本發(fā)明涉及計算機處理的技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種字體的書寫提示方法、一種字體的書寫提示裝置和一種字體的書寫提示系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

中國書法是中華民族特有的一種傳統(tǒng)藝術(shù)，源遠(yuǎn)流長，愛好者遍及國內(nèi)外。漢字書法為漢族獨創(chuàng)的表現(xiàn)藝術(shù)，被譽為：無言的詩，無行的舞；無圖的畫，無聲的樂。

書法愛好者在寫字時間比較短，沒有形成自己書寫個性的時候，一般都會通過字帖對喜愛的書法進行臨摹學(xué)習(xí)。

通過臨摹書寫，慢慢就會掌握字的規(guī)范寫法，繼而書寫出具有自己風(fēng)格的字。

當(dāng)前，臨習(xí)的方式大致分為兩種，一種是對照字帖，在宣紙、毛邊紙或其他紙張上，用毛筆蘸墨進行臨摹，另一種是在吸水字帖上，用毛筆蘸水進行臨寫。而摹寫的方式則是用半透明的紙覆蓋在字帖上，按照字體的輪廓用毛筆勾勒出相仿的字形。摹寫多用于初學(xué)，臨習(xí)適用于進階。

這兩種方式，都需要購置不同的字帖以及筆墨紙硯進行練習(xí)，由于練習(xí)裝置不便隨身攜帶，愛好者通常必須身處固定的場所才能動手實踐，尤其是喜好的書法較多時，成本較高，此外，毛筆或需要蘸墨或需要蘸水，臨摹比較繁瑣。

而在臨摹之后，愛好者需要主觀感受對比臨摹的效果，進而進行改進，由于人工主管判定的準(zhǔn)確率比較低，尤其是書寫習(xí)慣成型時，很難再進行糾正，因此，臨摹效率比較低。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

鑒于上述問題，提出了本發(fā)明以便提供一種克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的一種字體的書寫提示方法和相應(yīng)的一種字體的書寫提示裝置、一種字體的書寫提示系統(tǒng)。

依據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種字體的書寫提示方法，包括：

在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；

檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；

計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。

可選地，還包括：

在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。

可選地，所述根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息的步驟包括：

當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書第一寫提示信息。

可選地，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：

參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；

所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：

臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。

可選地，所述計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息的步驟包括：

計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。

可選地，所述計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息的步驟包括：

以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；

以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；

基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。

可選地，所述計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息的步驟包括：

以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；

計算所述參考三角形的參考斜率；

以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；

計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；

基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息 與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。

可選地，所述當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息的步驟包括：

當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。

可選地，所述根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體的步驟包括：

由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；

由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；

由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；

由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；

按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。

可選地，還包括：

查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第二臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第二差異筆跡信息；

按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；

根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。

可選地，所述根據(jù)所述變化信息生成第二書寫提示信息的步驟包括：

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字 體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種字體的書寫提示裝置，包括：

參考字體顯示模塊，適于在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；

第一臨摹筆跡信息檢測模塊，適于檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；

第一差異筆跡信息計算模塊，適于計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

第一書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。

可選地，還包括：

臨摹字體顯示模塊，適于在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。

可選地，所述書寫提示信息生成模塊還適于：

當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息。

可選地，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：

參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；

所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：

臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。

可選地，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：

計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。

可選地，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：

以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；

以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；

基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。

可選地，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：

以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；

計算所述參考三角形的參考斜率；

以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；

計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；

基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。

可選地，所述第一書寫提示信息生成模塊還適于：

當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。

可選地，所述臨摹字體顯示模塊還適于：

由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；

由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；

由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；

由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；

按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。

可選地，還包括：

第一差異筆跡信息查找模塊，適于查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第一臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第二差異筆跡信息；

書寫變化信息計算模塊，適于按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；

第二書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。

可選地，所述第二書寫提示信息生成模塊還適于：

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生 成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種字體的書寫提示系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

軸筒、柔性的屏幕、毛筆；

其中，所述軸筒具有與所述屏幕一端連接的滾軸，所述滾軸用于在滾動時，將所述屏幕移入所述軸筒、卷繞在所述滾軸上，或者，從所述軸筒移出；

所述屏幕表層具有顆粒層，在所述顆粒層之下具有多個壓敏材料，所述多個壓敏材料用于檢測毛筆在所述顆粒層上書寫時的第一臨摹筆跡信息；

所述系統(tǒng)還包括：

參考字體顯示模塊，適于在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；

第一臨摹筆跡信息檢測模塊，適于檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；

第一差異筆跡信息計算模塊，適于計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

第一書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。

可選地，還包括：

臨摹字體顯示模塊，適于在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。

可選地，所述書寫提示信息生成模塊還適于：

當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息。

可選地，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：

參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；

所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：

臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。

可選地，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：

計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。

可選地，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：

以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；

以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；

基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。

可選地，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：

以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；

計算所述參考三角形的參考斜率；

以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；

計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；

基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。

可選地，所述第一書寫提示信息生成模塊還適于：

當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。

可選地，所述臨摹字體顯示模塊還適于：

由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；

由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；

由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；

由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；

按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。

可選地，還包括：

第一差異筆跡信息查找模塊，適于查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第一臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第一差異筆跡信息；

