投射式電容觸摸屏的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種觸摸屏，特別涉及一種投射式電容觸摸屏。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著移動互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)的發(fā)展，移動終端的普及，作為移動終端的交互設(shè)備的投射式電容觸摸屏，因其具有可進(jìn)行多點(diǎn)觸控，透光率高等特點(diǎn)而得到越來越廣泛的應(yīng)用。
[0003]隨著技術(shù)發(fā)展，業(yè)界對投射式電容觸摸屏提出越來越高的要求，其中一個重要的要求是提高投射式電容觸摸屏的觸摸信號的信噪比，從而提高投射式電容觸摸屏的檢測精度和檢測靈敏度。為此，申請日為2009年11月30日公開號為CN102081484A的中國專利申請公開了一種可以有效提高觸摸信號的信噪比的射式電容觸摸屏。關(guān)于所述專利申請所公開的射式電容觸摸屏具體技術(shù)內(nèi)容請參閱中國知識產(chǎn)權(quán)局公開的專利文件。該專利文件中的技術(shù)內(nèi)容同時(shí)被弓I用到本專利中，作為本專利記載的內(nèi)容。
[0004]請參閱圖1，圖1為CN102081484A號中國專利申請公開的射式電容觸摸屏結(jié)構(gòu)示意圖。CN102081484A號中國專利申請公開的射式電容觸摸屏6，其包括基板61，設(shè)置在基板61 一側(cè)表面上的驅(qū)動電極62和感應(yīng)電極63。以及設(shè)置在感應(yīng)電極63和驅(qū)動電極62之間的屏蔽電極64。所述屏蔽電極64接地或電連接一固定電動勢,從而所述屏蔽電極64可以屏蔽驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間的形成的互感電容。
[0005]根據(jù)CN102081484A號中國專利申請介紹，驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間的形成的互感電容是投射式電容觸摸屏的噪音信號產(chǎn)生的重要原因，因此，在感應(yīng)電極63和驅(qū)動電極62之間設(shè)置屏蔽電極64，從而屏蔽驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間的形成的互感電容，就可以達(dá)到提高投射式電容觸摸屏的觸摸信號的信噪比的目的。然而本發(fā)明專利的發(fā)明人經(jīng)過研究后發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)的投射式電容觸摸屏還需要進(jìn)一步的改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的是提供一種投射式電容觸摸屏，以解決現(xiàn)有技術(shù)的投射式電容觸摸屏的觸摸信號的信噪比較低、檢測靈敏度不夠高的問題。
[0007]為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種投射式電容式觸摸屏，所述觸摸屏包括基板、驅(qū)動電極、感應(yīng)電極和屏蔽電極，所述基板包括上表面，驅(qū)動電極與感應(yīng)電極設(shè)置在所述上表面上，所述驅(qū)動電極與所述感應(yīng)電極之間具有間隙，屏蔽電極設(shè)置所述間隙，所述屏蔽電極用以屏蔽所述驅(qū)動電極與所述感應(yīng)電極之間形成的互感電容；所述屏蔽電極在垂直所述上表面方向的高度大于所述驅(qū)動電極和所述感應(yīng)電極鄰近所述屏蔽電極一側(cè)邊緣的厚度。
[0008]本發(fā)明專利的發(fā)明人經(jīng)過研究后發(fā)現(xiàn):現(xiàn)有技術(shù)中，所述屏蔽電極主要通過設(shè)置在驅(qū)動電極與感應(yīng)電極之間，從而阻擋驅(qū)動電極與感應(yīng)電極之間形成的電場線，從而達(dá)到屏蔽驅(qū)動電極與感應(yīng)電極之間形成的互感電容。然而，現(xiàn)有技術(shù)中，屏蔽電極通常與驅(qū)動電極或感應(yīng)電極在同一沉積刻蝕工藝中形成，從而使得屏蔽電極的高度與驅(qū)動電極或感應(yīng)電極的厚度基本相等，因此，屏蔽電極至多只能遮擋驅(qū)動電極和感應(yīng)電極側(cè)面的正對面積；如此，驅(qū)動電極與感應(yīng)電極之間還可以通過所述正對面積以外的空間形成電場。使得驅(qū)動電極或感應(yīng)電極之間仍然會形成較大的互感電容。
[0009]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明中，使得屏蔽電極的高度大于所述驅(qū)動電極和所述感應(yīng)電極鄰近所述屏蔽電極一側(cè)邊緣的厚度，從而使得屏蔽電極能夠遮擋比驅(qū)動電極或感應(yīng)電極側(cè)面的正對面積更大的面積，從而使得驅(qū)動電極和感應(yīng)電極之間的互感電容減少，進(jìn)而提高本發(fā)明投射式電容觸摸屏的觸摸信號的信噪比，提高檢測靈敏度。
