本發(fā)明關(guān)于一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法，尤指一種可降低或避免干涉紋(Moire)發(fā)生的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法。

背景技術(shù)：

目前，觸控技術(shù)已廣泛地應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品的顯示設(shè)備中，以便于使用者利用觸控方式操控該電子產(chǎn)品的作動(dòng)。觸控面板為了使其觸控區(qū)域的電極不易被視認(rèn)，通常采用氧化銦錫(ITO)來(lái)形成透明電極。但隨著觸控面板的應(yīng)用逐漸朝大尺寸的方向發(fā)展，使用氧化銦錫透明電極的技術(shù)存在著電阻較大、觸控響應(yīng)速度較慢，需多道制程步驟以及制作成本較高等技術(shù)問(wèn)題，因此金屬網(wǎng)格(Metal Mesh)感測(cè)電極于是被發(fā)展以取代氧化銦錫透明電極的應(yīng)用。

然而，觸控面板的金屬網(wǎng)格與顯示面板貼合應(yīng)用時(shí)，易產(chǎn)生所謂的干涉紋(Moire)，影響畫(huà)面顯示質(zhì)量。干涉紋的產(chǎn)生主要是因?yàn)榻饘倬W(wǎng)格圖案形狀所造成，當(dāng)相鄰的條紋圖案彼此規(guī)律地排列時(shí)，即會(huì)產(chǎn)生光學(xué)干涉紋。此外，當(dāng)金屬網(wǎng)格的線寬越粗，或相鄰的條紋產(chǎn)生重疊或交叉點(diǎn)而使條紋圖案彼此厚度增加時(shí)，將容易造成干涉紋發(fā)生。另一原因則為觸控面板與顯示面板貼合時(shí)，觸控面板的金屬網(wǎng)格與顯示面板的薄膜晶體管陣列(Thin-Film Transistor array,TFT array)(如黑色矩陣(black matrix)或RGB像素排列)同為規(guī)則網(wǎng)格狀排列，因此兩規(guī)則網(wǎng)格狀排列的圖案重疊時(shí)，亦會(huì)產(chǎn)生光學(xué)干涉紋。

為避免或降低干涉紋現(xiàn)象的發(fā)生，目前觸控面板的金屬網(wǎng)格的圖案與線條形狀通常根據(jù)顯示面板的薄膜晶體管陣列排列，而設(shè)計(jì)為由多條直線狀的金屬微線以交錯(cuò)且規(guī)則排列的方式構(gòu)成網(wǎng)格圖案，借此以增加可見(jiàn)度。舉例而言，金屬網(wǎng)格包含多條直線狀的第一金屬微線沿第一方向延伸且平行排列，以及多條直線狀的第二金屬微線沿第二方向延伸且平行排列，其中多條直線狀的第一金屬微線與多條直線狀的第二金屬微線相互隔離且交錯(cuò)設(shè)置以形成一觸控陣列。然而，現(xiàn)有技術(shù)的觸控面板的金屬網(wǎng)格必需與顯示面板的薄膜 晶體管陣列有良好的配合才能降低干涉紋的發(fā)生，因此金屬網(wǎng)格的多條直線狀的金屬微線間的空間與交錯(cuò)的角度需經(jīng)過(guò)精細(xì)的設(shè)計(jì)，造成設(shè)計(jì)上的困難，且易因金屬網(wǎng)格圖案設(shè)計(jì)誤差而降低了可見(jiàn)度。另一方面，若使用隨機(jī)圖案設(shè)計(jì)來(lái)解決干涉紋問(wèn)題，卻有可能因網(wǎng)格設(shè)計(jì)開(kāi)口率大小不一且分布不均，而產(chǎn)生亮度不均勻的現(xiàn)象。當(dāng)多個(gè)隨機(jī)網(wǎng)格圖塊彼此組合時(shí)，于其界面相交處亦可能因節(jié)點(diǎn)位置隨機(jī)變化而使隨機(jī)圖案間不易拼接或產(chǎn)生干涉紋等。