書寫變化信息計算模塊，適于按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；

第二書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。

可選地，所述第二書寫提示信息生成模塊還適于：

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

本發(fā)明實施例計算用戶在屏幕上臨摹時的第一臨摹筆跡信息，與參考字體的參考筆跡信息之間的第一差異筆跡信息，從而生成第一書寫提示信息，由于數(shù)據(jù)資料可以重復(fù)使用，不必購置不同的字帖，大大降低了成本，而在屏幕上臨摹，無需蘸墨，可蘸水或不蘸水，提高了臨摹的簡便性，由于自動對臨摹的效果進行校對，避免了人工主管判定，提高了比較的準(zhǔn)確率，使得用戶可以養(yǎng)成良好的書寫習(xí)慣。

本發(fā)明實施例針對一段時間內(nèi)的差異筆跡信息進行比較，獲得書寫變化信息，從而生成第二書寫提示信息，基于持續(xù)的臨摹效果進行校對，挖掘書寫規(guī)律、習(xí)慣，進一步提高了比較的準(zhǔn)確率。

上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉本發(fā)明的具體實施方式。

附圖說明

通過閱讀下文優(yōu)選實施方式的詳細(xì)描述，各種其他的優(yōu)點和益處對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將變得清楚明了。附圖僅用于示出優(yōu)選實施方式的目的，而并不認(rèn)為是對本發(fā)明的限制。而且在整個附圖中，用相同的參考符號表示相同的部件。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示方法實施例1的步驟流程圖；

圖2示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示方法實施例2的步驟流程圖；

圖3示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示裝置實施例的結(jié)構(gòu)框圖；以及

圖4示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示系統(tǒng)實施例的結(jié)構(gòu)框圖。

具體實施方式

下面將參照附圖更詳細(xì)地描述本公開的示例性實施例。雖然附圖中顯示了本公開的示例性實施例，然而應(yīng)當(dāng)理解，可以以各種形式實現(xiàn)本公開而不應(yīng)被這里闡述的實施例所限制。相反，提供這些實施例是為了能夠更透徹地理解本公開，并且能夠?qū)⒈竟_的范圍完整的傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。

參照圖1，示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示方法實施例1的步驟流程圖，具體可以包括如下步驟：

步驟101，在屏幕上顯示參考字體；

應(yīng)用本發(fā)明實施例，在硬件層面上，外形類似中國傳統(tǒng)書畫的卷軸，可以包括軸筒、柔性的屏幕、毛筆等器件，柔性的屏幕作為“卷”，是臨摹練習(xí)的平面，既是接收用戶使用毛筆輸入的表面，也是系統(tǒng)顯示反饋提示的界面；軸筒作為“軸”，安放系統(tǒng)主機和電源，同時也作為收納和保護軟質(zhì)屏幕、毛筆的容器。

進一步而言，軸筒的表面材質(zhì)可選竹子、工程塑料或合金等材料制作，內(nèi)置主機、電源、操作控件并作為屏幕容器的部件。

主機可以為與移動設(shè)備同級別的配置。

電源為與設(shè)備可用性匹配的移動電源配置。

操作控件為開啟/關(guān)閉系統(tǒng)，以及進行必要操控所需的按鍵、旋鈕，也可以搭配觸摸控制屏。

作為屏幕容器，類似測量用的卷尺，內(nèi)置滾軸，可以自如收納、拉出，以及在不同狀態(tài)下鎖定。

此外，軸筒具有與所述屏幕一端連接的滾軸，該滾軸用于在滾動時，將屏幕移入所述軸筒、卷繞在滾軸上，或者，從軸筒移出；

屏幕表層具有顆粒層，如硅膠顆粒，使得表面粗造，不同于傳統(tǒng)的鏡面屏或霧面屏，其表面柔軟性和粗糙度更接近宣紙的表面質(zhì)感，提供一種類似在真實宣紙上書寫的體驗；

屏幕的柔性不僅指屏幕可以超過弧面屏幕的卷曲度(比如可以卷曲360度)，同時也非常耐卷曲(比如可以卷曲10萬次以上)。

屏幕支持多觸點反饋和多級別壓感，在顆粒層之下具有多個壓敏材料，在毛筆的壓迫下呈現(xiàn)不同程度(級別)的傾伏，從而產(chǎn)生范圍和壓感信號，即多個壓敏材料可以用于檢測毛筆在所述顆粒層上書寫時的第一臨摹筆跡信息。

