示例性實施例涉及觸摸屏面板、制造觸摸屏面板的方法和包括觸摸屏面板的觸摸顯示裝置。

背景技術(shù)：

隨著對各種類型的顯示裝置的需求已經(jīng)隨信息社會的發(fā)展而增大，已經(jīng)對于諸如液晶顯示裝置、等離子顯示面板、場致發(fā)射顯示裝置、電泳顯示裝置和有機(jī)發(fā)光顯示裝置等的顯示裝置進(jìn)行了研究。這些研究已經(jīng)產(chǎn)生了將觸摸屏面板功能應(yīng)用于這樣的顯示裝置的能力。觸摸屏面板是能夠通過使用諸如手指、筆等的物體觸摸(或幾乎觸摸)顯示裝置的屏幕來輸入命令的輸入裝置。按照這種方式，觸摸屏面板能代替諸如鍵盤和鼠標(biāo)等的連接到顯示裝置的單獨(dú)的輸入裝置。

觸摸屏面板可以是電阻式覆蓋觸摸屏面板、光敏觸摸屏面板和電容式觸摸屏面板等。在各種類型的觸摸屏面板中，當(dāng)諸如用戶的肢體、筆等的物體與觸摸屏面板接觸(或幾乎接觸，例如，在上方懸停)時，電容式觸摸屏面板被構(gòu)造為通過感測形成在導(dǎo)電感測圖案與相鄰感測圖案或接地電極等之間的電容的變化來將關(guān)于觸摸交互的位置的信息轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘枴?/p>

通常，觸摸屏面板的觸摸電極可以由諸如氧化銦錫(ITO)的透明導(dǎo)電材料形成。然而，要注意的是，ITO相對昂貴，如此，制造成本隨著ITO的使用而增加。這樣，因為不透明的金屬網(wǎng)狀圖案通常具有相對高的電導(dǎo)率且比ITO便宜，所以對使用不透明的金屬網(wǎng)狀圖案的觸摸電極是感興趣的。然而，金屬網(wǎng)狀圖案通常具有精細(xì)的厚度，并會因外部沖擊而損壞。由于損壞的金屬的反射率的差異，“損壞”可被識別為(觀察者所觀察的)在伴隨的顯示裝置上的污漬。

本背景技術(shù)部分中公開的以上信息僅用于增強(qiáng)對發(fā)明構(gòu)思的背景技術(shù)的理解，因此其可能包含不形成本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

一個或更多個示例性實施例提供一種構(gòu)造為防止(或減少)缺陷的觸摸屏面板。

一個或更多個示例性實施例提供一種制造構(gòu)造為防止(或減少)缺陷的觸摸屏面板的方法。

一個或更多個示例性實施例提供一種包括構(gòu)造為防止(或減少)缺陷的觸摸屏面板的觸摸顯示裝置。

另外的方面將在隨后的詳細(xì)描述中進(jìn)行闡述，并且部分地通過公開將是明顯的，或者可通過發(fā)明構(gòu)思的實踐而被獲知。

根據(jù)一個或更多個示例性實施例，觸摸屏面板包括：第一觸摸電極，設(shè)置在基底上，并沿第一方向延伸，第一觸摸電極包括第一網(wǎng)狀圖案，第一網(wǎng)狀圖案由包括精細(xì)圖案的交叉金屬布線形成；以及第二觸摸電極，設(shè)置在基底上，并沿與第一方向交叉的第二方向延伸，第二觸摸電極包括第二網(wǎng)狀圖案，第二網(wǎng)狀圖案由包括精細(xì)圖案的交叉金屬布線形成。

根據(jù)一個或更多個示例性實施例，觸摸顯示裝置包括：顯示面板，構(gòu)造為顯示圖像；以及觸摸屏面板，設(shè)置在顯示面板上。觸摸屏面板包括：第一觸摸電極，設(shè)置在基底上，并沿第一方向延伸，第一觸摸電極包括第一網(wǎng)狀圖案，第一網(wǎng)狀圖案由包括精細(xì)圖案的交叉金屬布線形成；以及第二觸摸電極，設(shè)置在基底上，并沿與第一方向交叉的第二方向延伸，第二觸摸電極包括第二網(wǎng)狀圖案，第二網(wǎng)狀圖案由包括精細(xì)圖案的交叉金屬布線形成。

根據(jù)一個或更多個示例性實施例，制造觸摸屏面板的方法包括：在基底上形成第一保護(hù)層；在第一保護(hù)層上形成沿第一方向延伸的第一觸摸電極，第一觸摸電極包括第一網(wǎng)狀圖案，第一網(wǎng)狀圖案由包括精細(xì)圖案的交叉金屬布線形成；在第一保護(hù)層上形成沿與第一方向交叉的第二方向延伸的第二觸摸電極，第二觸摸電極包括第二網(wǎng)狀圖案，第二網(wǎng)狀圖案由包括精細(xì)圖案的交叉金屬布線形成；以及在第一觸摸電極和第二觸摸電極上形成第二保護(hù)層。

前面的總體描述和下面的詳細(xì)描述是示例性的和解釋性的，并意圖提供對要求保護(hù)的主題的進(jìn)一步解釋。

附圖說明

包括附圖以提供發(fā)明構(gòu)思的進(jìn)一步理解，附圖包括在本說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分，附圖示出了發(fā)明構(gòu)思的示例性實施例，并與描述一起用于解釋發(fā)明構(gòu)思的原理。

圖1是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的平面圖。

圖2是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“A”的放大平面圖。

圖3是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖2的金屬布線的放大平面圖。

圖4是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線I-I’截取的圖3的金屬布線的剖視圖。

圖5是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“B”的放大平面圖。

圖6是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“B”的放大平面圖。

圖7是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“B”的放大平面圖。

圖8是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線II-II’截取的圖1的觸摸屏面板的剖視圖。

圖9至圖13是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的在制造的不同階段的觸摸屏面板的剖視圖。

圖14是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的平面圖。

圖15是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖14的部分“E”的放大平面圖。

圖16是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線III-III’截取的圖14的觸摸屏面板的剖視圖。

圖17至圖20是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的在制造的不同階段的觸摸屏面板的剖視圖。

圖21是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的平面圖。

圖22是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖21的部分“G”的放大平面圖。

圖23是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線IV-IV’截取的圖21的觸摸屏面板的剖視圖。

圖24至圖27是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的在制造的不同階段的觸摸屏面板的剖視圖。

圖28是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

圖29是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

圖30是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

圖31是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

圖32是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

圖33是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

具體實施方式

在下面的描述中，為了解釋的目的，闡述了許多具體的細(xì)節(jié)，以提供對各種示例性實施例的徹底理解。然而，明顯的是，各種示例性實施例可以在沒有這些具體細(xì)節(jié)或者在一個或更多個等同布置的情況下實施。在其它情況下，公知的結(jié)構(gòu)和裝置以框圖的形式示出以避免使各種示例性實施例不必要地模糊。