因此，如何發(fā)展一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法以解決現(xiàn)有技術(shù)所面臨的問(wèn)題，實(shí)為有待解決的課題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法，以構(gòu)成具隨機(jī)網(wǎng)格圖塊的感測(cè)金屬網(wǎng)格，避免感測(cè)金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格圖塊的線路條紋產(chǎn)生重疊或過(guò)多交叉點(diǎn)而造成干涉紋發(fā)生。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法，以精確控制感測(cè)金屬網(wǎng)格的隨機(jī)網(wǎng)格圖塊的變化，以避免感測(cè)金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格圖塊的線路條紋因隨機(jī)變化的設(shè)計(jì)而造成開(kāi)口率大小不一或分布不均的情況，同時(shí)避免其應(yīng)用的觸控顯示設(shè)備產(chǎn)生亮度不均勻的現(xiàn)象。

本發(fā)明的再一目的在于提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法，以精確控制感測(cè)金屬網(wǎng)格的隨機(jī)網(wǎng)格圖塊的變化，使兩個(gè)以上網(wǎng)格圖塊于進(jìn)行搭接組合時(shí)，避免兩組網(wǎng)格圖塊的搭接界面產(chǎn)生搭接紋而影響視效。

本發(fā)明的又一目的在于提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法，以因應(yīng)像素單元的排列設(shè)計(jì)而構(gòu)成具隨機(jī)網(wǎng)格圖塊的感測(cè)金屬網(wǎng)格。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格，其包括透明基板、至少一第一網(wǎng)格圖塊及至少一第二網(wǎng)格圖塊。透明基板，具有第一平面及第二平面。第一網(wǎng)格圖塊，設(shè)置于該第一平面，具有多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)、多個(gè)第一參考點(diǎn)及多個(gè)第一折點(diǎn)。其中多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)規(guī)則排列。多個(gè)第一參考點(diǎn)分別設(shè)置于任兩相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)的中間處。第二網(wǎng)格圖塊，設(shè)置于該第二平面，具有多個(gè)第二參考點(diǎn)及多個(gè)第二參考點(diǎn)。多個(gè)第二參考點(diǎn)規(guī)則排列。多個(gè)第二參考點(diǎn)分別設(shè)置于任兩相鄰的第二參考點(diǎn)的中間處，多個(gè)第一參考點(diǎn)與多個(gè)第二參考點(diǎn)的垂直投影彼此交錯(cuò)設(shè)置，且多個(gè)第一參考 點(diǎn)與多個(gè)第二參考點(diǎn)的垂直投影相同。每一個(gè)第一折點(diǎn)對(duì)應(yīng)于該第一參考點(diǎn)，以第一參考點(diǎn)為中心，于一可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定者。第一網(wǎng)格圖塊連接所有相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)與第一折點(diǎn)而成。

其中該第二網(wǎng)格圖塊更具有多個(gè)第二折點(diǎn)，對(duì)應(yīng)于該第二參考點(diǎn)，以該第二參考點(diǎn)為中心，于該可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定者；其中該第二網(wǎng)格圖塊連接所有相鄰的該第二參考節(jié)點(diǎn)與該第二折點(diǎn)而成。

其中該第二網(wǎng)格圖塊更具有多個(gè)第二折點(diǎn)，該多個(gè)第二折點(diǎn)分別為該多個(gè)第一折點(diǎn)于該第二平面的垂直投影者；其中該第二網(wǎng)格圖塊連接所有相鄰的該第二參考節(jié)點(diǎn)與該第二折點(diǎn)而成。

其中該第二網(wǎng)格圖塊該第一網(wǎng)格圖塊投影于該第二平面的垂直投影并水平位移一偏移距離；其中該偏移距離等于任一該第二參考節(jié)點(diǎn)的垂直投影位置至任一該第一參考節(jié)點(diǎn)的垂直投影位置的距離。

其中該第二網(wǎng)格圖塊更具有多個(gè)第二網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)及多個(gè)第二折點(diǎn)；該第二網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于該第二參考節(jié)點(diǎn)，以該第二參考節(jié)點(diǎn)為中心，于該可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定者；該第二折點(diǎn)對(duì)應(yīng)于該第二參考點(diǎn)，以該第二參考點(diǎn)為中心，于該可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定者；其中該第二網(wǎng)格圖塊為連接該第二平面上所有相鄰的該第二網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)與該第二折點(diǎn)而成。