應(yīng)用本發(fā)明實施例，在系統(tǒng)層面上，可以選取嵌入式操作系統(tǒng)、核心應(yīng)用和開放平臺。

嵌入式操作系統(tǒng)可選Android(安卓)。

核心應(yīng)用為系統(tǒng)搭載的基本應(yīng)用，具有全面的檢索、記錄、比對、提示和圍繞科學(xué)高效練字開發(fā)的一系列專有功能。

練習(xí)的標(biāo)準(zhǔn)是字帖庫，因此核心應(yīng)用內(nèi)置中國歷代著名書法家的楷書、行書、隸書、草書、篆書等書體名作的字帖庫，支持從特定字帖中自由選取連續(xù)文本、按偏旁部首、讀音、書體等從符合條件的字帖中檢索單字、單字自由組合成句(比如集字成詩或者對聯(lián))等功能；字帖庫也可以由用戶自行用紙質(zhì)字帖生成，或者請書法水平更好的愛好者、書法家書寫生成。

即在字帖庫中具有多個參考字體，該參考字體具有參考筆跡信息，該參考筆跡信息為在先記錄的、書法家等用戶書寫該參考字體的信息，表征標(biāo)準(zhǔn)筆跡。

在本發(fā)明實施例中，參考筆跡信息可以包括以下的一種或多種：

參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；

其中，參考筆跡時間信息為書寫該參考字體消耗的時間；

參考筆跡壓力信息為書寫該參考字體時的壓力；

參考筆跡位置信息為書寫該參考字體時各筆畫的相對位置；

參考筆跡形狀信息為書寫該參考字體時各筆畫的形狀。

當(dāng)然，上述參考筆跡信息只是作為示例，在實施本發(fā)明實施例時，可以根據(jù)實際情況設(shè)置其他參考筆跡信息，本發(fā)明實施例對此不加以限制。另外，除了上述參考筆跡信息外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)實際需要采用其它參考筆跡信息，本發(fā)明實施例對此也不加以限制。

開放平臺是基于核心應(yīng)用開發(fā)并對外公開的一系列API(Application Programming Interface，應(yīng)用程序編程接口)，外部開發(fā)者可以在平臺基礎(chǔ)上開發(fā)各種應(yīng)用，提供與臨摹、練字、分享等相關(guān)各種便捷功能，目標(biāo)是形成一個良好的生態(tài)環(huán)境。

步驟102，檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；

在具體實現(xiàn)中，用戶選擇了參考字體，則可以進行臨摹，即拿毛筆在屏幕表面書寫，方法大致有兩種：

一種是摹寫，類似“描紅”，此時參考字體為自定義的淺色，書寫的筆跡覆蓋于參考字體上；

另一種是臨寫，即在參考字體附近進行臨寫，如參考字體在左，臨寫的區(qū)域在右。

在臨摹時，可以記錄第一臨摹筆跡信息，即當(dāng)前用戶在書寫該參考字體時記錄的信息，表征書寫筆跡。

進一步而言，記錄用戶書寫的筆跡，可以包括廣度和深度兩個維度：

廣度，即毛筆的筆頭覆蓋的屏幕范圍，如筆頭觸及了哪些像素，反映筆畫的形態(tài)；

深度，即毛筆的筆頭壓迫屏幕表面導(dǎo)致顆粒變形的程度信息(每個像素都有相應(yīng)深度值)，反映字跡深淺。

在本發(fā)明實施例中，則第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：

臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。

其中，臨摹筆跡時間信息為臨摹該參考字體消耗的時間；

臨摹筆跡壓力信息為臨摹該參考字體時的壓力；

臨摹筆跡位置信息為臨摹該參考字體時各筆畫的相對位置；

臨摹筆跡形狀信息為臨摹該參考字體時各筆畫的形狀。

當(dāng)然，上述臨摹筆跡信息只是作為示例，在實施本發(fā)明實施例時，可以根據(jù)實際情況設(shè)置其他臨摹筆跡信息，本發(fā)明實施例對此不加以限制。另外， 除了上述臨摹筆跡信息外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)實際需要采用其它臨摹筆跡信息，本發(fā)明實施例對此也不加以限制。

步驟103，計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

在本發(fā)明實施例中，可以比較參考筆跡信息與第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息，獲知用戶在臨摹參考字體時的不足。

對于摹寫的方式，用戶較為容易熟悉字體，是開始練習(xí)一個新字的可選方式，這種方式可以直觀、實時地觀察到書寫筆跡與標(biāo)準(zhǔn)筆跡在范圍上的差異，便于下次重寫時調(diào)整，力求吻合。

對于臨寫的方式，是在對基本字體的字形有了一定了解和書寫經(jīng)驗后，以標(biāo)準(zhǔn)字跡作為參照以求寫出相同或相似字跡的練習(xí)方式，通過觀察書寫筆跡與標(biāo)準(zhǔn)筆跡的差異，便于下次重寫時調(diào)整，力求吻合。

需要說明的是，系統(tǒng)可以識別、分解、記錄書寫筆跡，從點劃、偏旁到單字和連續(xù)文本，都可以實時地、分門別類地進行自動識別和保存。

識別和分解的依據(jù)是系統(tǒng)內(nèi)置的參考的點劃、偏旁和單字?jǐn)?shù)據(jù)，類似手寫識別，通常是根據(jù)筆畫形態(tài)和是否連續(xù)判定。

