 本發(fā)明的一個實施方式是一種附帶觸控面板的顯示裝置，其具備具有本發(fā)明的導 電性片材的觸控面板、顯示構(gòu)件、及接合層，并且所述觸控面板是隔著間隙而配置在所述顯 示構(gòu)件的表面，所述觸控面板的外邊緣部是通過所述接合層而和所述顯示構(gòu)件接合。
[0218] W下，對具備本發(fā)明的光學用片材或?qū)щ娦云牡娘@示裝置進行說明。
[0219] 圖2是表示使用本發(fā)明的光學用片材50或?qū)щ娦云?0的附帶靜電電容式觸控面 板的顯示裝置100的一個例子的概略剖視圖。
[0220] 附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置100具備在最前面配置有偏光板12的液晶顯 示器11(顯示構(gòu)件）、及靜電電容式觸控面板下簡稱為"觸控面板"）21，觸控面板21是在 和偏光板12之間設置間隙而配置在液晶顯示器11的前面。另外，液晶顯示器11的外邊緣部 是通過接合層31而和觸控面板21接合。由此，在液晶顯示器11的前面和觸控面板21之間形 成間隙。
[0221] 觸控面板21具備玻璃基板1、導電層2、透明基材層3、及凹凸層4。玻璃基板1是經(jīng)由 膠粘層7而積層在導電層2上。在導電層2的背面、即沒有和透明基材層3接觸的面的外邊緣 部形成有印刷層5。
[0222] 通過透明基材層3及形成在透明基材層3的第1面、即沒有和導電層2接觸的側(cè)的面 上的凹凸層4,而構(gòu)成本發(fā)明的光學用片材50。另外，通過光學用片材50及形成在透明基材 層3的第2面上的導電層2而構(gòu)成本發(fā)明的導電性片材70。此外，導電性片材70也為本發(fā)明的 光學用片材。
[0223] 凹凸層4的凹凸是W均方根高度為0.02~0.2μπι、均方根斜率為0.01~0.1的方式 構(gòu)成。
[0224] 如此，在具備顯示構(gòu)件、具備本發(fā)明的導電性片材的觸控面板、及接合層，且所述 觸控面板是隔著間隙而配置在所述顯示構(gòu)件的表面，所述觸控面板的外邊緣部是通過所述 接合層而和所述顯示構(gòu)件接合的附帶觸控面板的顯示裝置中，W所述顯示構(gòu)件的表面和所 述導電性片材的凹凸層隔著間隙而對向的方式配置導電性片材，由此在觸控面板向顯示構(gòu) 件方向彎曲，而和顯示構(gòu)件的前面接觸時不易產(chǎn)生粘連，從而發(fā)揮出優(yōu)異的防粘連效果。
[0225] <液晶顯不器11〉
[0。6]作為液晶顯示器11，并沒有特別限定，可使用公知的液晶顯示器。
[0227]另外，液晶顯示器11也可在和觸控面板21對向的面上具有凹凸。所述凹凸優(yōu)選W 均方根高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為0.01~0.1的方式構(gòu)成。
[022引 <觸控面板21>
[0229] (玻璃基板1)
[0230] 作為玻璃基板1，可利用觸控面板等中所使用的公知玻璃板。
[0231] 玻璃基板1的厚度優(yōu)選0.1 mmW上，更優(yōu)選0.2mmW上。如果為0.1 mmW上，則觸控面 板11的強度也變得充分。上限并沒有特別限定，就透明性的觀點而言，優(yōu)選3mmW下，更優(yōu)選 2mmW下。
[0232] (膠粘層7)
[0233] 關(guān)于膠粘層7的說明和所述膠粘層17相同。其中，其等的材質(zhì)或厚度可相同也可不 同。
[0234] (印刷層5)
[0235] 印刷層5是為了進行內(nèi)部電路的隱蔽、裝飾等而實施。
[0236] 印刷層5例如可通過印刷含有著色劑(顏料、染料)及粘合劑(聚乙締系樹脂、聚酷 胺系樹脂、聚丙締酸系樹脂、聚氨基甲酸醋系樹脂、聚乙締縮醒系樹脂、聚醋氨基甲酸醋系 樹脂、纖維素醋系樹脂、醇酸樹脂）的著色油墨而形成。在進行金屬顯色的情況下，可使用 侶、鐵、青銅等金屬的粒子，在云母上涂布氧化鐵而成的珍珠顏料。
[0237] 印刷層5的厚度優(yōu)選5~50μπι，更優(yōu)選10~30WI1。
