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一種基于標(biāo)簽圖的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法與流程

文檔序號:11864783閱讀:496來源:國知局
一種基于標(biāo)簽圖的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法與流程

本發(fā)明涉及標(biāo)簽圖中規(guī)范標(biāo)記的構(gòu)建方法,主要利用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序從全局角度求解標(biāo)簽圖模型對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記,屬于計算機(jī)技術(shù)、信息技術(shù)、圖挖掘、數(shù)據(jù)挖掘交叉技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域。



背景技術(shù):

圖是描述現(xiàn)實世界各類復(fù)雜系統(tǒng)的一種普適模型,且許多實際應(yīng)用中的圖是大規(guī)模的。近些年隨著信息技術(shù)的發(fā)展,現(xiàn)實世界的圖通常包含豐富的標(biāo)簽信息,產(chǎn)生了一種新類型的圖——標(biāo)簽圖。

在標(biāo)簽圖中,根據(jù)給定的標(biāo)簽圖構(gòu)建其對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記,能夠有效解決頻繁子圖挖掘課題中的子圖同構(gòu)判斷等問題。本發(fā)明能夠形成解決全局情況下標(biāo)簽圖模型中的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方案,使標(biāo)簽圖模型的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建問題在時間和空間復(fù)雜度上得到優(yōu)化,并大大縮小計算量。本發(fā)明給出一種基于標(biāo)簽圖的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法,該方法將規(guī)范標(biāo)記的構(gòu)建問題定義成標(biāo)簽圖模型,從全局角度為該標(biāo)簽圖構(gòu)建唯一的規(guī)范標(biāo)記,通過頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序等策略獲取目標(biāo)解空間。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

技術(shù)問題:本發(fā)明要解決標(biāo)簽圖中規(guī)范標(biāo)記的構(gòu)建問題,該問題是指給定一個各頂點和邊注有相應(yīng)標(biāo)簽的圖,即標(biāo)簽圖。根據(jù)該標(biāo)簽圖構(gòu)建對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記,即字符串,使得該字符串的字典序最小。

技術(shù)方案:所述標(biāo)簽圖中規(guī)范標(biāo)記的構(gòu)建問題描述如下:設(shè)給定應(yīng)標(biāo)簽圖,再給定包含一組標(biāo)簽的頂點集和邊集,基于標(biāo)簽圖模型的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法生成該標(biāo)簽圖對應(yīng)的唯一規(guī)范標(biāo)記。我們假定這些包含標(biāo)簽的頂點集和邊集組織在一個屬性圖G=(V(G),E(G),l(v),l(e))中。

本發(fā)明所述的基于圖模型的規(guī)范標(biāo)簽構(gòu)建問題定義成標(biāo)簽圖模型,以及采用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序獲得解空間。

本發(fā)明所述的基于圖模型的規(guī)范標(biāo)簽構(gòu)建方法包括以下步驟:

步驟1)根據(jù)用戶輸入的信息,構(gòu)建網(wǎng)絡(luò)中的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建問題的標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))。所述V(G),是指由該標(biāo)簽圖中所有頂點構(gòu)成的有限集合;所述E(G),是指由該標(biāo)簽圖中所有邊構(gòu)成的有限集。所述l(v),是指頂點標(biāo)簽函數(shù),表示頂點v對應(yīng)的標(biāo)簽。所述l(e),是指邊標(biāo)簽函數(shù),表示邊e對應(yīng)的標(biāo)簽。所述標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))在建立后,任意頂點或者邊都具有相應(yīng)的標(biāo)簽。具體步驟如下:

步驟1.1)用戶輸入包含一組標(biāo)簽的頂點集及邊集,構(gòu)建標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))。該標(biāo)簽圖模型為無向連通圖。其中,用戶輸入的頂點集記作V(G),輸入的邊集記作E(G),頂點u和頂點v之間的邊記作e(u,v),頂點v對應(yīng)的標(biāo)簽記作l(v),邊e(u,v)對應(yīng)的標(biāo)簽記作l(e(u,v)),標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)簽記作cl(G)。所述無向,是指對任意頂點u,v∈V(G),都有e(u,v)=e(v,u)。所述連通,是指在該標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))中,任意兩頂點間都有可達(dá)路徑。

步驟1.2)將頂點集V(G)中所有頂點看作標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))中的頂點。

步驟1.3)將頂點u和頂點v之間的弧看作標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))兩頂點之間的可達(dá)路徑。定義n表示頂點集V(G)中的元素個數(shù)。定義LV表示所有頂點對應(yīng)標(biāo)簽構(gòu)成的集合,定義LE表示所有邊對應(yīng)標(biāo)簽構(gòu)成的集合,定義D表示所有頂點對應(yīng)度數(shù)構(gòu)成的集合。所述頂點度數(shù),是指與該頂點相關(guān)聯(lián)的邊數(shù)。