因此，第一差異筆跡信息可以是針對點劃、偏旁或單字，本發(fā)明實施例對此不加以限制。

在本發(fā)明實施例中，第一差異筆跡信息可以包括如下的一種或多種；

一、差異筆跡時間信息；

在本發(fā)明實施例中，可以直接計算參考筆跡時間信息與臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。

在具體實現(xiàn)中，時間，指的就是書寫某個筆劃、單字或連續(xù)文本的時間。

由于書寫的熟練程度與時間相關(guān)，書寫愈熟練，則書寫的時間穩(wěn)定在一個范圍之內(nèi)。

根據(jù)練字的規(guī)律和經(jīng)驗，字體的練習(xí)一般經(jīng)歷從生疏到熟練，從慢速到快速的過程。

即參考筆跡時間信息在一定范圍內(nèi)，臨摹筆跡時間信息與其相差較大，則可能較為生疏，書寫不暢順，書寫時間較長，或者，書寫較為潦草，書寫時間較短，忽略了某些書寫環(huán)節(jié)。

二、差異筆跡壓力信息、差異筆跡位置信息；

在本發(fā)明實施例中，可以以參考筆跡壓力信息和參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)，以臨摹筆跡壓力信息和臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)。

基于參考三維坐標(biāo)與臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算參考筆跡壓力信息與臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，參考筆跡位置信息與臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。

在具體實現(xiàn)中，書寫的力度，體現(xiàn)在書寫時筆頭的變形程度，力度越大變形程度就越大，屏幕所檢測到的壓力就越大，筆劃就比較粗重。

力度的變化帶動了點畫的變化(線條美)，并推進了波勢的變化(結(jié)體、章法的美)，力度是書法的基礎(chǔ)之一。

位置指的是筆劃之間相對位移，或者單字之間相對位置。

對單字而言，筆劃之間的位置就是間架結(jié)構(gòu)，決定了字形的比例和美感，對連續(xù)文字而言，字與字之間的距離涉及篇章和布局，是更高層次的間距。

書寫平面可以看成一個三維坐標(biāo)系，平面坐標(biāo)系中的每個坐標(biāo)點對應(yīng)一個像素，而第三軸上的值代表壓力，因此，測量和比對筆跡可以結(jié)合像素在三維坐標(biāo)中的坐標(biāo)值。

三、差異筆跡形狀信息。

在本發(fā)明實施例中，可以以參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形，及計算參考三角形的參考斜率；

以臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形，及計算臨摹三角形的臨摹斜率；

基于參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算參考筆跡形狀信息與臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。

在具體實現(xiàn)中，形狀，指的是點劃級別的形狀，包括一段連續(xù)筆跡的形狀。形狀在書法欣賞者眼里，表現(xiàn)為形態(tài)，不同形態(tài)可以引發(fā)不同聯(lián)想，從而產(chǎn)生或靜或動的審美體驗。

漢字點劃的基本形狀是三角形，幾乎所有筆劃都可以分散為各種角度的三角形，因此，測量和比對筆跡可以結(jié)合三角形外邊的斜率。

當(dāng)然，上述第一差異筆跡信息只是作為示例，在實施本發(fā)明實施例時，可以根據(jù)實際情況設(shè)置其他第一差異筆跡信息，本發(fā)明實施例對此不加以限制。另外，除了上述第一差異筆跡信息外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)實際需要采用其它第一差異筆跡信息，本發(fā)明實施例對此也不加以限制。

步驟104，根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。

應(yīng)用本發(fā)明實施例，可以預(yù)先設(shè)置在誤差范圍內(nèi)的差異閾值信息。

當(dāng)?shù)谝徊町惞P跡信息未超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，表示書寫的字體很接近參考字體，誤差在正常范圍內(nèi)。

當(dāng)?shù)谝徊町惞P跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，表示書寫的字體與參 考字體相差較大，則可以針對第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息，提示用戶注意的書寫事項。

在本發(fā)明實施例中，差異閾值信息可以包括如下的一種或多種：

一、時間差異閾值信息；

在本發(fā)明實施例中，當(dāng)差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，可以針對臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息，提示用戶書寫過快或書寫過慢。

二、壓力差異閾值信息；

在本發(fā)明實施例中，當(dāng)差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，可以針對臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息，提示用戶力度過小或力度過大。

三、位置差異閾值信息；

在本發(fā)明實施例中，當(dāng)差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，可以針對臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息，提示用戶比劃或字體相距過近或相距過寬，確保間架結(jié)構(gòu)符合標(biāo)準(zhǔn)。

四、形狀差異閾值信息；

在本發(fā)明實施例中，當(dāng)差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，可以針對臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息，提示用戶字體的形變。