[0238] 作為印刷層5的形成方法（印刷方法），可應用平版印刷法、凹版印刷法、網(wǎng)版印刷 法等，優(yōu)選網(wǎng)版印刷法。
[0239] < 接合層 31>
[0240] 接合層31只要可將觸控面板和顯示構(gòu)件接合，則沒有特別限定，就容易操作的方 面而言，優(yōu)選膠粘劑層。作為優(yōu)選用作接合層31的膠粘劑，和所述膠粘層7或膠粘層17中所 說明的膠粘劑相同。其中，其等的材質(zhì)或厚度可相同也可不同。
[0241] 圖4是表示具備本發(fā)明的光學用片材50或?qū)щ娦云?2的附帶靜電電容式觸控面 板的顯示裝置101的一個例子的概略剖視圖。附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置101具備 在最前面配置有偏光板12的液晶顯示器11、及觸控面板26,觸控面板26是在和偏光板12之 間設置間隙而配置在液晶顯示器11的前面。另外，液晶顯示器11的外邊緣部是通過接合層 31而和觸控面板26接合。由此，在液晶顯示器11的前面和觸控面板26之間形成間隙。
[0242] 觸控面板26具備玻璃基板1、膜感測器60、及光學用片材50。光學用片材50具備透 明基材層3、及凹凸層4。玻璃基板1是經(jīng)由膠粘層7而積層在膜感測器60的前面上。另外，在 膜感測器60的背面上經(jīng)由膠粘層7而積層有光學用片材50。在膜感測器60的背面的外邊緣 部形成有印刷層5。導電性片材72具備光學用片材50、及經(jīng)由膠粘層7而積層在光學用片材 50的背面上的膜感測器60。
[0243] 如此，W凹凸層4和偏光板12對向的方式配置光學用片材50或?qū)щ娦云?2,由此 可抑制粘連的產(chǎn)生。
[0244] <膜感測器60>
[0245] 膜感測器60是在透明膜9上設置有導電層6者。圖4表示在光學用片材50的背面上 經(jīng)由膠粘層7而依序積層有透明膜9及導電層6的構(gòu)成，但也可為在光學用片材50的背面上 依序積層有導電層6及透明膜9的構(gòu)成。
[0246] 作為透明膜9,可列舉透明基材層3中所說明的樹脂膜。作為導電層6,可列舉和導 電層2中所說明者相同者。
[0247] 膜感測器60的厚度優(yōu)選15~300μπι，優(yōu)選40~150μπι。所謂膜感測器60的厚度是指 透明膜9和導電層6的合計厚度。
[0248] 圖7是對附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置102的構(gòu)成進行說明的概略剖視圖。 顯示裝置102是在圖2的顯示裝置101的前面(圖2的玻璃基板1的上側(cè))貼附帶保護片材8者。
[0249] 附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置102除了具備觸控面板22代替觸控面板21W 夕h是和圖2的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置101相同的構(gòu)成。
[0250] 觸控面板22除了還具備貼合在玻璃基板1的前面?zhèn)鹊谋Ｗo片材8W外，是和觸控面 板21相同的構(gòu)成。
[0251] 保護片材8可設為公知的硬涂層。保護片材8無需在前面或背面形成凹凸形狀，優(yōu) 選在前面及背面的兩面上均沒有形成凹凸形狀的平坦面。
[0252] 另外，圖10是對使用本發(fā)明的導電性片材的另一實施方式的附帶靜電電容式觸控 面板的顯示裝置103的構(gòu)成進行說明的概略剖視圖。
[0253] 附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置103具備在最前面配置有偏光板12的液晶顯 示器11、及靜電電容式觸控面板25。觸控面板25是在和偏光板12之間設置間隙而配置在液 晶顯不器11的前面，夕F邊緣部是通過接合層31而固定在液晶顯不器11。由此，在液晶顯不器 11的前面和觸控面板25的背面之間形成間隙。