除非另有指明，否則所示的示例性實施例要被理解為提供改變各種示例性實施例的細(xì)節(jié)的示例性特征。因此，除非另有說明，否則特征、組件、模塊、層、膜、面板、區(qū)域和/或各種圖示的方面可以在不脫離所公開的示例性實施例的情況下以其它方式組合、分離、互換和/或重排。另外，在附圖中，為了清楚和描述的目的，可以夸大層、膜、面板、區(qū)域等的尺寸和相對尺寸。當(dāng)可以不同地實施示例性實施例時，可以不同于所描述的順序地執(zhí)行特定的工藝順序。例如，兩個連續(xù)地描述的工藝可以基本上同時執(zhí)行，或者按照與所描述的順序相反的順序來執(zhí)行。另外，同樣的附圖標(biāo)記表示同樣的元件。

當(dāng)元件或?qū)颖环Q為“在”另一元件或?qū)印吧稀?、“連接到”或“結(jié)合到”另一元件或?qū)訒r，該元件或?qū)涌梢灾苯釉谄渌驅(qū)由稀⒅苯舆B接到或結(jié)合到其它元件或?qū)?，或者可以存在中間元件或?qū)印Ｈ欢?，?dāng)元件或?qū)颖环Q為“直接在”另一元件或?qū)印吧稀薄ⅰ爸苯舆B接到”或“直接結(jié)合到”另一元件或?qū)訒r，不存在中間元件或中間層。另外，D1軸、D2軸和D3軸不限于直角坐標(biāo)系的三個軸，并可以以更廣泛的意義來解釋。例如，D1軸、D2軸和D3軸可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同的方向。為了本公開的目的，“X、Y和Z中的至少一(種/者)”以及“從由X、Y和Z組成的組中選擇的至少一(種/者)”可被解釋為僅X、僅Y、僅Z或者X、Y和Z中的兩個(種/者)或更多個(種/者)的任意組合，諸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ為例。如這里所用的，術(shù)語“和/或”包括一個或更多個相關(guān)列出的項的任意和全部組合。

雖然在這里可使用術(shù)語“第一”、“第二”等來描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)該受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語用于將一個元件、組件、區(qū)域、層和/或部分與另一元件、組件、區(qū)域、層和/或部分區(qū)分開。因此，在不脫離本公開的教導(dǎo)的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層和/或部分可被稱為第二元件、組件、區(qū)域、層和/或部分。

為了描述的目的，在這里可使用諸如“在……之下”、“在……下方”、“下面的”、“在……上方”和“上面的”等的空間相對術(shù)語，并由此來描述如圖中所示的一個元件或特征與另外的元件或特征的關(guān)系。除了圖中描繪的方位之外，空間相對術(shù)語還意圖包含設(shè)備在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果圖中的設(shè)備被翻轉(zhuǎn)，那么被描述為“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件將隨后被定位為“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例性術(shù)語“在……下方”可包含上方和下方兩種方位。另外，設(shè)備可被另外定位(例如，旋轉(zhuǎn)90度或在其它方位)，這樣，相應(yīng)地解釋這里使用的空間相對描述符。

這里使用的術(shù)語是出于描述具體實施例的目的，并非意圖限制。如這里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否則單數(shù)形式“一個(種/者)”和“該/所述”也意圖包括復(fù)數(shù)形式。此外，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時，說明存在陳述的特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組，但不排除存在或附加一個或更多個其它特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。

這里參照作為理想化示例性實施例和/或中間結(jié)構(gòu)的示意圖的剖視圖來描述各種示例性實施例。如此，由例如制造技術(shù)和/或公差導(dǎo)致的示出的形狀的變化將是預(yù)期的。因此，這里公開的示例性實施例不應(yīng)被解釋為局限于具體示出的區(qū)域的形狀，而是將包括因例如制造導(dǎo)致的形狀的偏差。例如，示出為矩形的注入?yún)^(qū)將通常在其邊緣處具有圓形的或彎曲的特征和/或注入濃度的梯度，而不是從注入?yún)^(qū)到非注入?yún)^(qū)的二元變化。同樣地，由注入形成的埋區(qū)可導(dǎo)致在埋區(qū)與發(fā)生注入的表面之間的區(qū)域的一些注入。因此，附圖中示出的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，它們的形狀不意圖示出裝置的區(qū)域的實際形狀，并且不意圖是限制性的。

除非另有定義，否則這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本公開作為其一部分的領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所通常理解的意思相同的意思。除非這里明確地如此定義，否則術(shù)語(諸如通用字典中定義的術(shù)語)應(yīng)該被解釋為具有與在相關(guān)領(lǐng)域的上下文中的它們的意思一致的意思，并且將不以理想化的或過于形式化的含義來解釋它們。

圖1是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的平面圖。圖2是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“A”的放大平面圖。圖8是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線II-II’截取的圖1的觸摸屏面板的剖視圖。

參照圖1、圖2和圖8，觸摸屏面板300可以包括基礎(chǔ)基底310，第一保護(hù)層320、第一絕緣層340、第二絕緣層350、第二保護(hù)層360、第一觸摸電極331、第二觸摸電極333和連接布線335。

基礎(chǔ)基底310可以是透明的基底?；A(chǔ)基底310由柔性材料制成，諸如由從柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)組成的組中選擇的材料制成。例如，基礎(chǔ)基底310可以包括聚碳酸酯(PC)，基礎(chǔ)基底310可以是具有λ/4相差的圓形偏振膜?；A(chǔ)基底310可以是顯示裝置的顯示面板的上基底。還預(yù)期的是，基礎(chǔ)基底310可以是附著到顯示面板的單獨(dú)的基底。

第一保護(hù)層320設(shè)置在基礎(chǔ)基底310上。第一保護(hù)層320可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第一保護(hù)層320可以包括第一層和第二層，第一層包括有機(jī)材料，第二層與第一層疊置并包括氧化硅(SiO_x)。第一保護(hù)層320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保護(hù)層320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保護(hù)層320的折射率可以與第二保護(hù)層360的折射率不同。

第一保護(hù)層320設(shè)置在基礎(chǔ)基底310上，這樣，第一保護(hù)層320防止對基礎(chǔ)基底310的損壞。此外，第一保護(hù)層320和第二保護(hù)層360可以補(bǔ)償由于第一觸摸電極331和第二觸摸電極333與第一絕緣層340與第二絕緣層350之間的折射率差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

第一觸摸電極331設(shè)置在第一保護(hù)層320上。第一觸摸電極331沿第一方向D1延伸。第一觸摸電極331可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第一網(wǎng)狀圖案。稍后參照圖3和圖4描述金屬布線ML。在一個或更多個示例性實施例中，第一網(wǎng)狀圖案可以具有菱形形狀；然而，示例性實施例不限于此。第一網(wǎng)狀圖案可以通過金屬布線ML的交叉來形成。

第一網(wǎng)狀圖案的金屬布線ML可以由相對低電阻的金屬材料形成。用于金屬布線ML的金屬材料可以包括諸如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、銀(Ag)、金(Au)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、銦(In)和鎵(Ga)的相對低電阻的金屬材料。

