本發(fā)明涉及觸控技術領域，尤其涉及一種柔性觸控基板及其制備方法、觸控顯示裝置。

背景技術：

目前，越來越多的具有觸控功能的電子產(chǎn)品被廣泛應用于人們的日常生活及工作中。隨著科技的不斷進步，人們對于電子產(chǎn)品的各方面的要求也在不斷提升，例如要求電子產(chǎn)品能夠?qū)崿F(xiàn)隨意彎曲折疊，柔性觸控顯示裝置便是在這種大趨勢下產(chǎn)生。柔性觸控顯示裝置，顧名思義就是能夠進行彎曲的觸控顯示裝置，這種柔性觸控顯示裝置相對一般的觸控顯示裝置來說，能夠?qū)崿F(xiàn)較小曲率的彎曲。

然而，如圖1(a)所示，現(xiàn)有的柔性觸控產(chǎn)品中的柔性觸控基板是在柔性襯底基板10上制備觸控電極圖案(sensor)20，這樣只能實現(xiàn)較小曲率的彎曲。在較大曲率彎曲時，如圖1(b)所示，柔性襯底基板10會產(chǎn)生較大的應力，應力集中于柔性襯底基板10和觸控電極圖案20的接觸面，由于柔性襯底基板10和觸控電極圖案20的應力不匹配，因而較大的應力如果不能釋放，則很容易使柔性襯底基板10上的觸控電極圖案20發(fā)生變形或破裂(crack)，從而導致觸控靈敏度下降，甚至是觸控失效，因此大大影響了柔性觸控產(chǎn)品使用的可靠性。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實施例提供一種柔性觸控基板及其制備方法、觸控顯示裝置，在柔性觸控基板彎曲時，可避免觸控電極圖案變形或斷裂，且可實現(xiàn)大曲率彎曲。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案：

第一方面，提供一種柔性觸控基板，包括：柔性襯底基板和設置在所述柔性襯底基板上的觸控電極圖案；所述柔性襯底基板在垂直于其厚度方向的表面上設置有多個凹槽，所述凹槽位于所述觸控電極圖案之間的間隙內(nèi)。

優(yōu)選的，所述凹槽位于形成有所述觸控電極圖案的一側(cè)的表面上。

優(yōu)選的，所述凹槽的深度為5～10μm。

優(yōu)選的，所述凹槽為條狀；所述凹槽的延伸方向與所述柔性襯底基板的用于彎曲的側(cè)邊垂直。

優(yōu)選的，觸控電極圖案包括：多個平行的第一觸控電極、以及由所述第一觸控電極間隔開的多排第二子觸控電極；所述柔性觸控基板還包括：連接位于相鄰排的所述第二子觸控電極的架橋，以形成多個平行的第二觸控電極，所述第二觸控電極與所述第一觸控電極交叉絕緣。

優(yōu)選的，所述柔性觸控基板還包括設置在所述觸控電極圖案遠離所述柔性襯底基板一側(cè)的保護層。

進一步優(yōu)選的，所述柔性觸控基板還包括貼附在所述保護層遠離所述觸控電極圖案一側(cè)的保護膜。

第二方面，提供一種觸控顯示裝置，包括上述的柔性觸控基板。

第三方面，提供一種柔性觸控基板的制備方法，包括：在所述柔性襯底基板上形成觸控電極圖案；在所述柔性襯底基板的、形成有所述觸控電極圖案的一側(cè)表面上形成多個凹槽，所述凹槽位于所述觸控電極圖案之間的間隙內(nèi)。

可選的，觸控電極圖案包括：多個平行的第一觸控電極、以及由所述第一觸控電極間隔開的多排第二子觸控電極；在所述柔性襯底基板上形成多個凹槽之后，所述方法還包括：形成絕緣薄膜，通過構(gòu)圖工藝在沿與所述第一觸控電極交叉的方向，相鄰排的所述第二子觸控電極之間形成絕緣圖案；形成導電薄膜，通過構(gòu)圖工藝在所述絕緣圖案上形成架橋，所述架橋用于將相鄰排的所述第二子觸控電極連接，以形成第二觸控電極。

