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一種具有抗干擾的高阻顯示板的制作方法

文檔序號(hào):11334056閱讀:256來源:國知局
一種具有抗干擾的高阻顯示板的制造方法與工藝

本實(shí)用新型涉及觸摸屏領(lǐng)域,尤其涉及一種具有抗干擾的高阻顯示板。



背景技術(shù):

抗干擾高阻技術(shù),是一種把觸摸功能直接做到LCD顯示面板上的新技術(shù),實(shí)現(xiàn)圖像顯示與觸摸功能的融合;其核心技術(shù)之一就是把一層既能抗噪又能防靜電的透明功能膜設(shè)置在顯示面板上,這層透明功能膜既要具有“防靜電”和“抗干擾”的功能,而且,還需要和顯示面板能夠完美的融合,但是,目前市面上所制造出的具有抗干擾高阻的顯示面板大都不符合要求,不是存在防靜電能力差,就是抗干擾能力差,而且,大都透光率低、折射率高。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

為了解決上述問題,本實(shí)用新型的目的是提供一種具有抗干擾的高阻顯示板,本實(shí)用新型的顯示板既可以“防靜電”,又可以“抗干擾”,而且,本實(shí)用新型把抗干擾的高阻膜層鍍在基板上,做到抗干擾的高阻膜層和基板的完美融合。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:一種具有抗干擾的高阻顯示板,包括基板和抗干擾的高阻膜層,所述抗干擾的高阻膜層鍍在所述基板上,所述抗干擾的高阻膜層采用氧化鋅錫材料,且所述抗干擾的高阻膜層的厚度為49.5nm-50.5nm。

進(jìn)一步的,所述氧化鋅錫材料中的氧化鋅:氧化錫=9:1。

進(jìn)一步的,所述抗干擾的高阻膜層的面電阻標(biāo)稱值為1078MΩ。

進(jìn)一步的,所述基板為觸摸基板或顯示屏基板。

采用以上技術(shù)方案的有益效果是:本實(shí)用新型的顯示板既可以“防靜電”,又可以“抗干擾”,不僅可以用作顯示屏基板,還可以用作觸摸基板;而且,本實(shí)用新型把抗干擾的高阻膜層鍍在基板上,做到抗干擾的高阻膜層和基板的完美融合;因?yàn)楸緦?shí)用新型采用抗干擾的高阻膜層采用氧化鋅錫材料,且氧化鋅錫材料中的氧化鋅:氧化錫=9:1,而氧化鋅錫材料具有“防靜電”和“抗干擾”的特性,所以基板也就具有了“防靜電”和“抗干擾”的特性,又因?yàn)檠趸锞哂泻艽蟮碾娮?,所以,氧化鋅錫材料鍍在基板上后,基板的電阻非常大,面電阻標(biāo)稱值達(dá)到1078 MΩ。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的剖面圖。

圖2為真空磁控濺射鍍膜方法的原理圖。

圖中的數(shù)字代表的相應(yīng)部件的名稱:1.基板,2.抗干擾的高阻膜層。

具體實(shí)施方式

如附圖所示,本實(shí)用新型一種具有抗干擾的高阻顯示板,包括基板1和抗干擾的高阻膜層2,抗干擾的高阻膜層2是通過真空磁控濺射鍍膜方法把氧化鋅錫靶材鍍在基板1上形成的,其中,氧化鋅錫靶材中的氧化鋅:氧化錫=9:1,這里的基板為觸摸基板或顯示屏基板,因?yàn)橛|摸基板或顯示屏基板都需要防靜電,且要具有很大的電阻;抗干擾的高阻膜層的厚度為49.5nm-50.5nm;在基板鍍上抗干擾的高阻膜層后,基板的透光率為相對(duì)沒有鍍上抗干擾的高阻膜層的95%-99%,且基板的折射率為相對(duì)沒有鍍上抗干擾的高阻膜層的1%-5%,這在業(yè)界內(nèi)是一個(gè)很大提升,因?yàn)榇蠖鄶?shù)廠商不能保證在鍍膜后透光率能夠和沒有鍍膜幾乎沒有差異;抗干擾的高阻膜層的面電阻標(biāo)稱值為1078 MΩ,達(dá)到國際的標(biāo)值,而且,還遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于標(biāo)準(zhǔn)值。

本實(shí)用新型涉及的原理:

真空磁控濺射鍍膜方法:如圖2所示,磁控濺射鍍膜機(jī)陰極靶區(qū)被激發(fā)的電子在電場作用下加速飛向襯底基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和二次電子,二次電子飛向襯底基片;氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在襯底基片上形成薄膜;二次電子在加速飛向襯底基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長,在運(yùn)動(dòng)過程中不斷地與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后二次電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,最終沉積在襯底基片表面上,實(shí)現(xiàn)圖像顯示與觸摸功能的融合,是一層既能抗噪又能防靜電的透明功能膜。

本實(shí)用新型的顯示板既可以“防靜電”,又可以“抗干擾”,而且,本實(shí)用新型的抗干擾的高阻膜層是通過真空磁控濺射鍍膜方法,把氧化鋅錫靶材鍍在基板上形成的,做到膜和顯示面板的完美融合。

以上是結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

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