第一絕緣層340形成在第一觸摸電極331上。第一絕緣層340可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層340包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層340可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層340中的至少另一層不同的材料。

第二觸摸電極333設(shè)置在第一絕緣層340上。第二觸摸電極333沿與第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二觸摸電極333可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第二網(wǎng)狀圖案。參照圖3和圖4更詳細(xì)地描述金屬布線ML。在一個或更多個示例性實施例中，第二網(wǎng)狀圖案可以具有菱形形狀，然而，示例性實施例不限于此。第二網(wǎng)狀圖案可以通過金屬布線ML的交叉形成。第二網(wǎng)狀圖案的金屬布線ML可以由相對低電阻的金屬材料形成。用于金屬布線ML的金屬材料可以包括諸如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、銀(Ag)、金(Au)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、銦(In)和鎵(Ga)的相對低電阻的金屬材料。

第二絕緣層350形成在第二觸摸電極333上。第二絕緣層350可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第二絕緣層350包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第二絕緣層350可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二絕緣層350中的至少另一層不同的材料。

第二保護(hù)層360設(shè)置在第二絕緣層350上。第二保護(hù)層360可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第二保護(hù)層360可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二保護(hù)層360中的至少另一層不同的材料。第二保護(hù)層360的折射率可以大于1.6并且小于1.75。第二保護(hù)層360的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第二保護(hù)層360的折射率可以與第一保護(hù)層320的折射率不同。第二保護(hù)層360和第一保護(hù)層320可以補(bǔ)償由于第一觸摸電極331和第二觸摸電極333與第一絕緣層340和第二絕緣層350之間的折射率的差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

觸摸電極331和333交替地布置。第一觸摸電極331彼此連接以形成具有相同的X坐標(biāo)的行，第二觸摸電極333彼此連接以形成具有相同的Y坐標(biāo)的列。觸摸屏面板可以是電容式觸摸屏面板，其中，第一觸摸電極331和第二觸摸電極333交替地分布并布置在動作區(qū)(active area)AA中。第一觸摸電極331和第二觸摸電極333分別連接到連接布線335。連接布線可以設(shè)置在動作區(qū)AA的外側(cè)。

根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板是電容式觸摸屏面板。如果觸摸屏面板被諸如用戶的手指、手寫筆等接觸物體接觸(或者被幾乎接觸)，那么由觸摸交互引起的電容的改變通過連接布線335提供給外部驅(qū)動電路(未示出)。電容的改變被X和Y輸入處理電路(未示出)等轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘枺瑥亩鴻z測到觸摸交互的位置。

圖3是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖2的金屬布線的放大平面圖。圖4是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線I-I’截取的圖3的金屬布線的剖視圖。

參照圖2、圖3和圖4，第一觸摸電極331可以包括多個第一網(wǎng)狀圖案，所述多個第一網(wǎng)狀圖案通過包括多個精細(xì)圖案的金屬布線ML的交叉形成，第二觸摸電極333可以包括多個第二網(wǎng)狀圖案，所述多個第二網(wǎng)狀圖案通過包括多個精細(xì)圖案的金屬布線ML的交叉形成。即，第一網(wǎng)狀圖案和第二網(wǎng)狀圖通過包括多個精細(xì)圖案的金屬布線ML的交叉形成。

金屬布線ML包括多個精細(xì)圖案。具體地，每個金屬布線ML可以包括由金屬材料形成的多個精細(xì)圖案(例如，多個圖案部分MP)和位于圖案部分MP之間的多個空間部分MS。圖案部分MP的間隔P可以小于150nm。此外，圖案部分MP的寬度W可以小于75nm。當(dāng)圖案部分MP的間隔P大于150nm并且小于400nm時，顯示面板可以被視為綠色或黃色。然而，當(dāng)根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的圖案部分MP的間隔P小于150nm時，可以減少顯示面板的缺陷。

金屬布線ML的透射率大于50％。圖案部分MP的寬度W的總和可以小于空間部分MS的寬度的總和(例如，圖案部分MP的間隔P的總和)。

圖5是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“B”的放大平面圖。圖6是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“B”的放大平面圖。圖7是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖1的部分“B”的放大平面圖。

參照圖5、圖6和圖7，示出了根據(jù)一個或更多個示例性實施例的第一網(wǎng)狀圖案和第二網(wǎng)狀圖案的各種形狀。圖5中的網(wǎng)狀圖案是不規(guī)則的網(wǎng)，制造不規(guī)則的網(wǎng)狀圖案是相對簡單的，并且節(jié)省相關(guān)工藝。圖6中的網(wǎng)狀圖案是矩形形狀，圖7中的網(wǎng)狀圖案是六邊形形狀。即，圖6和圖7中的網(wǎng)狀圖案以規(guī)則的(或相似的)圖案均勻地布置。由于網(wǎng)狀圖案以規(guī)則的圖案均勻地布置，所以觸摸屏的透射率可以是均勻的，且網(wǎng)狀圖案的表面電阻分布均勻。此外，由于均勻地布置的網(wǎng)狀圖案使電阻偏差變小，所以為了使圖像均勻的用于校正電阻偏差的設(shè)置不是必需的。注意的是，網(wǎng)狀圖案可以基本上是正交直線晶格圖案、彎曲波浪線晶格圖案等。網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)狀單元可以是諸如三角形、菱形或正多邊形等的規(guī)則的形狀。此外，它也可以是不規(guī)則的形狀。

圖9至圖13是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的在制造的不同階段的觸摸屏面板的剖視圖。為了便于描述，將參照圖9至圖13描述圖8的觸摸屏面板的制造。

參照圖9，在基礎(chǔ)基底310上形成第一保護(hù)層320?；A(chǔ)基底310可以是透明的基底?；A(chǔ)基底310由柔性材料制成，諸如由從柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)組成的組中選擇的材料制成。例如，基礎(chǔ)基底310可以包括聚碳酸酯(PC)，基礎(chǔ)基底310可以是具有λ/4相差的圓形偏振膜?；A(chǔ)基底310可以是顯示裝置的顯示面板的上基底。還預(yù)期的是，基礎(chǔ)基底310可以是附著到顯示面板的單獨(dú)的基底。

在基礎(chǔ)基底310上設(shè)置第一保護(hù)層320。第一保護(hù)層320可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第一保護(hù)層320可以包括第一層和第二層，第一層包括有機(jī)材料，第二層與第一層疊置并包括氧化硅(SiO_x)。

第一保護(hù)層320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保護(hù)層320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保護(hù)層320的折射率可以與第二保護(hù)層360的折射率不同。第一保護(hù)層320設(shè)置在基礎(chǔ)基底310上，這樣，第一保護(hù)層320可以防止對基礎(chǔ)基底310的損壞。此外，第一保護(hù)層320和第二保護(hù)層360可以補(bǔ)償由于觸摸電極與絕緣層之間的折射率差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

