本發(fā)明涉及一種集成電路版圖數(shù)據(jù)的編輯方法,特別是針對(duì)版圖數(shù)據(jù)中層次物體的刪除,屬于EDA設(shè)計(jì)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
隨著制造工藝的發(fā)展和集成電路設(shè)計(jì)規(guī)模的擴(kuò)大,版圖所需要處理的數(shù)據(jù)越來越大,在最后的版圖檢查階段,設(shè)計(jì)者經(jīng)常需要對(duì)版圖進(jìn)行一些細(xì)小的修改,例如dummy圖形的刪除。
然而在現(xiàn)有的EDA工具中,用戶進(jìn)行層次物體刪除的時(shí)候,需要將包含這個(gè)圖形的整個(gè)層次結(jié)構(gòu)進(jìn)行一次完整的復(fù)制,然后在這份復(fù)制數(shù)據(jù)中編輯圖形,這種做法在大規(guī)模的版圖數(shù)據(jù)中無疑會(huì)增加操作時(shí)間,并且不可避免的增大了版圖數(shù)據(jù),增加了內(nèi)存消耗。
本專利針對(duì)上面的情況,提出了一種層次物體刪除的方法,可以讓用戶快速的在層次版圖中進(jìn)行物體刪除,并盡可能的減少重復(fù)的版圖數(shù)據(jù)產(chǎn)生。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本方法通過對(duì)版圖數(shù)據(jù)中所有單元信息進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,然后對(duì)被刪除物體所在單元層次結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有文件中的單元信息進(jìn)行比較和分析,盡可能少的復(fù)制數(shù)據(jù),減少了重復(fù)數(shù)據(jù)的產(chǎn)生,提高了編輯速度。
在刪除物體前,需要對(duì)版圖內(nèi)所有的單元進(jìn)行統(tǒng)計(jì)和分析:統(tǒng)計(jì)各個(gè)單元之間的引用關(guān)系,計(jì)算各個(gè)單元中所有圖形的信息,并將這些信息建立一個(gè)相應(yīng)的單元特征索引表。如圖1所示,索引表中記錄了每個(gè)單元的所有父單元信息以及被各個(gè)父單元引用次數(shù)、所有子單元信息以及引用各個(gè)子單元次數(shù),以及本單元中所有圖形的特征信息。
在刪除物體時(shí),先計(jì)算物體所在層次單元的特征值,如果沒有查詢到對(duì)應(yīng)的結(jié)果,需要對(duì)物體所在的單元層次結(jié)構(gòu)進(jìn)行重構(gòu),復(fù)制層次結(jié)構(gòu)中被引用數(shù)不為1的單元,并在復(fù)制的單元數(shù)據(jù)中刪除對(duì)應(yīng)的圖形,以及刪除物體所對(duì)應(yīng)的引用;如果索引表中已存在對(duì)應(yīng)的結(jié)果,那么直接在原位置進(jìn)行引用,刪除原先的層次引用。
物體刪除后,需要更新特征索引表:將新復(fù)制的單元計(jì)算特征值和引用信息加入到索引表,并將所有涉及到修改的單元在索引表中對(duì)其特征值以及引用信息進(jìn)行更新。
附圖說明
圖1 單元特征索引表
圖2 原始物體的層次結(jié)構(gòu)
圖3 刪除一個(gè)物體后的層次結(jié)構(gòu)
圖4 刪除第二個(gè)物體后的層次結(jié)構(gòu)
具體實(shí)施步驟:
結(jié)合一個(gè)具體的實(shí)例說明在層次結(jié)構(gòu)中刪除物體的方法,用戶在這個(gè)數(shù)據(jù)版圖中需要?jiǎng)h除兩個(gè)物體,操作流程步驟如下:
1) 圖2是在頂層放置了兩個(gè)Cell_A的實(shí)例,Cell_A下引用了Cell_B,Cell_B中有一個(gè)物體Shape C,在刪除前對(duì)整個(gè)版圖數(shù)據(jù)建立一個(gè)所有單元的特征索引表。
2) 用戶在刪除一個(gè)Shape C前,計(jì)算被刪除物體以及其單元層次的特征,然后對(duì)索引表進(jìn)行查詢,結(jié)果并沒有找到符合條件的單元。
3) 將原來的Cell_A刪除,將Cell_B和Cell_A進(jìn)行復(fù)制,復(fù)制出一個(gè)Cell_B_clone1,以及包含這個(gè)Cell_B_clone1的Cell_A_colne1,如圖3所示。
4) 刪除Shape C,并更新單元特征索引表。
5) 刪除另一個(gè)Shape C前,計(jì)算被刪除物體以及其單元層次的特征,然后查詢索引表,發(fā)現(xiàn)Cell_B_clone1以及符Cell_A_Clone1符合其條件,就在原位置刪除Cell_A后直接生成Cell_A_clone1,完成操作,節(jié)省了操作時(shí)間以及版圖數(shù)據(jù)空間,如圖4所示。