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技術(shù)特征:

1.一種面板,包括:

襯底基板,

依次設(shè)置在所述襯底基板上的黑矩陣層、第一有機(jī)絕緣層和第二有機(jī)絕緣層,其特征在于,

所述黑矩陣層包括貫穿所述黑矩陣層的第一凹槽;

所述第一有機(jī)絕緣層包括貫穿所述第一有機(jī)絕緣層的第二凹槽;

所述第二有機(jī)絕緣層包括貫穿所述第二有機(jī)絕緣層的第三凹槽;

所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述第三凹槽相互貫通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面板,其特征在于,在平行于所述襯底基板的平面上具有第一方向,在所述第一方向上所述第一凹槽、所述第二凹槽、所述第三凹槽的尺寸依次增大。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的面板,其特征在于,所述第一有機(jī)絕緣層的形成有所述第二凹槽的邊緣與位于同一側(cè)的所述黑矩陣層的形成有所述第一凹槽的邊緣在所述第一方向上具有第一間距d1。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的面板,其特征在于,所述第一間距d1的范圍為800μm-1200μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的面板,其特征在于,在平行于所述襯底基板的平面上還具有與所述第一方向垂直的第二方向,所述第一有機(jī)絕緣層的形成有所述第二凹槽的邊緣與位于同一側(cè)的所述第二有機(jī)絕緣層的形成有所述第三凹槽的邊緣在所述第一方向和所述第二方向上均具有第二間距d2。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的面板,其特征在于,所述第二間距d2的范圍為800μm-1200μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面板,其特征在于,所述第一有機(jī)絕緣層的厚度為0.5μm-3μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面板,其特征在于,所述第二有機(jī)絕緣層的厚度為0.5μm-3μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的面板,還包括設(shè)置在所述第一有機(jī)絕緣層和所述第二有機(jī)絕緣層之間的透明的無機(jī)絕緣層,其特征在于,所述無機(jī)絕緣層覆蓋所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述第三凹槽對應(yīng)的區(qū)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的面板,其特征在于,所述無機(jī)絕緣層的厚度為0.08μm-0.12μm。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的面板,其特征在于,所述第一凹槽、所述第二凹槽、所述第三凹槽內(nèi)和所述無機(jī)絕緣層上填充有油墨。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的面板,其特征在于,所述黑矩陣層的材料包括樹脂或金屬。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的面板,其特征在于,所述黑矩陣層的厚度為0.5μm-3μm。

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