參照圖10，在第一保護(hù)層320上形成第一觸摸電極331和第一絕緣層340。第一觸摸電極331沿第一方向D1延伸。第一觸摸電極331可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第一網(wǎng)狀圖案。在第一觸摸電極331上形成第一絕緣層340。第一絕緣層340可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層340包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層340可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層340中的至少另一層不同的材料。

圖11是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖10的部分“C”的放大剖視圖。

參照圖11，第一觸摸電極331包括多個第一金屬布線ML1。第一金屬布線ML1包括多個精細(xì)圖案。即，多個圖案部分MP由金屬材料形成。換句話說，每個第一金屬布線ML1可以包括由金屬材料形成的多個精細(xì)圖案(例如，多個圖案部分MP)和位于圖案部分MP之間的多個空間部分MS?？梢酝ㄟ^納米壓印工藝形成第一觸摸電極331；然而，可以通過各種其它的工藝形成第一觸摸電極331。圖案部分MP的間隔P可以小于150nm。此外，圖案部分MP的寬度W可以小于75nm。第一金屬布線ML1的透射率大于50％。

參照圖12，在第一絕緣層340上形成第二觸摸電極333和第二絕緣層350。第二觸摸電極333沿與第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二觸摸電極333可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第二網(wǎng)狀圖案。在第二觸摸電極333上形成第二絕緣層350。第二絕緣層350可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第二絕緣層350包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第二絕緣層350可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二絕緣層350中的至少另一層不同的材料。

圖13是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖12的部分“D”的放大剖視圖。

參照圖13，第二觸摸電極333包括多個第二金屬布線ML2。即，多個圖案部分MP由金屬材料形成。換句話說，每個第二金屬布線ML2可以包括由金屬材料形成的多個精細(xì)圖案(例如，多個圖案部分MP)和位于圖案部分MP之間的多個空間部分MS。第二金屬布線ML2包括多個精細(xì)圖案?？梢酝ㄟ^納米壓印工藝形成第二觸摸電極333，然而，可以通過各種其它的工藝形成第二觸摸電極333。圖案部分MP的間隔P可以小于150nm。此外，圖案部分MP的寬度W可以小于75nm。第二金屬布線ML2的透射率大于50％。

如前面參照圖8所描述的，可以在第二絕緣層350上形成第二保護(hù)層360。第二保護(hù)層360可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第二保護(hù)層360可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二保護(hù)層360中的至少另一層不同的材料。

第二保護(hù)層360的折射率可以大于1.6并且小于1.75。第二保護(hù)層360的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第二保護(hù)層360的折射率可以與第一保護(hù)層320的折射率不同。第二保護(hù)層360和第一保護(hù)層320可以補(bǔ)償由于觸摸電極(例如，第一觸摸電極331和第二觸摸電極333)與絕緣層(例如，第一絕緣層340和第二絕緣層350)之間的折射率差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

圖14是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的平面圖。圖15是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖14的部分“E”的放大平面圖。圖16是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線III-III’截取的圖14的觸摸屏面板的剖視圖。除了第一觸摸電極1331、第二觸摸電極1333和連接電極1337，圖14、圖15和圖16的觸摸屏面板與圖1至圖13的觸摸屏面板相似。因此，為了避免使在此公開的示例性實施例不清楚，將省略重復(fù)的解釋。

參照圖14、圖15和圖16，觸摸屏面板1300可以包括基礎(chǔ)基底1310、第一保護(hù)層1320、第一絕緣層1340、第二絕緣層1350、第二保護(hù)層1360、第一觸摸電極1331、第二觸摸電極1333、連接布線1335和連接電極1337。

第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333設(shè)置在第一保護(hù)層1320上。第一觸摸電極1331沿第一方向D1延伸。第一觸摸電極1331可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第一網(wǎng)狀圖案。第二觸摸電極1333沿與第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二觸摸電極1333可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第二網(wǎng)狀圖案。第一網(wǎng)狀圖案彼此分開，第二網(wǎng)狀圖案彼此連接。

第一絕緣層1340形成在第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333上。第一絕緣層1340可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層1340包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層1340可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層1340中的至少另一層不同的材料。

連接電極1337設(shè)置在第一絕緣層1340上。連接電極1337可以電連接第一網(wǎng)狀圖案。連接電極1337可以包括諸如氧化鋁鋅(AZO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鎵鋅(GZO)和氧化銦鋅(IZO)等的透明導(dǎo)電材料，然而，示例性實施例不限于此。連接電極1337可以由具有與第一網(wǎng)狀圖案相同的形狀的網(wǎng)狀圖案形成。此外，連接電極1337可以包括諸如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、銀(Ag)、金(Au)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、銦(In)和鎵(Ga)的相對低電阻的金屬材料。

第二絕緣層1350形成在連接電極1337上。第二絕緣層1350可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第二絕緣層1350包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第二絕緣層1350可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二絕緣層1350中的至少另一層不同的材料。

第二保護(hù)層1360設(shè)置在第二絕緣層1350上。第二保護(hù)層1360可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第二保護(hù)層1360可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二保護(hù)層1360中的至少另一層不同的材料。

圖17至圖20是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的在制造的不同階段的觸摸屏面板的剖視圖。為了便于描述，將參照圖17至圖20描述圖16的觸摸屏面板的制造。

參照圖17，在基礎(chǔ)基底1310上形成第一保護(hù)層1320?；A(chǔ)基底1310可以是透明的基底?；A(chǔ)基底1310由柔性材料制成，諸如由從柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)組成的組中選擇的材料制成。例如，基礎(chǔ)基底1310可以包括聚碳酸酯(PC)，基礎(chǔ)基底1310可以是具有λ/4相差的圓形偏振膜?；A(chǔ)基底1310可以是顯示裝置的顯示面板的上基底。還預(yù)期的是，基礎(chǔ)基底1310可以是附著到顯示面板的單獨(dú)的基底。

在基礎(chǔ)基底1310上設(shè)置第一保護(hù)層1320。第一保護(hù)層1320可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第一保護(hù)層1320可以包括第一層和第二層，第一層包括有機(jī)材料，第二層與第一層疊置并包括氧化硅(SiO_x)。

第一保護(hù)層1320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保護(hù)層1320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保護(hù)層1320的折射率可以與第二保護(hù)層1360的折射率不同。在基礎(chǔ)基底1310上設(shè)置第一保護(hù)層1320，這樣，第一保護(hù)層1320防止對基礎(chǔ)基底1310的損壞。此外，第一保護(hù)層1320和第二保護(hù)層1360可以補(bǔ)償由于觸摸電極(例如，第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333)與絕緣層(例如，第一絕緣層1340和第二絕緣層1350)之間的折射率差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

參照圖18，在第一保護(hù)層1320上形成第一觸摸電極1331、第二觸摸電極1333和第一絕緣層1340。即，第一觸摸電極1331與第二觸摸電極1333設(shè)置在同一層上。如圖14中所示，第一觸摸電極1331沿第一方向D1延伸。第一觸摸電極1331可以包括通過金屬布線的交叉形成的多個第一網(wǎng)狀圖案。第二觸摸電極1333沿與第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二觸摸電極1333可以包括通過金屬布線的交叉形成的多個第二網(wǎng)狀圖案。