【附圖說明】
[0010]圖1是現(xiàn)有投射式電容觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2是圖1所示投射式電容觸摸屏沿I1-1I的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0012]圖3為本發(fā)明投射式電容觸摸屏第一實(shí)施方式的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖4是圖3所示投射式電容觸摸屏沿IV-1V線的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0014]圖5是本發(fā)明投射式電容觸摸屏第二實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0015]圖6是本發(fā)明投射式電容觸摸屏第三實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0016]圖7是本發(fā)明投射式電容觸摸屏第四實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0017]圖8是本發(fā)明投射式電容觸摸屏第五實(shí)施方式的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]請參閱圖2，圖2是圖1所示現(xiàn)有技術(shù)投射式電容觸摸屏沿I1-1I線的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。本發(fā)明專利的發(fā)明人經(jīng)過研究后發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)中，所述屏蔽電極64主要通過設(shè)置在驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間，從而阻擋驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間形成的電場線66，進(jìn)而達(dá)到屏蔽驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間形成的互感電容。然而，現(xiàn)有技術(shù)中，屏蔽電極64通常與驅(qū)動電極62或感應(yīng)電極63在同一沉積刻蝕工藝中形成，從而使得屏蔽電極64的高度與驅(qū)動電極62或感應(yīng)電極63的厚度基本相等，因此，屏蔽電極64至多只能遮擋驅(qū)動電極62和感應(yīng)電極63側(cè)面的正對面積；如此，驅(qū)動電極62與感應(yīng)電極63之間還可以通過所述正對面積以外的空間形成電場。使得驅(qū)動電極62或感應(yīng)電極63之間仍然會形成較大的互感電容。使得現(xiàn)有技術(shù)的投射式電容觸摸屏6的觸摸信號的信噪比較低、檢測靈敏度不夠高。為解決現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)的投射式電容觸摸屏的觸摸信號的信噪比較低、檢測靈敏度不夠高的問題，本發(fā)明提出一種投射式電容式觸摸屏。所述觸摸屏包括基板、驅(qū)動電極、感應(yīng)電極和屏蔽電極，所述基板包括上表面，驅(qū)動電極與感應(yīng)電極設(shè)置在所述上表面上，所述驅(qū)動電極與所述感應(yīng)電極之間具有間隙，屏蔽電極設(shè)置所述間隙，所述屏蔽電極用以屏蔽所述驅(qū)動電極與所述感應(yīng)電極之間形成的互感電容；所述屏蔽電極在垂直所述上表面方向的高度大于所述驅(qū)動電極和所述感應(yīng)電極鄰近所述屏蔽電極一側(cè)邊緣的厚度。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的投射式電容觸摸屏，使屏蔽電極的高度大于所述驅(qū)動電極和所述感應(yīng)電極鄰近所述屏蔽電極一側(cè)邊緣的厚度，從而使得屏蔽電極能夠遮擋比驅(qū)動電極或感應(yīng)電極側(cè)面的正對面積更大的面積，從而使得驅(qū)動電極和感應(yīng)電極之間的互感電容減少，進(jìn)而提高本發(fā)明投射式電容觸摸屏的觸摸信號的信噪比，提高檢測靈敏度。
[0020]下面將結(jié)合具體的實(shí)施方式對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明；為使得申請文件中的術(shù)語意思表達(dá)清楚，先對一些術(shù)語進(jìn)行定義:在申請文件的描述過程中，“高于”是用于表達(dá)位于基板同一側(cè)的兩個原件中，一個原件較另一原件相對基板的距離更遠(yuǎn)；“低于”是用于表達(dá)位于基板同一側(cè)的兩個原件中，一個原件較另一原件相對基板的距離更近；“一次沉積刻蝕工藝”是指在基底上沉積一層材料層并通過光罩工藝蝕刻所述材料層以形成對應(yīng)的材料層圖案的一個工藝過程。