當(dāng)然，上述第一書寫提示信息只是作為示例，在實施本發(fā)明實施例時，可以根據(jù)實際情況設(shè)置其他第一書寫提示信息，本發(fā)明實施例對此不加以限制。另外，除了上述第一書寫提示信息外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)實際需要采用其它第一書寫提示信息，本發(fā)明實施例對此也不加以限制。

本發(fā)明實施例計算用戶在屏幕上臨摹時的第一臨摹筆跡信息，與參考字體的參考筆跡信息之間的第一差異筆跡信息，從而生成第一書寫提示信息，由于數(shù)據(jù)資料可以重復(fù)使用，不必購置不同的字帖，大大降低了成本，而在屏幕上臨摹，無需蘸墨，可蘸水或也可不蘸水，提高了臨摹的簡便性，由于自動對臨摹的效果進行校對，避免了人工主管判定，提高了比較的準(zhǔn)確率，使得用戶可以養(yǎng)成良好的書寫習(xí)慣。

參照圖2，示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示方法實施例2的步驟流程圖，具體可以包括如下步驟：

步驟201，在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；

步驟202，檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信 息；

步驟203，在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體；

對于摹寫，則可以在參考字體之上，疊加顯示臨摹字體；

對于臨寫，則可以在參考字體旁邊，對比顯示臨摹字體。

在具體實現(xiàn)中，可以由臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度，即臨摹筆跡時間信息越長，則筆跡顯示速度越慢，反之，臨摹筆跡時間信息越短，則筆跡顯示速度越快。

可以由臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺，即臨摹筆跡壓力信息越大，則筆跡顏色越深，反之，臨摹筆跡壓力信息越小，則筆跡顏色越淺。

可以由臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置，由臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀，即將所觸發(fā)壓敏材料映射到屏幕上。

最后，按照筆跡顯示速度、筆跡顏色深淺、筆跡位置、筆跡形狀顯示臨摹字體。

步驟204，計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

步驟205，根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息；

步驟206，查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第二臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第二差異筆跡信息；

步驟207，按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；

步驟208，根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。

在本發(fā)明實施例中，用戶可以針對同一個參考字體多次練習(xí)書寫，每次練習(xí)均可以記錄其第二臨摹筆跡信息，以及，與第一參考筆跡信息之間的第二差異筆跡信息。

將多次(包括當(dāng)前)練習(xí)的差異筆跡信息(包括第一差異筆跡信息、第二差異筆跡信息)按照時間順序計算書寫變化信息，即記錄在這個時間段書寫該字體變化的信息。

進一步而言，當(dāng)書寫變化信息為第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，即與參考字體的相似程度降低，表示用戶書寫質(zhì)量下降，則可以生成增加與參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息，以提升書寫質(zhì)量。

例如，用戶書寫“把”質(zhì)量較差，除了提示多練習(xí)“把”之外，還可以 提示練習(xí)“吧”、“耙”等同形字。

或者，

當(dāng)書寫變化信息為第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，即與參考字體的相似程度增加，表示用戶書寫質(zhì)量上升，則可以生成減少與參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息，以便將練習(xí)量轉(zhuǎn)移至其他不熟悉的字。

或者，

當(dāng)書寫變化信息為第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，即與參考字體的相似程度穩(wěn)定，但用戶書寫質(zhì)量較差，則可以生成增加與參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息，以提升書寫質(zhì)量。

或者，

當(dāng)書寫變化信息為第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，即與參考字體的相似程度穩(wěn)定，但用戶書寫質(zhì)量較好，則可以生成減少與參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息，以便將練習(xí)量轉(zhuǎn)移至其他不熟悉的字。

當(dāng)然，上述第二書寫提示信息只是作為示例，在實施本發(fā)明實施例時，可以根據(jù)實際情況設(shè)置其他第二書寫提示信息，本發(fā)明實施例對此不加以限制。另外，除了上述第二書寫提示信息外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)實際需要采用其它第二書寫提示信息，本發(fā)明實施例對此也不加以限制。

本發(fā)明實施例針對一段時間內(nèi)的差異筆跡信息進行比較，獲得書寫變化信息，從而生成第二書寫提示信息，基于持續(xù)的臨摹效果進行校對，挖掘書寫規(guī)律、習(xí)慣，進一步提高了比較的準(zhǔn)確率。

對于方法實施例，為了簡單描述，故將其都表述為一系列的動作組合，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該知悉，本發(fā)明實施例并不受所描述的動作順序的限制，因為依據(jù)本發(fā)明實施例，某些步驟可以采用其他順序或者同時進行。其次，本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該知悉，說明書中所描述的實施例均屬于優(yōu)選實施例，所涉及的動作并不一定是本發(fā)明實施例所必須的。

參照圖3，示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示裝置實施例的結(jié)構(gòu)框圖，具體可以包括如下模塊：

參考字體顯示模塊301，適于在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；

第一臨摹筆跡信息檢測模塊302，適于檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；

第一差異筆跡信息計算模塊303，適于計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

第一書寫提示信息生成模塊304，適于根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，該裝置還可以包括如下模塊：