在第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333上形成第一絕緣層1340。第一絕緣層1340可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層1340包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層1340可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層1340中的至少另一層不同的材料。

圖19是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖18的部分“F”的放大剖視圖。

參照圖19，第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333包括多個金屬布線ML。金屬布線ML包括多個精細(xì)圖案；即，多個圖案部分MP由金屬材料形成。換句話說，每個金屬布線ML可以包括由金屬材料形成的多個精細(xì)圖案(例如，多個圖案部分MP)和位于圖案部分MP之間的多個空間部分MS。第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333可以通過納米壓印工藝形成；然而，第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333可以通過各種其它工藝形成。圖案部分MP的間隔P可以小于150nm。此外，圖案部分MP的寬度W可以小于75nm。金屬布線ML的透射率大于50％。

參照圖20，在第一絕緣層1340上形成連接電極1337和第二絕緣層1350。在第一絕緣層1340上設(shè)置連接電極1337。連接電極1337可以電連接第一網(wǎng)狀圖案。連接電極1337可以包括諸如氧化鋁鋅(AZO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鎵鋅(GZO)和氧化銦鋅(IZO)等的透明導(dǎo)電材料，然而，示例性實施例不限于此。連接電極1337可以由具有與第一網(wǎng)狀圖案相同的形狀的網(wǎng)狀圖案形成。此外，連接電極1337可以包括諸如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、銀(Ag)、金(Au)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、銦(In)和鎵(Ga)的相對低電阻的金屬材料。

第二絕緣層1350形成在連接電極1337上。第二絕緣層1350可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第二絕緣層1350包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第二絕緣層1350可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二絕緣層1350中的至少另一層不同的材料。

如前面參照圖16所描述的，在第二絕緣層1350上形成第二保護(hù)層1360。第二保護(hù)層1360可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第二保護(hù)層1360可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二保護(hù)層1360中的至少另一層不同的材料。第二保護(hù)層1360的折射率可以大于1.6并且小于1.75。第二保護(hù)層1360的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第二保護(hù)層1360的折射率可以與第一保護(hù)層1320的折射率不同。第二保護(hù)層1360和第一保護(hù)層1320可以補(bǔ)償由于觸摸電極(例如，第一觸摸電極1331和第二觸摸電極1333)與絕緣層(例如，第一絕緣層1340和第二絕緣層1350)之間的折射率差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

圖21是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸屏面板的平面圖。圖22是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖21的部分“G”的放大平面圖。圖23是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的沿剖面線IV-IV’截取的圖21的觸摸屏面板的剖視圖。除了第一觸摸電極2331、第二觸摸電極2333和連接電極2337，圖21、圖22和圖23的觸摸屏面板與圖1至圖13的觸摸屏面板相似。因此，為了避免使在此公開的示例性實施例不清楚，將省略重復(fù)的解釋。

參照圖21、圖22和圖23，觸摸屏面板2300可以包括基礎(chǔ)基底2310、第一保護(hù)層2320、第一絕緣層2340、第二絕緣層2350、第二保護(hù)層2360、第一觸摸電極2331、第二觸摸電極2333、連接布線2335和連接電極2337。

連接電極2337設(shè)置在第一保護(hù)層2320上。連接電極2337可以電連接第一網(wǎng)狀圖案。連接電極2337可以包括諸如氧化鋁鋅(AZO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鎵鋅(GZO)和氧化銦鋅(IZO)等的透明導(dǎo)電材料，然而，示例性實施例不限于此。連接電極2337可以由具有與第一網(wǎng)狀圖案相同的形狀的網(wǎng)狀圖案形成。此外，連接電極2337可以包括諸如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、銀(Ag)、金(Au)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、銦(In)和鎵(Ga)的相對低電阻的金屬材料。

第一絕緣層2340形成在連接電極2337上。第一絕緣層2340可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層2340包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層2340可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層2340中的至少另一層不同的材料。

第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333設(shè)置在第一絕緣層2340上。第一觸摸電極2331沿第一方向D1延伸。第一觸摸電極2331可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第一網(wǎng)狀圖案。第二觸摸電極2333沿與第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二觸摸電極2333可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第二網(wǎng)狀圖案。第一網(wǎng)狀圖案彼此分開，第二網(wǎng)狀圖案彼此連接。

第二絕緣層2350形成在第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2332上。第二絕緣層2350可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第二絕緣層2350包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第二絕緣層2350可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二絕緣層2350中的至少另一層不同的材料。

第二保護(hù)層2360設(shè)置在第二絕緣層2350上。第二保護(hù)層2360可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第二保護(hù)層2360可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二保護(hù)層2360中的至少另一層不同的材料。

圖24至圖27是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的在制造的不同階段的觸摸屏面板的剖視圖。為了便于描述，將參照圖24至圖27描述圖23的觸摸屏面板的制造。

參照圖24，在基礎(chǔ)基底2310上形成第一保護(hù)層2320?；A(chǔ)基底2310可以是透明的基底?；A(chǔ)基底2310由柔性材料制成，諸如由從柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)組成的組中選擇的材料制成。例如，基礎(chǔ)基底2310可以包括聚碳酸酯(PC)，基礎(chǔ)基底2310可以是具有λ/4相差的圓形偏振膜。基礎(chǔ)基底2310可以是顯示裝置的顯示面板的上基底。還預(yù)期的是，基礎(chǔ)基底2310可以是附著到顯示面板的單獨(dú)的基底。

在基礎(chǔ)基底2310上設(shè)置第一保護(hù)層2320。第一保護(hù)層2320可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第一保護(hù)層2320可以包括第一層和第二層，第一層包括有機(jī)材料，第二層與第一層疊置并包括氧化硅(SiO_x)。第一保護(hù)層2320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保護(hù)層2320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保護(hù)層2320的折射率可以與第二保護(hù)層2360的折射率不同。在基礎(chǔ)基底2310上設(shè)置第一保護(hù)層2320，這樣，第一保護(hù)層2320防止對基礎(chǔ)基底2310的損壞。此外，第一保護(hù)層2320和第二保護(hù)層2360可以補(bǔ)償由于觸摸電極(例如，第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333)與絕緣層(例如，第一絕緣層2340和第二絕緣層2350)之間的折射率差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

參照圖25，在第一保護(hù)層2320上形成連接電極2337和第一絕緣層2340。在第一保護(hù)層2320上設(shè)置連接電極2337。連接電極2337可以電連接第一網(wǎng)狀圖案。連接電極2337可以包括諸如氧化鋁鋅(AZO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鎵鋅(GZO)和氧化銦鋅(IZO)等的透明導(dǎo)電材料；然而，示例性實施例不限于此。連接電極2337可以由具有與第一網(wǎng)狀圖案相同的形狀的網(wǎng)狀圖案形成。此外，連接電極2337可以包括諸如銅(Cu)、鋁(Al)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、銀(Ag)、金(Au)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、銦(In)和鎵(Ga)的相對低電阻的金屬材料。