[0254] 觸控面板25具備玻璃基板1、形成在玻璃基板1的背面的導電層2x、膠粘層7、印刷 層5、及導電性片材70。玻璃基板1及導電層2x是通過膠粘層7而密接在導電性片材70的前 面。導電性片材70具備透明基材層3、形成在透明基材層3的前面上的導電層巧、及形成在透 明基材層3的背面上的凹凸層4。在導電層巧的前面的外邊緣部形成有印刷層5。
[0255] 導電層2x是用W檢測橫軸方向的位置的導電層，導電層巧是用W檢測縱軸方向的 位置的導電層。
[0256] 凹凸層4和液晶顯示器11對向，且具有微細的凹凸。設置在透明基材層3的第1面上 的凹凸層4的表面的均方根高度為0.02~0.2μπι，均方根斜率為0.01~0.1。
[0257] 圖11是對使用本發(fā)明的導電性片材80的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置104 的構(gòu)成進行說明的概略剖視圖。
[0258] 附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置104的構(gòu)成除了使用導電性片材80W外，和 圖4的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置101的構(gòu)成相同。導電性片材80具備第1透明基 材層3曰、形成在第1透明基材層3a的前面上的導電層2χ、膠粘層17、第2透明基材層3b、形成 在第2透明基材層3b的前面上的導電層巧、及形成在第2透明基材層3b的背面上的凹凸層4。 第1透明基材層3a的背面和導電層巧是經(jīng)由膠粘層17而密接。在導電層2x的前面的外邊緣 部形成有印刷層5。
[0259] 導電層2x是用W檢測橫軸方向的位置的導電層，導電層巧是用W檢測縱軸方向的 位置的導電層。膠粘層17為絕緣性膠粘層。
[0260] 凹凸層4和液晶顯示器11對向，且具有微細的凹凸。與和透明基材層3接觸的側(cè)為 相反側(cè)的凹凸層4的表面的均方根高度為0.02~0.2μπι，均方根斜率為0.01~0.1。
[0261] 圖12是對具備本發(fā)明的光學用片材或?qū)щ娦云牡母綆ъo電電容式觸控面板的 顯示裝置105的構(gòu)成進行說明的概略剖視圖。附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置105不僅 在觸控面板的背面設置有凹凸，還在液晶顯示器的前面設置有凹凸。
[0262] 附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置105具備液晶顯示器13、及觸控面板26,觸控 面板26是在和液晶顯示器13之間設置間隙而配置在液晶顯示器13的前面，外邊緣部是通過 接合層31而固走在液晶顯不器13。
[0263] 在液晶顯示器13中，在偏光板12的前面上經(jīng)由膠粘劑層14而積層有光學用片材 50。即，液晶顯示器13在前面、即和觸控面板26對向的面上具有凹凸，所述凹凸是W均方根 高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為0.01~0.1的方式構(gòu)成。如此，W配置在液晶顯示器13 的前面的光學用片材50的凹凸層和觸控面板26的光學用片材50或?qū)щ娦云?2的凹凸層 對向的方式，配置各光學用片材或?qū)щ娦云?，由此可進一步提高防粘連性能。
[0264] 觸控面板26可為觸控面板21，也可為觸控面板25。另外，也可為在液晶顯示器13側(cè) 不具有凹凸的觸控面板。
[0265] 關(guān)于膠粘劑層14的說明和膠粘層7、17相同。其中，其等的材質(zhì)或厚度可相同也可 不同。
[0266] W上，對本發(fā)明的光學用片材及導電片材、W及具備所述光學用片材或?qū)щ娦云?材的顯示裝置進行了說明，但本發(fā)明并不限定于運些。
[0267] 例如在所述說明中，披露了使用液晶顯示器作為顯示裝置的顯示構(gòu)件的例子，但 本發(fā)明并不限定于此。例如可使用陰極射線管(CRT)顯示器、等離子顯示器、電致發(fā)光化L) 顯示器等各種顯示構(gòu)件。
[02側(cè)[實施例]
[0269] W下，例示實施例更具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于運些例子。