可選的，觸控電極圖案包括：多個平行的第一觸控電極、以及由所述第一觸控電極間隔開的多排第二子觸控電極；在所述柔性襯底基板上形成觸控電極圖案之前，所述方法還包括：形成導電薄膜，通過構(gòu)圖工藝形成架橋，其中，所述架橋用于將待形成的相鄰排的所述第二子觸控電極連接；形成絕緣薄膜，通過構(gòu)圖工藝在所述架橋上形成絕緣圖案。

優(yōu)選的，在形成所述觸控電極圖案、絕緣圖案和架橋之后，所述方法還包括：形成保護層。

進一步優(yōu)選的，在形成保護層之后，所述方法還包括：在所述保護層上貼附保護膜。

本發(fā)明實施例提供一種柔性觸控基板及其制備方法、觸控顯示裝置，由于柔性襯底基板設置有多個凹槽，因而在柔性觸控基板彎曲時，一方面，凹槽可以釋放因彎曲而產(chǎn)生的應力；另一方面，柔性襯底基板因彎曲而產(chǎn)生的應力會集中于凹槽底部，此時柔性襯底基板受到的應力方向與觸控電極圖案受到的應力方向一致，因而可以避免觸控電極圖案變形或破裂?；诖?，柔性觸控基板可以實現(xiàn)大曲率彎曲，且在彎曲時，可避免觸控電極圖案變形或破裂，提高了柔性觸控基板使用的可靠性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1(a)為現(xiàn)有技術提供的一種柔性觸控基板未彎曲的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1(b)為現(xiàn)有技術提供的一種柔性觸控基板彎曲時的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2(a)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖2(b)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板彎曲時的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2(c)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖2(d)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖三；

圖3(a)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性襯底基板上形成凹槽的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3(b)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性襯底基板彎曲時的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的一種觸控電極圖案的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的一種在柔性襯底基板上形成第一觸控電極和第二觸控電極的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為圖5中ee′向剖視示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖四；

圖8(a)為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖五；

圖8(b)為圖8(a)的柔性觸控基板彎曲時的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的一種柔性觸控基板的制備方法的流程示意圖；

圖10為本發(fā)明實施例提供的一種在柔性襯底基板上形成觸控電極圖案的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11為本發(fā)明實施例提供的一種將柔性襯底基板貼附在承載基板上的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12為本發(fā)明實施例提供的一種在形成有觸控電極圖案的柔性襯底基板上形成凹槽的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13為本發(fā)明實施例提供的一種在觸控電極圖案上形成絕緣圖案的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖14為本發(fā)明實施例提供的一種在絕緣圖案上形成架橋的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖15為本發(fā)明實施例提供的一種在柔性襯底基板上形成架橋、絕緣圖案和觸控電極圖案的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖16為本發(fā)明實施例提供的一種在架橋上形成保護層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖17為本發(fā)明實施例提供的一種在保護層上貼附保護膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

10-柔性襯底基板；101-凹槽；20-觸控電極圖案；201-第一觸控電極；202-第二子觸控電極；203-第二觸控電極；30-架橋；40-絕緣圖案；50-保護層；60-保護膜；70-光學透明膠；80-承載基板。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明實施例提供一種柔性觸控基板，如圖2(a)-圖2(d)所示，包括：柔性襯底基板10和設置在柔性襯底基板10上的觸控電極圖案20；柔性襯底基板10在垂直于其厚度方向的表面上設置有多個凹槽101，凹槽101位于觸控電極圖案20之間的間隙內(nèi)。

需要說明的是，第一，對于柔性襯底基板10的材料不進行限定，例如可以是pet(polyethyleneterephthalate，聚對苯二甲酸乙二醇酯)或cop(cyclo—olefinpolymer，環(huán)烯烴聚合物)等。

第二，當柔性觸控基板用于顯示時，觸控電極圖案20的材料為透明材料。示例的，觸控電極圖案20的材料例如可以為ito(indiumtinoxide，氧化銦錫)或izo(indiumzincoxide，氧化銦鋅)中的至少一種。