其中該可偏移區(qū)域?yàn)橐砸活A(yù)定半徑值構(gòu)成之一圓形區(qū)域內(nèi)或一圓周上，其中該預(yù)定半徑值的范圍介于任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的八分之一至二百分之一。

其中該預(yù)定半徑值的范圍介于任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的十分之一至百分之一。

其中該可偏移區(qū)域?yàn)橐砸坏谝活A(yù)定半徑值與一第二預(yù)定半徑值構(gòu)成的一環(huán)形區(qū)域內(nèi)或兩圓周上，該第一預(yù)定半徑值及該第二預(yù)定半徑值的范圍介于為任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)間距的八分之一至二百分之一，且該第一預(yù)定半徑值大于該第二預(yù)定半徑值。

其中該第一預(yù)定半徑值的范圍介于任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的十分之一至百分之一。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其步驟包含：(a)于第一平面上定義多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)及多個(gè)第一參考點(diǎn)，其中多 個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)規(guī)則排列，且多個(gè)第一參考點(diǎn)分別設(shè)置于任兩相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)的中間處；(b)于一第二平面上定義多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)及多個(gè)第二參考點(diǎn)，其中多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)規(guī)則排列，并與多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)的垂直投影交錯(cuò)設(shè)置，且多個(gè)第一參考點(diǎn)與多個(gè)第二參考點(diǎn)的垂直投影相同；(c)以每一個(gè)第一參考點(diǎn)為中心，于一可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定一第一折點(diǎn)；以及(d)連接所有相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)及第一折點(diǎn)，于第一平面構(gòu)成感測(cè)金屬網(wǎng)格的第一網(wǎng)格圖塊。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其更包含步驟：(e)以每一個(gè)該第二參考點(diǎn)為中心，于該可偏移區(qū)域內(nèi)，隨機(jī)選定一第二折點(diǎn)；以及(f)連接所有相鄰的該第二參考節(jié)點(diǎn)及該第二折點(diǎn)，以于該第二平面形成該感測(cè)金屬網(wǎng)格的一第二網(wǎng)格圖塊。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其更包含步驟：(e)將該第一網(wǎng)格圖塊垂直投影于該第二平面；以及(f)將該第一網(wǎng)格圖塊水平位移一偏移距離，以于該第二平面形成該感測(cè)金屬網(wǎng)格的一第二網(wǎng)格圖塊，其中該偏移距離等于該第一參考節(jié)點(diǎn)與該第二參考節(jié)點(diǎn)的垂直投影間距。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其更包含步驟：(e)該第一折點(diǎn)于該第二平面的垂直投影定義為一第二折點(diǎn)；以及(f)連接所有相鄰的該第二參考節(jié)點(diǎn)及該第二折點(diǎn)，以于該第二平面形成該感測(cè)金屬網(wǎng)格的一第二網(wǎng)格圖塊。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其更包含步驟：(e)以每一個(gè)該第二參考節(jié)點(diǎn)為中心，于該可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定一第二網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)，且將該第一折點(diǎn)于該第二平面的垂直投影定義為一第二折點(diǎn)；以及(f)連接所有相鄰的該第二網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)及該第二折點(diǎn)，于該第二平面形成該感測(cè)金屬網(wǎng)格的一第二網(wǎng)格圖塊。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其中步驟(c)更包含步驟(c1)以每一個(gè)該第一參考節(jié)點(diǎn)為中心，于該可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定一第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)；以及步驟(d)更包含步驟(d1)連接所有相鄰的該第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)及該第一折點(diǎn)，以于該第一平面形成該感測(cè)金屬網(wǎng)格的該第一網(wǎng)格圖塊。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其中該可偏移區(qū)域?yàn)橐砸活A(yù)定半徑值構(gòu)成的一圓形區(qū)域內(nèi)或一圓周上，其中該預(yù)定半徑值的范圍介于任兩 相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的八分之一至二百分之一。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其中該預(yù)定半徑值的范圍介于任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的十分之一至百分之一。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其中該可偏移區(qū)域?yàn)橐砸坏谝活A(yù)定半徑值與一第二預(yù)定半徑值構(gòu)成的一環(huán)形區(qū)域內(nèi)或兩圓周上，其中該第一預(yù)定半徑值大于該第二預(yù)定半徑值，為任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的該第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的八分之一至二百分之一。