[0270] [光學用片材及導電性片材的制作]
[0271] <實施例1>
[0272] (凹凸樹脂層形成用組材料的制備）
[0273] 將作為多官能（甲基)丙締酸醋的二季戊四醇六丙締酸醋(六官能丙締酸醋，商品 名:A-DPH，新中村化學(股份)制造）100質(zhì)量份、粒徑50nm的膠體二氧化娃分散液(有機二氧 化娃溶膠L型，固體成分濃度30%，日產(chǎn)化學工業(yè)(股份)制造)20質(zhì)量份、光聚合引發(fā)劑(商 品名：IRGACURE 184，BASF(股份)審雌)4質(zhì)量份進行混合，利用甲基乙基酬W固體成分濃度 成為50 %的方式進行稀釋，而制備凹凸樹脂層形成用材料1。
[0274] (導電層形成用組合物的制備）
[0275] 將含有使(3,4-乙撐二氧嚷吩)在存在聚苯乙締橫酸的條件下聚合而成的導電性 物質(zhì)（PED0T-PSS)的水分散液、作為粘合劑成分的樹脂成分的聚醋系樹脂（商品名為 VYL0NAL MD1200，東洋紡(股份)制造）、及調(diào)平劑(商品名為KP-110，信越化學工業(yè)(股份)審。 造）W固體成分計1:1:1的質(zhì)量比進行混合，利用甲醇W固體成分濃度成為1%的方式進行 稀釋，而制成混合液A。
[0276] 將該混合液A、和W甲醇將作為含氮硅烷偶聯(lián)劑的異氯尿酸醋系硅烷偶聯(lián)劑(商品 名:X-12-965,信越化學工業(yè)(股份)制造)稀釋而制成的1%溶液W100 :30的質(zhì)量比進行混 合，而制備導電層形成用涂布液。
[0277] 使用厚度100皿的陽T膜(商品名為A4300，東洋紡(股份)制造)作為透明基材，并將 所述凹凸樹脂層形成用材料1棒式涂布在該透明基材上。其后，在80°C下加熱干燥60秒，使 用高壓水銀燈紫外線照射機化YE GRAPHICS(股份)制造)在160W/cm、燈高度13cm、傳送帶速 度lOm/min、氮氣環(huán)境下照射紫外線而硬化形成厚度3皿的樹脂層，由此獲得具備凹凸層的 光學用片材。通過W下方法對所獲得的光學用片材進行表面粗糖度、霧度值的測定、粘連的 評價。
[0278] 其后，將導電層形成用組合物棒式涂布在光學用片材的透明基材的沒有形成凹凸 層的第2面上。其后，在120°C下加熱干燥120秒，形成厚度0.化m的導電層而獲得導電性片 材。利用和光學用片材相同的方法對所獲得的導電性片材的霧度值進行測定。將結(jié)果示于 表1。
[0279] <表面粗糖度的測定方法>
[0280] 使用微激光顯微鏡化EYENCE (股份)制造，測定部:VK-X105，控制器部:VK-X100) W 倍率200倍進行表面觀察，并采集圖像。對于所獲得的圖像，將測定區(qū)域設為100μπιΧ100μπι， 使用所述走微激光顯微鏡所附帶的分析軟件，依據(jù)JIS Β0601:2001算出線粗糖度，并算出 均方根高度化、及均方根斜率R A q、平均粗糖度Ra、輪廓曲線要素的平均長度RSm。
[0281] <霧度(透明性)的評價>
[0282] 根據(jù)JIS K 7136使用日本電色工業(yè)(股份)制造的NDH4000對光學用片材及導電性 片材的霧度值進行測定。
[0283] <粘連的評價>
[0284] 準備具有硬化型樹脂面的偏光板，將光學用片材的凹凸層面載置在偏光板表面 上，用手指將樹脂面向偏光板表面進行按壓，肉眼觀察確認此時的貼附。此時，將沒有發(fā)生 貼附的情況視為粘連評價0,將發(fā)生了貼附的情況視為粘連評價X。
[0285] <實施例2>
[0286] 將凹凸樹脂層形成用材料1的平均粒徑50nm的膠體二氧化娃分散液的添加量變更 為40質(zhì)量份，除此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片材及導電性片材。
[0287] <實施例3>
[0288] 將凹凸樹脂層形成用材料1的平均粒徑50nm的膠體二氧化娃分散液變更為平均粒 徑lOOnm的膠體二氧化娃分散液(有機二氧化娃溶膠Z型，固體成分濃度30%，日產(chǎn)化學工業(yè) (股份)制造），除此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片材及導電性片材。