臨摹字體顯示模塊，適于在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述書寫提示信息生成模塊304還可以適于：

當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息。

在具體實現(xiàn)中，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：

參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；

所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：

臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一差異筆跡信息計算模塊303還可以適于：

計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一差異筆跡信息計算模塊303還可以適于：

以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；

以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；

基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一差異筆跡信息計算模塊303還可以適于：

以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；

計算所述參考三角形的參考斜率；

以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；

計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；

基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一書寫提示信息生成模塊304還可以適于：

當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述臨摹字體顯示模塊還可以適于：

由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；

由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；

由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；

由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；

按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，該裝置還可以包括如下模塊：

第一差異筆跡信息查找模塊，適于查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第一臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第二差異筆跡信息；

書寫變化信息計算模塊，適于按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；

第二書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第二書寫提示信息生成模塊還可以適于：

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

參照圖4，示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種字體的書寫提示系統(tǒng)實施例的結(jié)構(gòu)框圖，該系統(tǒng)可以包括：

軸筒410、柔性的屏幕420、毛筆430；

其中，所述軸筒410具有與所述屏幕420一端連接的滾軸，所述滾軸用于在滾動時，將所述屏幕移入所述軸筒、卷繞在所述滾軸上，或者，從所述軸筒移出；

所述屏幕420表層具有顆粒層，在所述顆粒層之下具有多個壓敏材料，所述多個壓敏材料用于檢測毛筆430在所述顆粒層上書寫時的第一臨摹筆跡信息；

所述系統(tǒng)還可以包括如下模塊：

參考字體顯示模塊441，適于在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；

第一臨摹筆跡信息檢測模塊442，適于檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；

第一差異筆跡信息計算模塊443，適于計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；

第一書寫提示信息生成模塊444，適于根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，該系統(tǒng)還可以包括如下模塊：

臨摹字體顯示模塊，適于在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第 一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述書寫提示信息生成模塊444還可以適于：

當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息。

在具體實現(xiàn)中，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：

參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；

所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：

臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一差異筆跡信息計算模塊443還可以適于：

計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一差異筆跡信息計算模塊443還可以適于：

以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；

以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；

基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一差異筆跡信息計算模塊443還可以適于：

以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；

計算所述參考三角形的參考斜率；

以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；

計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；

基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第一書寫提示信息生成模塊444還可以適于：

當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；

和/或，

當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述臨摹字體顯示模塊還可以適于：

由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；

由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；

由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；

由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；

按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，該系統(tǒng)還可以包括如下模塊：

第一差異筆跡信息查找模塊，適于查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第一臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第一差異筆跡信息；

書寫變化信息計算模塊，適于按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；

第二書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。

在本發(fā)明的一種可選實施例中，所述第二書寫提示信息生成模塊還可以適于：

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字 體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；

或者，

當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

對于裝置實施例而言，由于其與方法實施例基本相似，所以描述的比較簡單，相關(guān)之處參見方法實施例的部分說明即可。

在此提供的算法和顯示不與任何特定計算機、虛擬系統(tǒng)或者其它設(shè)備固有相關(guān)。各種通用系統(tǒng)也可以與基于在此的示教一起使用。根據(jù)上面的描述，構(gòu)造這類系統(tǒng)所要求的結(jié)構(gòu)是顯而易見的。此外，本發(fā)明也不針對任何特定編程語言。應(yīng)當(dāng)明白，可以利用各種編程語言實現(xiàn)在此描述的本發(fā)明的內(nèi)容，并且上面對特定語言所做的描述是為了披露本發(fā)明的最佳實施方式。

在此處所提供的說明書中，說明了大量具體細(xì)節(jié)。然而，能夠理解，本發(fā)明的實施例可以在沒有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實踐。在一些實例中，并未詳細(xì)示出公知的方法、結(jié)構(gòu)和技術(shù)，以便不模糊對本說明書的理解。

類似地，應(yīng)當(dāng)理解，為了精簡本公開并幫助理解各個發(fā)明方面中的一個或多個，在上面對本發(fā)明的示例性實施例的描述中，本發(fā)明的各個特征有時被一起分組到單個實施例、圖、或者對其的描述中。然而，并不應(yīng)將該公開的方法解釋成反映如下意圖：即所要求保護的本發(fā)明要求比在每個權(quán)利要求中所明確記載的特征更多的特征。更確切地說，如下面的權(quán)利要求書所反映的那樣，發(fā)明方面在于少于前面公開的單個實施例的所有特征。因此，遵循具體實施方式的權(quán)利要求書由此明確地并入該具體實施方式，其中每個權(quán)利要求本身都作為本發(fā)明的單獨實施例。

本領(lǐng)域那些技術(shù)人員可以理解，可以對實施例中的設(shè)備中的模塊進行自適應(yīng)性地改變并且把它們設(shè)置在與該實施例不同的一個或多個設(shè)備中?？梢园褜嵤├械哪K或單元或組件組合成一個模塊或單元或組件，以及此外可以把它們分成多個子模塊或子單元或子組件。除了這樣的特征和/或過程或者單元中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何組合對本說明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的所有特征以及如此公開的任何方法或者設(shè)備的所有過程或單元進行組合。除非另外明確陳述，本說明書(包括伴隨的權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的每個特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征來代替。