所述的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制法，其中該第一預(yù)定半徑值的范圍介于任兩相鄰的該第一參考節(jié)點(diǎn)的間距或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)的間距的十分之一至百分之一。

附圖說(shuō)明

圖1揭示本發(fā)明較佳實(shí)施例的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格制造流程圖。

圖2A至2F揭示圖1制程步驟中的階段性結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3A揭示多個(gè)網(wǎng)格圖塊拼接而成的感測(cè)金屬網(wǎng)格。

圖3B揭示兩相對(duì)層別的具感測(cè)金屬網(wǎng)格的一示范性的電極結(jié)構(gòu)。

圖4揭示本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格制造流程圖。

圖5A至5D揭示圖4制程步驟中的階段性結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6揭示本發(fā)明再一較佳實(shí)施例的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格制造流程圖。

圖7A至7D揭示圖6制程步驟中的階段性結(jié)構(gòu)示意圖。

圖8揭示本發(fā)明較佳實(shí)施例的感測(cè)金屬網(wǎng)格與像素圖層的結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)圖。

【符號(hào)說(shuō)明】

1：感測(cè)金屬網(wǎng)格

11：透明基板

111：第一平面

112：第二平面

12：第一網(wǎng)格圖塊

12a：第一金屬網(wǎng)格

12A：第一感測(cè)電極

121：第一參考節(jié)點(diǎn)

121’：第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)

13：第二網(wǎng)格圖塊

13A：第二感測(cè)電極

131：第二參考節(jié)點(diǎn)

141：第一參考點(diǎn)

142：第二參考點(diǎn)

141’：第一折點(diǎn)

142’：第二折點(diǎn)

2：像素圖層

21：像素單元

A1,A2：可偏移區(qū)域

C1、C2：可偏移區(qū)域

D1、D2：偏移距離

P1：可偏移區(qū)域

R,R1,R2：預(yù)定半徑值

S10～S16、S20～S26、S30～S36：步驟

X,Y：軸

具體實(shí)施方式

體現(xiàn)本發(fā)明特征與優(yōu)點(diǎn)的一些典型實(shí)施例將在后段的說(shuō)明中詳細(xì)敘述。應(yīng)理解的是本發(fā)明能夠在不同的方式上具有各種的變化，其皆不脫離本發(fā)明的范圍，且其中的說(shuō)明及圖式在本質(zhì)上當(dāng)作說(shuō)明的用，而非用于限制本發(fā)明。

圖1揭示本發(fā)明較佳實(shí)施例的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格制造流程圖，以及圖2A至2F揭示圖1制程步驟中的階段性結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法簡(jiǎn)述如下：首先，如圖1、2A及2B所示，提供一透明基板11，其中透明基板11具有第一平面111及第二平面112，并且于第一平面111上定義 多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121及多個(gè)第一參考點(diǎn)141(如步驟S10)。于此步驟中，多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121規(guī)則排列，且多個(gè)第一參考點(diǎn)141分別設(shè)置于任兩相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)121的中間處。接著，于第二平面112上定義多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131及多個(gè)第二參考點(diǎn)142(如步驟S11)。于此步驟中，多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131亦規(guī)則排列，且多個(gè)第二參考點(diǎn)分別設(shè)置于任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)131的中間處。于本實(shí)施例中，如圖1、2A及2B所示，多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121于第一平面111構(gòu)成菱形陣列的圖案單元而沿X-Y軸方向擴(kuò)展延伸，當(dāng)然本發(fā)明并不受限于此，任何可重復(fù)擴(kuò)展延伸拼接的圖案單元，如三角形、矩形、六邊形、八邊形等，均得以適用的。多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131于第二平面112所構(gòu)成的圖案單元亦同，于此不再贅述。又于本實(shí)施例中，多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121與多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131的垂直投影交錯(cuò)設(shè)置，且多個(gè)第一參考點(diǎn)141與多個(gè)第二參考點(diǎn)142的垂直投影位置相同。接著，如圖2C～2F所示，定義一可偏移區(qū)域C1,C2范圍(如步驟S12)。在本實(shí)施例中，可偏移區(qū)域C1,C2均為一預(yù)定半徑值R所構(gòu)成的圓形區(qū)域。之后，如圖1及2C所示，再以每一個(gè)第一參考點(diǎn)141為中心，于其對(duì)應(yīng)的可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定一第一折點(diǎn)141’(如步驟S13)。接著，如圖1及第2D所示，連接于第一平面111上所有相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)121及第一折點(diǎn)141’，則可于第一平面111上構(gòu)成感測(cè)金屬網(wǎng)格的第一網(wǎng)格圖塊12(如步驟S14)。