[0289] <實施例4>
[0290] 將凹凸樹脂層形成用材料1變更為含有溶解性參數(shù)不同的兩種樹脂（商品名： Luci打al NAB-007,固體成分濃度40%，化卵on化int(股份)制造）的凹凸樹脂層形成用材 料2,將其涂布在透明基材上，并在10(TC下加熱干燥30秒，通過相分離使一種樹脂析出，除 此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片材及導電性片材。
[0巧1] <實施例5>
[0巧2]將折射率1.65的（商品名：0PSTAR(注冊商標化Z6719，固體成分20 %，JSR(股份)制 造)棒式涂布在厚度lOOwn的PET膜的透明基材上，并在80°C下加熱干燥60秒，形成厚度ο.化 m的高折射層(折射率調(diào)整層）。接著將凹凸樹脂層形成用材料1棒式涂布在高折射層上，除 此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片材及導電性片材。
[0巧3] <實施例6>
[0294]將凹凸層的厚度變更為ΙΟμπι，除此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片 材及導電性片材。
[0巧5] <實施例7>
[0296] 將作為多官能（甲基)丙締酸系單體的二季戊四醇六丙締酸醋(商品名A-DPH，新中 村化學（股份）制造）100質(zhì)量份、平均粒徑60nm的中空二氧化娃分散溶膠（商品名ΤΗ抓LYA CS-60IPA，固體成分20重量％，二氧化娃粒子的折射率1.31，日揮觸媒化成(股份)制造)750 質(zhì)量份、光聚合引發(fā)劑(商品名Irgacure 184，BASF(股份)制造)5質(zhì)量份混合，利用異丙醇 W固體成分成為5質(zhì)量％的方式進行稀釋，而制備低折射率層形成用組合物。該組合物的折 射率為1.37。
[0297] 將低折射率層形成用組合物棒式涂布在厚度100皿的PET膜的透明基材上，并在80 °C下加熱干燥60秒，形成厚度0.1皿的低折射層(折射率調(diào)整層）。接著將凹凸樹脂層形成用 材料1棒式涂布在低折射層上，除此W外，通過和實施例5相同的方式制作光學用片材及導 電性片材。
[0巧引 < 比較例1>
[0299] 在凹凸樹脂層形成用材料1中，不添加膠體二氧化娃粒子，除此W外，通過和實施 例1相同的方式制作光學用片材及導電性片材。
[0300] <比較例2>
[0301] 在凹凸樹脂層形成用材料1中，使用平均粒徑HOOnm的二氧化娃粒子（商品名 Sylysia 310，F(xiàn)uji Silysia Chemical(股份）制造)代替平均粒徑50nm的膠體二氧化娃分 散液，除此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片材及導電性片材。
[0302] <比較例3>
[0303] 將凹凸層的厚度變更為20μπι，除此W外，通過和實施例1相同的方式制作光學用片 材及導電性片材。
[0304] 將所述實施例及比較例的結(jié)果匯總于下述表1。
[0305] [表1]
[0306]
[0307] 如表1所示，本申請的光學用片材及導電性片材在透明性方面優(yōu)異，防粘連性能也 優(yōu)異。另一方面，關(guān)于比較例1~3的光學用片材及導電性片材，霧度值或粘連評價均較差。 在比較例2中，由于粒子的平均粒徑大至1400nm，所W粒子不易在膜表面析出，而存在于樹 脂層內(nèi)部，因此均方根高度及均方根斜率的值較小，但由于使用平均粒徑HOOnm的二氧化 娃粒子，所W霧度值較高。
[030引[產(chǎn)業(yè)上的可利用性]
[0309] 根據(jù)本發(fā)明，可提供一種具有觸控面的明亮度良好等優(yōu)異的光學性能且不易產(chǎn)生 粘連的光學用片材及導電性片材、W及具備該光學用的附帶觸控面板的顯示裝置。
[0310] [符號說明]
[031。 1 玻璃基板
[0312] 2、2x、2y 導電層