在連接電極2337上形成第一絕緣層2340。第一絕緣層2340可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層2340包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層2340可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層2340中的至少另一層不同的材料。

參照圖26，在第一絕緣層2340上形成第一觸摸電極2331、第二觸摸電極2332和第二絕緣層2350。在第一絕緣層2340上設(shè)置第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333。如圖21中所示，第一觸摸電極2331沿第一方向D1延伸。第一觸摸電極2331可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第一網(wǎng)狀圖案。第二觸摸電極2333沿與第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二觸摸電極2333可以包括通過金屬布線ML的交叉形成的多個第二網(wǎng)狀圖案。第一網(wǎng)狀圖案彼此分開，第二網(wǎng)狀圖案彼此連接。

在第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333上形成第二絕緣層2350。第二絕緣層2350可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第二絕緣層2350包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第二絕緣層2350可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第二絕緣層2350中的至少另一層不同的材料。

圖27是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的圖26的部分“H”的放大剖視圖。

參照圖27，第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333包括多個金屬布線ML。金屬布線ML包括多個精細(xì)圖案；即，多個圖案部分MP由金屬材料形成。換句話說，每個金屬布線ML可以包括由金屬材料形成的多個精細(xì)圖案(例如，多個圖案部分MP)和位于圖案部分MP之間的多個空間部分MS。第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333可以通過納米壓印工藝形成；然而，第一觸摸電極2331和第二觸摸電極2333可以通過各種其它的工藝形成。圖案部分MP的間隔P可以小于150nm。此外，圖案部分MP的寬度W可以小于75nm。金屬布線ML的透射率大于50％。

如前面參照圖23所描述的，在第二絕緣層2350上形成第二保護(hù)層2360。第二保護(hù)層2360可以包括從由氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)和氧化鋁(AlO_x)組成的組中選擇的材料中的至少一種。此外，第二保護(hù)層2360可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料。

圖28是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

參照圖28，觸摸顯示裝置可以包括構(gòu)造為顯示圖像的顯示面板DP和設(shè)置在顯示面板DP上的觸摸屏面板TSP。觸摸顯示裝置可以是有機(jī)發(fā)光二極管觸摸顯示裝置，然而，示例性實施例不限于此。

顯示面板DP包括下基底100、緩沖層102、柵極絕緣層104、絕緣中間層106、平坦化層108、像素限定層112、薄膜晶體管(TFT)130、第一電極146、第二電極148、有機(jī)發(fā)光元件200和包封基底150。

下基底100可以包括透明的絕緣基底。例如，下基底100可以包括玻璃基底、石英基底、包括透明樹脂的透明樹脂基底等?？梢杂糜谙禄?00的透明樹脂的示例可以包括聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂、磺酸類樹脂等。

緩沖層102設(shè)置在下基底100上，并包括絕緣材料?？梢杂糜诰彌_層102的絕緣材料的示例可以包括諸如氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)、氮氧化硅(SiO_xN_y)、碳氧化硅(SiO_xC_y)、氮碳化硅(SiC_xN_y)等的無機(jī)絕緣材料。無機(jī)絕緣材料可以單獨(dú)使用、使用其組合、使用其混合物或使用其堆疊結(jié)構(gòu)。當(dāng)緩沖層102包括堆疊結(jié)構(gòu)時，緩沖層102可以具有包括氧化硅層、氮化硅層、氮氧化硅層、碳氧化硅層和/或氮碳化硅層的多層結(jié)構(gòu)。緩沖層102防止金屬原子或雜質(zhì)從下基底100擴(kuò)散以控制在有源圖案135的隨后的結(jié)晶化工藝期間的熱傳遞的速度。因此，可以改善有源圖案135的電特性。另外，緩沖層102使下基底100的表面平坦。

有源圖案135設(shè)置在緩沖層102上。例如，有源圖案135可以包括多晶硅。有源圖案135包括漏極接觸部132、源極接觸部136和溝道部134。漏極接觸部132與薄膜晶體管130的漏電極142接觸。源極接觸部136與薄膜晶體管130的源電極144接觸。溝道部134設(shè)置在漏極接觸部132與源極接觸部136之間。

柵極絕緣層104設(shè)置在其上形成有有源圖案135的緩沖層102上，以將有源圖案135與柵電極138和柵極線(未示出)電絕緣。柵極絕緣層104可以包括氮化硅、金屬氧化物等?？梢杂糜跂艠O絕緣層104的絕緣材料的示例可以包括氧化鉿(HfO_x)、氧化鋁(AlO_x)、氧化鋯(ZrO_x)、氧化鈦(TiO_x)、氧化鉭(TaO_x)等。這些可以單獨(dú)使用、使用其組合、使用其混合物或使用其堆疊結(jié)構(gòu)。柵極絕緣層104可以包括多個接觸孔，源極接觸部136和漏極接觸部132通過所述多個接觸孔暴露。

柵電極138設(shè)置在柵極絕緣層104上。柵電極138設(shè)置在有源圖案135的溝道部134上。當(dāng)電壓差形成在柵電極138與源電極144之間時，薄膜晶體管130導(dǎo)通，使得電流流經(jīng)溝道部134朝向漏電極142。

柵電極138可以包括諸如金屬、合金、金屬氮化物、導(dǎo)電金屬氧化物、透明導(dǎo)電材料等的導(dǎo)電材料?？梢杂糜跂烹姌O138的導(dǎo)電材料的示例可以包括鋁、鋁合金、氮化鋁(AlN_x)、銀(Ag)、銀合金、鎢(W)、氮化鎢(WN_x)、銅(Cu)、銅合金、鎳(Ni)、鉻(Cr)、氮化鉻(CrN_x)、鉬(Mo)、鉬合金、鈦(Ti)、氮化鈦(TiN_x)、鉑(Pt)、鉭(Ta)、氮化鉭(TaN_x)、釹(Nd)、鈧(Sc)、氧化鍶釕(SRO)、氧化鋅(ZnO_x)、氧化銦錫(ITO)、氧化錫(SnO_x)、氧化銦(InO_x)、氧化鎵(GaO_x)、氧化銦鋅(IZO)等。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用。另外，柵電極138可以具有包括金屬層、合金層、金屬氮化物層、導(dǎo)電金屬氧化物層和/或透明導(dǎo)電材料層的單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)。

絕緣中間層106形成在其上形成有柵電極138和柵極線(未示出)的柵極絕緣層104上。絕緣中間層106將柵電極138和柵極線(未示出)與源電極144和漏電極142絕緣。絕緣中間層106可以包括硅化合物。可以用于絕緣中間層106的絕緣材料的示例可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氮碳化硅、碳氧化硅等。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用。絕緣中間層106具有多個接觸孔，有源圖案135的源極接觸部136和漏極接觸部132通過所述多個接觸孔暴露。