[0021]請同時(shí)參考圖3和圖4，圖3為本發(fā)明投射式電容觸摸屏第一實(shí)施方式的平面結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是圖3所示投射式電容觸摸屏I沿IV-1V線的剖面結(jié)構(gòu)放大示意圖。所述投射式電容觸摸屏I包括基板11、驅(qū)動電極12、感應(yīng)電極13和屏蔽電極14。所述基板11具有相對設(shè)置的上表面和下表面。所述驅(qū)動電極12、所述感應(yīng)電極13和所述屏蔽電極14均設(shè)置在所述上表面上。所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13間隔設(shè)置在所述基板11的上表面。所述屏蔽電極14設(shè)置在所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13之間的間隙。所述屏蔽電極14在垂直所述基板11上表面的方向的高度H大于所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13的厚度L。由于所述屏蔽電極14具有較高的高度，因此，使得所述屏蔽電極14能夠遮擋比驅(qū)動電極12和感應(yīng)電極13側(cè)面的正對面積更大的面積，從而使得所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13之間的互感電容減少?？蛇x的，所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13的厚度為不均勻時(shí)，所述屏蔽電極14在垂直所述基板11上表面方向的高度H大于所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13鄰近所述屏蔽電極14 一側(cè)邊緣的厚度L。
[0022]在本實(shí)施方式中，所述驅(qū)動電極12、所述感應(yīng)電極13和所述屏蔽電極14直接設(shè)置在所述基板11的上表面。如此，所述屏蔽電極14背離基板11的一側(cè)高于所述驅(qū)動電極12背離所述基板11的第一表面，同時(shí)也高于所述感應(yīng)電極13背離所述基板11的第三表面。且所述屏蔽電極14面對所述基板11的一側(cè)與所述驅(qū)動電極12面對所述基板11的第二表面和所述感應(yīng)電極13面對所述基板11的第三表面持平。所述第一表面、第二表面、第三表面和第四表面，在所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13的厚度為不均勻時(shí)，指代的是所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13鄰近所述屏蔽電極14 一側(cè)邊緣區(qū)域上的表面。如此，所述屏蔽電極14完全遮擋所述感應(yīng)電極13的側(cè)面與所述驅(qū)動電極12側(cè)面的正對面積并延伸到正對面積之外的區(qū)域；又因?yàn)楦袘?yīng)電極13的側(cè)面與所述驅(qū)動電極12側(cè)面的正對面積區(qū)域形成的電場線排布最密；從而所述屏蔽電極14可以更好地屏蔽所述感應(yīng)電極13與所述驅(qū)動電極12之間形成的互感電容。
[0023]優(yōu)選的，本【具體實(shí)施方式】中，所述觸摸屏I包括多個成矩陣排列的驅(qū)動電極12和多條長條狀的感應(yīng)電極13。每條感應(yīng)電極13設(shè)置在相鄰兩行驅(qū)動電極12之間。所述屏蔽電極13成長條狀。所述屏蔽電極13設(shè)置在相鄰的一行驅(qū)動電極12與一條感應(yīng)電極13之間?？蛇x的，所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13在同一次沉積刻蝕工藝中形成；所述屏蔽電極14通過一次或多次沉積刻蝕工藝形成。優(yōu)選的，所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13分別在兩次不同的沉積刻蝕工藝中形成；所述屏蔽電極14通過形成所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13的兩次沉積刻蝕工藝形成的材料層疊加形成，從而使得所述屏蔽電極層14的高度H為所述驅(qū)動電極12和所述感應(yīng)電極13厚度之和。如此，在制造所述投射式電容觸摸屏I的過程中，無需另外增加一次形成所述屏蔽電極14的沉積刻蝕工藝，可以提高效率。
[0024]請參閱圖5，圖5是本發(fā)明投射式電容觸摸屏第二實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)放大示意