[031引 3、3a、3b 透明基材層
[0：314] 4 凹凸層
[0315] 4a 凹凸面
[0316] 5 印刷層
[0317] 6 導電層
[0318] 7、17 膠粘層
[0319] 8 保護片材
[0320] 9 透明膜
[0321] 11 液晶顯示器
[0扣^ 12 偏光板
[0323] 18 粘接層
[0324] 2U22 靜電電容式觸控面板
[0325] 31 接合層
[0326] 43 抗反射層
[0327] 44 折射率調(diào)整層
[032引 50.51 光學用片材
[03巧]70、71、72 導電性片材
[0330] 101~104 附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置
[0331] 200 現(xiàn)有的附帶靜電電容式觸控面板的顯示裝置
【主權(quán)項】
1. 一種光學用片材，其包含具有第1面及第1面的相反側(cè)的第2面的透明基材層、及至少 積層在所述透明基材層的第1面上的凹凸層，且 所述凹凸層的凹凸是以均方根高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為0.01~0.1的方式 構(gòu)成， 霧度值為1.5 %以下。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學用片材，其中所述凹凸層的凹凸是以輪廓曲線要素的平 均長度為40~200μπι、算術(shù)平均粗糙度為15~400nm的方式構(gòu)成。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學用片材，其中所述凹凸層為實質(zhì)上不含粒子的多相系 樹脂層。4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的光學用片材，其中所述凹凸層的厚度為1~15μπι。5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的光學用片材，其還在所述透明基材層的第2面?zhèn)?具備膠粘層或粘接層。6. -種導電性片材，其具有根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的光學用片材、及導電層， 且所述導電層是積層在所述光學用片材的所述透明基材層的第2面上。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的導電性片材，其中所述導電層包含選自由有機系導電劑、及金 屬材料所組成的群中的至少一種材質(zhì)。8. -種觸控面板，其具有根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的導電性片材。9. 一種附帶觸控面板的顯示裝置，其具備顯示構(gòu)件、根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控面板、 及接合層，并且 所述觸控面板是隔著間隙而配置在所述顯示構(gòu)件的表面，且所述觸控面板的外邊緣部 是通過所述接合層而和所述顯示構(gòu)件接合。10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的附帶觸控面板的顯示裝置，其中所述顯示構(gòu)件在和所述觸控 面板對向的面上具有凹凸，所述凹凸是以均方根高度為0.02~0.2μπι、且均方根斜率為0.01 ~0.1的方式構(gòu)成。11. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的光學用片材，其中以顯示構(gòu)件的表面與所述凹 凸層對向的方式隔著間隙而進行配置。
【文檔編號】B32B7/02GK105829999SQ201480064273
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2014年11月27日
【發(fā)明人】福田升平, 瀨口誠司, 清水滋呂, 郭苑平
【申請人】王子控股株式會社