接著，如圖1、2A及2E所示，針對(duì)第二平面112上的第二網(wǎng)格圖塊13亦同，先以第二參考點(diǎn)142為中心，于其所對(duì)應(yīng)的可偏移區(qū)域C2內(nèi)隨機(jī)選定第二折點(diǎn)142’(如步驟S15)。最后，如圖1及2F所示，連接第二平面112上所有相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)131及第二折點(diǎn)142’，則可于第二平面112上構(gòu)成感測(cè)金屬網(wǎng)格的第二網(wǎng)格圖塊13(如步驟S16)。

于一些實(shí)施例中，第一平面111構(gòu)成的第一網(wǎng)格圖塊12與第二平面112構(gòu)成的第二網(wǎng)格圖塊13，可視為一具隨機(jī)不重復(fù)圖紋的網(wǎng)格圖塊，可以多個(gè)網(wǎng)格圖塊搭接方式組合形成更大面積的網(wǎng)格圖塊組合。如圖3A所示，其揭示多個(gè)網(wǎng)格圖塊拼接而成的感測(cè)金屬網(wǎng)格。兩相鄰網(wǎng)格圖塊通過(guò)其邊界的參考節(jié)點(diǎn)重合即可完成拼接，多個(gè)第一網(wǎng)格圖塊12可沿第一方向(如X軸)或第二方向(Y軸)接續(xù)搭合而形成更大面積的網(wǎng)格圖塊組合。于本實(shí)施例中，第一金屬網(wǎng)格12a即由例如但不限于2×4＝8個(gè)第一網(wǎng)格圖塊12所拼接而成，進(jìn)而構(gòu)成感測(cè) 電極所需的金屬網(wǎng)格。圖3B更揭示兩相對(duì)層別的感測(cè)電極，其中不同層別具感測(cè)金屬網(wǎng)格的第一感測(cè)電極12A與第二感測(cè)電極13A均由多個(gè)網(wǎng)格圖塊組合所構(gòu)成，而每一網(wǎng)格圖塊組合則由多個(gè)隨機(jī)不重復(fù)的網(wǎng)格圖塊12,13所搭接組合而成。于本實(shí)施例中，由于可偏移區(qū)域的限定，如前述實(shí)施例中可偏移區(qū)域C1,C2均為一相等的預(yù)定半徑值R所構(gòu)成的圓形區(qū)域，且第一網(wǎng)格圖塊12的第一參考節(jié)點(diǎn)121與第二網(wǎng)格圖塊13的第二參考節(jié)點(diǎn)131均規(guī)則排列，因此每一個(gè)第一網(wǎng)格圖塊12或第二網(wǎng)格圖塊13與另一網(wǎng)格圖塊進(jìn)行拼接時(shí)，彼此的交界處具規(guī)則排列的節(jié)點(diǎn)，易于接合，不會(huì)如習(xí)知過(guò)度隨機(jī)變化及節(jié)點(diǎn)偏移而造成拼接不易或拼接界面開(kāi)口率過(guò)大的問(wèn)題，同時(shí)也避免了網(wǎng)格圖塊設(shè)計(jì)搭接時(shí)產(chǎn)生的拼接痕。以圖3B所示的感測(cè)金屬網(wǎng)格為例，其透過(guò)一光罩顯影及金屬成形蝕刻制程而形成于透光基板的上。于本發(fā)明實(shí)施例中，預(yù)定半徑值相對(duì)于網(wǎng)格圖塊中的線路間距，即相對(duì)于任兩相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)121或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)131間的距離。預(yù)定半徑值可為任兩相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)121或任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)131的間距的八分之一至二百分之一。預(yù)定半徑值較佳的實(shí)施范圍為前述線路間距的十分之一距離到百分之一距離，即介于3微米至50微米之間，較佳為介于5微米至30微米之間。

