一種無須搭橋的防污ogs觸摸屏及其形成方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖右约拔挥谒鐾该骰甯袘鎮(zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層、圖案化的第一ITO層、絕緣層、圖案化的第二ITO層和保護層。另一方面，本發(fā)明還提供一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法。本發(fā)明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法，只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。
【專利說明】一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏應用【技術領域】，特別涉及一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法。
【背景技術】
[0002]單玻璃全貼合技術(One Glass Solution, 0GS)是在保護玻璃上直接形成ITO氧化銦錫導電膜及傳感器的技術。一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用。從技術層面來看，OGS技術較之目前主流的G/G觸控技術具備以下優(yōu)勢:結構簡單，輕、薄、透光性好；由于省掉一片玻璃基板以及貼合工序，利于降低生產成本、提高產品良率。目前比較主流的OGS觸摸屏基本上都是金屬搭橋式傳感器(sensor )，雖然此技術能夠達到產品質量的保證，但是金屬鍍膜以及相應黃光工藝無疑是成本倍增、質量控制的難題。金屬搭橋線在光線照射下還是能夠清晰看見金屬連接線發(fā)白的現象，影響了終端客戶使用的玩機心情。
[0003]圖1所示為現有OGS觸摸屏的結構示意圖，其包括透明基板10、在透明基板10上依次形成的圖案化的黑矩陣層20、ITO層30、絕緣層40和保護層50，此種OGS觸摸屏生產流程為:a.在透明基板10的感應面印刷或黃光車間制作黑矩陣層(BM層)；b.轉至鍍膜車間在感應面濺射ITO層；c.轉至黃光車間在感應面進行ITO光刻或激光刻線；d.感應面進行PI搭橋；e.至鍍膜車間進行感應面金屬鑰鋁鑰(Mo-A1-Mo)鍍膜；f.對鑰鋁鑰層進行光刻或激光刻線；g.感應面鍍膜或印刷保護層。
[0004]現有此種OGS技術為金屬橋接形成回路的電容觸摸屏技術，雖然此技術能夠達到產品質量的保證，但是生產成本投入大，良率一般，整體看上去有矩陣一樣的金屬連接線，給終端客戶帶來不舒服的感覺。
【發(fā)明內容】
[0005]本發(fā)明提出一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法，只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。本發(fā)明所采用的技術方案具體是這樣實現的:
一方面，本發(fā)明提供了一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖右约拔挥谒鐾该骰甯袘鎮(zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層、圖案化的第一 ITO層、絕緣層、圖案化的第二 ITO層和保護層。
[0006]優(yōu)選地，所述黑矩陣層采用印刷或者光刻工藝形成。
[0007]優(yōu)選地，所述第一 ITO層和所述第二 ITO層均采用磁控濺射工藝形成。
[0008]優(yōu)選地，所述圖案化的第一 ITO層和所述第二 ITO層采用光刻或者激光刻線工藝形成。
[0009]優(yōu)選地，所述防污層采用磁控濺射工藝形成。[0010]另一方面，本發(fā)明還提供一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法，其包括步驟:
1)在透明基板的感應面?zhèn)炔捎糜∷⒒蛘吖饪坦に囍谱鲌D案化的黑矩陣層；
2)接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層；
3)對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第一 ITO層；
4)在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層；
5)在絕緣層上形成第二ITO層；
6)在透明基板的觸摸面?zhèn)刃纬煞牢蹖樱?br>
7)對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第二 ITO層；
8)在透明基板的感應面?zhèn)葹R射或者印刷保護層。
[0011]優(yōu)選地，所述步驟6)中采用濺射工藝形成防污層。
[0012]本發(fā)明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法，只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013]圖1是現有OGS觸摸屏的結構示意圖。
[0014]圖2是本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0015]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】做詳細的說明，使本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標記指示相同的部分。并未刻意按比例繪制附圖，重點在于示出本發(fā)明的主旨。
[0016]圖2是本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的結構示意圖。如圖2所示，本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其包括透明基板100、位于透明基板100觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖?00以及位于透明基板100感應面?zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層200、圖案化的第一 ITO層300、絕緣層400、圖案化的第二 ITO層500和保護層600。