步驟1.4)基于給定的標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e)),生成該圖對應(yīng)的n×n的鄰接矩陣A(G)。定義CAM(G)表示該標(biāo)簽圖模型的規(guī)范鄰接矩陣。定義cl(G)表示該標(biāo)簽圖模型的規(guī)范標(biāo)記。定義Clv表示規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集。定義Vd表示由具有相同頂點度數(shù)的頂點構(gòu)成的集合。定義Vl表示由具有相同頂點標(biāo)簽的頂點構(gòu)成的集合。定義Vvl表示按照頂點相連度數(shù)的順序構(gòu)成的頂點集合。定義Vel表示具有相同頂點度數(shù)和頂點標(biāo)簽且與該頂點關(guān)聯(lián)的邊標(biāo)簽構(gòu)成的標(biāo)簽集合。定義Perm(perm)表示用于遍歷perm集合所有可能排列的全排列函數(shù)。所述鄰接矩陣,是指用于存放頂點間關(guān)系(邊或弧)數(shù)據(jù)的二維數(shù)組。所述全排列,是指從給定個數(shù)的元素中取出所有元素進(jìn)行排序。

步驟1.5)計算頂點集V(G)中每個頂點v對應(yīng)的頂點度數(shù)D(v)。

步驟1.6)求出具有相同頂點度數(shù)d的頂點集Vd,即對于D(vi)=d。所述vi,是指頂點集Vd中的第i個頂點。

步驟2)采用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序獲得標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))上的解空間。具體步驟如下:

步驟2.1)查找具有最高頂點度數(shù)的頂點集Vd。若該頂點集中只包含一個頂點,則將該頂點加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中。反之,則查找這些頂點對應(yīng)的標(biāo)簽。

步驟2.2)若這些頂點v′具有相同的頂點標(biāo)簽l(v′),則找到具有相同標(biāo)簽的頂點集Vl并且查找相鄰邊標(biāo)簽。反之,則將這些頂點按標(biāo)簽的字典序加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中。所述字典序,是指一種對于隨機(jī)變量形成序列的排序方法,該方法按照字母順序或者數(shù)字順序由小到大地形成序列。

步驟2.3)如果這些頂點具有相同的相鄰邊標(biāo)簽,則找到它們對應(yīng)的鄰近頂點度數(shù)。反之,則將這些頂點按照相鄰邊標(biāo)簽的字典序加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中。

步驟2.4)若|Clv|<n,則將具有更小鄰近頂點度數(shù)的頂點加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中。反之,則將這些頂點發(fā)送給Perm(perm)函數(shù)以查找其全排列。

步驟2.5)執(zhí)行步驟2.1)~步驟2.4)直至|Clv|=n,即頂點集V(G)中的所有頂點均已按照給定限制條件加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中。

步驟2.6)按照規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中的頂點順序,計算標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))對應(yīng)的規(guī)范鄰接矩陣CAM(G)。

步驟2.7)按照頂點集Clv中的頂點對應(yīng)的標(biāo)簽,順序加入到標(biāo)簽圖模型G對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記cl(G)中,繼續(xù)將規(guī)范鄰接矩陣CAM(G)中的上三角元素添加到規(guī)范標(biāo)記cl(G)中。

步驟2.8)將規(guī)范標(biāo)記cl(G)保存到解空間Solution中。

步驟2.9)確定最終解空間Solution,該解空間中包含標(biāo)簽圖模型G對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記。

有益效果:本發(fā)明利用采用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序形成高效的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法。具體體現(xiàn)如下有益效果:

1)本發(fā)明提供一種基于標(biāo)簽圖模型的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法,其完整的方法過程包括將網(wǎng)絡(luò)中的規(guī)范標(biāo)簽構(gòu)建問題定義成標(biāo)簽圖模型,以及采用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序獲得解空間。

2)本發(fā)明中所述建模過程中,提供一個或一套較為抽象的圖模型,能夠?qū)嶋H問題中的相關(guān)求解方法轉(zhuǎn)化為數(shù)學(xué)化的模型形式。

3)本發(fā)明中所述模型從全局角度求解標(biāo)簽圖的規(guī)范標(biāo)記,使得規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建問題最終能夠得到唯一的規(guī)范標(biāo)記。

4)本發(fā)明采用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序,很大程度上縮小了搜索空間,從而有效降低算法時間復(fù)雜和空間復(fù)雜度。

附圖說明

圖1是基于標(biāo)簽圖模型的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建方法對應(yīng)的流程圖。

圖2是標(biāo)簽圖模型實例。

具體實施方式

下面對本發(fā)明附圖的某些實施例作更加詳細(xì)的描述。

根據(jù)附圖1,本發(fā)明具體實施方式為:

1).將網(wǎng)絡(luò)中的規(guī)范標(biāo)記構(gòu)建問題定義成標(biāo)簽圖模型。

1.1).輸入包含一組標(biāo)簽的頂點集及邊集,構(gòu)建標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))。該標(biāo)簽圖模型為無向連通圖。