第三，柔性襯底基板10的垂直于其厚度方向的表面有兩個，一個是形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面，另一個是與形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面相對的表面。

基于此，凹槽101可以如圖2(a)所示，設置在柔性襯底基板10的形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面；也可以是如圖2(c)所示，設置在柔性襯底基板10的與形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面相對的表面；當然也可以是如圖2(d)所示，在柔性襯底基板10的垂直于其厚度方向的兩個表面均設置。

在此基礎上，對于柔性襯底基板10上設置的凹槽101的個數(shù)和凹槽101的深度不進行限定，可以根據(jù)需要進行相應設置。本發(fā)明實施例優(yōu)選，凹槽101在觸控電極圖案20之間的間隙內(nèi)均勻分布。

參考圖2(a)和圖2(b)，柔性觸控基板彎曲時，柔性襯底基板10的應力方向與觸控電極圖案20的應力方向一致，且凹槽101可以釋放柔性襯底基板10彎曲產(chǎn)生的應力(張應力和壓應力)，因此觸控電極圖案20不會發(fā)生破裂，柔性觸控基板可以實現(xiàn)較大曲率的彎折。

本發(fā)明實施例提供一種柔性觸控基板，由于柔性襯底基板10設置有多個凹槽101，因而在柔性觸控基板彎曲時，一方面，凹槽101可以釋放因彎曲而產(chǎn)生的應力；另一方面，柔性襯底基板10因彎曲而產(chǎn)生的應力會集中于凹槽101底部，此時柔性襯底基板10受到的應力方向與觸控電極圖案20受到的應力方向一致，因而可以避免觸控電極圖案20變形或破裂?；诖?，柔性觸控基板可以實現(xiàn)大曲率彎曲，且在彎曲時，可避免觸控電極圖案20變形或破裂，提高了柔性觸控基板使用的可靠性。

優(yōu)選的，如圖2(a)和圖2(b)所示，凹槽101位于形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面上。

其中，凹槽101位于形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面上時，觸控電極圖案20和柔性襯底基板10之間可以直接接觸，也可以不接觸，觸控電極圖案20和柔性襯底基板10之間可以設置有其它膜層。由于觸控電極圖案20與柔性襯底基板10具有凹槽101的表面接觸，這樣可以更有效地使觸控電極圖案20和柔性襯底基板10接觸的界面產(chǎn)生的應力從凹槽101中釋放，進一步防止觸控電極圖案20破裂，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選觸控電極圖案20和柔性襯底基板10具有凹槽101的表面接觸。

本發(fā)明實施例，相對于將凹槽101設置在與形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面相對的表面，將凹槽101設置在形成有觸控電極圖案20的一側(cè)的表面上，這樣凹槽101靠近觸控電極圖案20，當柔性觸控基板彎曲時，柔性襯底基板10產(chǎn)生的應力可以從凹槽101釋放，從而可以更好地避免觸控電極圖案20破裂。

需要說明的是，柔性襯底基板10的厚度一般為100μm左右，若凹槽101的深度太大，則柔性觸控基板彎曲時，可能會導致柔性襯底基板10斷裂；若凹槽101的深度太小，則柔性觸控基板彎曲時，凹槽101釋放的應力較小，從而不能有效避免觸控電極圖案20破裂的問題。基于此，本發(fā)明實施例優(yōu)選的，凹槽101的深度為5～10μm。

由于現(xiàn)有的柔性觸控產(chǎn)品大多數(shù)都是在一個方向上彎曲，因而為了使彎曲產(chǎn)生的應力盡可能都可以從凹槽101中釋放，且柔性襯底基板10彎曲時的應力方向與觸控電極圖案20彎曲時的應力方向相同，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選的，如圖3(a)和圖3(b)所示，凹槽101為條狀，凹槽101的延伸方向與柔性襯底基板10的用于彎曲的側(cè)邊垂直。參考圖3(a)和圖3(b)，圖3(a)為柔性襯底基板10未彎曲前的示意圖，圖3(b)為柔性襯底基板10的a邊和b邊彎曲后的示意圖。