圖4揭示本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格制造流程圖，以及圖5A至5D揭示圖4制程步驟中的階段性結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法簡(jiǎn)述如下：首先，如圖4及5A所示，提供具有第一平面111及第二平面112的透明基板11(請(qǐng)參閱圖2A)，且定義多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121及多個(gè)第一參考點(diǎn)141于第一平面111上(如步驟S20)。同樣地，于本實(shí)施例中，多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121規(guī)則排列，且多個(gè)第一參考點(diǎn)141分別設(shè)置于任兩相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)121的中間處。接著，于第二平面112上定義多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131及多個(gè)第二參考點(diǎn)142(如步驟S21)。于此步驟中，多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131亦規(guī)則排列，且多個(gè)第二參考點(diǎn)142分別設(shè)置于任兩相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)131的中間處。于本實(shí)施例中，如圖4及5A所示，多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121于第一平面111構(gòu)成菱形陣列的圖案單元而沿X-Y軸方向擴(kuò)展延伸，當(dāng)然本發(fā)明并不受限于此，任何可重復(fù)擴(kuò)展延伸拼接的圖案單元，如三角形、矩形、六邊形、八邊形等，均得以適用的。多個(gè)第二參考節(jié)點(diǎn)131于第二平面112所構(gòu)成的圖案單元亦同，于此不再贅述。又于本實(shí)施例中，多個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121與多個(gè) 第二參考節(jié)點(diǎn)131的垂直投影交錯(cuò)設(shè)置，且多個(gè)第一參考點(diǎn)141與多個(gè)第二參考點(diǎn)142的垂直投影位置相同。接著，定義一可偏移區(qū)域P1范圍(如步驟S22)。在本實(shí)施例中，可偏移區(qū)域P1為一預(yù)定半徑值R所構(gòu)成的圓周上。之后，再以每一個(gè)第一參考點(diǎn)141為中心，于其對(duì)應(yīng)的可偏移區(qū)域內(nèi)隨機(jī)選定一第一折點(diǎn)141’(如步驟S23)。接著，如圖4及5B所示，連接第一平面111上所有相鄰的第一參考節(jié)點(diǎn)121及第一折點(diǎn)141’，則可于第一平面111上構(gòu)成感測(cè)金屬網(wǎng)格的第一網(wǎng)格圖塊12(如步驟S24)。

另一方面，如圖4及第5C所示，針對(duì)第二平面112上的第二網(wǎng)格圖塊13，先將第一折點(diǎn)141’于第二平面112的垂直投影定義為第二折點(diǎn)142’(如步驟S25)，意即，第一平面的第一折點(diǎn)141’與第二平面的第二折點(diǎn)142’的垂直投影位置相同。爾后，如圖4及5D所示，連接第二平面112上所有相鄰的第二參考節(jié)點(diǎn)131及第二折點(diǎn)142’，則可于第二平面112上構(gòu)成感測(cè)金屬網(wǎng)格的第二網(wǎng)格圖塊13(如步驟S26)。