其中如附圖2所示,頂點集V(G)={V1,V2,V3,V4},邊集E(G)={e(V1,V2),e(V1,V4),e(V2,V3),e(V2,V4),e(V3,V4)},e(V1,V2)表示頂點V1和頂點V2之間相連的邊。頂點V1具有標(biāo)簽a,頂點V2具有標(biāo)簽a,頂點V3具有標(biāo)簽b,頂點V4具有標(biāo)簽b,即l(V1)=a,l(V2)=a,l(V3)=b,l(V4)=b。邊e(V1,V2)具有標(biāo)簽x,邊e(V1,V4)具有標(biāo)簽x,邊e(V2,V3)具有標(biāo)簽x,邊e(V2,V4)具有標(biāo)簽x,邊e(V3,V4)具有標(biāo)簽y,即l(e(V1,V2))=x,l(e(V1,V4))=x,l(e(V2,V3))=x,l(e(V2,V4))=x,l(e(V3,V4))=y(tǒng)。

1.2).將頂點集V(G)={V1,V2,V3,V4}中所有頂點看作標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))中的頂點。

1.3).定義n表示頂點集V(G)={V1,V2,V3,V4}中的元素個數(shù),其中n=4。

定義LV表示所有頂點對應(yīng)標(biāo)簽構(gòu)成的集合,其中LV={a,b}。

定義LE表示所有邊對應(yīng)標(biāo)簽構(gòu)成的集合,其中LE={x,y}。

定義D表示所有頂點對應(yīng)度數(shù)構(gòu)成的集合,其中D={2,3}。

1.4).基于給定的標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e)),生成該圖對應(yīng)的4×4的鄰接矩陣

定義CAM(G)表示該標(biāo)簽圖模型的規(guī)范鄰接矩陣。定義cl(G)表示該標(biāo)簽圖模型的規(guī)范標(biāo)記。定義Clv表示規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集。

定義Vd表示由具有相同頂點度數(shù)的頂點構(gòu)成的集合。頂點V1和V3對應(yīng)的頂點度數(shù)均為2,頂點V2和V4對應(yīng)的頂點度數(shù)均為3,即V2={V1,V3},V3={V2,V4}。定義Vl表示由具有相同頂點標(biāo)簽的頂點構(gòu)成的集合,頂點V1和V2對應(yīng)的頂點標(biāo)簽均為a,頂點V3和V4對應(yīng)的頂點標(biāo)簽均為b,即Va={V1,V2},Vb={V3,V4}。

1.5).計算頂點集V(G)中每個頂點v對應(yīng)的頂點度數(shù)D(v)。其中D(V1)=2,D(V2)=3,D(V3)=2,D(V4)=3。

2).采用頂點度數(shù)排序、頂點標(biāo)簽字典排序、相鄰邊標(biāo)簽字典排序與鄰近頂點度數(shù)排序獲得標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))上的解空間。

2.1).查找具有最高頂點度數(shù)的頂點集Vd,其中d最大為3,且V3={V2,V4}。因為該頂點集中包含兩個頂點,所以進(jìn)一步查找頂點V2、頂點V4對應(yīng)的標(biāo)簽。頂點V2對應(yīng)的標(biāo)簽為a,頂點V4對應(yīng)的標(biāo)簽b。

2.2).頂點V2和V4具有不同的頂點標(biāo)簽,將這兩個頂點按標(biāo)簽的字典序加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中,因為a的字典序比b小,所以此時Clv={V2,V4}。

2.3).繼續(xù)查找具有其余頂點度數(shù)的頂點集Vd,除頂點度數(shù)為3的情況,還有頂點度數(shù)為2的情況。當(dāng)d為2時,V2={V1,V3}。因為該頂點集中包含兩個頂點,所以進(jìn)一步查找頂點V1、頂點V3對應(yīng)的標(biāo)簽。頂點V1對應(yīng)的標(biāo)簽為a,頂點V3對應(yīng)的標(biāo)簽b。

2.4).頂點V1和V3具有不同的頂點標(biāo)簽,將這兩個頂點按標(biāo)簽的字典序加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中,因為a的字典序比b小,所以此時Clv={V2,V4,V1,V3}。

2.5).此時|Clv|=4,即頂點集V(G)中的所有頂點均已按照給定限制條件加入到規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv中,不再需要重復(fù)步驟2.1)~2.4)。

2.6).按照規(guī)范標(biāo)記對應(yīng)的頂點集Clv={V2,V4,V1,V3}中的頂點順序,計算標(biāo)簽圖模型G=(V(G),E(G),l(v),l(e))對應(yīng)的規(guī)范鄰接矩陣CAM(G),

其中

2.7).按照頂點集Clv中的頂點對應(yīng)的標(biāo)簽,順序加入到標(biāo)簽圖模型G對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記cl(G)中,繼續(xù)將規(guī)范鄰接矩陣CAM(G)中的上三角元素添加到規(guī)范標(biāo)記cl(G)中。得到cl(G)=ababxxxyyo。

2.8).將規(guī)范標(biāo)記cl(G)=ababxxxyyo保存到解空間Solution中。

2.9).確定最終解空間Solution={ababxxxyyo},該解空間中包含標(biāo)簽圖模型G對應(yīng)的規(guī)范標(biāo)記。

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