源電極144和漏電極142形成在絕緣中間層106上。源電極144和漏電極142分別與有源圖案135的源極接觸部136和漏極接觸部132接觸。源電極144和漏電極142可以包括諸如金屬、合金、金屬氮化物、導(dǎo)電金屬氧化物、透明導(dǎo)電材料等的導(dǎo)電材料?？梢杂糜谠措姌O144和漏電極142的導(dǎo)電材料的示例可以包括鋁、鋁合金、氮化鋁(AlN_x)、銀(Ag)、銀合金、鎢(W)、氮化鎢(WN_x)、銅(Cu)、銅合金、鎳(Ni)、鉻(Cr)、氮化鉻(CrN_x)、鉬(Mo)、鉬合金、鈦(Ti)、氮化鈦(TiN_x)、鉑(Pt)、鉭(Ta)、氮化鉭(TaN_x)、釹(Nd)、鈧(Sc)、氧化鍶釕(SRO)、氧化鋅(ZnO_x)、氧化銦錫(ITO)、氧化錫(SnO_x)、氧化銦(InO_x)、氧化鎵(GaO_x)、氧化銦鋅(IZO)等。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用。另外，源電極144和漏電極142可以具有包括金屬層、合金層、金屬氮化物層、導(dǎo)電金屬氧化物層和/或透明導(dǎo)電材料層的單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)。

平坦化層108形成在其上形成有源電極144、漏電極142和數(shù)據(jù)線(未示出)的絕緣中間層106上，以將源電極144與第一電極146電絕緣。平坦化層108可以包括有機(jī)絕緣材料或無機(jī)絕緣材料。可以用于平坦化層108的絕緣材料的示例可以包括光致抗蝕劑、丙烯酸樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、硅氧烷樹脂、光致抗蝕劑丙烯酸羧基樹脂、酚醛清漆樹脂、堿溶性樹脂、硅化合物、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、氮碳化硅等。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用。平坦化層108具有接觸孔，漏電極142通過所述接觸孔暴露。

第一電極146設(shè)置在與像素區(qū)對應(yīng)的平坦化層108上，并穿過平坦化層108的接觸孔電連接到漏電極142。

當(dāng)顯示面板DP是前照式時，第一電極146可以包括反射金屬、反射合金等。例如，第一電極146可以包括銀、鉑、金、鉻、鎢、鉬、鈦、鈀、銥、它們的合金等。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用?？蛇x擇地，第一電極146可以包括諸如氧化銦錫、氧化錫、氧化銦鋅、氧化鋅、氧化銦鎵、氧化鎵等的透明導(dǎo)電材料。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用。

像素限定層112設(shè)置在其上形成有第一電極146的平坦化層108上，以暴露第一電極146的一部分。像素限定層112可以包括有機(jī)材料或無機(jī)材料?？梢杂糜谙袼叵薅▽?12的材料的示例可以包括光致抗蝕劑、聚丙烯酸樹脂、聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂、硅化合物等。顯示區(qū)和非顯示區(qū)被第一電極146的暴露部分(其被像素限定層112暴露)限定在OLED上。例如，被像素限定層112暴露的第一電極146的暴露部分對應(yīng)于顯示區(qū)。像素限定層112的剩余部分限定非顯示區(qū)。

有機(jī)發(fā)光元件200設(shè)置在被像素限定層112暴露的第一電極146上。第二電極148覆蓋有機(jī)發(fā)光元件200和像素限定層112。

當(dāng)顯示面板DP是前照式時，第二電極148可以包括透明導(dǎo)電材料?？梢杂糜诘诙姌O148的透明導(dǎo)電材料的示例可以包括氧化銦錫、氧化錫、氧化銦鋅、氧化鋅、氧化銦鎵、氧化鎵等。這些可以單獨(dú)使用或以它們的組合使用。

圖28的觸摸屏面板與圖1至圖13的觸摸屏面板相似。即，觸摸屏面板TSP可以包括基礎(chǔ)基底310、第一保護(hù)層320、第一絕緣層340、第二絕緣層350、第二保護(hù)層360、第一觸摸電極331和第二觸摸電極333。如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖29是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

參照圖29，觸摸顯示裝置可以包括構(gòu)造為顯示圖像的顯示面板DP和設(shè)置在顯示面板DP上的觸摸屏面板TSP。觸摸顯示裝置是有機(jī)發(fā)光二極管觸摸顯示裝置，然而，示例性實施例不限于此。圖29的顯示面板DP與圖28的顯示面板相似，如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖29的觸摸屏面板TSP與圖14至圖20的觸摸屏面板相似。即，觸摸屏面板TSP可以包括基礎(chǔ)基底1310、第一保護(hù)層1320、第一絕緣層1340、第二絕緣層1350、第二保護(hù)層1360、第一觸摸電極1331、第二觸摸電極1333和連接電極1337。如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖30是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

參照圖30，觸摸顯示裝置可以包括構(gòu)造為顯示圖像的顯示面板DP和設(shè)置在顯示面板DP上的觸摸屏面板TSP。觸摸顯示裝置是有機(jī)發(fā)光二極管觸摸顯示裝置，然而，示例性實施例不限于此。圖30的顯示面板DP與圖28和圖29的顯示面板相似，如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖30的觸摸屏面板TSP與圖21至圖27的觸摸屏面板相似。即，觸摸屏面板TSP可以包括基礎(chǔ)基底2310、第一保護(hù)層2320、第一絕緣層2340、第二絕緣層2350、第二保護(hù)層2360、第一觸摸電極2331、第二觸摸電極2333和連接電極2337。如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖31是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

參照圖31，觸摸顯示裝置可以包括構(gòu)造為顯示圖像的顯示面板DP和設(shè)置在顯示面板DP上的觸摸屏面板TSP。觸摸顯示裝置是液晶觸摸顯示裝置，然而，示例性實施例不限于此。

顯示面板DP包括下基底1110、柵電極GE、源電極SE、漏電極DE、有源圖案AP、像素電極PE、第一絕緣層1120、第二絕緣層1130、有機(jī)層1140、液晶層LC、上基底1210、黑矩陣1220、濾色器1230、包覆層1240和共電極1250。

下基底1110的示例可以包括玻璃基底、石英基底、硅基底和塑料基底等。

柵電極GE設(shè)置在下基底1110上。柵電極GE與柵極線GL電連接。柵電極GE可以具有包括銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)或它們的混合物的單層結(jié)構(gòu)。此外，柵電極GE可以具有多層結(jié)構(gòu)，所述多層結(jié)構(gòu)具有包括彼此不同的材料或者與柵電極GE中的至少另一層不同的材料的多個層。例如，柵電極GE可以包括銅層和設(shè)置在銅層上和/或銅層下的鈦層。

第一絕緣層1120形成在柵電極GE上。第一絕緣層1120可以覆蓋下基底1110和包括柵電極GE的第一導(dǎo)電圖案。第一絕緣層1120可以包括諸如氧化硅(SiO_x)和/或氮化硅(SiN_x)的無機(jī)材料。例如，第一絕緣層1120包括氧化硅(SiO_x)，并可以具有大約的厚度。此外，第一絕緣層1120可以包括多個層，所述多個層包括彼此不同的材料或者與第一絕緣層1120中的至少另一層不同的材料。