優(yōu)選的，如圖4所示，觸控電極圖案20包括：多個平行的第一觸控電極201、以及由第一觸控電極201間隔開的多排第二子觸控電極202。

基于上述，柔性襯底基板10上的凹槽101位于觸控電極圖案20之間的間隙內(nèi)，對于凹槽101的具體設置位置不進行限定，例如可以如圖4所示，設置在位置a處、b處、c處或d處。

需要說明的是，本發(fā)明說明書附圖4僅示意性地繪示出凹槽101的幾種設置位置(虛線框為凹槽101)，并沒有示意出柔性襯底基板10上的所有凹槽101，本發(fā)明實施例優(yōu)選凹槽101均勻分布在柔性襯底基板10上。

柔性觸控基板還包括：如圖5和圖6所示，連接位于相鄰排的第二子觸控電極202的架橋30，以形成多個平行的第二觸控電極203，第二觸控電極203與第一觸控電極201交叉絕緣。

其中，對于架橋30的材料不進行限定，例如可以為金屬材料或與觸控電極圖案20材料相同。

此處，由于第二觸控電極203與第一觸控電極201交叉絕緣，因而如圖6所示在架橋30與第一觸控電極201之間設置有絕緣圖案40，附圖5未示意出絕緣圖案40。

此外，可以是第一觸控電極201為感應電極(rx)，第二觸控電極203為驅(qū)動電極(tx)；也可以是第一觸控電極201為驅(qū)動電極，第二觸控電極203為感應電極。

本發(fā)明實施例，通過交叉且絕緣的第一觸控電極201和第二觸控電極203便可以實現(xiàn)觸控功能。

優(yōu)選的，如圖7所示，柔性觸控基板還包括設置在觸控電極圖案20遠離柔性襯底基板10一側(cè)的保護層(oc)50。

其中，對于保護層50的材料不進行限定，例如可以是氮化硅(sinx)、氧化硅(siox)或氮氧化硅(sinxoy)中的至少一種。

本發(fā)明實施例，在觸控電極圖案20上設置保護層50，從而可以防止觸控電極圖案20受到破損，保護觸控電極圖案20。

本領域技術人員應該明白，柔性觸控基板為母板，在制作過程中包括多個子柔性觸控基板，柔性觸控基板在制作完成后，通過切割形成多個子柔性觸控基板，而切割容易導致柔性觸控基板劃傷，因而本發(fā)明實施例進一步優(yōu)選的，如圖8(a)和圖8(b)所示，柔性觸控基板還包括貼附在保護層50遠離觸控電極圖案20一側(cè)的保護膜60。

此處，可以通過光學透明膠(opticalclearresin，簡稱ocr)將保護膜60貼附在保護層50上。

需要說明的是，由于保護膜60設置在保護層50的上方，保護膜60與外界環(huán)境接觸，因而保護膜60相對于保護層50，硬度較大。

本發(fā)明實施例，在保護層50上貼附保護膜60，從而可以進一步防止柔性觸控基板在運輸或切割過程中導致的劃傷。

參考圖8(a)和圖8(b)所示，圖8(a)為柔性觸控基板未彎曲的結(jié)構(gòu)示意圖，圖8(b)為柔性觸控基板彎曲時的結(jié)構(gòu)示意圖，可以看出，柔性觸控基板彎曲時，柔性襯底基板10本身產(chǎn)生的應力可以通過柔性襯底基板10上的凹槽101釋放，從而可以避免觸控電極圖案20變形或破裂。

本發(fā)明實施例提供一種觸控顯示裝置，包括上述的柔性觸控基板。

其中，本發(fā)明實施例提供的觸控顯示裝置可以是顯示不論運動(例如，視頻)還是固定(例如，靜止圖像)的且不論文字還是圖畫的圖像的任何裝置。更明確地說，預期所述實施例可實施在多種電子裝置中或與多種電子裝置關聯(lián)，所述多種電子裝置例如(但不限于)移動電話、無線裝置、個人數(shù)據(jù)助理(pda)、手持式或便攜式計算機、gps接收器/導航器、相機、mp4視頻播放器、攝像機、游戲控制臺、手表、時鐘、計算器、電視監(jiān)視器、平板顯示器、計算機監(jiān)視器、汽車顯示器(例如，里程表顯示器等)、導航儀、座艙控制器和/或顯示器、相機視圖的顯示器(例如，車輛中后視相機的顯示器)、電子相片、電子廣告牌或指示牌、投影儀、建筑結(jié)構(gòu)、包裝和美學結(jié)構(gòu)(例如，對于一件珠寶的圖像的顯示器)等，此外，觸控顯示裝置還可以是觸控顯示面板。