此外，本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠理解，盡管在此所述的一些實施例包括其 它實施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同實施例的特征的組合意味著處于本發(fā)明的范圍之內(nèi)并且形成不同的實施例。例如，在下面的權(quán)利要求書中，所要求保護的實施例的任意之一都可以以任意的組合方式來使用。

本發(fā)明的各個部件實施例可以以硬件實現(xiàn)，或者以在一個或者多個處理器上運行的軟件模塊實現(xiàn)，或者以它們的組合實現(xiàn)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以在實踐中使用微處理器或者數(shù)字信號處理器(DSP)來實現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明實施例的字體的書寫提示設(shè)備中的一些或者全部部件的一些或者全部功能。本發(fā)明還可以實現(xiàn)為用于執(zhí)行這里所描述的方法的一部分或者全部的設(shè)備或者裝置程序(例如，計算機程序和計算機程序產(chǎn)品)。這樣的實現(xiàn)本發(fā)明的程序可以存儲在計算機可讀介質(zhì)上，或者可以具有一個或者多個信號的形式。這樣的信號可以從因特網(wǎng)網(wǎng)站上下載得到，或者在載體信號上提供，或者以任何其他形式提供。

應(yīng)該注意的是上述實施例對本發(fā)明進行說明而不是對本發(fā)明進行限制，并且本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離所附權(quán)利要求的范圍的情況下可設(shè)計出替換實施例。在權(quán)利要求中，不應(yīng)將位于括號之間的任何參考符號構(gòu)造成對權(quán)利要求的限制。單詞“包含”不排除存在未列在權(quán)利要求中的元件或步驟。位于元件之前的單詞“一”或“一個”不排除存在多個這樣的元件。本發(fā)明可以借助于包括有若干不同元件的硬件以及借助于適當(dāng)編程的計算機來實現(xiàn)。在列舉了若干裝置的單元權(quán)利要求中，這些裝置中的若干個可以是通過同一個硬件項來具體體現(xiàn)。單詞第一、第二、以及第三等的使用不表示任何順序?？蓪⑦@些單詞解釋為名稱。

本發(fā)明實施例公開了A1、一種字體的書寫提示方法，包括：在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。A2、如A1所述的方法，還包括：在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。A3、如A1所述的方法，所述根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息的步驟包括：當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書第一寫提示信息。A4、如A1或A2或A3所述的方法，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、 參考筆跡形狀信息；所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。A5、如A4所述的方法，所述計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息的步驟包括：計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。A6、如A4所述的方法，所述計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息的步驟包括：以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。A7、如A4所述的方法，所述計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息的步驟包括：以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；計算所述參考三角形的參考斜率；以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。A8、如A5或A6或A7所述的方法，所述當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息的步驟包括：當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。A9、如A4所述的方法，所述根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體的步驟包括：由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。A10、如A1或A2或A3或A5或A6或A7或A9所述的方法，還包括：查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第二臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第二差異筆跡信息；按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；根據(jù)所 述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。A11、如A10所述的方法，所述根據(jù)所述變化信息生成第二書寫提示信息的步驟包括：當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

本發(fā)明實施例還公開了B12、一種字體的書寫提示裝置，包括：參考字體顯示模塊，適于在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；第一臨摹筆跡信息檢測模塊，適于檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；第一差異筆跡信息計算模塊，適于計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；第一書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。B13、如B12所述的裝置，還包括：臨摹字體顯示模塊，適于在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。B14、如B12所述的裝置，所述書寫提示信息生成模塊還適于：當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息。B15、如B12或B13或B14所述的裝置，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。B16、如B15所述的裝置，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。B17、如B15所述的裝置，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。B18、 如B15所述的裝置，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；計算所述參考三角形的參考斜率；以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。B19、如B16或B17或B18所述的裝置，所述第一書寫提示信息生成模塊還適于：當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。B20、如B15所述的方法，所述臨摹字體顯示模塊還適于：由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。B21、如B12或B13或B14或B16或B17或B18或B20所述的裝置，還包括：第一差異筆跡信息查找模塊，適于查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第一臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第二差異筆跡信息；書寫變化信息計算模塊，適于按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；第二書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。B22、如B21所述的裝置，所述第二書寫提示信息生成模塊還適于：當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。

