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一種陰影特效圖的生成方法及裝置的制造方法_4

文檔序號:8528724閱讀:來源:國知局
像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果所述目標圖片中透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)占所述目標圖片總像素數(shù)的比例大于等于預(yù)設(shè)的比例閾值,則確定所述目標圖片包含透明區(qū)域。
[0102]在本發(fā)明的一種優(yōu)選實施方式中,所述透明度參數(shù)的取值范圍是O?1,且透明度參數(shù)越小,透明度越高。
[0103]需要說明的是,在本文中,諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區(qū)分開來,而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關(guān)系或者順序。而且,術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含,從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素,而且還包括沒有明確列出的其他要素,或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下,由語句“包括一個……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0104]本說明書中的各個實施例均采用相關(guān)的方式描述,各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可,每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處。尤其,對于裝置實施例而言,由于其基本相似于方法實施例,所以描述的比較簡單,相關(guān)之處參見方法實施例的部分說明即可。
[0105]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實現(xiàn)上述方法實施方式中的全部或部分步驟是可以通過程序來指令相關(guān)的硬件來完成,所述的程序可以存儲于計算機可讀取存儲介質(zhì)中,這里所稱得的存儲介質(zhì),如:ROM/RAM、磁碟、光盤等。
[0106]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并非用于限定本發(fā)明的保護范圍。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換、改進等,均包含在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種陰影特效圖的生成方法,其特征在于,包括: 接收用戶的陰影特效添加指令,確定目標陰影特效; 新建目標畫布,在新建的目標畫布上,創(chuàng)建目標圖片第一副本,所述目標圖片第一副本中任一像素坐標相對于所述目標圖片中對應(yīng)像素坐標的偏移參數(shù),與所述目標陰影特效的偏移參數(shù)相同,其中,所述偏移參數(shù)包括:偏移方向及偏移距離; 將所述目標圖片第一副本各像素的色彩參數(shù),替換為所述目標陰影特效的色彩參數(shù);在目標畫布上與所述目標圖片具有相同坐標的位置創(chuàng)建目標圖片第二副本,使得所述目標圖片第二副本覆蓋替換色彩參數(shù)后的目標圖片第一副本,從而生成所述目標圖片的陰影特效圖。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在接收用戶的陰影特效添加指令,確定目標陰影特效之后,還包括: 檢測目標圖片是否包含透明區(qū)域; 在目標圖片包含透明區(qū)域的情況下,執(zhí)行新建目標畫布,在新建的目標畫布上,創(chuàng)建目標圖片弟一副本的步驟。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述檢測目標圖片是否包含透明區(qū)域,包括: 獲取目標圖片對應(yīng)的像素二維矩陣,分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果所述目標圖片中透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)大于等于預(yù)設(shè)的像素數(shù)M,則確定所述目標圖片包含透明區(qū)域,其中,M多I。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果所述目標圖片中透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)大于等于預(yù)設(shè)的像素數(shù)M,則確定所述目標圖片包含透明區(qū)域,包括: 遍歷所述像素二維矩陣,分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果已分析到的透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)等于預(yù)設(shè)的像素數(shù)M,則停止遍歷,確定所述目標圖片包含透明區(qū)域。