本發(fā)明實施例提供一種觸控顯示裝置，觸控顯示裝置包括柔性觸控基板，由于柔性襯底基板10包括多個凹槽101，因而在柔性觸控基板彎曲時，一方面，凹槽101可以釋放因彎曲而產(chǎn)生的應力；另一方面，柔性襯底基板10因彎曲而產(chǎn)生的應力會集中于凹槽101底部，此時柔性襯底基板10受到的應力方向與觸控電極圖案20受到的應力方向一致，因而可以避免觸控電極圖案20變形或破裂?；诖耍|控顯示裝置可以實現(xiàn)大曲率彎曲，且在彎曲時，可避免觸控電極圖案20變形或破裂，提高了觸控顯示裝置使用的可靠性。

本發(fā)明實施例還提供一種柔性觸控基板的制備方法，如圖9所示，包括：

s100、如圖10所示，在柔性襯底基板10上形成觸控電極圖案20。

其中，對于柔性襯底基板10的材料不進行限定，例如可以是pet或cop等。

此處，當柔性觸控基板用于顯示時，觸控電極圖案20的材料為透明材料。示例的，觸控電極圖案20的材料例如可以為ito或izo中的至少一種。

在此基礎上，對于觸控電極圖案20的制備過程不進行限定，例如可以通過黃光工藝制備觸控電極圖案20，具體的，先沉積導電薄膜(deposition，簡稱dep)，再涂布光刻膠，之后再通過曝光(photo)、顯影以及刻蝕(etch)工藝形成觸控電極圖案20。

需要說明的是，由于柔性襯底基板10較軟，易于彎曲，因而可能不易于在柔性襯底基板10上形成觸控電極圖案20。基于此，可以在步驟s100之前，所述制備方法還包括：

如圖11所示，將柔性襯底基板10通過光學透明膠70貼附在承載基板80上。

其中，承載基板80的硬度大于柔性襯底基板10的硬度。承載基板80例如可以是玻璃。

s101、如圖12所示，在柔性襯底基板10的、形成有觸控電極圖案20的一側(cè)表面上形成多個凹槽101，凹槽101位于觸控電極圖案20之間的間隙內(nèi)。

其中，可以利用干刻工藝例如激光刻蝕工藝在柔性襯底基板10的、形成有觸控電極圖案20的一側(cè)表面形成凹槽101。

此處，對于柔性襯底基板10上設置的凹槽101的數(shù)量不進行限定，可以根據(jù)需要進行相應設置。本發(fā)明實施例優(yōu)選，凹槽101在觸控電極圖案20之間的間隙內(nèi)均勻分布。在此基礎上，對于形成的凹槽101的深度不進行限定，本發(fā)明實施例優(yōu)選的，凹槽101的深度為5～10μm。

此外，由于現(xiàn)有的柔性觸控產(chǎn)品大多數(shù)都是在一個方向上彎曲，因而為了使彎曲產(chǎn)生的應力盡可能都可以從凹槽101中釋放，且柔性襯底基板10彎曲時的應力方向與觸控電極圖案20彎曲時的應力方向相同，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選的，如圖3(a)和圖3(b)所示，凹槽101為條狀，凹槽101的延伸方向與柔性襯底基板10的用于彎曲的側(cè)邊垂直。

本發(fā)明實施例提供一種柔性觸控基板的制備方法，由于柔性襯底基板10包括多個凹槽101，因而在柔性觸控基板彎曲時，一方面，凹槽101可以釋放因彎曲而產(chǎn)生的應力；另一方面，柔性襯底基板10因彎曲而產(chǎn)生的應力會集中于凹槽101底部，此時柔性襯底基板10受到的應力方向與觸控電極圖案20受到的應力方向一致，因而可以避免觸控電極圖案20變形或破裂?；诖?，柔性觸控基板可以實現(xiàn)大曲率彎曲，且在彎曲時，可避免觸控電極圖案20變形或破裂，提高了柔性觸控基板使用的可靠性。

