技術總結(jié)
本發(fā)明公開一種基于陰影圖的軟陰影繪制方法，包括如下步驟：S1、選取并組合模型面向光源的輪廓邊，得到模型面向光源的輪廓；S2、擴充模型面向光源的輪廓，得到模型面向光源的輪廓的平滑面；S3、在模型面向光源的輪廓的平滑面中繪制軟陰影。本發(fā)明所述技術方案提高了陰影渲染速度，為實時陰影繪制提供了新的途徑，提高了三維場景繪制的逼真度。

技術研發(fā)人員：吳增巍
受保護的技術使用者：北京仿真中心
文檔號碼：201510970258
技術研發(fā)日：2015.12.22
技術公布日：2017.06.30