有源圖案AP形成在第一絕緣層1120上。在其中形成有柵電極GE的區(qū)域中，有源圖案AP形成在第一絕緣層1120上。有源圖案AP可以與柵電極GE疊置。有源圖案AP可以與源電極SE和漏電極DE部分地疊置。有源圖案AP可以設(shè)置在柵電極GE與源電極SE之間。有源圖案AP可以設(shè)置在柵電極GE與漏電極DE之間。

源電極SE和漏電極DE可以形成在有源圖案AP上。柵電極GE、有源圖案AP、源電極SE和漏電極DE可以構(gòu)成開關(guān)SW。源電極SE和漏電極DE可以彼此分隔開。源電極SE和漏電極DE可以由與數(shù)據(jù)線DL相同的層形成。源電極SE和漏電極DE可以具有包括銅(Cu)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鋁(Al)、鈦(Ti)、錳(Mn)或它們的混合物的單層結(jié)構(gòu)。此外，源電極SE和漏電極DE可以具有多層結(jié)構(gòu)，所述多層結(jié)構(gòu)具有包括彼此不同的材料的多個層。例如，源電極SE和漏電極DE可以包括銅層和設(shè)置在銅層上和/或銅層下的鈦層。

第二絕緣層1130可以形成在源電極SE和漏電極DE上。第二絕緣層1130可以利用包括氧化硅(SiO_x)或氮化硅(SiN_x)的材料形成。

有機(jī)層1140設(shè)置在第二絕緣層1130上。有機(jī)層1140使基底的上表面平坦，從而可以防止諸如信號線斷開的與臺階有關(guān)的問題。有機(jī)層1140可以是包括有機(jī)材料的絕緣層。有機(jī)層1140可以是濾色器。

像素電極PE形成在有機(jī)層1140上。像素電極PE可以穿過第一接觸孔與漏電極DE電連接。像素電極PE可以包括諸如氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)的透明導(dǎo)電材料。此外，像素電極PE可以包括鈦(Ti)和/或鉬鈦(MoTi)。

上基底1210的示例可以包括玻璃基底、石英基底、硅基底和塑料基底等。

黑矩陣1220設(shè)置在上基底1210上。黑矩陣1220阻擋光，并與其上不顯示圖像的非顯示區(qū)對應(yīng)地設(shè)置。

濾色器1230設(shè)置在其上設(shè)置有黑矩陣1220的上基底1210上。濾色器1230將顏色供應(yīng)到穿過液晶層LC的光。濾色器1230可以包括紅色濾色器、綠色濾色器和藍(lán)色濾色器。濾色器1230對應(yīng)于單位像素。彼此相鄰的濾色器1230可以具有不同的顏色。濾色器1230可以與相鄰的濾色器1230在相鄰的單位像素的邊界中疊置。此外，濾色器1230可以在相鄰的單位像素的邊界中與相鄰的濾色器1230分隔開。

包覆層1240設(shè)置在濾色器1230和黑矩陣1220上。包覆層1240使濾色器1230平坦、保護(hù)濾色器1230并使濾色器1230絕緣。包覆層1240可以包括丙烯酸環(huán)氧樹脂材料。共電極1250設(shè)置在包覆層1240上。

液晶層LC設(shè)置在下基底1110與上基底1210之間。液晶層LC包括具有光學(xué)各向異性的液晶分子。液晶分子被電場驅(qū)動使得通過穿過或阻擋通過液晶層LC的光來顯示圖像。此外，顯示面板DP還可以包括將光提供到顯示面板DP的背光組件。

圖31的觸摸屏面板TSP與圖1至圖13的觸摸屏面板相似。即，觸摸屏面板TSP可以包括基礎(chǔ)基底310、第一保護(hù)層320、第一絕緣層340、第二絕緣層350、第二保護(hù)層360、第一觸摸電極331和第二觸摸電極333。如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖32是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

參照圖32，觸摸顯示裝置可以包括構(gòu)造為顯示圖像的顯示面板DP和設(shè)置在顯示面板DP上的觸摸屏面板TSP。觸摸顯示裝置是液晶觸摸顯示裝置，然而，示例性實施例不限于此。圖32的顯示面板DP與圖31的顯示面板DP相似，如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖32的觸摸屏面板TSP與圖14至圖20的觸摸屏面板TSP相似。即，觸摸屏面板TSP可以包括基礎(chǔ)基底1310、第一保護(hù)層1320、第一絕緣層1340、第二絕緣層1350、第二保護(hù)層1360、第一觸摸電極1331、第二觸摸電極1333和連接電極1337。如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖33是根據(jù)一個或更多個示例性實施例的觸摸顯示裝置的剖視圖。

參照圖33，觸摸顯示裝置可以包括構(gòu)造為顯示圖像的顯示面板DP和設(shè)置在顯示面板DP上的觸摸屏面板TSP。觸摸顯示裝置是液晶觸摸顯示裝置；然而，示例性實施例不限于此。圖33的顯示面板DP與圖31和圖32的顯示面板DP相似，如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

圖33的觸摸屏面板TSP與圖21至圖27的觸摸屏面板TSP相似。即，觸摸屏面板TSP可以包括基礎(chǔ)基底2310、第一保護(hù)層2320、第一絕緣層2340、第二絕緣層2350、第二保護(hù)層2360、第一觸摸電極2331、第二觸摸電極2333和連接電極2337。如此，已經(jīng)省略了重復(fù)的描述以避免使示例性實施例不清楚。

根據(jù)一個或更多個示例性實施例，觸摸屏面板的觸摸電極包括多個網(wǎng)狀圖案，所述多個網(wǎng)狀圖案通過包括多個精細(xì)圖案的金屬布線的交叉形成。金屬布線的透射率大于50％。因此，可以增大觸摸屏面板的透射率。此外，金屬布線包括多個精細(xì)圖案，這樣，防止(或減少)金屬布線由于金屬的反射率差異而被用戶認(rèn)為是污漬，其中，金屬的反射率差異可以被減小。此外，觸摸屏面板包括設(shè)置在基礎(chǔ)基底與第一觸摸電極之間的第一保護(hù)層和設(shè)置在第二觸摸電極上的第二保護(hù)層。以這種方式，第一保護(hù)層可以防止對基礎(chǔ)基底的損壞。

根據(jù)一個或更多個示例性實施例，第一保護(hù)層的折射率可以與第二保護(hù)層的折射率不同。以這種方式，第一保護(hù)層和第二保護(hù)層可以補(bǔ)償由于觸摸電極與絕緣層之間的折射率的差異而產(chǎn)生的透射率的減小。

盡管已經(jīng)在此描述了某些示例性實施例和實施方式，但是通過本描述，其它的實施例和修改將是明顯的。因此，發(fā)明構(gòu)思不限于這樣的實施例，而是由給出的權(quán)利要求以及各種明顯的修改和等同布置的更寬廣的范圍來限定。