可選的，如圖4所示，觸控電極圖案20包括：多個平行的第一觸控電極201、以及由第一觸控電極201間隔開的多排第二子觸控電極202。在步驟s101之后，上述方法還包括：如圖13所示，形成絕緣薄膜，通過構(gòu)圖工藝在沿與第一觸控電極201交叉的方向，相鄰排的第二子觸控電極202之間形成絕緣圖案40；如圖14所示，形成導電薄膜，通過構(gòu)圖工藝在絕緣圖案40上形成架橋30，架橋30用于將相鄰排的第二子觸控電極202連接，以形成第二觸控電極203。

其中，對于絕緣圖案40的材料不進行限定，例如可以是氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的至少一種。在此基礎上，可以利用黃光工藝制備絕緣圖案40，具體的，通過涂布光刻膠、曝光、顯影以及刻蝕工藝形成絕緣圖案40。

此處，對于架橋30的材料不進行限定，例如可以為金屬材料或與觸控電極圖案20材料相同。當架橋30的材料為金屬材料時，架橋30可以和柔性觸控基板上的金屬(metal)走線同時形成。

本發(fā)明實施例，通過第一觸控電極201和第二觸控電極203便可以實現(xiàn)觸控功能。

可選的，如圖4所示，觸控電極圖案20包括：多個平行的第一觸控電極201、以及由第一觸控電極201間隔開的多排第二子觸控電極202；在步驟s100之前，如圖15所示，上述方法還包括：形成導電薄膜，通過構(gòu)圖工藝形成架橋30，其中，架橋30用于將待形成的相鄰排的第二子觸控電極202連接；形成絕緣薄膜，通過構(gòu)圖工藝在架橋30上形成絕緣圖案40。

需要說明的是，先形成架橋30和絕緣圖案40，再形成觸控電極圖案20，在形成觸控電極圖案20之后，在柔性襯底基板10上形成凹槽101時，由于架橋30和絕緣圖案40遮擋了部分觸控電極圖案20之間的間隙位置，因此柔性襯底基板10上被架橋30和絕緣圖案40遮擋的區(qū)域不能形成凹槽101。參考圖4，不能在位置a處設置凹槽101，可以在位置b、位置c和位置d處設置凹槽。

本發(fā)明實施例，可以先形成架橋30和絕緣圖案40，再形成觸控電極圖案20，架橋30將觸控電極圖案20中相鄰排的第二子觸控電極連接，從而通過第一觸控電極201和第二觸控電極203便可以實現(xiàn)觸控功能。

優(yōu)選的，如圖16所示，在形成觸控電極圖案20、絕緣圖案40和架橋30之后，上述方法還包括：形成保護層50。

其中，可以通過黃光工藝形成保護層50，具體的，先形成保護層薄膜，再涂布光刻膠，之后再通過曝光、顯影以及刻蝕工藝形成保護層50。

此處，對于保護層50的材料不進行限定，例如可以是氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的至少一種。

本發(fā)明實施例，在觸控電極圖案20上形成保護層50，從而可以防止觸控電極圖案20受到破損，保護觸控電極圖案20。

進一步優(yōu)選的，如圖17所示，在形成保護層50之后，上述方法還包括：在保護層50上貼附保護膜60。

此處，可以利用光刻膠將保護膜60貼附在保護層50上。

需要說明的是，由于保護膜60設置在保護層50的上方，保護膜60與外界環(huán)境接觸，因而保護膜60相對于保護層50，硬度較大。

本發(fā)明實施例，在保護層50上貼附保護膜60，從而可以進一步防止柔性觸控基板在運輸或切割過程中導致的劃傷。

基于上述，當柔性觸控基板上的膜層都制備完成后，可以將柔性襯底基板10從承載基板80上剝離，以得到如圖8(a)所示的柔性觸控基板。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。