圖6揭示本發(fā)明再一較佳實(shí)施例的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格制造流程圖，以及圖7A至7C則揭示圖6制程步驟中的階段性結(jié)構(gòu)示意圖。如圖6、7A及7B所示，相較于前述實(shí)施例，第一網(wǎng)格圖塊12可構(gòu)成于透明基板11的第一表面111(參閱圖2A)。于本實(shí)施例中，觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格的制程步驟S30至S32與圖1所示的制程步驟S10至S12相同，于此不再贅述。于執(zhí)行步驟S30至S32后，即定義有一可偏移區(qū)域A1,A2。惟不同于前述實(shí)施例，于本實(shí)施例中，可偏移區(qū)域A1,A2均為以第一預(yù)定半徑值R1與第二預(yù)定半徑值R2構(gòu)成的一環(huán)形區(qū)域內(nèi)。此外，于第一平面111上每一個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121及每一個(gè)參考點(diǎn)141均對(duì)應(yīng)用有一可偏移區(qū)域A1,A2，如圖6及7A所示，以每一個(gè)第一參考節(jié)點(diǎn)121為中心，于其對(duì)應(yīng)的可偏移區(qū)域A1內(nèi)隨機(jī)選定第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)121’；同時(shí)亦以每一個(gè)第一參考點(diǎn)141為中心，于其對(duì)應(yīng)的可偏移區(qū)域A2內(nèi)隨機(jī)選定第一折點(diǎn)141’(如步驟S33)。接著，如圖6及7B所示，連接第一平面111上所有相鄰的第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)121’與第一折點(diǎn)141’，便可構(gòu)成第一網(wǎng)格圖塊12(如步驟S34)。另一方面，第二網(wǎng)格圖塊13可構(gòu)成于透明基板11的第二表面112(參閱圖2A)。惟不同于前述實(shí)施例，于本實(shí)施例中，如圖6所示，第二網(wǎng)格圖塊13的構(gòu)成先將第一平面111上第一網(wǎng)格圖塊12的線路圖案垂直投影于第二平面112(如步驟S35)。接著，如圖6及7C所示，將垂直投影后的第一網(wǎng)格圖塊12 再水平位移一偏移距離D1、D2，水平位移方向可自投影后的起始原點(diǎn)位置沿X軸、Y軸或向XY軸的各象限方向變動(dòng)(如步驟S36)_，其中偏移距離D1、D2可為任一第二參考節(jié)點(diǎn)131的垂直投影位置至任一第一參考節(jié)點(diǎn)121的垂直投影位置的距離。如圖7C所示的實(shí)施例，水平位移自投影后的起始原點(diǎn)位置沿X軸為的，本發(fā)明并不以此為限。而于本實(shí)施例中，偏移距離D1即等于第一參考節(jié)點(diǎn)121與第二參考節(jié)點(diǎn)131的垂直投影間距D1，則第二網(wǎng)格圖塊13便得以構(gòu)成于第二表面112上。于某些實(shí)施例中，偏移距離D2更可為任一第一參考節(jié)點(diǎn)121與任一第二參考節(jié)點(diǎn)131的垂直投影間距離。此外，如圖7D所示的實(shí)施例，第一網(wǎng)格圖塊12垂直投影于第二表面112后，自投影后的起始原點(diǎn)位置向XY軸的第四象限方向偏移一偏移距離D2后，即可于第二表面112構(gòu)成第二網(wǎng)格圖塊13。本發(fā)明并不以前述實(shí)施例為限，第一網(wǎng)格圖塊12垂直投影于第二表面112后，除如前向XY軸的第四象限(右下)偏移外，亦自投影后的起始原點(diǎn)位置向XY軸的第一象限(右上)、第二象限(左上)或第三象限(左下)偏移。任何可令第一網(wǎng)格圖塊12與第二網(wǎng)格圖塊13交錯(cuò)設(shè)置的偏移均適用于本發(fā)明的應(yīng)用，本發(fā)明并不以此為限。