5.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述檢測目標圖片是否包含透明區(qū)域,包括: 獲取目標圖片對應(yīng)的像素二維矩陣,分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果所述目標圖片中透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)占所述目標圖片總像素數(shù)的比例大于等于預(yù)設(shè)的比例閾值,則確定所述目標圖片包含透明區(qū)域。
6.如權(quán)利要求3-5中任一權(quán)利要求所述的方法,其特征在于,所述透明度參數(shù)的取值范圍是O?1,且透明度參數(shù)越小,透明度越高。
7.一種陰影特效圖的生成裝置,其特征在于,包括:陰影添加指令接收模塊,用于接收用戶的陰影特效添加指令,確定目標陰影特效;目標圖片第一副本創(chuàng)建模塊,用于新建目標畫布,在新建的目標畫布上,創(chuàng)建目標圖片第一副本,所述目標圖片第一副本中任一像素坐標相對于所述目標圖片中對應(yīng)像素坐標的偏移參數(shù),與所述目標陰影特效的偏移參數(shù)相同,其中,所述偏移參數(shù)包括:偏移方向及偏移距離; 色彩參數(shù)替換模塊,用于將所述目標圖片第一副本各像素的色彩參數(shù),替換為所述目標陰影特效的色彩參數(shù); 目標圖片第二副本創(chuàng)建模塊,用于在目標畫布上與所述目標圖片具有相同坐標的位置創(chuàng)建目標圖片第二副本,使得所述目標圖片第二副本覆蓋替換色彩參數(shù)后的目標圖片第一副本,從而生成所述目標圖片的陰影特效圖。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括: 圖片透明區(qū)域檢測模塊,用于在陰影添加指令接收模塊接收用戶的陰影特效添加指令,確定目標陰影特效后,檢測目標圖片是否包含透明區(qū)域;并在目標圖片包含透明區(qū)域的情況下,觸發(fā)目標圖片第一副本創(chuàng)建模塊新建目標畫布,在新建的目標畫布上,創(chuàng)建目標圖片第一副本。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,所述圖片透明區(qū)域檢測模塊,包括: 第一像素二維矩陣獲取子模塊,用于獲取目標圖片對應(yīng)的像素二維矩陣; 第一像素透明度分析子模塊,用于分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果所述目標圖片中透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)大于等于預(yù)設(shè)的像素數(shù)M,則確定所述目標圖片包含透明區(qū)域,其中,1
10.如權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于,所述第一像素透明度分析子模塊,具體用于: 遍歷所述像素二維矩陣,分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果已分析到的透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)等于預(yù)設(shè)的像素數(shù)M,則停止遍歷,確定所述目標圖片包含透明區(qū)域。
11.如權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,所述圖片透明區(qū)域檢測模塊,包括: 第二像素二維矩陣獲取子模塊,用于獲取目標圖片對應(yīng)的像素二維矩陣; 第二像素透明度分析子模塊,用于分析所述像素二維矩陣中每個像素的透明度參數(shù),如果所述目標圖片中透明度參數(shù)滿足預(yù)設(shè)的透明度閾值范圍的像素數(shù)占所述目標圖片總像素數(shù)的比例大于等于預(yù)設(shè)的比例閾值,則確定所述目標圖片包含透明區(qū)域。
12.如權(quán)利要求9-11中任一權(quán)利要求所述的裝置,其特征在于,所述透明度參數(shù)的取值范圍是O?1,且透明度參數(shù)越小,透明度越高。
【專利摘要】本發(fā)明實施例公開了一種陰影特效圖的生成方法及裝置,該方法包括:接收用戶的陰影特效添加指令,確定目標陰影特效;新建目標畫布,在新建的目標畫布上,創(chuàng)建目標圖片第一副本,所述目標圖片第一副本中任一像素坐標相對于所述目標圖片中對應(yīng)像素坐標的偏移參數(shù),與所述目標陰影特效的偏移參數(shù)相同,其中,所述偏移參數(shù)包括:偏移方向及偏移距離;將所述目標圖片第一副本各像素的色彩參數(shù),替換為所述目標陰影特效的色彩參數(shù);在目標畫布上與所述目標圖片具有相同坐標的位置創(chuàng)建目標圖片第二副本,使得所述目標圖片第二副本覆蓋替換色彩參數(shù)后的目標圖片第一副本,從而生成所述目標圖片的陰影特效圖。與現(xiàn)有技術(shù)相比,陰影特效更加真實。
【IPC分類】G06T15-60
【公開號】CN104851122
【申請?zhí)枴緾N201510233251
【發(fā)明人】魏偉
【申請人】北京金山安全軟件有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年5月8日
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