本發(fā)明涉及OGS觸摸屏領(lǐng)域，特別涉及了一種OGS觸摸屏的制造工藝。

背景技術(shù)：

通常的OGS電容觸摸屏的工藝過(guò)程：基片玻璃，印刷油墨，ITO透明導(dǎo)電膜，藍(lán)光工藝制圖形，鍍?nèi)珜与姌O，黃光工藝制圖形，點(diǎn)脫，連接橋。工藝復(fù)雜，流程繁瑣，成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了簡(jiǎn)化工藝，降低成本，特提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝。

本發(fā)明提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過(guò)程包括：

把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出黑色低電阻導(dǎo)電膜，形成第一層導(dǎo)電膜；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出圖形，此圖形是已設(shè)計(jì)好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜用涂層設(shè)備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透明絕緣層的厚度是10um～15um；再把產(chǎn)品再次放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò) 黃光工藝制出第二層導(dǎo)電層和電極；通過(guò)上述步驟制造出OGS觸摸屏，其中電極和圖形一次性制造出來(lái)。

所述的黑色低電阻導(dǎo)電膜，膜層厚度150nm～250nm。

所述的第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層，膜層厚度150nm～250nm。

在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導(dǎo)電的黑色薄膜，用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明所述的OGS觸摸屏的制造工藝，采用對(duì)基片玻璃鍍導(dǎo)電黑化層，黃光工藝制電極及圖形，涂透明絕緣硬化層，鍍導(dǎo)電黑化層，黃光工藝制電極及圖形，工藝流程簡(jiǎn)單，節(jié)省人力，降低成本，使用效果好。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

本實(shí)施例提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過(guò)程包括：

把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出黑色低電阻導(dǎo)電膜，形成第一層導(dǎo)電膜；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出圖形，此圖形是已設(shè)計(jì)好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜用涂層設(shè)備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透 明絕緣層的厚度是10um；再把產(chǎn)品再次放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出第二層導(dǎo)電層和電極；通過(guò)上述步驟制造出OGS觸摸屏，其中電極和圖形一次性制造出來(lái)。

所述的黑色低電阻導(dǎo)電膜，膜層厚度150nm。

所述的第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層，膜層厚度150nm。

在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導(dǎo)電的黑色薄膜，用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。

實(shí)施例2

本實(shí)施例提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過(guò)程包括：

把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出黑色低電阻導(dǎo)電膜，形成第一層導(dǎo)電膜；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出圖形，此圖形是已設(shè)計(jì)好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜用涂層設(shè)備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透明絕緣層的厚度是12um；再把產(chǎn)品再次放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出第二層導(dǎo)電層和電極；通過(guò)上述步驟制造出OGS觸摸屏，其 中電極和圖形一次性制造出來(lái)。

所述的黑色低電阻導(dǎo)電膜，膜層厚度200nm。

所述的第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層，膜層厚度200nm。

在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導(dǎo)電的黑色薄膜，用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。

實(shí)施例3

本實(shí)施例提供了一種OGS觸摸屏的制造工藝，其特征在于：所述的OGS觸摸屏的制造工藝，過(guò)程包括：

把玻璃清洗干凈；把清洗完的玻璃放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出黑色低電阻導(dǎo)電膜，形成第一層導(dǎo)電膜；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出圖形，此圖形是已設(shè)計(jì)好的絲狀線；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜用涂層設(shè)備，涂好uv膠，形成透明絕緣層，形成的透明絕緣層的厚度是15um；再把產(chǎn)品再次放入真空設(shè)備中，當(dāng)真空度到達(dá)8*10^-4pa時(shí)，充入Ar氣至3*10^-1pa時(shí)，啟動(dòng)濺射陰極，制出第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層；把制造好的黑色低電阻導(dǎo)電膜通過(guò)黃光工藝制出第二層導(dǎo)電層和電極；通過(guò)上述步驟制造出OGS觸摸屏，其中電極和圖形一次性制造出來(lái)。

所述的黑色低電阻導(dǎo)電膜，膜層厚度250nm。

所述的第二層黑色低電阻導(dǎo)電膜層，膜層厚度250nm。

在玻璃基板用磁控濺射的方式形成一層導(dǎo)電的黑色薄膜，用藍(lán)光 工藝制成電極和圖形，涂一層黑色薄膜用藍(lán)光工藝制成電極和圖形，這樣就形成了新型的OGS觸摸屏。