[0017]本發(fā)明具體實施例中，優(yōu)選地，黑矩陣層200采用印刷或者光刻工藝形成，第一ITO層300和第二 ITO層500均采用磁控濺射工藝形成，圖案化的第一 ITO層300和第二ITO層500采用光刻或者激光刻線工藝形成，防污層700采用磁控濺射工藝形成。
[0018]本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法，其包括步驟:
1)在透明基板的感應面?zhèn)炔捎糜∷⒒蛘吖饪坦に囍谱鲌D案化的黑矩陣層；
2)接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層；
3)對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第一 ITO層；
4)在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層；
5)在絕緣層上形成第二ITO層；
6)在透明基板的觸摸面?zhèn)刃纬煞牢蹖樱?br>
7)對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第二 ITO層； 8)在透明基板的感應面?zhèn)葹R射或者印刷保護層。
[0019]優(yōu)選地，所述步驟6)中采用濺射工藝形成防污層。
[0020]本發(fā)明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法，只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。同時，本發(fā)明是一種能在感應面(不需要搭橋導通)多點觸控、觸控面防指紋油污的OGS觸摸屏。本發(fā)明不僅降低生產成本，而且量產化良率高，觸摸面的防指紋、防污鍍層，終端用戶再也不用花幾十元去貼膜了。另外，本發(fā)明還具有以下有益效果:1.只用單層的保護玻璃就可以完成觸控的功能；2.Sensor做在保護玻璃上；3.真正的單層結構，不搭橋，沒有矩陣排列的金屬橋接線；3.最簡單的生產工藝；4.生產良率高，滿足最大的尺寸生產能力；5.最薄,最輕的結構；6.最好的光學效果；7.最低材料成本；8.最大的觸控面板產出能力；9.使用終端最好的觸控體驗及視覺效果；10.多點觸控，玩游戲有更好的體驗。
[0021]在以上的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是以上描述僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，因此本發(fā)明不受上面公開的具體實施的限制。同時任何熟悉本領域技術人員在不脫離本發(fā)明技術方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術內容對本發(fā)明技術方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內容，依據本發(fā)明的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案保護的范圍內。
【權利要求】
1.一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其特征在于，包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖右约拔挥谒鐾该骰甯袘鎮(zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層、圖案化的第一 ITO層、絕緣層、圖案化的第二 ITO層和保護層。
2.根據權利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其特征在于，所述黑矩陣層采用印刷或者光刻工藝形成。
3.根據權利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其特征在于，所述第一ITO層和所述第二 ITO層均采用磁控濺射工藝形成。
4.根據權利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其特征在于，所述圖案化的第一ITO層和所述第二 ITO層采用光刻或者激光刻線工藝形成。
5.根據權利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其特征在于，所述防污層采用磁控派射工藝形成。
6.一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法，其特征在于，包括步驟: 1)在透明基板的感應面?zhèn)炔捎糜∷⒒蛘吖饪坦に囍谱鲌D案化的黑矩陣層； 2)接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層； 3)對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第一 ITO層； 4)在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層； 5)在絕緣層上形成第二ITO層； 6)在透明基板的觸摸面?zhèn)刃纬煞牢蹖樱? 7)對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第二 ITO層； 8)在透明基板的感應面?zhèn)葹R射或者印刷保護層。
7.根據權利要求6所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法，其特征在于，所述步驟6)中采用濺射工藝形成防污層。
【文檔編號】G06F3/041GK103500043SQ201310383969
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2013年8月29日 優(yōu)先權日:2013年8月29日
【發(fā)明者】王進東 申請人:江蘇宇天港玻新材料有限公司