本發(fā)明實施例還公開了C23、一種字體的書寫提示系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：軸筒、柔性的屏幕、毛筆；其中，所述軸筒具有與所述屏幕一端連接的滾軸，所述滾軸用于在滾動時，將所述屏幕移入所述軸筒、卷繞在所述滾軸上，或者，從所述軸筒移出；所述屏幕表層具有顆粒層，在所述顆粒層之下具有多個壓敏材料，所述多個壓敏材料用于檢測毛筆在所述顆粒層上書寫時的第一臨摹筆跡信息；所述系統(tǒng)還包括：參考字體顯示模塊，適于在屏幕上顯示參考字體，所述參考字體具有參考筆跡信息；第一臨摹筆跡信息檢測模塊，適于檢測在所述屏幕上針對所述參考字體觸發(fā)的第一臨摹筆跡信息；第一差異筆跡信息計算模塊，適于計算所述參考筆跡信息與所述第一臨摹筆跡信息之間的第一差異筆跡信息；第一書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述第一差異筆跡信息針對所述第一臨摹筆跡信息生成第一書寫提示信息。C24、如C23所述的系統(tǒng)，還包括：臨摹字體顯示模塊，適于在所述顯示參考字體之上或旁邊，根據(jù)所述第一臨摹筆跡信息顯示臨摹字體。C25、如C23所述的系統(tǒng)，所述書寫提示信息生成模塊還適于：當(dāng)所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，針對所述第一臨摹筆跡信息生成書寫第一提示信息。C26、如C23或C24或C25所述的系統(tǒng)，所述參考筆跡信息包括以下的一種或多種：參考筆跡時間信息、參考筆跡壓力信息、參考筆跡位置信息、參考筆跡形狀信息；所述第一臨摹筆跡信息包括以下的一種或多種：臨摹筆跡時間信息、臨摹筆跡壓力信息、臨摹筆跡位置信息、臨摹筆跡形狀信息。C27、如C26所述的系統(tǒng)，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：計算所述參考筆跡時間信息與所述臨摹筆跡時間信息之間的差異筆跡時間信息。C28、如C26所述的系統(tǒng)，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：以所述參考筆跡壓力信息和所述參考筆跡位置信息構(gòu)建參考三維坐標(biāo)；以所述臨摹筆跡壓力信息和所述臨摹筆跡位置信息構(gòu)建臨摹三維坐標(biāo)；基于所述參考三維坐標(biāo)與所述臨摹三維坐標(biāo)之間的差異，計算所述參考筆跡壓力信息與所述臨摹筆跡壓力信息之間的差異筆跡壓力信息，及，所述參考筆跡位置信息與所述臨摹筆跡位置信息之間的差異筆跡位置信息。C29、如C26所述的系統(tǒng)，所述第一差異筆跡信息計算模塊還適于：以所述參考筆跡形狀信息構(gòu)建參考三角形；計算所述參考三角形的參考斜率；以所述臨摹筆跡形狀信息構(gòu)建臨摹三角形；計算所述臨摹三角形的臨摹斜率；基于所述參考斜率與所述臨摹斜率的差異，計算所述參考筆跡形狀信息與所述臨摹筆跡形狀信息之間的差異筆跡形狀信息。C30、如C27或C28或C29所述的系統(tǒng)，所述第一書寫提示信息生成模塊還適于：當(dāng)所述差異筆跡時間信息超過預(yù)設(shè)的時間差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡時間信息生成書寫時間的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所 述差異筆跡壓力信息超過預(yù)設(shè)的壓力差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡壓力信息生成書寫力度的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡位置信息超過預(yù)設(shè)的位置差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡位置信息生成書寫位置的第一書寫提示信息；和/或，當(dāng)所述差異筆跡形狀信息超過預(yù)設(shè)的形狀差異閾值信息時，針對所述臨摹筆跡形狀信息生成書寫形狀的第一書寫提示信息。C31、如C27所述的系統(tǒng)，所述臨摹字體顯示模塊還適于：由所述臨摹筆跡時間信息確定筆跡顯示速度；由所述臨摹筆跡壓力信息確定筆跡顏色深淺；由所述臨摹筆跡位置信息確定筆跡位置；由所述臨摹筆跡形狀信息確定筆跡形狀；按照所述筆跡顯示速度、所述筆跡顏色深淺、所述筆跡位置、所述筆跡形狀顯示臨摹字體。C32、如C23或C24或C25或C27或C28或C29或C31所述的系統(tǒng)，還包括：第一差異筆跡信息查找模塊，適于查找在先針對所述參考字體觸發(fā)的一個或多個第一臨摹筆跡信息，與，所述第一參考筆跡信息之間的一個或多個第一差異筆跡信息；書寫變化信息計算模塊，適于按照時間順序計算在先的一個或多個第二差異筆跡信息及當(dāng)前的第一差異筆跡信息的書寫變化信息；第二書寫提示信息生成模塊，適于根據(jù)所述書寫變化信息生成第二書寫提示信息。C33、如C32所述的系統(tǒng)，所述第二書寫提示信息生成模塊還適于：當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序增長時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息按照時間順序減少時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息超過預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成增加與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息；或者，當(dāng)所述書寫變化信息為所述第二差異筆跡信息維持在一定的范圍內(nèi)、且所述第一差異筆跡信息小于預(yù)設(shè)的差異閾值信息時，生成減少與所述參考字體相同或相似字體的練習(xí)量的第二書寫提示信息。