相較于前述實(shí)施例，本實(shí)施例中，第一網(wǎng)格圖塊12及第二網(wǎng)格圖塊13中的網(wǎng)格構(gòu)成除隨機(jī)折點(diǎn)外，各個(gè)規(guī)則排列的參考節(jié)點(diǎn)亦可配合隨機(jī)選定而變化。由于隨機(jī)的第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)121’均落于以其對(duì)應(yīng)的第一參考節(jié)點(diǎn)121為中心的可偏移區(qū)域A1內(nèi)，當(dāng)兩組第一網(wǎng)格圖塊12再行設(shè)計(jì)搭接時(shí)，其搭接邊界的第一參考節(jié)點(diǎn)121可對(duì)應(yīng)接合，而兩相鄰第一網(wǎng)格圖塊12的邊界上的第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)121’均會(huì)落于其對(duì)應(yīng)的可偏移區(qū)域A1內(nèi)，透過(guò)可偏移區(qū)域A1的范圍控制(即給定第一預(yù)定半徑值R1與第二預(yù)定半徑值R2而控制環(huán)形區(qū)域的大小)，使其邊界接合處的開(kāi)口率不會(huì)過(guò)大，且不易有拼接痕產(chǎn)生。于某些實(shí)施例中，其最外圍邊界處的第一網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)121’可給定為原第一參考節(jié)點(diǎn)121而呈規(guī)則排列，借此使多個(gè)第一網(wǎng)格圖塊12進(jìn)行拼接時(shí)更可輕易完成，且其搭接界面間也不會(huì)產(chǎn)生搭接紋而影響視效。

于一些實(shí)施例中，第一參考節(jié)點(diǎn)121陣列所構(gòu)成的圖案單元及第二參考節(jié)點(diǎn)131陣列所構(gòu)成的圖案單元更可為以一三角形、矩形、菱形、六邊形或八邊形所構(gòu)成者。于本實(shí)施例中，雖以菱形為圖案單元所構(gòu)成者為例，但本發(fā)明實(shí)際上并不以此為限。圖8揭示圖1所示的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格與一顯示 模塊的像素圖層的結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)圖。如圖8所示，本發(fā)明的觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格1的每一個(gè)第一網(wǎng)格圖塊12或每一個(gè)第二網(wǎng)格圖塊13的設(shè)計(jì)均對(duì)應(yīng)于顯示模塊的像素圖層2的多個(gè)像素單元21，其中每一個(gè)像素單元21由紅色子像素、綠色子像素及藍(lán)色子像素所排列組合而成。為因應(yīng)不同的需求，紅色子像素、綠色子像素及藍(lán)色子像素的排列組合可有不同的方式區(qū)域。而本發(fā)明的參考點(diǎn)即可因應(yīng)不同區(qū)域的組態(tài)而為模塊化的設(shè)計(jì)，即第一參考節(jié)點(diǎn)或第二參考節(jié)的規(guī)則排列方式可視像素單元的排列而為設(shè)計(jì)，借此可有效防止與像素單元產(chǎn)生干涉條紋的現(xiàn)象。其中每一網(wǎng)格圖塊12、13的邊長(zhǎng)至少大于一像素單元21的尺寸。

綜上所述，本發(fā)明提供一種觸控面板的感測(cè)金屬網(wǎng)格及其制法，以構(gòu)成具隨機(jī)網(wǎng)格圖塊的感測(cè)金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，避免感測(cè)金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格圖塊的線路條紋產(chǎn)生重疊或過(guò)多交叉點(diǎn)而造成干涉紋發(fā)生。此外，本發(fā)明的感測(cè)金屬網(wǎng)格及制法，更可精確地控制感測(cè)金屬網(wǎng)格的隨機(jī)網(wǎng)格圖塊的變化，以避免感測(cè)金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格圖塊的線路條紋因隨機(jī)變化的設(shè)計(jì)而造成開(kāi)口率大小不一或分布不均的情況，同時(shí)避免其應(yīng)用的觸控顯示設(shè)備產(chǎn)生亮度不均勻的現(xiàn)象。另一方面，本發(fā)明以特定的可偏移區(qū)域控制感測(cè)金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的隨機(jī)圖紋變化，使兩個(gè)以上網(wǎng)格圖塊于進(jìn)行搭接組合時(shí)，避免兩相鄰網(wǎng)格圖塊的搭接界面產(chǎn)生搭接紋而影響視效。且感測(cè)金屬網(wǎng)格的網(wǎng)格圖塊的設(shè)計(jì)更可因應(yīng)像素單元的排列設(shè)計(jì)而構(gòu)成。

本發(fā)明得由熟習(xí)此技術(shù)的人士任施匠思而為諸般修飾，然皆不脫如附申請(qǐng)專利范圍所欲保護(hù)者。